JP2004259306A - 磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004259306A JP2004259306A JP2003045262A JP2003045262A JP2004259306A JP 2004259306 A JP2004259306 A JP 2004259306A JP 2003045262 A JP2003045262 A JP 2003045262A JP 2003045262 A JP2003045262 A JP 2003045262A JP 2004259306 A JP2004259306 A JP 2004259306A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- recording medium
- layer
- soft magnetic
- magnetic recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 433
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 55
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 claims abstract description 17
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 87
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 53
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 36
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 35
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims description 32
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims description 28
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 13
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 6
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000000059 patterning Methods 0.000 abstract description 11
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 abstract 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 177
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 description 26
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 19
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 18
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 16
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 14
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 10
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 description 10
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 9
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 8
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 7
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 7
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 6
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 4
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 101000606504 Drosophila melanogaster Tyrosine-protein kinase-like otk Proteins 0.000 description 3
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 229910001093 Zr alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- ZGWQKLYPIPNASE-UHFFFAOYSA-N [Co].[Zr].[Ta] Chemical compound [Co].[Zr].[Ta] ZGWQKLYPIPNASE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 2
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 2
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000111471 Convolvulus scoparius Species 0.000 description 1
- 229910001182 Mo alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001260 Pt alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTJAVSFDAWLDHQ-UHFFFAOYSA-N [Cr].[Co].[Pt] Chemical compound [Cr].[Co].[Pt] DTJAVSFDAWLDHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOPBMNGISYSNED-UHFFFAOYSA-N [Fe].[Co].[Tb] Chemical compound [Fe].[Co].[Tb] FOPBMNGISYSNED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- -1 argon ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000005307 ferromagnetism Effects 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAWNDNOTGRTLLU-UHFFFAOYSA-N iron molybdenum nickel Chemical compound [Fe].[Ni].[Mo] VAWNDNOTGRTLLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 1
- 238000011177 media preparation Methods 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/74—Record carriers characterised by the form, e.g. sheet shaped to wrap around a drum
- G11B5/82—Disk carriers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/66—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers
- G11B5/667—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers including a soft magnetic layer
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/8404—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/855—Coating only part of a support with a magnetic layer
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
【解決手段】垂直二層記録媒体の軟磁性裏打層を記録ビットの周期に同期させてパターニングすることにより、記録ヘッドからの磁場を軟磁性の凸部に収束させることが可能になる。従って、異方性定数の大きな磁気記録媒体材料の磁化反転が可能となり、高密度磁気記録が可能になる。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は磁気記録媒体及び磁気記録装置、およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、磁気記録媒体において、記録密度の向上に伴い、熱ゆらぎに対する記録磁化の安定性が要求されるようになっている。このため、記録を担う磁性層に用いられる磁性材料の一軸磁気異方性定数(Ku)は増大する傾向にある。Kuの大きな磁性層に記録を行うためには、大きな記録磁場が必要であり、記録磁場を発生させる記録ヘッドに関して構造、材料の両面から検討が行われている。一方、次世代の記録方式として、軟磁性裏打層を備えた二層垂直媒体と、単磁極ヘッドとを組み合わせた垂直記録方式が提案されている。
【0003】
この方式では、記録ヘッドの主磁極と軟磁性裏打層と記録ヘッドの補助磁極とが閉磁路を形成し、従来の面内記録に比べより多くの磁束が磁性層を通過する。従って二層垂直媒体を用いた記録方式は記録磁場の面内成分のみを用いて記録を行う面内記録方式に比べて記録磁場の利用効率が高く、面内記録方式よりもKuの高い記録媒体への記録が可能であると考えられている。
【0004】
しかしながら、媒体に印加される磁場強度は主磁極で発生した磁場強度を超えることはないため、記録磁場強度は主磁極材料の飽和磁束密度(Bs)を上限とすることとなる。飽和磁束密度は材料によって決まる物理的な制限があり、必然的にこの値により媒体に印加される記録磁場も上限が決定されている。飽和磁束密度を大きくするために様々な材料の開発が行われているが無限に大きくすることはできない。
【0005】
また、現在開発途上の高飽和磁束密度材料は一般に耐蝕性に問題があることが知られている。従って記録媒体のKuの増加に伴い垂直記録方式においても将来的には記録が困難になることが予想されている。
【0006】
また、高記録密度に適した記録媒体の形態としては、磁気的に孤立した磁性粒子を規則的に配列させ、1粒子につき1ビットを対応させて記録させる方式、いわゆるパターンドメディア(例えば特許文献1、特許文献2、特許文献3)が知られている。本方式ではビット遷移領域での磁化状態の乱れに起因するノイズが発生せず、かつ熱揺らぎ限界まで1ビットを小さくすることが可能であるため、高密度磁気記録に有利であると考えられている。
【0007】
パターンドメディアの場合、ビットを形成する磁性粒子と1ビットの大きさを等しくすることができるため、多数のグレインにより1ビットが形成される連続媒体よりも磁化反転単位の体積(v)を大きくすることが可能である。すなわち、同じ記録密度で比べた場合、従来の連続媒体に比べKuを小さくすることが可能であると考えられる。
【0008】
しかしながら、パターンドメディア記録においても、記録密度の向上に伴い磁性層のKuが増大すれば記録が困難になることは連続媒体と同様である。
【0009】
【特許文献1】
特願平1−155897号
【特許文献2】
特願平2−100308号
【特許文献3】
米国特許第5587223号
【特許文献4】
国際出願番号PCT/JP01/07211
【特許文献5】
特開2001−110001号公報
【特許文献6】
特開2001−256605号公報
【特許文献7】
特開2002−92821号公報
【非特許文献1】
アイトリプルイートランザクション・オン・マグネティクス 36巻1号36ページ (R.Wood, IEEE Trans. Magn. 36 (2000) p36)
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
本発明では、異方性の大きな磁性体よりなる記録ビットへの磁気記録が困難であるという問題点を、記録ヘッド側に特段の改良をすることなく解決する手段を提供する。また、急峻な記録磁場分布を得る手段を提供する。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明では、二層垂直記録媒体の軟磁性裏打層にパターンニングを施すという手段をとる。本発明者らは、軟磁性裏打層の表面に微少な凹凸(互いに離間された凸部からなるトラック)を形成することにより、単磁極ヘッドからの記録磁場が増大することを見いだした。軟磁性裏打層の表面に凸部のトラックを形成することにより、記録ヘッドにより発生した記録磁場が軟磁性裏打層の凸部に向かって集中するため、従来は記録ビットと記録ビットの間に流れてしまっていた無駄な磁束が減少し、記録磁場が凸部に集中するばかりではなく、磁場の大きさも増大する。
【0012】
さらに記録を行いたいビットに記録磁場が集中することから、いわゆる「書きにじみ」の低減およびオフトラック特性の改善も可能となる。
【0013】
本発明の第2の特徴は、軟磁性裏打層の表面にパターンニングを施すことを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法にある。パターンニングの方法としては、軟磁性裏打層の形成直後にパターンニングを施して、その後中間層及び磁性層を形成する方法と、磁性層まで形成した後、磁性層の上側からパターンニングを施す方法がある。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施態様について、図を用いて詳細に説明する。
【0015】
(実施例1)
図1は本発明の一実施例による垂直磁気記録媒体を模式的に示した断面図である。図1に断面で図示するように、磁気記録媒体は円状のディスク基板上に、下地層、磁性層など種々の層が形成された構造をしている。記録媒体の表面には、サーボ領域とデータ領域とを含む同心円状のトラックパターンが形成されている。図1中、紙面に垂直なA方向がトラック走行方向、紙面に平行なB方向がトラック幅方向である。即ち、磁気ヘッド104は、紙面のA方向に進むことになる。磁気ヘッド104は、記録媒体に対して所定の浮上量115を保って浮上している。
【0016】
本実施例の垂直磁気記録媒体は、厚さ0.64mmのガラス基板101上に、軟磁性裏打膜102、および記録ビットを構成する強磁性層103が形成されている。強磁性層103には、軟磁性裏打層にまで達するパターンニングが施されており、裏打層表面には、凹凸が形成されている。また、図中では省略されているが、この媒体中には密着層、配向層など必要な磁気特性を得るための各層が含まれている。
【0017】
強磁性層103としては垂直異方性を持つコバルトクロム白金合金(CoCrPt)を用いた。結晶粒界への非磁性体の析出を避けるため、蒸着は室温で行った。使用した強磁性層103の飽和磁束密度 Bs = 2500 Gauss, 異方性磁界 Hk = 12000 Oe であったため、磁化率としてその平均の傾きを求めるとχrec = Bs/Hk 〜0.2と考えられる。すなわち強磁性層103の比透磁率μrecは約1.2である。同様に軟磁性裏打層102としては比透磁率μsl 〜 250 のコバルトタンタルジルコニウム合金(CoTaZr)を採用した。
【0018】
強磁性層103はトラック幅方向長さが111、隣接トラックの中心間距離は112となるように形成されている。従って、本実施例の垂直記録媒体に記録される記録ビットは112に等しいトラックピッチを有することになる。図示されていないが、紙面垂直方向にも同様に凸部中心間距離が最小ビット長と一致するようにパターニングされており、記録すべき情報の変調方式に対応した符号配列(記録ビット)を構成するように規則的かつ離散的に配列した複数の凸部から構成されている。最小ビット長は隣接トラックの中心間距離112と一致していても一致していなくてもよく、記録ヘッド、リードライト特性などとの兼ね合いで決定されている。
【0019】
114は強磁性層103の厚みを示す。記録ビットのない部分では軟磁性裏打層102は軟磁性裏打層厚さ117より掘り込み深さ113だけ下がっている。116はSPT記録ヘッド−軟磁性裏打層との距離を示しており、磁気ヘッドの記録磁極(主磁極)最下部と記録媒体最上部との間の距離(浮上量)115と、磁性層の厚さ114の和に等しい。実際には、強磁性層103の表面には、保護層や潤滑層が形成されており、記録ヘッド−軟磁性裏打層との距離116には、保護層や潤滑層ないし磁性層上に形成される全ての層の厚みが含まれる。
【0020】
SPT記録ヘッド104の主磁極から出た磁束118はその直下の強磁性層103内を通過し、軟磁性裏打層102の凸部に吸い込まれる。また、磁性層103を通らずに軟磁性裏打層102に吸い込まれる磁束も存在する。
【0021】
このとき、SPT記録ヘッド104、軟磁性裏打層102、磁性層103を形成する物質の透磁率や、SPT記録ヘッド−軟磁性裏打層距離116、掘り込み深さ113、SPT記録ヘッド104などの形状などにより磁束の収束の様子、すなわち記録磁場は変化する。軟磁性裏打層102はSPT記録ヘッド104の主磁極からの磁束をSPT記録ヘッドの副磁極(図示せず)に還流させる磁気経路を構成するために必要であり、SPT記録ヘッド104の主磁極からの磁束は軟磁性裏打層102の凸部に集中するように該凸部上の強磁性層103を通って凸部に吸い込まれ、軟磁性裏打層102の平坦部を介してSPT記録ヘッド104の副磁極(図示せず)に環流する。一般的には軟磁性裏打層102の厚さ117は厚いほうがリラクタンスが小さくなるため効果的である。
【0022】
一方、軟磁性裏打ち層102は磁性膜103の下に成長させる膜であるため、その表面の凹凸は小さいほうが望ましい。軟磁性裏打ち層102として多結晶系の軟磁性材料を用いた場合、エピタキシャル成長の条件により、軟磁性裏打ち層の厚さ117の増加に伴い表面の凹凸が大きくなることが知られている。表面凹凸の大きな軟磁性裏打ち層102は強磁性膜103の磁気特性の劣化およびヘッドクラッシュの原因となりうるため、軟磁性裏打ち層の厚さ117は500nmを超えないことが望ましい。
【0023】
更に生産コストの観点などからも軟磁性体厚さ117には実用上の上限がある。これらの制限のもとでは軟磁性体厚さ117を限りなく増加させることができないため、掘り込み深さ113の増加に伴い軟磁性平坦部厚さ119を小さくせざるを得ない。
【0024】
軟磁性裏打ち層102は飽和に近づくと磁束を還流させる特性が悪化するため、未飽和の状態で使用することが求められる。従って、平坦部の厚さ119はSPTヘッドの磁化量、すなわちSPT構成材料の飽和磁束密度と主磁極厚さ(ビット長方向(紙面垂直方向)の長さ)の積、よりも裏打ち層平坦部の磁化量、すなわち軟磁性体102の飽和磁束密度と平坦部厚さ119の積、が大きくなることが望ましい。
【0025】
この要請により掘り込み深さ113の上限が決められる。本実施例においてはSPTヘッドの飽和磁束密度は2.2T、主磁極厚さは200nm、軟磁性裏打体102の飽和磁束密度は1.8Tとしたため、平坦部厚さ119は244nm以上であることが望ましい。
【0026】
また、本実施例において、軟磁性体厚さ117は300nmとしたため、掘り込み深さ113は55nm以下である必要がある。同様に、他の材料や形状を採用した場合でも軟磁性体厚さ117および「SPTヘッドの磁化量<裏打ち層平坦部の磁化量」なる条件から掘り込み深さ113の上限は決定される。
【0027】
このようなヘッド及び媒体を用いた磁気記録システムにより、記録ビットの周期に合わせて軟磁性裏打層102に凹凸をつけることにより、再生信号強度、オーバーライト特性、オフトラック特性などに改善が見られることを確認した。定量的な改善効果については以下の実施例において説明する。
【0028】
(実施例2)
図2は、横軸をトラック幅方向の距離、縦軸をSPT記録ヘッド104により発生する磁場の垂直成分として計算を行った結果である。本計算においては軟磁性裏打層102の比透磁率μ=1000、SPT記録ヘッドの飽和磁束密度Bs=1.8T、SPT記録ヘッド−軟磁性裏打層距離116=18nm、トラックピッチ112=36nm、磁性層幅111=20nm、起磁力0.3ATの場合について、掘り込み深さを変化させた。ただし、計算機能力の都合から本計算において、計算範囲は磁性層が3×3個の領域に限って行ない、また、磁性層103の透磁率は実施例1で説明したように軟磁性裏打層102の比透磁率に比べて十分小さいため、その効果を無視した。
【0029】
図2によると、掘り込み深さ113が0、すなわち軟磁性裏打層102への掘り込みがない場合はSPT記録ヘッド中心部直下にのみ極大点をもつなだらかな磁場分布が得られていることが分かる。一方、掘り込み深さ113が50nmの場合は垂直方向磁場強度が記録ビット位置に対応して極大値をとることが分かる。また、SPT記録ヘッド104の直下においては、同じ材料、起磁力であるにも関わらず、掘り込みのない場合に比べ最大約17%の増加がみられる。
【0030】
本計算では磁極材料として飽和磁束密度Bs=1.8T、軟磁性裏打層比透磁率μ=1000の物質を選んだが、これらに代え、Bsのより大きな材料もしくは比透磁率のより大きな材料を用いることにより、本計算結果よりも大きな磁場強度を得ることも可能である。
【0031】
(実施例3)
図3は、横軸を堀込量とし、縦軸をSPT記録ヘッド104直下での垂直方向の最大磁場強度を計算した結果として図示したものである。本計算においては層軟磁性体102の比透磁率μ=2000、飽和磁束密度Bs=2.0T、SPT記録ヘッドの飽和磁束密度Bs=2.0T、SPT記録ヘッド−軟磁性裏打層距離116=18nm、トラックピッチ112=36nm、磁性層幅111=20nm、起磁力0.3ATの場合について、掘り込み深さを変化させた。
【0032】
実施例2と同様に計算範囲は磁性層が3×3個の領域に限り、磁性層103の効果は無視して計算を行った。掘り込み量113を0から増加させていくことにより磁場垂直成分強度も大きくなることが分かる。本発明によると軟磁性裏打層への彫り込みを行うことにより、主磁極材料のBsを変えることなく記録ビットに印加される磁場強度を強くすることが可能となることがわかる。
【0033】
現在の磁気記録システムにおいて、飽和磁束密度Bs0を持つ主磁極材料を用いた場合、実際に記録を行うことのできる媒体Hcの実用上の限界は約0.6×Bs0となることが知られている(例えば非特許文献1)。
【0034】
本実施例においては、主磁極材料のBsとして2.0Tを採用したため、従来の磁気記録システムの場合、前述のとおり媒体Hcの上限は0.6×2.0T=1.2Tである。本実施例においては、裏打ち層の堀込量が4.4nmのときにこの値を超えていることが分かる。ただし、掘り込みによる磁束の収束効果は10nm以下の領域で顕著であるが、その後掘り込み量を増やしても微増を続けるのみとなる。従ってこの条件の場合、十分な磁束収束効果を得るために、掘り込み深さ113は5nm以上、望ましくは磁場強度の増加がほぼ飽和に達する30nm以上であることが求められる。
【0035】
媒体作成についての生産技術的な観点からは掘り込み深さ113は小さいほうが望ましい。本実施例の材料、大きさの組み合わせにおいては、掘り込み量113は50nm以下で必要な効果が得られた。同様に図3より、掘り込み深さ113はトラックピッチ112の3%以上で磁束の収束効果が大きくなることが分かる。
【0036】
図4は図2に示した垂直方向磁場を各条件の最大磁場強度で除し、規格化したものである。掘り込み深さ113が深いほど急峻な磁場分布が得られており、記録特性が向上する。反面、掘り込み深さ113が大きい場合、隣接記録ビットにおいても磁束の収束効果が顕著に働くようになり、記録磁場の両肩に隣接記録ビットへの漏洩磁束が現れるようになる。従って、このように隣接記録ビット部での磁場が強くなるような条件で使用する場合、例えば掘り込み深さ113=10nmの場合、各磁性粒子の磁化を反転させるのに必要な磁場の大きさの分散は最大でも±20%以内に抑えておく必要がある。
【0037】
図5は、図2と同様な構成を用い、掘り込み深さ113を10nmに固定し、SPT記録ヘッド−軟磁性裏打層距離を変化させた場合の結果である。縦軸は磁場垂直成分の強度、横軸はトラック方向の距離である。図5よりSPT記録ヘッド−軟磁性裏打層距離116が小さいほど記録磁場は強くかつ急峻な分布が得られることがわかる。このように磁場強度は多くのパラメータによって変化するため、本発明の実施時にはSPT記録ヘッド104、軟磁性裏打層102、磁性層103の材料・形状や浮上量115、各磁性層のスイッチングフィールドなどに応じて適切な掘り込み深さ113を決定する必要がある。
【0038】
なお、本実施例では、磁性層103は、軟磁性裏打層102表面の凹凸に合わせてパターンニングされているが、磁性層にはパターンニングを施さず、軟磁性裏打層表面にのみパターンニングを施しても磁束の集中効果は得られる。但し、磁性層にパターンニングを施さない場合に比べて、隣接ビットとの境界部(磁化遷移領域)からの影響により、媒体ノイズが若干大きくなるという問題がある。
【0039】
図14は本発明による媒体を用いたハードディスクのシステムを示す模式図である。記録ヘッドとしてSPT記録ヘッド、再生ヘッドとしてGMR素子を組み込んだスライダー1401がガラス基板、軟磁性裏打層、磁性層、保護層などからなる磁気記録媒体1402上に配置されている。磁気記録媒体1402はスピンドル1404に固定されており、回転運動が可能である。スライダー1401はジンバル1406を通してアクチュエータ1403に繋がっておりディスク面上の移動が可能となっている。スライダー1401は磁気記録媒体1402との相対的な運動により浮力を受け、磁気記録媒体1402上を浮上する。
【0040】
図15は本実施例において使用した磁気記録媒体を示す模式図である。1501はディスク内周部の拡大図である。軟磁性体平坦部1507上に軟磁性体凸部1506および磁性体1505が、トラックピッチ1503およびビット周期1504で円周上に規則的かつ離散的に形成されている。
【0041】
軟磁性体凸部1506および磁性体1505よりなる各磁性粒子は、特許文献4に示されるように、ヘッド駆動機構のロータリーアクチュエーターに起因するヨー角に相当する角度だけヘッド進行方向1502に対して角度を有する。この角度はヘッド進行方向1502と磁性体1505の一辺、もしくは楕円形のビットにおいてはその主軸もしくは短軸、のなす角に応じて決定され、媒体作成時に予めこのような向きで磁性体を配列させてある。
【0042】
従って、ディスク外周部の拡大図1511に示されるように、ディスク上の半径値に応じて軟磁性体凸部1506および磁性体1505よりなる各磁性粒子とヘッド進行方向1512のなす角は異なっている。ディスク内周部におけるトラックピッチ1503とディスク外周部におけるトラックピッチ1513は本実施例においてはどちらも36nmであるが、この両者は必要に応じて異なった値を取っても構わない。
【0043】
また、ディスク内周部におけるビット周期1504とディスク外周部におけるビット周期1514は本実施例においてはどちらも20nmである。このため、角速度一定で回転するディスクにおいて各ビット列の線速度が異なっている。これは記録・再生周波数を変化させることにより対応している。もちろん、線速度が一定になるようにディスク内周部におけるビット周期1504とディスク外周部におけるビット周期1514を変化させても構わない。
【0044】
また、必要に応じてディスクを幾つかの同心円状に区切り、各ゾーン毎に適切に磁性体を配置しかつ記録再生速度を調整することにより、各ゾーン毎に線速度がほぼ一定となるようにしてもよい。なお、内周部拡大図1501および外周部拡大図1511では省略しているが、各磁性粒子の間は非磁性体もしくは軟磁性体凸部1506よりも透磁率の低い物質で埋められており、ディスク表面は平坦化してある。
【0045】
本実施例においては各磁性粒子間を埋める物質としてアルミナを用いている。平坦化した表面には静電気による影響を避けるため導電性の潤滑剤を塗布した。磁性体間を埋める物質としてはアルミナ以外でも酸化珪素、金属、有機物などでもよい。
【0046】
本実施例の場合、スライダー1402と磁気記録媒体1403の相対速度が10m/sの時に、約10nm浮上する設計となっている。スライダー1401内のSPT記録ヘッドおよび再生ヘッドは電気的に信号処理系1405と繋がっており、記録電流、再生信号などがやりとりされている。図では省略されているが、スライダー1401は磁気記録媒体の両面に配置されており、それぞれが信号処理系1405に繋がっている。情報の記録時には各ビットの位置を正確に把握し、必要なタイミングで記録電流を印加する必要がある。
【0047】
このために、特許文献5に示される機構を採用した。なお、駆動機構として、スピンドル1404に代え、並進移動を行う機構、たとえばリニアアクチュエータ、ピエゾ素子などを用いてもよい。この場合は図15を用いて示した磁性粒子配列ではなく、磁性体の各辺、もしくは楕円形のビットにおいては主軸と短軸、がトラック方向およびビット長方向に直行する向きに配列させても構わない。
【0048】
(実施例4)
図6には本願発明の別の実施例を示した。本実施例は、磁束の集中効果を上げるために、軟磁性裏打層表面の凸部を絞った構造の垂直磁気記録媒体である。図1と同様に、ガラス基板601上に軟磁性裏打層602および磁性層603が配列されている。磁性層603の材料として本実施例においては垂直異方性を有するコバルト/パラジウムの多層膜(Co/Pd)を使用した。
【0049】
Co/Pd多層膜は理想的に作成された場合、原理的にパターニング後の磁性粒子内に交換相互作用を断ち切る非磁性体の析出が発生しない。すなわちビット内で単磁区になりやすい傾向をもち、磁化反転単位体積の増大、ノイズの減少などパターンメディア材料に適した磁気特性を持つ。図には示されていないが、密着層としてはタンタル、配向層としてはパラジウム、潤滑層にはカーボンをそれぞれ使用している。
【0050】
軟磁性裏打層表面の凸部は、軟磁性裏打層602と磁性層603との連結部分であり、607はパターニングされた磁性層の一部、即ち記録ビットを示している。凸部の断面積は、記録ビットの断面積に比べ小さくなっており、実施例1の垂直記録媒体に比べて磁束の収束効果が高まっている。ここで、「凸部の断面積」「記録ビットの断面積」とは、基板に平行に記録媒体を切った場合の断面積であり、基板に対する投影面積と定義しても良い。
【0051】
図6の矢印606と607は、この関係を模式的に示したものであり、凸部のトラック幅方向の長さが、記録ビットのトラック幅方向の長さに比べて短いことを示している。図示されていないが、トラック走行方向の長さについても同様の関係が成り立っている。ただし、軟磁性裏打層の凸部の径607が小さくなりすぎるとリラクタンスが大きくなり、記録磁場の低下を招く可能性がある。
【0052】
本実施例においては軟磁性裏打層の凸部径606は磁性層径607の70%とした。この値は記録ヘッドおよび軟磁性裏打層透磁率や掘り込み深さなどに応じて適宜変化させる必要がある。また、本実施例においては磁気記録ヘッドの浮上に際し、ディスク表面の凹凸が障害となることを防ぐために、非磁性体604で磁性層607間の隙間を埋めてある。これによりディスク表面の凹凸は平均3nm以下となり、記録ヘッドのスムーズな浮上が可能となった。
【0053】
本実施例においては非磁性体としてはアルミナを使用したが、平坦な表面が得られ、かつ十分な強度が得られる物質であれば他の材料を用いても構わない。
【0054】
また、図6においては磁性層603の下部で軟磁性裏打層602のない領域にも非磁性体604が満たされているが、この部分は媒体表面が平坦であれば必ずしも非磁性体で埋められている必要はない。なお、本実施例においては使用しなかったが、磁気特性の改善のために必要に応じて軟磁性裏打層602と強磁性層603の間に中間層を配置してもよい。
【0055】
図7には、本発明で使用される垂直媒体に適した形状のSPT記録ヘッドの例を記録媒体と共に示した。705はSPTヘッドの主磁極を示しており、主磁極の端部は斜めに削ってある。軟磁性裏打層にパターニングがない従来型の媒体ではこのようなSPT記録ヘッド形状は磁場分布の不均一さおよび記録磁場の低下を招き、実現が困難であったが、本実施例では軟磁性裏打層を記録ビットの周期にあわせて加工することにより、磁場分布の広がりを抑えることが可能となった。更に、図4に示されるような隣接トラックへの影響も小さくすることが可能となった。
【0056】
(実施例5)
図8には本願発明の別の実施例を示した。本実施例の記録媒体は、パターンニングを施した裏打層表面の凸部を、裏打層の他の部分に比べて透磁率の高い材料で構成した記録媒体である。ガラス基板801上に裏打層の平坦部として機能する第1の軟磁性裏打層802が形成されており、その上の凸部に相当する部分に、第1の軟磁性層802よりも透磁率の高い材料で構成された第2の軟磁性裏打層803が形成されている。
【0057】
804は磁性層であり、パターンニングが施されている。805は、パターニングされた磁性層及び第2の軟磁性裏打層の隙間を充填する非磁性層である。第二の軟磁性裏打層803は記録ビット直下にのみ存在し、記録ヘッドで発生した磁束を効果的に引き寄せることを目的としている。このため第二の軟磁性裏打層803は定常状態においては常に磁性層804と同じ方向の磁化状態となる。
【0058】
すなわち第2の軟磁性裏打層は、この部分に起因するノイズを考慮する必要がないたいめ、第一の軟磁性裏打層に比べ材料選択の幅が広く、高透磁率材料を選択することが可能になる。このように複数層よりなる軟磁性裏打層を用いることにより、単一の軟磁性裏打層よりなる凹凸に比べ、リラクタンスを小さくすることが可能となり、記録ヘッドからの磁束を収束させる効果が大きくなる。従って、記録磁場をより大きく、かつ磁場分布をより急峻にすることが可能となる。
【0059】
本実施例では、第2の軟磁性裏打層803と強磁性層804とは、同じ断面積にパターニングされているが、図6に示すように、その大きさが異なっていた方が、より磁束の収束効果は高まる。ただし、軟磁性体凸部径606が小さすぎる場合、この部分において磁束が飽和してしまうため、軟磁性体凸部径606は磁束が飽和しない範囲で選択する必要がある。
【0060】
前述したように、2種類以上の軟磁性体を積層し、凸部において飽和磁束密度の大きい材料を選択すれば、絞り込んだ部分でも飽和しにくくなるため、より小さな軟磁性体凸部径606を選ぶことが可能である。本図においては軟磁性裏打層掘り込み深さと高飽和磁束密度軟磁性裏打層704の厚さが同じであるが、高飽和磁束密度軟磁性裏打層の厚さは軟磁性裏打層掘り込み深さよりも多くても少なくてもよい。また、図8においては飽和磁束密度の違う物質は2層を構成するのみであったが、必要に応じて3層あるいはそれ以上でも構わない。
【0061】
(実施例6)
図9は本発明の別の実施例を示す媒体断面の模式図である。ガラス基板901上に軟磁性裏打層902、垂直異方性を有する強磁性層903が配置されている。この磁性層903の上には更に軟磁性層904が配置されている。
【0062】
本実施例においては軟磁性層904の厚さは1nmとした。従来の連続媒体においては強磁性体の上に軟磁性層を置くことは記録ヘッドからの磁束が膜面内に沿って通過することとなり記録特性に悪影響を及ぼしたが、本発明においては軟磁性層904は膜面内方向には不連続かつ離散的であるため、軟磁性層904に吸い込まれた磁束は強磁性層903を通過し軟磁性裏打層902へ至る。図9に示すような構造をとることにより、SPT記録ヘッドと軟磁性層の距離を短くすることができるため、効率的に磁束を収束させ、大きな記録磁場を得ることが可能となる。
【0063】
図10は本発明の更に別の実施例を示す記録媒体の断面模式図である。ガラス基板1001上に軟磁性裏打層1002、垂直異方性を有する強磁性層1003が配置されている。軟磁性裏打層1002への掘り込みは曲面状となっている。磁性層1003同士の間は非磁性体1004で埋められており、表面は平滑になっている。本実施例においては軟磁性裏打層凹部の形状が曲面上となっているため、SPT記録ヘッドから発生した磁束が軟磁性裏打層凹部の角に集中することが防げる。従って、このような凹部の角を曲面上の形状をすることにより、磁性層1003に効率的に磁束を収束させることが可能となる。
【0064】
図11は本発明の他の実施例を示す記録媒体の断面模式図である。アルミニウム基板1101上に軟磁性裏打層1102が配置され、90 nm×20 nmの凸部が、トラック幅方向には周期100 nm、ビット長方向には周期25 nmでパターニングされている。この上に強磁性体1103がついているが、上記実施例において説明した磁気記録媒体と異なり、強磁性体1103は軟磁性裏打層1102の凹部にも蒸着されている。また、軟磁性裏打層1102の側面にも強磁性体1103が付着している場合もある。
【0065】
この強磁性体1103の凹部は非磁性体1104により埋められ、表面は平滑化されている。凹部を埋める材料としてはアルミナ、酸化珪素、などの他、有機物、金属などでもよい。なお、再生時の特性に問題のない範囲であれば、非磁性体に代えて磁性体を用いてもよい。情報の記録は軟磁性裏打層1102凸部上の強磁性体のみについて行う。このような媒体構造は軟磁性裏打層1102の凹凸構造を作成後、強磁性体1103をスパッタ蒸着すればよいため、媒体の作成プロセスが容易、強磁性体1103の磁気特性が制御しやすい、といった特徴を有する。
【0066】
(実施例7)
図12には、本願発明の一実施例に係る記録媒体の製造方法について示した。ガラス基板1201を真空チャンバーに入れ、スパッタにより軟磁性裏打層1202、エッチングストッパー層を兼ねる検出層1203、軟磁性裏打層1204、強磁性体1205を蒸着する。軟磁性裏打層1204と軟磁性裏打層1202は同じ物質でも異なる物質でも構わないが、軟磁性裏打層1204として比透磁率が軟磁性裏打層1202よりも大きな物質を使うと図8を用いて説明した媒体を得ることができる。
【0067】
本実施例においては第一の軟磁性裏打層1202として比透磁率〜250のコバルトタンタルジルコニウム合金(Co92Ta3Zr5)、第二の軟磁性裏打層1204として比透磁率〜20000の鉄ニッケルモリブデン合金(Fe17Ni79Mo4) 、検出層1203としては膜厚0.2 nmの金 (Au)、強磁性体1205としては膜厚15 nm、垂直異方性を有するテルビウム鉄コバルト合金(TbFeCo)を用いた。TbFeCoはCoCrPtと異なりアモルファス系の合金であり、パターニング後の磁性粒子内に非磁性体の析出が発生しない。すなわち交換相互作用によりビット内の磁化方向が揃いやすいため単磁区になりやすい傾向をもち、磁化反転単位体積の増大、ノイズの減少などパターンメディア材料に適した磁気特性を持つ。
【0068】
なお、図では省略されているが基板1201と軟磁性裏打層1202の間にはクロム(Cr)よりなる密着層を、軟磁性裏打層1204と強磁性体1205の間に配向層をスパッタ蒸着した。また、強磁性体1205の上に更に軟磁性裏打層を付加しておくと、図9を用いて説明をした媒体を得ることができる。また、媒体表面には必要に応じて保護層や潤滑層をつけておいてもよい。
【0069】
必要な膜を成長させた後、強磁性体1205の表面に電子線により露光するレジスト1206を2000rpmで100nmの膜厚になるようにスピン塗布した。レジスト膜厚は描画サイズ、ミリング量などに応じ、適切な量を選択する。レジスト塗布後、必要に応じ、レジストの特性に応じたプリベークを行う。
【0070】
なお、本実施例においてはネガ型レジストを使用したが、描画パターンを変えることによりネガ型レジストの代わりにポジ型レジストを使うことも可能である。この媒体試料を電子線描画機に入れ、細く絞った電子線1207により周期36 nmのパターンを形成するように描画を行った。このパターン周期が記録密度を決定するため、記録密度に応じた必要な描画サイズを選択する必要がある。描画後試料を取り出し、必要に応じてポストベークを行う。
【0071】
今回使用したレジストの場合、ポストベークは行わなかった。引き続き描画パターンの現像を行い、レジストの周期構造が完成する。なお、電子線描画に代えて、予め作成しておいた型(モールド)を熱、光もしくは化学的な手法により軟化したレジストに押し付ける、いわゆるインプリント法を用いることができる場合は、この手法によるほうがコストの低減が可能になる。
【0072】
この媒体試料を、レジストをマスクとしてアルゴンイオンにより上方より垂直にミリングを行うことにより磁性体アレイが完成する。アルゴンイオンミリング以外に他の希ガスイオンによるミリングもしくは反応性ガスによるエッチング(RIE)を用いてもよい。ミリング中は四重極質量分析器による2次イオンまたは2次中性粒子の質量分析を行い、検出層の物質が検出された信号をトリガーとしてミリングを停止する。
【0073】
質量分析以外でも2次粒子の元素分析ができる手法であれば他の手法を用いても構わない。またミリングレートに面内分布のある場合など、必要に応じて検出層1203元素検出後もミリングを行っても構わない。必要な深さは物質の透磁率や磁性体の周期など様々な要素が関係しているため、図2を用いて説明した原理により決定する。また、検出層1203において金の代わりにアルゴンガスのミリングレートの低い物質、例えばタンタルを用いると、この層はミリングに対し耐性を持つため、この層を停止層として用いることができる。停止層を用いた場合、質量分析を省いた装置、プロセスで試料作成が可能であり、簡素化、省力化が可能となる。
【0074】
検出層1203もしくは停止層は磁気特性に影響を与えるため、目的を達成できる範囲で可能な限り薄くすることが望ましい。ただし、検出層1203は、2次粒子の質量分析により軟磁性裏打層1204との違いを検出するのに十分な量の元素が含まれていれば、検出層1203の材料には制限はなく、当然、検出層1203自身が軟磁性裏打層であっても構わない。この場合、記録再生特性に問題を発生しない範囲で検出層1203は厚くしても構わない。
【0075】
なお、ミリングレートが予め分かっており、ミリング量を時間で制御できる場合は検出層1203を設けなくても構わない。さらに、上述のプロセスにおいてイオンミリングもしくは反応性イオンエッチングに変えて溶液中でのウエットエッチングを行っても構わない。この場合は検出層1203に代え、停止層を導入することが望ましい。
【0076】
ミリングもしくはエッチングにより空いた凹部に非磁性体1208を埋め込み、表面を平滑にする。本実施例においては非磁性体1208としてはスピンオングラスを回転塗布により埋め込んだが他の物質を用いても構わない。また、媒体表面の凹凸が十分小さいかもしくは凹部の幅が十分小さく、記録ヘッドの浮上に際して問題にならない場合は凹部を埋めずにそのまま残しておいても構わない。表面の平滑化が必要な場合は機械研磨、化学機械研磨などにより行う。
【0077】
平坦化終了後、本実施例においては磁気特性を改善するためにランプヒーターにより300℃まで加熱し、磁場中冷却を行うことにより容易軸を半径方向に揃える(例えば、Tanahashi et al, JAP 91 (2002) p.8049)。
【0078】
更に必要に応じて最表面に保護層や潤滑層をつけ、記録媒体が完成する。なお、図10を用いて説明した曲面状の凹部をもつ軟磁性裏打層は、上記プロセスにおいて適切なミリングあるいはエッチング条件を用いることにより作成が可能である。一例として、アルゴンイオンミリングによる作成プロセスにおいて、アルゴンガス圧を高めること、または加速電圧を下げることにより、曲面状の凹部を持つ媒体を作成することが可能であった。
【0079】
(実施例8)
図12では磁性体の膜をパターニングすることにより磁性体のアレイを得たが、逆に非磁性体をパターニングしてもよい。このような方式による実施例の概略を図13に示す。ガラスよりなる基板1301上に軟磁性裏打層1302および非磁性体1303をスパッタにより成長させる。本実施例においては非磁性体1303としてアルミナを用いたが、他にも例えばシリコンや二酸化シリコン、アルミニウムなど強磁性を示さない物質であれば用いることができる。また、図には示していないが、基板1301と軟磁性裏打層1302の間には両者の密着を改善するための密着層、磁気特性を改善するための下地層などが存在している。
【0080】
ディスク表面にレジスト1304をスピン塗布し、電子線1305によりパターン描画を行った。描画後、ポストベーク、現像を行い、レジストのパターン構造を得た。もちろん、前述の通り、インプリント法を用いてもよい。このレジストをマスクとして非磁性体1303をパターニングする。本実施例において、パターニングはアルゴンイオンミリングを用いた。
【0081】
ミリング中は2次イオン質量分析器により軟磁性裏打層1302に含まれる元素をモニターし、終点検知を行った。ただし、必要な磁気特性を得ることができる範囲において、非磁性体1303は完全に除去せずに若干残っていても構わない。
【0082】
また、アルゴンイオンミリングに代え、微細加工が可能な他の手法、例えば反応性イオンエッチング、ウエットエッチングなどを用いてもよい。特に反応性イオンエッチングを用いた場合、軟磁性裏打層1302と非磁性体1303の選択比の大きな気体をエッチングガスとして用いることにより軟磁性裏打層1302が停止層の役割を果たすため2次イオン質量分析器による終点検知を行わなくても構わない。
【0083】
このようにして軟磁性裏打層1302上に非磁性体1303の穴アレイが完成する。この穴アレイにスパッタもしくはめっきにより軟磁性体1308および垂直異方性を有する強磁性体1306を順次、成長させる。スパッタの場合、穴の底まで軟磁性体1308および磁性体1306が埋まるよう、ロングスルーのスパッタ装置であることが望ましい。
【0084】
めっきの場合、電極として軟磁性裏打層1302を用いることができる。めっき特性改善のために、記録再生に必要な磁気特性が得られる範囲で、あらかじめ軟磁性裏打層1302と非磁性体1303の間に金などの化学的に安定な物質の膜をはさんでおいてもよい。この後、表面を研磨し、保護層1307を成長させる。必要に応じて表面に潤滑層などを加えても構わない。
【0085】
本手法により、軟磁性体1302上に軟磁性体1308および磁性体1306の周期構造を作成することが可能となる。本手法では実施例5において説明したように、異なる磁気特性を有する2種類以上の軟磁性体を磁性体1306の下部に配置することができる。ただし、軟磁性体1302及び軟磁性体1308の磁気特性が異なることは必須ではない。
【0086】
(実施例9)
図16は他の実施の形態を示す断面の模式図である。ガラスよりなる基板1601の上に裏打ち層として200 nmの軟磁性体1602がスパッタ法により成長させてある。この上にCoCrPtよりなる垂直異方性を持つ強磁性体1603が配置してある。この強磁性体1603にはトラック幅方向、ビット長方向共に周期25 nmとなるように凹部が設けられ、その凹部には透磁率の大きな物質よりなる軟磁性体1604が埋め込まれている。
【0087】
表面にはヘッドの浮上に影響を及ぼさない程度に平滑化されている。なお図には示されていないが、軟磁性体1602の下部および強磁性体1603の下部にはそれぞれの磁気特性を改善するための層が、また表面には保護膜、潤滑膜が入っている。また各層は1層からなるとは限らず、数層から構成されてもよい。この図を立体的に示したものが図17である。強磁性体1702の凹部に配列された透磁率の高い軟磁性体1704は楕円柱の形状である。本実施例においては楕円の長軸がトラック幅方向に一致し、短軸はビット長方向に一致している。
【0088】
なお、強磁性体の形状は楕円柱でなく、必要に応じて円中、四角柱またはその他の柱状形状としてもよい。本実施例においては、この媒体をスピンドル上にて回転させるのではなく、x−yの走査を行うことにより記録を行った。
【0089】
記録ヘッドから発生した磁束は透磁率の高い軟磁性体1604(1704)に吸い込まれ、そのまま強磁性体1603(1703)を通過し軟磁性体1602(1702)に至る。すなわち、記録された情報は、離散的に設けられた軟磁性体1604(1704)の直下にある強磁性体1603(1703)の磁化方向として保存される。軟磁性体1604(1704)は強磁性体1603(1703)と比べ飽和磁束密度が高く多くの磁束を通過させること、およびその両者が接触していることの2点により、記録ヘッドと記録層が空気の層、潤滑剤、保護膜などよりなるヘッド−媒体スペーシングで隔てられていた従来の磁気記録方式に比べてより大きな記録磁場を印加することが可能になる。
【0090】
記録された情報は軟磁性体1604(1704)直下の強磁性体1603(1703)の磁化方向として保存されており、再生時は逆にこの磁化より発生する磁場を軟磁性体1603(1703)を通して再生ヘッドで検出することなる。
【0091】
(実施例10)
本実施例においては、断面形状は図1に示されるものと同様であるが、紙面垂直方向、すなわちビット長方向に対して凸部が連続的であることを特徴とする。すなわち、ディスク上にディスク中心を中心とする同心円状に磁性体および軟磁性体よりなる凸部が形成されていることを特徴とする。その模式図を図18に示す。
【0092】
本実施例においてはアルミニウム基板1801上に高透磁率材料よりなる軟磁性裏打層1802および強磁性層1803が形成されている。強磁性層1803及び軟磁性層1802は前述のような手法により、強磁性体幅1804 = 20 nm、トラックピッチ1805 = 30 nmとなるようにパターニングされている。なお図示されていないが、強磁性体および軟磁性体凸部よりなる記録トラックの間の凹部(隙間)はアルミニウムで埋められており、表面はヘッドの浮上に支障のないよう平坦化されている。
【0093】
更に表面には保護膜、潤滑層などが配置されている。また各層において必要な磁気特性を得るための下地層などが配置されている。また、ディスク上の必要な領域はトラッキング情報などを書きこむ領域として確保されている。
【0094】
記録動作時、ビット長方向については連続的であるため、従来媒体とほぼ同等の磁場分布となり格段の磁束収束効果は得られないが、トラック幅方向については軟磁性体1802に凹凸があるため、磁束収束の効果が得られる。すなわち本実施例においても、連続媒体と比べ、記録磁場の増大、書きにじみの減少、オフトラック特性改善、といった効果が得られる。
【0095】
本実施例ではビット長方向にパターニングがないため、実施例3に比べ媒体の作成が容易であり、また、実施例3において採用した記録再生時の位相同期(例えば特開2001−110001)が不用、といった利点がある。一方、本実施例においては実施例3の図15にて採用したヘッドヨー角に対応したビット形状を持たせることができないため、記録ヘッドの浮上面形状を五角形もしくは逆台形にする方式(例えば特許文献6、特許文献7)を採用することが望ましい。
【0096】
ただし、連続媒体と比較するとトラック間の非磁性体のため、ヨー角による隣接トラックへの影響は小さく押さえることができる。従ってこのようなヘッド形状は必ずしも必須とされるものではない。また、磁束の収束効果はビット長方向へのパターニングがある場合に比べ小さくなる。
【0097】
【発明の効果】
本発明の記録媒体により、記録ヘッドより発生する記録磁場を集中させ、大きな記録磁場を各記録ビットに印加することが可能となる。このため、磁気記録媒体としてこれまで使用できなかった異方性定数の大きな材料に記録を行うことができ、熱揺らぎなどの擾乱に強い媒体を得ることが可能となる。したがって、本発明によると高密度磁気記録媒体および高密度磁気記録システムが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る記録媒体の一実施例を示す模式図である。
【図2】本発明に係る記録媒体の一実施例を示す模式図である。
【図3】本発明に係る記録媒体の一実施例を示す模式図である。
【図4】本発明に係る記録媒体の一実施例を示す模式図である。
【図5】本発明に係る記録媒体の一実施例を示す模式図である。
【図6】本発明に係る記録媒体の一実施例を示す模式図である。
【図7】本発明に係る記録媒体の一実施例を示す模式図である。
【図8】本発明に係る記録媒体の一実施例を示す模式図である。
【図9】本発明に係る記録媒体の一実施例を示す模式図である。
【図10】本発明に係る記録媒体の一実施例を示す模式図である。
【図11】本発明に係る記録媒体の一実施例を示す模式図である。
【図12】本発明の記録媒体の製造方法の一実施例を示す模式図である。
【図13】本発明の記録媒体の製造方法一実施例を示す模式図である。
【図14】本発明の記録媒体が搭載される磁気ディスク装置の構成例を示す模式図である。
【図15】本発明の記録媒体の構成例を示す模式図である。
【図16】本発明の記録媒体の構成例を示す模式図である。
【図17】本発明の記録媒体の構成例を示す模式図である。
【図18】本発明の記録媒体の構成例を示す模式図である。
【符号の説明】
101:基板、102: 軟磁性裏打層、103: 磁性層、104: SPT記録ヘッド、111: 磁性層幅、112: トラックピッチ、113: 掘り込み深さ、114: 磁性層厚さ、115: 浮上量、116: SPT記録ヘッド−軟磁性裏打層距離、117: 軟磁性裏打層厚さ、118: 磁束、119: 平坦部厚さ、601:基板、602: 軟磁性裏打層、603: 磁性層、604: 非磁性体、605: SPT記録ヘッド、606: 軟磁性裏打層凸部径、607: 磁性層径701:基板、702: 軟磁性裏打層、703: 磁性層、704: 非磁性体、705: SPT記録ヘッド、801:基板、802: 第1の軟磁性裏打層、803: 第2の軟磁性裏打層、804: 磁性層、805: 非磁性体、901:基板、902: 軟磁性裏打層、903: 磁性層、904: 軟磁性裏打層、905: 非磁性体、1001:基板、1002: 軟磁性裏打層、1003: 磁性層、1004: 非磁性体、1101:基板、1102: 軟磁性裏打層、1103: 強磁性体、1104: 非磁性体、1201:基板、1202: 軟磁性裏打層、1203: 検出層、1204: 軟磁性裏打層、1205: 強磁性体、1206: レジスト、1207: 電子線、1208: 非磁性体、1301: 基板、1302: 軟磁性裏打層、1303: 非磁性体、1304: レジスト、1305: 電子線、1306: 磁性体、1307: 保護層、1401 スライダー、1402 磁気記録媒体、1403 アクチュエーター、1404 スピンドル、1405 信号処理系、1406 ジンバル、1500 ディスク、1501 内周部拡大図、1502 ヘッド進行方向、1503 トラックピッチ、1504 ビット周期、1505 磁性体、1506 軟磁性体凸部、1507 軟磁性体平坦部、1511 外周部拡大図、1512 ヘッド進行方向、1513 トラックピッチ、1514 ビット周期、1515 磁性体、1516 軟磁性体凸部、1517 軟磁性体平坦部、1601基板、1602軟磁性体、1603強磁性体、1604軟磁性体、1701基板、1702軟磁性体、1703強磁性体、1704軟磁性体、1801基板、1802軟磁性体、1803強磁性体、1804強磁性体幅、1805トラックピッチ。
Claims (26)
- 基板と、該基板上に形成された軟磁性層と、該軟磁性層上に形成され磁化情報を記録する強磁性層とを有し、上記軟磁性層は、互いに離間して設けられた複数のトラックを構成すると共に上記強磁性層の透磁率よりも大きい透磁率を有し磁気ヘッドからの磁束を集中させる複数の凸部と、該凸部に集中した磁束を上記磁気ヘッドに環流させる磁気経路を構成するように上記複数の凸部を磁気的に結合する平坦部とから構成したことを特徴とする磁気記録媒体。
- 前記トラックは記録すべき情報の変調方式に対応した符号配列を構成するようにその延在方向に規則的かつ離散的に配列した複数の凸部で構成したことを特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体。
- 前記凸部の隙間を非磁性材で埋め込み、記録媒体の表面を平坦化したことを特徴とする請求項1又は2に記載の磁気記録媒体
- 前記凸部を前記強磁性層内に埋め込んで構成したことを特徴とする請求項項1又は2に記載の磁気記録媒体。
- 前記凸部と前記平坦部とを透磁率の異なる材料で構成し、前記凸部の透磁率を前記平坦部の透磁率よりも大きくしたことを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の磁気記録媒体。
- 前記強磁性層は前記軟磁性の凸部上に形成され、該凸部と同様に複数のトラックを構成するように離間して設けられていることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の磁気記録媒体。
- 基板と、基板上に形成された裏打ち層と、該裏打ち層上に形成された磁性層とを備える磁気記録媒体において、上記裏打ち層は規則的に配列した凸部を有し、上記凸部の透磁率は前記磁性層の透磁率よりも大きいことを特徴とする磁気記録媒体。
- 前記磁性層は、前記裏打ち層の凸部上に形成されていることを特徴とする請求項7記載の磁気記録媒体。
- 前記裏打ち層の凸部のトラック方向への周期はトラックピッチと一致しており、凸部のトラック方向の幅は該トラックピッチよりも小さいことを特徴とする請求項7記載の磁気記録媒体。
- 前記裏打ち層のビット長方向への凸部の周期はビット長と一致していることを特徴とする請求項9記載の磁気記録媒体。
- 前記凸部上に設けられた磁性層を記録ビットとして追従させるようなトラッキング情報を持つ部分を有することを特徴とする請求項9又は請求項10に記載の磁気記録媒体。
- 円盤状の基板に形成された前記裏打ち層の凸部はディスク半径方向に対し、ヘッドのヨー角に対応する傾きを持って配置された角柱、楕円柱もしくはそれに類する柱状構造とし垂直記録用として構成したことを特徴とする請求項10記載の磁気記録媒体。
- 前記裏打ち層の凸部の高さはトラックピッチの2%以上であることを特徴とする請求項7記載の磁気記録媒体。
- 前記裏打ち層の凸部の高さ(掘り込み量)は5nm以上であることを特徴とする請求項7記載の磁気記録媒体。
- 上記裏打ち層の凸部のトラック幅方向の幅は、上記磁性層のトラック間隔以下であることを特徴とする請求項7記載の磁気記録媒体。
- 前記凸部は2層以上の軟磁性体からなり、前記磁性層に近い側の軟磁性体の透磁率が離れた側の軟磁性体の透磁率よりも大きい材料からなることを特徴とする請求項7記載の磁気記録媒体。
- 前記凸部の間には前記凸部よりも透磁率の小さな材料が充填されていることを特徴とする請求項7記載の磁気記録媒体。
- 周期的な凸部を持つ軟磁性からなる裏打ち層に替えて、平坦な軟磁性層および周期的な凹凸を持つ強磁性層を持ち、その凹部に高透磁率材料を埋め込んだ裏打ち層で構成したことを特徴とする請求項7記載の磁気記録媒体。
- 基板に直接または下地層を介して軟磁性裏打層を形成する工程と、該軟磁性裏打層上に直接ないし中間層を介して磁性層を形成する工程とを有し、さらに前記軟磁性裏打層の表面に凹凸を形成する工程を含むことを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 請求項19に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法において、前記凹凸を形成する工程は、前記軟磁性裏打層の表面にレジストパターンを形成する工程と、該レジストパターンの形成された軟磁性裏打層をエッチングにより加工する工程と、前記レジストパターンを除去する工程とを含むことを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 請求項19に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法において、前記凹凸を形成する工程は、前記磁性層の表面にレジストパターンを形成する工程と、該レジストパターンの形成された磁性層上からエッチングを行うことにより前記軟磁性裏打層の表面に凹凸を形成する工程と、前記レジストパターンを除去する工程とを含むことを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 請求項19に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法において、前記軟磁性裏打層を形成する工程は、エッチングストッパー層を形成する工程と、該エッチングストッパー上に前記軟磁性裏打層を形成する工程とを含むことを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 請求項18に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法において、前記凹凸を形成する工程は、前記軟磁性裏打層の上方からエッチングを行う工程と、前記エッチングストッパー層を構成する材料を検出することによりエッチングを終了する工程とを含むことを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 請求項22に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法において、前記エッチングストッパー層として、前記軟磁性裏打層よりも透磁率の小さな第2の軟磁性裏打層を形成することを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 請求項19に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法において、前記磁性膜を平坦化する工程を含むことを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 請求項1に記載の磁気記録媒体と、記録ヘッドおよび再生ヘッドを備えたスライダーと該スライダーを載せたジンバルとこれらを駆動するための機構と、信号処理機構と情報をやり取りするためのインターフェイスとを備えたことを特徴とする磁気記録装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003045262A JP2004259306A (ja) | 2003-02-24 | 2003-02-24 | 磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 |
US10/747,097 US7097924B2 (en) | 2003-02-24 | 2003-12-30 | Magnetic recording media and method of forming them |
US11/450,364 US7351445B2 (en) | 2003-02-24 | 2006-06-12 | Magnetic recording media and method of forming them |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003045262A JP2004259306A (ja) | 2003-02-24 | 2003-02-24 | 磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004259306A true JP2004259306A (ja) | 2004-09-16 |
JP2004259306A5 JP2004259306A5 (ja) | 2006-04-06 |
Family
ID=32866503
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003045262A Pending JP2004259306A (ja) | 2003-02-24 | 2003-02-24 | 磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7097924B2 (ja) |
JP (1) | JP2004259306A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005122876A (ja) * | 2003-09-26 | 2005-05-12 | Tdk Corp | 磁気記録媒体及び磁気記録装置 |
JP2006344328A (ja) * | 2005-06-10 | 2006-12-21 | Toshiba Corp | 磁気ディスク媒体およびレティクルならびに磁気記録再生装置 |
JP2007219033A (ja) * | 2006-02-15 | 2007-08-30 | Hitachi Ltd | 部位選択的に修飾された微細構造体およびその製造方法 |
JP2007250047A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Canon Inc | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
JP2008010114A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-17 | Toshiba Corp | パターンド磁気記録媒体およびその製造方法 |
JP2008140464A (ja) * | 2006-12-01 | 2008-06-19 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
EP1944762A2 (en) | 2007-01-09 | 2008-07-16 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Magnetic disk device |
JP2009238262A (ja) * | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体およびその記録再生装置 |
JP2010102756A (ja) * | 2008-10-21 | 2010-05-06 | Toshiba Storage Device Corp | 磁気記録再生装置および磁気記録再生装置製造方法 |
Families Citing this family (47)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7618721B1 (en) * | 2001-11-01 | 2009-11-17 | Seagate Technology Llc | Master for printing servo patterns |
US6778358B1 (en) | 2002-05-01 | 2004-08-17 | Western Digital (Fremont), Inc. | Magnetically soft, high saturation magnetization laminates of iron-cobalt-nitrogen and iron-nickel |
JP2004118956A (ja) * | 2002-09-27 | 2004-04-15 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体 |
KR100571812B1 (ko) * | 2003-07-19 | 2006-04-17 | 삼성전자주식회사 | 패턴된 자기 기록 매체 및 그 제조방법 |
CN100440324C (zh) * | 2003-09-30 | 2008-12-03 | 富士通株式会社 | 垂直磁记录介质以及磁存储装置 |
JP4008420B2 (ja) * | 2004-02-23 | 2007-11-14 | Tdk株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
JP2006012285A (ja) * | 2004-06-25 | 2006-01-12 | Tdk Corp | 磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法 |
JP2006018902A (ja) * | 2004-06-30 | 2006-01-19 | Toshiba Corp | ディスクリートトラック媒体を有する垂直磁気記録装置 |
JP3881350B2 (ja) * | 2004-08-03 | 2007-02-14 | Tdk株式会社 | 磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 |
US7706179B2 (en) * | 2004-08-04 | 2010-04-27 | The Florida International University Board Of Trustees | Three dimensional magnetic memory and/or recording device |
JP2006059498A (ja) * | 2004-08-23 | 2006-03-02 | Tdk Corp | 磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 |
US7394622B2 (en) * | 2004-12-07 | 2008-07-01 | Seagate Technology Llc | Magnetic recording media with discrete tracks of magnetic material in a magnetically soft underlayer |
JP2006172634A (ja) * | 2004-12-16 | 2006-06-29 | Tdk Corp | 磁気記録再生装置、磁気記録媒体及び磁気ヘッド |
JP2006216171A (ja) * | 2005-02-04 | 2006-08-17 | Tdk Corp | 磁気記録媒体、記録再生装置およびスタンパー |
JP4649262B2 (ja) * | 2005-04-19 | 2011-03-09 | 株式会社東芝 | 磁気記録媒体の製造方法 |
JP2006331540A (ja) * | 2005-05-26 | 2006-12-07 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体および磁気記録装置 |
US8147996B2 (en) * | 2005-06-07 | 2012-04-03 | Seagate Technology Llc | Perpendicular media with dual soft magnetic layers |
US7876529B1 (en) | 2005-11-03 | 2011-01-25 | Seagate Technology Llc | Recording disk with antiferromagnetically coupled multilayer ferromagnetic island disposed in trench between discrete tracks |
JP2007149155A (ja) * | 2005-11-24 | 2007-06-14 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体、その作製方法、及び磁気ディスク装置 |
US7719793B2 (en) | 2005-12-28 | 2010-05-18 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Circumferentially patterned disk for longitudinal and perpendicular recording |
CN100545914C (zh) * | 2006-02-23 | 2009-09-30 | Tdk股份有限公司 | 磁记录介质的制造方法 |
JP4585476B2 (ja) * | 2006-03-16 | 2010-11-24 | 株式会社東芝 | パターンド媒体および磁気記録装置 |
JP4675812B2 (ja) * | 2006-03-30 | 2011-04-27 | 株式会社東芝 | 磁気記録媒体、磁気記録装置および磁気記録媒体の製造方法 |
JP2007273042A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 |
JP2008016102A (ja) * | 2006-07-04 | 2008-01-24 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 |
KR20080017804A (ko) * | 2006-08-22 | 2008-02-27 | 삼성전자주식회사 | 자성막 형성방법, 이 방법으로 형성된 자성막을 구비하는패턴화된 자기 기록 매체 및 그 제조방법 |
JP2008176858A (ja) * | 2007-01-18 | 2008-07-31 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 垂直磁気記録媒体、及びそれを用いたハードディスクドライブ |
JP4296204B2 (ja) * | 2007-03-26 | 2009-07-15 | 株式会社東芝 | 磁気記録媒体 |
JP2008282512A (ja) * | 2007-05-14 | 2008-11-20 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 |
US8021769B2 (en) * | 2007-05-22 | 2011-09-20 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Patterned perpendicular magnetic recording medium with exchange coupled recording layer structure and magnetic recording system using the medium |
JP2009064527A (ja) * | 2007-09-07 | 2009-03-26 | Hitachi Ltd | 垂直磁気記録媒体及び磁気記録装置 |
JP4382843B2 (ja) * | 2007-09-26 | 2009-12-16 | 株式会社東芝 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
JP4381444B2 (ja) * | 2007-11-22 | 2009-12-09 | 株式会社東芝 | 磁気記録媒体、磁気記録媒体の製造方法、および磁気記録装置 |
US20090155627A1 (en) * | 2007-12-14 | 2009-06-18 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Discrete track media with a capped media structure having high moment and exchange |
US7867406B2 (en) * | 2007-12-26 | 2011-01-11 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. | Patterned magnetic media having an exchange bridge structure connecting islands |
US8993060B2 (en) | 2008-11-19 | 2015-03-31 | Seagate Technology Llc | Chemical pinning to direct addressable array using self-assembling materials |
US9311948B2 (en) * | 2008-12-31 | 2016-04-12 | Seagate Technology Llc | Magnetic layering for bit-patterned stack |
US8247095B2 (en) * | 2009-08-21 | 2012-08-21 | Western Digital Technologies, Inc. | Energy assisted discrete track media with heat sink |
US8748018B2 (en) * | 2009-10-12 | 2014-06-10 | HGST Netherlands B.V. | Patterned perpendicular magnetic recording medium with data islands having a flux channeling layer below the recording layer |
US8541116B2 (en) * | 2010-10-18 | 2013-09-24 | HGST Netherlands B.V. | Patterned perpendicular magnetic recording disk drive and medium with patterned exchange bridge layer below the data islands |
US8673541B2 (en) | 2010-10-29 | 2014-03-18 | Seagate Technology Llc | Block copolymer assembly methods and patterns formed thereby |
JP5897399B2 (ja) * | 2012-05-02 | 2016-03-30 | 株式会社日立製作所 | マイクロ波アシスト記録用磁気記録媒体及びこれを用いた情報記録装置 |
US9123363B2 (en) | 2012-12-18 | 2015-09-01 | Seagate Technology Llc | Crystalline magnetic layer to amorphous substrate bonding |
US9275676B2 (en) | 2014-02-28 | 2016-03-01 | Seagate Technology Llc | Skew compensation in a patterned medium |
US9489974B2 (en) | 2014-04-11 | 2016-11-08 | Seagate Technology Llc | Method of fabricating a BPM template using hierarchical BCP density patterns |
US9373349B1 (en) * | 2015-05-29 | 2016-06-21 | Seagate Technology Llc | Relaxing media design constraints with two-dimensional magnetic recording |
US9269384B1 (en) | 2015-05-29 | 2016-02-23 | Seagate Technology Llc | Template misalignment and eccentricity error compensation for a patterned medium |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01155897A (ja) | 1987-12-15 | 1989-06-19 | Tokyo Sensen Kikai Seisakusho:Kk | ドライクリーニング機 |
JP2728498B2 (ja) * | 1988-05-27 | 1998-03-18 | 株式会社日立製作所 | 磁気記録媒体 |
JP2665243B2 (ja) | 1988-10-07 | 1997-10-22 | 日本ケミコン株式会社 | 電解コンデンサ用電解液 |
JP2911050B2 (ja) * | 1989-05-31 | 1999-06-23 | 富士通株式会社 | 垂直磁気記録媒体及びその製造方法 |
JPH041922A (ja) * | 1990-04-18 | 1992-01-07 | Hitachi Ltd | 面内磁気記録媒体及び磁気記憶装置 |
JPH06119632A (ja) | 1992-10-07 | 1994-04-28 | Fujitsu Ltd | 垂直磁気記録媒体 |
US5587223A (en) * | 1992-10-19 | 1996-12-24 | Board Of Trustees Leland Stanford, Jr. University | High density magnetic information storage medium |
TW342495B (en) * | 1996-07-22 | 1998-10-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Master information carrier, method of producing the same, and method for recording master information signal on magnetic recording medium |
US6403203B2 (en) * | 1997-05-29 | 2002-06-11 | Hitachi, Ltd. | Magnetic recording medium and magnetic recording apparatus using the same |
JPH11284777A (ja) | 1998-03-30 | 1999-10-15 | Brother Ind Ltd | ファクシミリ装置 |
US6351339B1 (en) * | 1998-05-11 | 2002-02-26 | Ronni Corporation | Multi-dimensionally oriented magnetic field information storage system |
JP2000076333A (ja) | 1998-08-27 | 2000-03-14 | Komatsu Ltd | 作業工程設計装置 |
JP2000286842A (ja) | 1999-03-31 | 2000-10-13 | Sony Corp | 通信ネットワーク従量制課金方法及び通信ネットワーク従量制課金装置 |
JP3731640B2 (ja) * | 1999-11-26 | 2006-01-05 | 株式会社日立グローバルストレージテクノロジーズ | 垂直磁気記録媒体及び磁気記憶装置 |
JP4139546B2 (ja) * | 2000-03-14 | 2008-08-27 | 株式会社日立グローバルストレージテクノロジーズ | 垂直磁気ディスク装置 |
US6652998B2 (en) * | 2000-06-26 | 2003-11-25 | Jvc Victor Company Of Japan, Ltd. | Producing method of thin film magnetic tape and the thin film magnetic tape |
SG91343A1 (en) * | 2000-07-19 | 2002-09-17 | Toshiba Kk | Perpendicular magnetic recording medium and magnetic recording apparatus |
US7166375B2 (en) * | 2000-12-28 | 2007-01-23 | Showa Denko K.K. | Magnetic recording medium utilizing a multi-layered soft magnetic underlayer, method of producing the same and magnetic recording and reproducing device |
KR100545692B1 (ko) * | 2000-12-28 | 2006-01-24 | 히타치마쿠세루가부시키가이샤 | 자기 기록 매체, 그 제조 방법 및 자기 기억 장치 |
JP3648450B2 (ja) * | 2000-12-28 | 2005-05-18 | 株式会社日立製作所 | 垂直磁気記録媒体および磁気記憶装置 |
US6692898B2 (en) * | 2001-01-24 | 2004-02-17 | Infineon Technologies Ag | Self-aligned conductive line for cross-point magnetic memory integrated circuits |
US6777066B1 (en) * | 2001-03-07 | 2004-08-17 | Seagate Technology Llc | Perpendicular magnetic recording media with improved interlayer |
US7153597B2 (en) * | 2001-03-15 | 2006-12-26 | Seagate Technology Llc | Magnetic recording media having chemically modified patterned substrate to assemble self organized magnetic arrays |
KR20020088375A (ko) * | 2001-05-18 | 2002-11-27 | 후지 샤신 필름 가부시기가이샤 | 자기전사용 마스터담체 및 자기전사방법, 그리고자기전사용 마스터담체의 제작방법 |
CN100505046C (zh) * | 2001-11-30 | 2009-06-24 | 希捷科技有限公司 | 反铁磁性耦合的垂直磁记录介质 |
JP4088453B2 (ja) * | 2002-02-14 | 2008-05-21 | 株式会社日立グローバルストレージテクノロジーズ | 垂直記録用磁気ヘッド及びそれを搭載した磁気ディスク装置 |
JP2004160584A (ja) * | 2002-11-12 | 2004-06-10 | Mori Seiki Co Ltd | 多軸加工工作機械及びテーブルユニット着脱用治具 |
US7147790B2 (en) * | 2002-11-27 | 2006-12-12 | Komag, Inc. | Perpendicular magnetic discrete track recording disk |
-
2003
- 2003-02-24 JP JP2003045262A patent/JP2004259306A/ja active Pending
- 2003-12-30 US US10/747,097 patent/US7097924B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-06-12 US US11/450,364 patent/US7351445B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005122876A (ja) * | 2003-09-26 | 2005-05-12 | Tdk Corp | 磁気記録媒体及び磁気記録装置 |
JP4525249B2 (ja) * | 2003-09-26 | 2010-08-18 | Tdk株式会社 | 磁気記録媒体及び磁気記録装置 |
US7738213B2 (en) | 2005-06-10 | 2010-06-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic disk medium, reticle and magnetic recording and reproducing apparatus |
JP2006344328A (ja) * | 2005-06-10 | 2006-12-21 | Toshiba Corp | 磁気ディスク媒体およびレティクルならびに磁気記録再生装置 |
JP4542953B2 (ja) * | 2005-06-10 | 2010-09-15 | 株式会社東芝 | 磁気ディスク媒体および磁気記録再生装置 |
JP2007219033A (ja) * | 2006-02-15 | 2007-08-30 | Hitachi Ltd | 部位選択的に修飾された微細構造体およびその製造方法 |
US7887723B2 (en) | 2006-02-15 | 2011-02-15 | Hitachi, Ltd. | Site-selectively modified micro-and nanostructures and the methods of their fabrication |
JP2007250047A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Canon Inc | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
JP4637040B2 (ja) * | 2006-03-14 | 2011-02-23 | キヤノン株式会社 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
JP2008010114A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-17 | Toshiba Corp | パターンド磁気記録媒体およびその製造方法 |
JP4630850B2 (ja) * | 2006-06-30 | 2011-02-09 | 株式会社東芝 | パターンド磁気記録媒体およびその製造方法 |
JP2008140464A (ja) * | 2006-12-01 | 2008-06-19 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
JP2008171483A (ja) * | 2007-01-09 | 2008-07-24 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 磁気ディスク装置 |
EP1944762A2 (en) | 2007-01-09 | 2008-07-16 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Magnetic disk device |
JP2009238262A (ja) * | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体およびその記録再生装置 |
JP2010102756A (ja) * | 2008-10-21 | 2010-05-06 | Toshiba Storage Device Corp | 磁気記録再生装置および磁気記録再生装置製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20040166372A1 (en) | 2004-08-26 |
US7351445B2 (en) | 2008-04-01 |
US20060226116A1 (en) | 2006-10-12 |
US7097924B2 (en) | 2006-08-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2004259306A (ja) | 磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 | |
JP4161540B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体に対する磁気転写方法 | |
JP2004164692A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
JPH0997419A (ja) | 磁気ディスク、磁気ディスクの製造方法、及び磁気記録装置 | |
JP4381444B2 (ja) | 磁気記録媒体、磁気記録媒体の製造方法、および磁気記録装置 | |
WO1998003972A1 (fr) | Support d'information maitre, procede de production dudit support et procede et appareil permettant d'enregistrer un signal d'information maitre sur un autre support d'enregistrement magnetique a l'aide du support maitre | |
JP2004118956A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP3884394B2 (ja) | 記録媒体、記録再生装置、記録媒体の製造装置、及び記録媒体の製造方法 | |
US9135933B2 (en) | Tapered write head for MAMR | |
JPH11296845A (ja) | 磁気ディスク媒体および磁気記録装置 | |
US20060132970A1 (en) | Magnetic recording/reproducing device, magnetic recording medium, and magnetic head | |
US8824103B2 (en) | Magnetic recording head and magnetic recording apparatus | |
JP3286291B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH06103553A (ja) | 垂直磁気記録媒体とその製造方法 | |
JP2006012294A (ja) | 磁気記録再生装置および磁気記録媒体 | |
JP4517329B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
JP4692490B2 (ja) | 垂直記録ディスクリートトラックメディアのサーボパターン磁化方法 | |
JPH08115519A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
US20090284867A1 (en) | Device having sidegap and method for fabricating same | |
JP2008204493A (ja) | ディスクリート型の磁気記録媒体 | |
JP3811880B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
US8169728B2 (en) | Magnetic medium having an artificial pattern structure using a gradient of a magnetization reversal field and a method of use thereof | |
JP2006216144A (ja) | 磁気記録媒体、その初期化方法及びその製造方法 | |
JP2008234774A (ja) | パターンドメディア、パターンドメディアの製造方法、及び磁気記録装置 | |
JP2008152825A (ja) | ディスクリート型の磁気記録媒体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060216 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060216 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20060216 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070823 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070828 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071029 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080219 |