JP4516761B2 - アルミニウム板エンボス加工用ロール - Google Patents

Description

本発明は、アルミニウム板の表面にエンボス加工を施して凹凸を付与するために用いられるアルミニウム板エンボス加工用ロールおよびそれを用いた平版印刷版用支持体の製造方法に関する。

平版印刷版に用いられる平版印刷版用アルミニウム支持体（以下、単に「平版印刷版用支持体」という。）の製造の際、あらかじめショットブラスト加工して表面に凹凸を形成させた鋼製ロールでアルミニウム板を圧延して、その表面に凹凸を付与する方法（エンボス加工）が知られている（特許文献１参照。）。また、ホーニング加工により作製した鋼製ロール（Ｒ_a＝０．５〜１．５μｍ、深さ０．６μｍ以上の凹凸が５００個／ｍｍ²以上）で、圧下率２〜２０％で圧延する方法（特許文献２参照。）、化学エッチングまたはホーニング加工でＲ_a＝０．５〜１．５μｍ、深さ０．６μｍ以上の凹凸が５００個／ｍｍ²以上としたロールで、圧下率２〜２０％で圧延する方法（特許文献３参照。）、放電加工により凹凸を作製したロール（Ｒ_a＝０．７〜１．７μｍ、深さ０．６μｍ以上の凹凸が５００個／ｍｍ²以上）で、圧下率２〜２０％で圧延する方法（特許文献４参照。）も知られている。

このような圧延用ロールにおいては、凹凸を有するロール表面の山（凸部）の位置（以下「ロール表面の山の高さ」ともいう。）が揃っていることが寿命アップにつながるということが、従来知られている。
しかしながら、これらの従来の平版印刷版用支持体に用いられるアルミニウム板を圧延するロールは、エアーブラスト、ショットブラスト等のブラスト処理で、研磨材を表面に打ち付けて粗面を形成させるため、得られるロール表面の山の高さが不均一となる。したがって、平版印刷版用支持体に用いられるアルミニウム板のエンボス加工に望まれる、十分な大きさの凹凸を有し、かつ、ロール表面の山の高さが十分に揃ったロール表面を得ることが難しかった。
また、これらの従来のロールでは、ロールを用いてエンボス加工されたアルミニウム板を、平版印刷版用支持体、特に、ＣＴＰ（レーザー光のような高収斂性の輻射線にデジタル化された画像情報を担持させて、その光で平版印刷版原版（ＰＳ版）を走査露光し、リスフィルムを介することなく、直接製版して平版印刷版を得る、コンピュータ・トゥ・プレート技術）用の平版印刷版用支持体としたときに、印刷性能、特に、耐刷性（印刷枚数）および感度に優れたものにすることが難しかった。

一方、鋼板の圧延等に用いられるプロセス用の圧延用ロールとしては、電解液中でダル仕上げのロールを陽極として電解処理し、ロール表面の山数を電解前の山数よりも１〜５０％増加させ、その後クロムめっきを施した圧延用クロムめっきロールが知られている（特許文献５参照。）。

また、クロムめっき前またはクロムめっき後に、表面の粗度をＲ_zで、初期粗度よりも５〜２０％低下させた圧延用クロムめっきロール（特許文献６参照。）、エッチング工程で無水クロム酸及び硫酸からなるクロムめっき液を用い、ロールを陽極として、ロール表面の粗度をＲ_zで、初期粗度よりも５〜２０％低下させた後にクロムめっきをしたクロムめっきロール（特許文献７参照。）、クロムめっき液中でブライト仕上げのロールを陽極として電解処理を行い、ＰＰＩ（ピーク パー インチ）で示されるロール表面の山数を初期山数よりも１．３〜１５倍増加させ、その後ロールを陰極としてクロムめっきを施し、その後、めっきされたロール表面を研磨したクロムめっきロール（特許文献８参照。）が知られている。
また、クロムめっきロールの製造方法として、電解液中でロール基材を陽極として電解処理した後、Ｆｅ濃度が５ｇ／ｄｍ³未満であるクロムめっき浴中で、ロール基材を陰極として１０〜３０分間で電流密度を０から２５〜３５Ａ／ｄｍ²まで上昇させ、２〜３分間前記電流密度に維持した後に、電流密度を下げ、２０〜３０Ａ／ｄｍ²に保持してクロムめっきを行う方法（特許文献９参照。）等が知られている。

これらのロールではクロムめっき層との密着性を上げるためにクロムめっき前の鋼製のロール表面が電解によりエッチング処理されるものがあるが、鋼板の圧延等に用いられるロールは、平滑度の高いブライト鋼板用ロールであっても適度に粗面化されたダル鋼板用ロールであっても、クロムめっき後のロール表面が冷延鋼板を平滑に圧延して仕上げられるためのものであるため、エンボス加工用の転写ロールとは最終製品の表面に求められる形状が全く異なっている。

そのほかに、圧延ロールおよび圧延ロールの製造方法、製造装置およびめっき装置として、特開平７−１８００８４号（めっき装置）、特開昭６３−９９１６６号（ロール鏡面研磨装置）、特開平８−２７５９４号（鋼板の製造方法及びその圧延用クロムめっきロール）、特開平５−６５６８６号（圧延用ダルロールの製造方法）、特開２００３−１７１７９９号（バッチ式クロムめっき方法及び装置）、特開平３−４７９８５号（クロムめっき方法）、特開２００２−４７５９５号（クロムめっき方法及び装置）等の各公報に記載されている技術が知られている。

特開昭６０−３６１９６号公報 特開昭６２−２５０９４号公報 特開昭６２−１１１７９２号公報 特開昭６２−２１８１８９号公報 特開昭６４−８２９３号公報 特開昭６１−２０２７０７号公報 特開昭６１−２０１８００号公報 特開昭平１−１２３０９４号公報 特開２００１−２４０９９４号公報

本発明は、印刷性能、特に、耐刷性および感度に優れる平版印刷版用支持体、特に、ＣＴＰ用の平版印刷版用支持体の製造に好適に用いられる、アルミニウム板エンボス加工用ロール、および、それを用いた平版印刷版用支持体の製造方法を提供することを目的とする。

本発明者は、鋼製のロールにブラスト処理を施した後に、前記ロールを陽極として特定の電気量の電解処理を施すことにより、ロール表面の山の高さが揃ったロールが得られることを見出し、このロールにより凹凸を転写されたアルミニウム板を用いて平版印刷版用支持体を製造すると、印刷性能、特に、耐刷性および感度に優れる平版印刷版用支持体が得られることを見出し、本発明を完成させた。

即ち、本発明は、以下の（１）〜（６）を提供する。

（１）鋼製のロールに、その表面に対し、少なくとも、ブラスト処理と、前記ロールを陽極とする、電気量１，０００〜２０，０００Ｃ／ｄｍ²の電解処理と、クロムめっき処理とをこの順に施してなるアルミニウム板エンボス加工用ロール。

（２）前記ブラスト処理の後、かつ、前記電解処理の前に、前記表面に対し、前記ブラスト処理により生じた凸部を機械的に研磨する処理を施す、上記（１）に記載のアルミニウム板エンボス加工用ロール。

（３）前記ブラスト処理前のロールが、あらかじめ鏡面研磨処理を施されている表面を有する、上記（１）または（２）に記載のアルミニウム板エンボス加工用ロール。

（４）前記電解処理前のロールが、平均表面粗さＲ_aが０．３〜１．５μｍである表面を有する、上記（１）〜（３）のいずれかに記載のアルミニウム板エンボス加工用ロール。

（５）前記電解処理後のロールが、平均表面粗さＲ_aが０．５〜２．０μｍ、凹凸の平均間隔Ｓ_mが１０〜２００μｍである表面を有する、上記（１）〜（４）のいずれかに記載のアルミニウム板エンボス加工用ロール。

（６）上記（１）〜（５）のいずれかに記載のアルミニウム板エンボス加工用ロールで、アルミニウム板の表面に凹凸を転写する工程を具備する、平版印刷版用支持体の製造方法。

本発明のアルミニウム板エンボス加工用ロールは、ロール表面の山の高さが揃っており、かつ、凸部の数が多いため、これを用いて得られるアルミニウム板を平版印刷版用支持体に用いると、印刷性能、特に、耐刷性および感度が優れたものとなる。

以下、本発明について詳細に説明する。
［アルミニウム板エンボス加工用ロール］
本発明のアルミニウム板エンボス加工用ロールは、鋼製のロールに、その表面に対し、少なくとも、ブラスト処理と、前記ロールを陽極とする、電気量１，０００〜２０，０００Ｃ／ｄｍ²の電解処理と、クロムめっき処理とをこの順に施してなる。

＜ロールの材質と前処理＞
本発明に用いられるロールは、鋼製のロールである。中でも、鍛鋼製であるのが好ましい。具体的には、例えば、一般的に圧延用ロールとして用いられる、工具鋼（ＳＫＤ）、ハイス鋼（ＳＫＨ）、高炭素クロム軸受鋼（ＳＵＪ）、炭素とクロムとモリブデンとバナジウムとを合金元素として含む鍛造鋼が挙げられる。長いロール寿命を得るために、クロムを１０〜２０質量％程度含有する高クロム合金鋳鉄を用いることもできる。

本発明に用いられるロールは、ブラスト処理前に、焼入れ、ラジカル窒化処理等の硬質化処理を施してあるのが好ましい。ブラスト処理前のロール表面の硬度は、Ｈｖが７００〜１０００であるのが、耐摩耗性の点で好ましい。

また、本発明に用いられるロールは、あらかじめ鏡面研磨処理（鏡面仕上げ）を施されているのが好ましい。鏡面研磨処理としては、例えば、砥石による研削、バフ研磨処理、電解研磨処理が挙げられる。中でも、バフ研磨処理が好ましい。
一般に、圧延用ロールは、その円筒度および平行度を所望の範囲にするために、あらかじめ砥石等で研磨されるが、その表面には、ミクロ的に観察される筋状の凹凸が存在している。鏡面研磨処理により、そのような筋状の凹凸をなくすことができ、その結果、後述するブラスト処理および電解処理の後のロール表面の山の高さを揃えることができる。

＜ブラスト処理＞
本発明においては、上述したロールにブラスト処理を施す。ブラスト処理は、特に限定されず、乾式および湿式のいずれも用いることができる。中でも、乾式が好ましい。乾式のブラスト処理としては、例えば、エアーブラスト法、ショットブラスト法が挙げられる。中でもエアーブラスト法が好ましい。
ブラスト処理に用いられるグリッドは、特に限定されず、例えば、ケイ砂、鋼球、アルミナ粒子が挙げられる。中でも、アルミナ粒子が好ましい。特に、アルミナ粒子を用いたエアーブラスト法が好ましい。
グリッドに、硬く、粒子一つ一つの角が鋭角なアルミナ粒子を用いると、転写ロールの表面に、深く均一な凹凸を形成させやすい。
アルミナ粒子の平均粒径は、１０〜３００μｍであるのが好ましく、３０〜２００μｍであるのがより好ましく、５０〜１５０μｍであるのが更に好ましい。上記範囲であると、転写ロールとして十分な大きさの表面粗さが得られるため、この転写ロールを用いて凹凸を付与したアルミニウム板の表面粗さが十分に大きくなる。また、ピット数も十分に多くすることができる。

エアーブラスト法においては、噴射を２回行うのが好ましい。噴射を２回行うと、１回目の噴射で形成された凹凸の不揃いな凸部を２回目の噴射で削り取ることができるため、得られる圧延ロールを用いて凹凸を付与したアルミニウム板の表面に、局所的に深い凹部が形成されにくくなる。その結果、平版印刷版用支持体を平版印刷版原版としたときの現像性（感度）がより優れたものとなる。

ブラスト処理後、後述する電解処理の前に、ブラスト処理により生じた凸部を機械的に研磨する処理を施すのが好ましい。具体的には、例えば、サンドペーパー、砥石またはバフにより研磨する方法が挙げられる。この処理により、平均表面粗さＲ_aをブラスト処理後の値から１０〜４０％低下させるのが好ましい。
機械的に研磨することにより、ロール表面の山の高さを揃えることができ、その結果、このロールを用いて凹凸を付与したアルミニウム板の表面に、局所的に深い部分が形成されなくなる。その結果、平版印刷版用支持体を平版印刷版原版としたときの現像性（感度）がより優れたものとなる。

後述する電解処理前のロールは、平均表面粗さＲ_aが０．３〜１．５μｍである表面を有するのが好ましく、０．４〜０．８μｍである表面を有するのがより好ましい。Ｒ_aが０．３μｍ以上であると、アルミニウム板に十分な大きさの凹凸を転写することができ、平版印刷版のシャイニー（印刷時の版面の湿し水の量の見やすさ）が優れたものとなる。Ｒ_aが１．５μｍ以下であると、電解処理後のロール表面の山の高さが揃いやすくなり、ロールの寿命が長くなる。また、アルミニウム板に凹凸を転写したときに、局所的に深い凹部が生成しにくくなる。
また、電解処理前のロールは、最大高さＲ_yが１〜１５μｍである表面を有するのが好ましい。

＜電解処理＞
ブラスト処理後、所望により、更に研磨した後、電解処理を施す。電解処理は、ロールを陽極とし、電気量１，０００〜２０，０００Ｃ／ｄｍ²で施される。この電解処理においては、ブラスト処理で形成された凹凸の凸部に電流が集中して、凸部の溶解が優先的に起こり、これによりロール表面の山の高さが揃う。
本発明のアルミニウム板エンボス加工用ロールは、ロール表面の山の高さが揃っているため、寿命が長い。また、ロール表面の山の高さが揃っているため、転写により凹凸を付与されたアルミニウム板の凹部の深さが均一になり、局所的に深い凹部が形成されないので、このアルミニウム板を用いると、感度に優れる平版印刷版原版を得ることができる。その効果は、特に、ＣＴＰ用の平版印刷版原版において顕著である。

電解処理は、ロールを電解液中に浸せきさせて行われる。
電解液は、特に限定されず、一般的に金属の粗面化処理に用いられる酸の水溶液を用いることができる。例えば、硝酸、塩酸、硫酸、クロム酸、これらの混合液が挙げられる。
中でも、後述するクロムめっき浴と同様の陽極電解浴を用いるのが好ましく、一般にハードクロムめっき浴として用いられる、後述のいわゆるサージェント浴を用いるのがより好ましい。

好適な電解処理条件を以下に示す。
電解液：クロム酸１５０〜４００ｇ／Ｌ、好ましくは２５０〜３５０ｇ／Ｌ；硫酸１〜５ｇ／Ｌ、好ましくは２〜４ｇ／Ｌ；鉄７ｇ／Ｌ以下、好ましくは０．０１〜５ｇ／Ｌ
液温：２０〜７０℃、好ましくは４０〜６０℃
電源波形：直流または交流、好ましくは直流、より好ましくはリップル成分５％以下の直流
電流密度：２０〜８０Ａ／ｄｍ²、好ましくは２５〜６０Ａ／ｄｍ²
電気量：１，０００〜２０，０００Ｃ／ｄｍ²、好ましくは２，０００〜１０，０００Ｃ／ｄｍ²、より好ましくは３，０００〜９，０００Ｃ／ｄｍ²

電気量が１，０００Ｃ／ｄｍ²以上であると、電解処理において凸部の溶解が十分に起こり、これによりロール表面の山の高さが揃う。
また、電気量が２０，０００Ｃ／ｄｍ²以下であると、電解処理で生成する凹部の集中が起こりにくくなるので、好ましい。

電解処理後のロールは、平均表面粗さＲ_aが０．５〜２．０μｍ、凹凸の平均間隔Ｓ_mが１０〜２００μｍである表面を有するのが好ましい。
平均表面粗さＲ_aが０．５μｍ以上であると、アルミニウム板に十分な大きさの凹凸を転写することができ、平版印刷版のシャイニーが優れたものとなる。平均表面粗さＲ_aが２．０μｍ以下であると、ロール表面の山の高さが揃いやすくなるため、平版印刷版原版の感度が優れたものとなる。
また、凹凸の平均間隔Ｓ_mが１０μｍ以上であると、アルミニウム板に十分な大きさの凹凸を付与することが容易となる。凹凸の平均間隔Ｓ_mが２００μｍ以下であると、耐刷性が優れたものとなる。

また、電解処理後のロールは、Ｒ_yが５〜２５μｍである表面を有するのが好ましく、７〜１５μｍである表面を有するのがより好ましい。
また、電解処理後のロールは、平均傾斜Δａが５〜２５°である表面を有するのが好ましく、８〜２０°である表面を有するのがより好ましい。

Ｒ_a、Ｒ_y、Ｓ_mおよびΔａはＩＳＯ４２８７に従って測定することができる。触針式粗さ計（例えば、ｓｕｆｃｏｍ５７５、東京精密社製）で２次元粗さ測定を行い、ＩＳＯ４２８７に規定されている平均表面粗さＲ_aを５回測定し、その平均値を用いる。基準長さについての最大高さＲ_y（Ｒ_max）、凹凸の平均間隔（基準長さ中での平均値）Ｓ_mおよび平均傾斜Δａも同様にして測定することができる。

＜クロムめっき処理＞
電解処理後、クロムめっき処理を施す。
クロムめっき浴としては、無水クロム酸（三酸化クロム）が用いられる。具体的には、これに少量の硫酸、フッ化物、ケイフッ化物等の触媒を添加した浴が用いられる。中でも、一般にハードクロムめっき浴として用いられる、無水クロム酸と硫酸とを含有するいわゆるサージェント浴を用いるのが好ましい。

好適なクロムめっき処理条件を以下に示す。
めっき浴組成：クロム酸１５０〜４００ｇ／Ｌ、好ましくは２５０〜３５０ｇ／Ｌ；硫酸１〜５ｇ／Ｌ、好ましくは２〜４ｇ／Ｌ；鉄７ｇ／Ｌ以下、好ましくは０．０１〜５ｇ／Ｌ
液温：２０〜７０℃、好ましくは４０〜６０℃
電源波形：直流または交流、好ましくは直流、より好ましくはリップル成分５％以下の直流
電流密度：２０〜８０Ａ／ｄｍ²、好ましくは２５〜６０Ａ／ｄｍ²
電気量：１，０００〜２０，０００Ｃ／ｄｍ²、好ましくは２，０００〜１０，０００Ｃ／ｄｍ²、より好ましくは３，０００〜９，０００Ｃ／ｄｍ²

陽極には、例えば、不溶性陽極である鉛合金を用いることができる。

電流は、低電流密度から高電流密度まで１〜１０００秒かけて徐々に上昇させ、その後一定値を保持させるのが好ましい。これにより、めっきが均一に付きやすくなる。

電解処理とクロムめっき処理に用いられる浴の組成が同じである場合は、電解処理で用いた浴の中でクロムめっき処理を施すこともできる。これにより、製造工程を簡略化することができる。
また、電解処理とクロムめっき処理とで別の浴を用いることもできる。これにより、電解液中で陽極として電解処理した際に溶け出した鉄分の影響がないため、良好なめっきが得られる。このように別の浴を用いる場合は、空気中をロールが移動するためにロール表面の活性度が低下して良好なめっきが得られないことがあるため、表面を活性化する目的で、クロムめっき処理の直前に、電流密度２０〜８０Ａ／ｄｍ²で１０〜６０秒間逆電解処理（エッチング処理）するのが好ましい。

クロムめっき厚は、１〜１５μｍであるのが好ましく、５〜１０μｍであるのがより好ましい。１μｍ未満であると、十分な耐摩耗性が得られる。１５μｍ以下であると、めっきによりロール表面が平滑化されずに、ブラスト処理および電解処理により形成された凹凸が保持される。

クロムめっき処理後のロールは、平均表面粗さＲ_aが０．５〜２．０μｍ、凹凸の平均間隔Ｓ_mが１０〜２００μｍである表面を有するのが好ましい。
平均表面粗さＲ_aが０．５μｍ以上であると、アルミニウム板に十分な大きさの凹凸を転写することができ、平版印刷版のシャイニー（印刷時の版面の湿し水の量の見やすさ）が優れたものとなる。平均表面粗さＲ_aが２．０μｍ以下であると、ロール表面の山の高さが揃いやすくなるため、平版印刷版原版の感度が優れたものとなる。
また、凹凸の平均間隔Ｓ_mが１０μｍ以上であると、アルミニウム板に十分な大きさの凹凸を付与することが容易となる。凹凸の平均間隔Ｓ_mが２００μｍ以下であると、耐刷性が優れたものとなる。

また、クロムめっき処理後のロールは、Ｒ_yが５〜２５μｍである表面を有するのが好ましく、７〜１５μｍである表面を有するのがより好ましい。
また、クロムめっき処理後のロールは、平均傾斜Δａが５〜２５°である表面を有するのが好ましく、８〜２０°である表面を有するのがより好ましい。

Ｒ_a、Ｒ_y、Ｓ_mおよびΔａは、上述した方法により測定することができる。

クロムめっき処理後のロールは、その表面において、凸部が均一に分散しているのが好ましい。凸部の密度は、４００μｍ角の領域あたり、１０〜１０００個であるのが好ましく、５０〜５００個であるのがより好ましい。

クロムめっき処理後のロール表面の硬度は、Ｈｖが８００〜１２００であるのが好ましい。

＜ロールの好ましい用途＞
本発明のアルミニウム板エンボス加工用ロールは、金属全般のエンボス加工に用いることができ、中でも、アルミニウム板、特に、平版印刷版用支持体に用いられるアルミニウム板のエンボス加工に好適に用いられる。特に好ましくは、ＣＴＰ用の平版印刷版用支持体に用いられるアルミニウム板のエンボス加工に用いられる。

［平版印刷版用支持体］
＜アルミニウム板（圧延アルミ）＞
本発明の平版印刷版用支持体の製造方法に用いられるアルミニウム板は、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金属、即ち、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる。純アルミニウム板のほか、アルミニウムを主成分とし微量の異元素を含む合金板や、アルミニウムまたはアルミニウム合金がラミネートされまたは蒸着されたプラスチックフィルムまたは紙を用いることもできる。更に、特公昭４８−１８３２７号公報に記載されているようなポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体シートを用いることもできる。

以下の説明において、上記に挙げたアルミニウムもしくはアルミニウム合金からなる各種の基板またはアルミニウムもしくはアルミニウム合金からなる層を有する各種の基板をアルミニウム板と総称して用いる。前記アルミニウム合金に含まれてもよい異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等があり、合金中の異元素の含有量は１０質量％以下である。

本発明においては、純アルミニウム板を用いるのが好適であるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、わずかに異元素を含有するものでもよい。このように本発明に用いられるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材の、例えば、ＪＩＳ Ａ１０５０、ＪＩＳ Ａ１１００、ＪＩＳ Ａ３００５、国際登録合金 ３１０３Ａ等のアルミニウム合金板を適宜利用することができる。

本発明に用いられるアルミニウム板の厚みは、０．１〜０．６ｍｍ程度であり、０．１５〜０．４ｍｍであるのが好ましく、０．２〜０．３ｍｍであるのがより好ましい。この厚みは、印刷機の大きさ、印刷版の大きさ、ユーザーの希望等により適宜変更することができる。

アルミニウム合金を板材とするには、例えば、下記の方法を採用することができる。まず、所定の合金成分含有量に調整したアルミニウム合金溶湯に、常法に従い、清浄化処理を行い、鋳造する。清浄化処理には、溶湯中の水素等の不要ガスを除去するために、フラックス処理、アルゴンガス、塩素ガス等を用いる脱ガス処理、セラミックチューブフィルタ、セラミックフォームフィルタ等のいわゆるリジッドメディアフィルタや、アルミナフレーク、アルミナボール等をろ材とするフィルタや、グラスクロスフィルタ等を用いるフィルタリング処理、あるいは、脱ガス処理とフィルタリング処理を組み合わせた処理が行われる。

これらの清浄化処理は、溶湯中の非金属介在物、酸化物等の異物による欠陥や、溶湯に溶け込んだガスによる欠陥を防ぐために実施されることが好ましい。溶湯のフィルタリングに関しては、特開平６−５７４３２号、特開平３−１６２５３０号、特開平５−１４０６５９号、特開平４−２３１４２５号、特開平４−２７６０３１号、特開平５−３１１２６１号、特開平６−１３６４６６号の各公報等に記載されている。また、溶湯の脱ガスに関しては、特開平５−５１６５９号公報、実開平５−４９１４８号公報等に記載されている。本願出願人も、特開平７−４００１７号公報において、溶湯の脱ガスに関する技術を提案している。

ついで、上述したように清浄化処理を施された溶湯を用いて鋳造を行う。鋳造方法に関しては、ＤＣ鋳造法に代表される固体鋳型を用いる方法と、連続鋳造法に代表される駆動鋳型を用いる方法がある。
ＤＣ鋳造においては、冷却速度が０．５〜３０℃／秒の範囲で凝固する。１℃未満であると粗大な金属間化合物が多数形成されることがある。ＤＣ鋳造を行った場合、板厚３００〜８００ｍｍの鋳塊を製造することができる。その鋳塊を、常法に従い、必要に応じて面削を行い、通常、表層の１〜３０ｍｍ、好ましくは１〜１０ｍｍを切削する。その前後において、必要に応じて、均熱化処理を行う。均熱化処理を行う場合、金属間化合物が粗大化しないように、４５０〜６２０℃で１〜４８時間の熱処理を行う。熱処理が１時間より短い場合には、均熱化処理の効果が不十分となることがある。なお、均熱処理を行わない場合には、コストを低減させることができるという利点がある。

その後、熱間圧延、冷間圧延を行ってアルミニウム板の圧延板とする。熱間圧延の開始温度は３５０〜５００℃が適当である。熱間圧延の前もしくは後、またはその途中において、中間焼鈍処理を行ってもよい。中間焼鈍処理の条件は、バッチ式焼鈍炉を用いて２８０〜６００℃で２〜２０時間、好ましくは３５０〜５００℃で２〜１０時間加熱するか、連続焼鈍炉を用いて４００〜６００℃で６分以下、好ましくは４５０〜５５０℃で２分以下加熱するかである。連続焼鈍炉を用いて１０〜２００℃／秒の昇温速度で加熱して、結晶組織を細かくすることもできる。

以上の工程によって、所定の厚さ、例えば、０．１〜０．５ｍｍに仕上げられたアルミニウム板は、更にローラレベラ、テンションレベラ等の矯正装置によって平面性を改善してもよい。平面性の改善は、アルミニウム板をシート状にカットした後に行ってもよいが、生産性を向上させるためには、連続したコイルの状態で行うことが好ましい。また、所定の板幅に加工するため、スリッタラインを通してもよい。また、アルミニウム板同士の摩擦による傷の発生を防止するために、アルミニウム板の表面に薄い油膜を設けてもよい。油膜には、必要に応じて、揮発性のものや、不揮発性のものが適宜用いられる。

一方、連続鋳造法としては、双ロール法（ハンター法）、３Ｃ法に代表される冷却ロールを用いる方法、双ベルト法（ハズレー法）、アルスイスキャスターＩＩ型に代表される冷却ベルトや冷却ブロックを用いる方法が、工業的に行われている。連続鋳造法を用いる場合には、冷却速度が１００〜１０００℃／秒の範囲で凝固する。連続鋳造法は、一般的には、ＤＣ鋳造法に比べて冷却速度が速いため、アルミマトリックスに対する合金成分固溶度を高くすることができるという特徴を有する。連続鋳造法に関しては、本願出願人によって提案された技術が、特開平３−７９７９８号、特開平５−２０１１６６号、特開平５−１５６４１４号、特開平６−２６２２０３号、特開平６−１２２９４９号、特開平６−２１０４０６号、特開平６−２６３０８号の各公報等に記載されている。

連続鋳造を行った場合において、例えば、ハンター法等の冷却ロールを用いる方法を用いると、板厚１〜１０ｍｍの鋳造板を直接、連続鋳造することができ、熱間圧延の工程を省略することができるというメリットが得られる。また、ハズレー法等の冷却ベルトを用いる方法を用いると、板厚１０〜５０ｍｍの鋳造板を鋳造することができ、一般的に、鋳造直後に熱間圧延ロールを配置し連続的に圧延することで、板厚１〜１０ｍｍの連続鋳造圧延板が得られる。

これらの連続鋳造圧延板は、ＤＣ鋳造について説明したのと同様に、冷間圧延、中間焼鈍、平面性の改善、スリット等の工程を経て、所定の厚さ、例えば、０．１〜０．５ｍｍの板厚に仕上げられる。連続鋳造法を用いた場合の中間焼鈍条件および冷間圧延条件については、本願出願人によって提案された技術が、特開平６−２２０５９３号、特開平６−２１０３０８号、特開平７−５４１１１号、特開平８−９２７０９号の各公報等に記載されている。

本発明に用いられるアルミニウム板は、ＪＩＳに規定されるＨ１８の調質が行われているのが好ましい。

このようにして製造されるアルミニウム板には、以下に述べる種々の特性が望まれる。
アルミニウム板の強度は、平版印刷版用支持体として必要な腰の強さを得るため、０．２％耐力が１２０ＭＰａ以上であるのが好ましい。また、バーニング処理を行った場合にもある程度の腰の強さを得るためには、２７０℃で３〜１０分間加熱処理した後の０．２％耐力が８０ＭＰａ以上であるのが好ましく、１００ＭＰａ以上であるのがより好ましい。特に、アルミニウム板に腰の強さを求める場合は、ＭｇやＭｎを添加したアルミニウム材料を採用することができるが、腰を強くすると印刷機の版胴へのフィットしやすさが劣ってくるため、用途に応じて、材質および微量成分の添加量が適宜選択される。これらに関して、本願出願人によって提案された技術が、特開平７−１２６８２０号公報、特開昭６２−１４０８９４号公報等に記載されている。
また、アルミニウム板は、引張強度が１６０±１５Ｎ／ｍｍ²、０．２％耐力が１４０±１５ＭＰａ、ＪＩＳ Ｚ２２４１およびＺ２２０１に規定される伸びが１〜１０％であるのがより好ましい。

アルミニウム板の結晶組織は、化学的粗面化処理や電気化学的粗面化処理を行った場合、アルミニウム板の表面の結晶組織が面質不良の発生の原因となることがあるので、表面においてあまり粗大でないことが好ましい。アルミニウム板の表面の結晶組織は、幅が２００μｍ以下であるのが好ましく、１００μｍ以下であるのがより好ましく、５０μｍ以下であるのが更に好ましく、また、結晶組織の長さが５０００μｍ以下であるのが好ましく、１０００μｍ以下であるのがより好ましく、５００μｍ以下であるのが更に好ましい。これらに関して、本願出願人によって提案された技術が、特開平６−２１８４９５号、特開平７−３９９０６号、特開平７−１２４６０９号の各公報等に記載されている。

アルミニウム板の合金成分分布は、化学的粗面化処理や電気化学的粗面化処理を行った場合、アルミニウム板の表面の合金成分の不均一な分布に起因して面質不良が発生することがあるので、表面においてあまり不均一でないことが好ましい。これらに関して、本願出願人によって提案された技術が、特開平６−４８０５８号、特開平５−３０１４７８号、特開平７−１３２６８９号の各公報等に記載されている。

本発明の平版印刷版用支持体の製造方法においては、上述したアルミニウム板を、その最終圧延工程等において、本発明のアルミニウムエンボス加工用ロールを用いてプレス圧延等により凹凸を転写して、アルミニウム板の表面に凹凸を形成させる。
中でも、最終板厚に調整する冷間圧延、または、最終板厚調整後の表面形状を仕上げる仕上げ冷間圧延とともに、凹凸面をアルミニウム板に圧接させて凹凸形状を転写し、アルミニウム板の表面に凹凸パターンを形成させる方法が好ましい。これらの方法によると、工程を簡略化することができ、大きなコストダウンが可能となる。このような方法として、具体的には、特開平６−２６２２０３号公報に記載されている方法を用いることができる。
この冷間圧延における圧下率は、０．５〜２０％であるのが好ましく、１〜８％であるのがより好ましく、１〜５％であるのが更に好ましい。
また、転写のための圧延を１〜３パスで行うこともできる。

表面に転写による凹凸パターンを形成されたアルミニウム板は、平均表面粗さＲ_aが０．４〜１．０μｍであるのが好ましく、凹凸の平均間隔Ｓ_mが３０〜１５０μｍであるのが好ましく、最大高さＲ_yが１〜１０μｍであるのが好ましく、平均傾斜Δａが１〜１０°であるのが好ましい。

表面に転写による凹凸パターンを有するアルミニウム板を用いると、ブラシと研磨剤とを用いて形成させる凹凸パターンより、平均ピッチと深さが均一であるため、耐汚れ性が向上する。
また、後述するアルカリエッチング処理および電解粗面化処理で消費されるエネルギーを少なくしつつ、印刷機上における湿し水の量の調整を容易にすることができる（シャイニーに優れる）。また、後述する第一アルカリエッチング処理において、エッチング量を１０ｇ／ｍ²程度以下と少なくすることができ、コストの削減が可能になる。更に、転写による凹凸パターンを有するアルミニウム板を用いると、得られる平版印刷版用支持体の表面積が増大するため、耐刷性により優れる。

また、転写により形成される凹凸は、アルミニウム板の両面に形成されるのが好ましい。これにより、アルミニウム板の表面と裏面の伸び率を同程度に調整することができるので、平面性に優れるアルミニウム板を得ることができる。

本発明に用いられるアルミニウム板は、連続した帯状のシート材または板材である。即ち、アルミニウムウェブであってもよく、製品として出荷される平版印刷版原版に対応する大きさ等に裁断された枚葉状シートであってもよい。
アルミニウム板の表面のキズは平版印刷版用支持体に加工した場合に欠陥となる可能性があるため、平版印刷版用支持体とする表面処理工程の前の段階でのキズの発生は可能な限り抑制する必要がある。そのためには安定した形態で運搬時に傷付きにくい荷姿であることが好ましい。
アルミニウムウェブの場合、アルミニウムの荷姿としては、例えば、鉄製パレットにハードボードとフェルトとを敷き、製品両端に段ボールドーナツ板を当て、ポリチュ−ブで全体を包み、コイル内径部に木製ドーナツを挿入し、コイル外周部にフェルトを当て、帯鉄で絞め、その外周部に表示を行う。また、包装材としては、ポリエチレンフィルム、緩衝材としては、ニードルフェルト、ハードボードを用いることができる。この他にもいろいろな形態があるが、安定して、キズも付かず運送等が可能であればこの方法に限るものではない。

＜凹凸を転写されたアルミニウム板の表面処理＞
凹凸を転写されたアルミニウム板は、その後、表面処理、例えば、アルカリエッチング処理、デスマット処理、電気化学的粗面化処理、陽極酸化処理、親水化処理、封孔処理を施されて、平版印刷版用支持体とされる。
即ち、本発明は、上記アルミニウム板エンボス加工用ロールで、アルミニウム板の表面に凹凸を転写する工程を具備する、平版印刷版用支持体の製造方法である。

以下に、表面処理の方法の好適な実施態様を例示する。
＜実施態様１＞
アルミニウム板に、アルカリ水溶液中でのエッチング処理（以下「アルカリエッチング処理」ともいう。）、硝酸を含有する水溶液中での電気化学的粗面化処理（以下「硝酸電解」ともいう。）、アルカリエッチング処理、塩酸を含有する水溶液中での電気化学的粗面化処理（以下「塩酸電解」ともいう。）、アルカリエッチング処理および陽極酸化処理をこの順に施す方法。
＜実施態様２＞
アルミニウム板に、アルカリエッチング処理、硝酸電解、アルカリエッチング処理および陽極酸化処理をこの順に施す方法。
＜実施態様３＞
アルミニウム板に、アルカリエッチング処理、塩酸電解、アルカリエッチング処理および陽極酸化処理をこの順に施す方法。
＜実施態様４＞
アルミニウム板に、アルカリエッチング処理、塩酸電解、アルカリエッチング処理、硝酸電解、アルカリエッチング処理および陽極酸化処理をこの順に施す方法。
＜実施態様５＞
アルミニウム板に、アルカリエッチング処理、塩酸電解、アルカリエッチング処理、塩酸電解、アルカリエッチング処理および陽極酸化処理をこの順に施す方法。

これらの方法において、アルカリエッチング処理の後には、デスマット処理を行うのが好ましい。また、陽極酸化処理した後には、封孔処理および／または親水化処理を行うのが好ましく、封孔処理、または、封孔処理およびその後の親水化処理を行うのがより好ましい。

表面処理の方法のより具体的な好適な実施態様を例示する。
＜実施態様６＞
アルミニウム板に、第一アルカリエッチング処理、第一デスマット処理、硝酸電解または塩酸電解（第一電解粗面化処理）、第二アルカリエッチング処理、第二デスマット処理、塩酸電解（第二電解粗面化処理）、第三アルカリエッチング処理および第三デスマット処理および陽極酸化処理をこの順に施す方法；上記陽極酸化処理の後に、更に親水化処理を施す方法；上記親水化処理の後に、更に封孔処理を施す方法；上記第一アルカリエッチング処理の前に、ブラシと研磨剤とを用いた機械的粗面化処理を施す方法。

本発明の平版印刷版用支持体の製造方法においては、上記以外の各種の工程を含んでいてもよい。

以下、表面処理の各工程について、実施態様６を例に挙げて詳細に説明する。

＜機械的粗面化処理＞
本発明の平版印刷版用支持体の製造方法においては、上述した転写により表面に凹凸を形成されたアルミニウム板に、ブラシと研磨剤とを用いた機械的粗面化処理を行うこともできる。
ブラシと研磨剤とを用いた機械的粗面化処理を行うと、転写により表面に凹凸を形成されたアルミニウム板の表面積が小さい場合に、表面積を増大させることができる。これにより、保水性が向上する。
また、従来のブラシと研磨剤とを用いた機械的粗面化処理は、尖った凹凸が形成されて、残膜が残りやすく、エッジに起因した汚れが発生しやすいという問題を有していたが、このように転写と、ブラシと研磨剤とを用いた機械的粗面化処理とを組み合わせることにより、この問題は解決することができる。
更に、アルカリエッチング量を少なくすることができるため、コスト的にも有利である。

以下、機械的粗面化処理として好適に用いられるブラシグレイン法について説明する。
ブラシグレイン法は、一般に、円柱状の胴の表面に、ナイロン（商標名）、プロピレン、塩化ビニル樹脂等の合成樹脂からなる合成樹脂毛等のブラシ毛を多数植設したローラ状ブラシを用い、回転するローラ状ブラシに研磨剤を含有するスラリー液を噴きかけながら、上記アルミニウム板の表面の一方または両方を擦ることにより行う。上記ローラ状ブラシおよびスラリー液の代わりに、表面に研磨層を設けたローラである研磨ローラを用いることもできる。

ローラ状ブラシを用いる場合、曲げ弾性率が好ましくは１０，０００〜４０，０００ｋｇ／ｃｍ²、より好ましくは１５，０００〜３５，０００ｋｇ／ｃｍ²であり、かつ、毛腰の強さが好ましくは５００ｇ以下、より好ましくは４００ｇ以下であるブラシ毛を用いる。ブラシ毛の直径は、一般的には、０．２〜０．９ｍｍである。ブラシ毛の長さは、ローラ状ブラシの外径および胴の直径に応じて適宜決定することができるが、一般的には、１０〜１００ｍｍである。
ナイロンブラシは複数本用いるのが好ましく、具体的には、３本以上がより好ましく、４本以上が特に好ましい。ブラシの本数を調整することにより、アルミニウム板表面に形成される凹部の波長成分を調整することができる。

また、ブラシを回転させる駆動モータの負荷は、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して１ｋＷプラス以上が好ましく、２ｋＷプラス以上がより好ましく、８ｋＷプラス以上が特に好ましい。該負荷を調整することにより、アルミニウム板表面に形成される凹部の深さを調整することができる。ブラシの回転数は、１００回転以上が好ましく、２００回転以上が特に好ましい。

研磨剤は公知の物を用いることができる。例えば、パミストン（パミスストーン）、ケイ砂、水酸化アルミニウム、アルミナ粉、炭化ケイ素、窒化ケイ素、火山灰、カーボランダム、金剛砂等の研磨剤；これらの混合物を用いることができる。中でも、パミストン、ケイ砂が好ましい。ケイ砂は、パミストンに比べて硬く、壊れにくいので粗面化効率に優れる。また、水酸化アルミニウムは過度の荷重がかかると粒子が破損するため、局所的に深い凹部を生成させたくない場合に好適である。
研磨剤のメジアン径は、粗面化効率に優れ、かつ、砂目立てピッチを狭くすることができる点で、２〜１００μｍであるのが好ましく、２０〜６０μｍであるのがより好ましい。研磨剤のメジアン径を調整することにより、アルミニウム板表面に形成される凹部の深さを調整することができる。

研磨剤は、例えば、水中に懸濁させて、スラリー液として用いる。スラリー液には、研磨剤のほかに、増粘剤、分散剤（例えば、界面活性剤）、防腐剤等を含有させることができる。スラリー液の比重は０．５〜２であるのが好ましい。
機械的粗面化処理に適した装置としては、例えば、特公昭５０−４００４７号公報に記載された装置を挙げることができる。

ブラシと研磨剤とを用いて機械的粗面化処理を行う装置の詳細については、本願出願人によって、特開２００２−２１１１５９号公報に記載されているものを用いることができる。

本発明では、転写により表面に形成された凹凸パターンを有するアルミニウム板に、ブラシと研磨剤とを用いた機械的粗面化処理を施す場合、Ｒ_aの増加量を０．３μｍ以下とするのが好ましく、０．２μｍ以下とするのがより好ましく、０．１μｍ以下とするのが更に好ましい。

＜第一アルカリエッチング処理＞
アルカリエッチング処理は、上述したアルミニウム板をアルカリ溶液に接触させることにより、表層を溶解する処理である。

第一電解粗面化処理の前に行われる第一アルカリエッチング処理は、第一電解粗面化処理で均一な凹部を形成させること、および、アルミニウム板（圧延アルミ）の表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜等を除去することを目的として行われる。
第一アルカリエッチング処理においては、エッチング量は、０．１ｇ／ｍ²以上であるのが好ましく、０．５ｇ／ｍ²以上であるのがより好ましく、１ｇ／ｍ²以上であるのが更に好ましく、また、１０ｇ／ｍ²以下であるのが好ましく、８ｇ／ｍ²以下であるのがより好ましく、５ｇ／ｍ²以下であるのが更に好ましい。エッチング量の下限が上記範囲にあると、第一電解粗面化処理において均一なピットを生成でき、更に処理ムラの発生を防止できる。エッチング量の上限が上記範囲にあると、アルカリ水溶液の使用量が少なくなり、経済的に有利となる。

アルカリ溶液に用いられるアルカリとしては、例えば、カセイアルカリ、アルカリ金属塩が挙げられる。具体的には、カセイアルカリとしては、例えば、カセイソーダ、カセイカリが挙げられる。また、アルカリ金属塩としては、例えば、メタケイ酸ソーダ、ケイ酸ソーダ、メタケイ酸カリ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩；炭酸ソーダ、炭酸カリ等のアルカリ金属炭酸塩；アルミン酸ソーダ、アルミン酸カリ等のアルカリ金属アルミン酸塩；グルコン酸ソーダ、グルコン酸カリ等のアルカリ金属アルドン酸塩；第二リン酸ソーダ、第二リン酸カリ、第一リン酸ソーダ、第一リン酸カリ等のアルカリ金属リン酸水素塩が挙げられる。中でも、エッチング速度が速い点および安価である点から、カセイアルカリの溶液、および、カセイアルカリとアルカリ金属アルミン酸塩との両者を含有する溶液が好ましい。特に、カセイソーダの水溶液が好ましい。

第一アルカリエッチング処理においては、アルカリ溶液の濃度は、３０ｇ／Ｌ以上であるのが好ましく、３００ｇ／Ｌ以上であるのがより好ましく、また、５００ｇ／Ｌ以下であるのが好ましく、４５０ｇ／Ｌ以下であるのがより好ましい。
また、アルカリ溶液は、アルミニウムイオンを含有しているのが好ましい。アルミニウムイオン濃度は、１ｇ／Ｌ以上であるのが好ましく、５０ｇ／Ｌ以上であるのがより好ましく、また、２００ｇ／Ｌ以下であるのが好ましく、１５０ｇ／Ｌ以下であるのがより好ましい。このようなアルカリ溶液は、例えば、水と４８質量％カセイソーダ水溶液とアルミン酸ソーダとを用いて調製することができる。

第一アルカリエッチング処理においては、アルカリ溶液の温度は、３０℃以上であるのが好ましく、５０℃以上であるのがより好ましく、また、８０℃以下であるのが好ましく、７５℃以下であるのがより好ましい。
第一アルカリエッチング処理においては、処理時間は、１秒以上であるのが好ましく、２秒以上であるのがより好ましく、また、３０秒以下であるのが好ましく、１５秒以下であるのがより好ましい。

アルミニウム板を連続的にエッチング処理していくと、アルカリ溶液中のアルミニウムイオン濃度が上昇していき、アルミニウム板のエッチング量が変動する。そこで、エッチング液の組成管理を、以下のようにして行うのが好ましい。
即ち、カセイソーダ濃度とアルミニウムイオン濃度とのマトリクスに対応する、電導度と比重と温度とのマトリクス、または、電導度と超音波伝搬速度と温度とのマトリクスをあらかじめ作成しておき、電導度と比重と温度、または、電導度と超音波伝搬速度と温度によって液組成を測定し、液組成の制御目標値になるようにカセイソーダと水とを添加する。そして、カセイソーダと水とを添加することによって増加したエッチング液を、循環タンクからオーバーフローさせることにより、その液量を一定に保つ。添加するカセイソーダとしては、工業用の４０〜６０質量％のものを用いることができる。
電導度計および比重計としては、それぞれ温度補償されているものを用いるのが好ましい。比重計としては、差圧式のものを用いるのが好ましい。

アルミニウム板をアルカリ溶液に接触させる方法としては、例えば、アルミニウム板をアルカリ溶液を入れた槽の中を通過させる方法、アルミニウム板をアルカリ溶液を入れた槽の中に浸せきさせる方法、アルカリ溶液をアルミニウム板の表面に噴きかける方法が挙げられる。

中でも、アルカリ溶液をアルミニウム板の表面に噴きかける方法が好ましい。具体的には、φ２〜５ｍｍの孔を１０〜５０ｍｍピッチで有するスプレー管から、スプレー管１本あたり、１０〜１００Ｌ／ｍｉｎの量でエッチング液を吹き付ける方法が好ましい。スプレー管は複数本設けるのが好ましい。

アルカリエッチング処理が終了した後は、ニップローラで液切りし、更に、１〜１０秒間水洗処理を行った後、ニップローラで液切りするのが好ましい。
水洗処理は、自由落下カーテン状の液膜により水洗処理する装置を用いて水洗し、更に、スプレー管を用いて水洗するのが好ましい。

図１は、自由落下カーテン状の液膜により水洗処理する装置の模式的な断面図である。図１に示されているように、自由落下カーテン状の液膜により水洗処理する装置１００は、水１０２を貯留する貯水タンク１０４と、貯水タンク１０４に水を供給する給水筒１０６と、貯水タンク１０４から自由落下カーテン状の液膜をアルミニウム板１に供給する整流部１０８とを有する。
装置１００においては、給水タンク１０４に給水筒１０６から水１０２が供給され、水１０２が給水タンク１０４からオーバーフローする際に、整流部１０８により整流され、自由落下カーテン状の液膜がアルミニウム板１に供給される。装置１００を用いる場合、液量は１０〜１００Ｌ／ｍｉｎであるのが好ましい。また、装置１００とアルミニウム１との間の水１０２が自由落下カーテン状の液膜として存在する距離Ｌは、２０〜５０ｍｍであるのが好ましい。また、アルミニウム板の角度αは、水平方向に対して３０〜８０°であるのが好ましい。

図１に示されるような自由落下カーテン状の液膜により水洗処理する装置を用いると、アルミニウム板に均一に水洗処理を施すことができるので、水洗処理の前に行われた処理の均一性を向上させることができる。
自由落下カーテン状の液膜により水洗処理する具体的な装置としては、例えば、特開２００３−９６５８４号公報に記載されている装置が好適に挙げられる。

また、水洗処理に用いられるスプレー管としては、例えば、扇状に噴射水が広がるスプレーチップをアルミニウム板の幅方向に複数個有するスプレー管を用いることができる。スプレーチップの間隔は２０〜１００ｍｍであるのが好ましく、また、スプレーチップ１本あたりの液量は０．５〜２０Ｌ／ｍｉｎであるのが好ましい。スプレー管は複数本用いるのが好ましい。

＜第一デスマット処理＞
第一アルカリエッチング処理を行った後、表面に残留する汚れ（スマット）を除去するために酸洗い（第一デスマット処理）を行うのが好ましい。デスマット処理は、アルミニウム板を酸性溶液に接触させることにより行う。

用いられる酸としては、例えば、硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ化水素酸、ホウフッ化水素酸が挙げられる。
なお、第一アルカリエッチング処理の後に行われる第一デスマット処理においては、第一電解粗面化処理として引き続き硝酸電解が行われる場合には、硝酸電解に用いられる電解液のオーバーフロー廃液を用いるのが好ましい。

デスマット処理液の組成管理においては、アルカリエッチング処理の場合と同様に、酸性溶液濃度とアルミニウムイオン濃度とのマトリクスに対応する、電導度と温度で管理する方法、電導度と比重と温度とで管理する方法、および、電導度と超音波の伝搬速度と温度とで管理する方法のいずれかを選択して用いることができる。

第一デスマット処理においては、１〜４００ｇ／Ｌの酸および０．１〜５ｇ／Ｌのアルミニウムイオンを含有する酸性溶液を用いるのが好ましい。

酸性溶液の温度は、２０℃以上であるのが好ましく、３０℃以上であるのがより好ましく、また、７０℃以下であるのが好ましく、６０℃以下であるのがより好ましい。

第一デスマット処理においては、処理時間は、１秒以上であるのが好ましく、４秒以上であるのがより好ましく、また、６０秒以下であるのが好ましく、４０秒以下であるのがより好ましい。

アルミニウム板を酸性溶液に接触させる方法としては、例えば、アルミニウム板を酸性溶液を入れた槽の中を通過させる方法、アルミニウム板を酸性溶液を入れた槽の中に浸せきさせる方法、酸性溶液をアルミニウム板の表面に噴きかける方法が挙げられる。
中でも、酸性溶液をアルミニウム板の表面に噴きかける方法が好ましい。具体的には、φ２〜５ｍｍの孔を１０〜５０ｍｍピッチで有するスプレー管から、スプレー管１本あたり、１０〜１００Ｌ／ｍｉｎの量でエッチング液を吹き付ける方法が好ましい。スプレー管は複数本設けるのが好ましい。

デスマット処理が終了した後は、ニップローラで液切りし、更に、１〜１０秒間水洗処理を行った後、ニップローラで液切りするのが好ましい。
水洗処理は、アルカリエッチング処理の後の水洗処理と同様である。ただし、スプレーチップ１本あたりの液量は１〜２０Ｌ／ｍｉｎであるのが好ましい。
なお、第一デスマット処理において、デスマット処理液として、引き続き行われる硝酸電解に用いられる電解液のオーバーフロー廃液を用いる場合には、デスマット処理後にニップローラによる液切りおよび水洗処理を行わず、アルミニウム板の表面が乾かないよう、必要に応じて適宜デスマット処理液をスプレーしながら、硝酸電解工程までアルミニウム板をハンドリングするのが好ましい。

＜第一電解粗面化処理＞
第一電解粗面化処理は、最初に行われる硝酸または塩酸を含有する水溶液中での電気化的粗面化処理である。
実施態様１、４、５および６のように、第一電解粗面化処理および第二電解粗面化処理両者を行うと、均一性の高い凹凸構造を重畳した砂目形状をアルミニウム板の表面に形成させることができ、耐汚れ性および耐刷性を優れたものにすることができる。
なお、第一電解粗面化処理後のアルミニウム板の平均表面粗さは０．４５〜０．８５μｍであるのが好ましい。
実施態様２および３においては、硝酸電解および塩酸電解がそれぞれ行われる。実施態様４では塩酸電解の後に硝酸電解が行われ、実施態様５では塩酸電解が２回行われる。以下では主として実施態様１および６に用いられる硝酸電解およびその後の塩酸電解について説明するが、これ以外の実施態様では、それぞれの条件をそれぞれの実施態様の特徴に応じて変えることができる。

（硝酸を含有する水溶液中での電気化学的粗面化処理）
硝酸を含有する水溶液中での電気化学的粗面化処理（硝酸電解）により、好適な凹凸構造をアルミニウム板の表面に形成させることができる。本発明において、アルミニウム板Ｃｕを比較的多量に含有している場合には、硝酸電解において、比較的大きく、かつ、均な凹部が形成される。その結果、本発明により得られる平版印刷版用支持体を用いた平版印刷版は、耐刷性が優れたものになる。

硝酸を含有する水溶液としては、通常の直流または交流を用いた電気化学的粗面化処理用いるものを使用でき、濃度１〜１００ｇ／Ｌの硝酸の水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等の硝酸イオンを有する硝酸化合物の少なくとも一つを１ｇ／Ｌから飽和するまでの範囲で添加して使用することができる。また、硝酸を含有する水溶液には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含まれる金属が溶解していてもよい。次亜塩素酸や過酸化水素を１〜１００ｇ／Ｌ添加してもよい。
具体的には、硝酸濃度５〜１５ｇ／Ｌの硝酸水溶液に、硝酸アルミニウムを溶解させてアルミニウムイオン濃度が３〜７ｇ／Ｌとなるように調整した液が好ましい。

更に、Ｃｕと錯体を形成しうる化合物を添加して使用することによりＣｕを多く含有するアルミニウム板に対しても均一な砂目立て（粗面化処理）が可能になる。Ｃｕと錯体を形成しうる化合物としては、例えば、アンモニア；メチルアミン、エチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリメチルアミン、シクロヘキシルアミン、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、ＥＤＴＡ（エチレンジアミン四酢酸）等のアンモニアの水素原子を炭化水素基（脂肪族、芳香族等）等で置換して得られるアミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸塩類が挙げられる。また、硝酸アンモニウム、塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、リン酸アンモニウム、炭酸アンモニウム等のアンモニウム塩も挙げられる。

硝酸を含有する水溶液の温度は、３０℃以上であるのが好ましく、また、５５℃以下であるのが好ましい。

硝酸電解により、平均開口径１〜１０μｍのピットを形成することができる。ただし、電気量を比較的多くしたときは、電解反応が集中し、１０μｍを超えるハニカムピットも生成する。
このような砂目を得るためには、電解反応が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和が、１５０Ｃ／ｄｍ²以上であるのが好ましく、１７０Ｃ／ｄｍ²以上であるのがより好ましく、また、６００Ｃ／ｄｍ²以下であるのが好ましく、５００Ｃ／ｄｍ²以下であるのがより好ましい。この際の電流密度は、交流を用いる場合には電流のピーク値で２０〜１００Ａ／ｄｍ²であるのが好ましく、直流を用いる場合には２０〜１００Ａ／ｄｍ²であるのが好ましい。

硝酸電解の前に、下記プレ電解を行うと、硝酸電解において、より均一な凹部が形成される。
プレ電解は、硝酸電解時のピット形成の起点を形成させる工程である。アルミニウム板の材質の影響を受けにくく、非常に腐食性の高い塩酸を用いてわずかに電解を行うことにより、表面に均一に起点となるピットを形成させることができる。
プレ電解において、塩酸濃度は１〜１５ｇ／Ｌであるのが好ましく、また、陽極時の電気量は３０〜７０Ｃ／ｍ²であるのが好ましい。
プレ電解の後は、スマット除去のためにアルカリエッチングを行うのが好ましい。アルカリエッチングにおけるアルミニウム溶解量は、０．２〜０．６ｇ／ｍ²であるのが好ましい。

（塩酸を含有する水溶液中での電気化学的粗面化処理）
塩酸を含有する水溶液は、通常の直流または交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いるものを使用でき、１〜３０ｇ／Ｌ、好ましくは２〜１０ｇ／Ｌの塩酸水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等の硝酸イオン、塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化アンモニウム等の塩酸イオンを有する塩酸または硝酸化合物の一つ以上を１ｇ／Ｌ〜飽和まで添加して使用することができる。また、上記した銅と錯体を形成する化合物を１〜２００ｇ／Ｌの割合で添加することもできる。塩酸を含有する水溶液中には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含まれる金属が溶解していてもよい。次亜塩素酸や過酸化水素を１〜１００ｇ／Ｌ添加してもよい。

塩酸水溶液は、好ましくは塩酸を２〜１０ｇ／Ｌ、含有する水溶液に、アルミニウム塩（塩化アルミニウム、ＡｌＣｌ₃・６Ｈ₂Ｏ）を２７〜６３ｇ／Ｌの割合で添加してアルミニウムイオン濃度を３〜７ｇ／Ｌ、好ましくは４〜６ｇ／Ｌにした水溶液であることが特に好ましい。このような塩酸水溶液を用いて電気化学的粗面化処理を行うと、粗面化処理による表面形状が均一になり、低純度のアルミニウム圧延板でも高純度のアルミニウム圧延板を使用しても、粗面化処理による処理ムラが発生せず、平版印刷版としたときに優れた耐刷性および耐汚れ性を両立できる。

塩酸を含有する水溶液の温度は、２５℃以上であるのが好ましく、３０℃以上であるのがより好ましく、また、５５℃以下であるのが好ましく、４０℃以下であるのがより好ましい。

塩酸を含有する水溶液中への添加物、装置、電源、電流密度、流速、温度等としては、公知の電気化学的粗面化処理に使用するものが用いることができる。電気化学的粗面化処理に用いる電源は交流または直流が用いられるが、交流が特に好ましい。

塩酸はそれ自身のアルミニウム溶解力が強いため、わずかな電解を加えるだけで表面に微細な凹凸を形成させることが可能である。この微細な凹凸は、平均開口径が０．０１〜０．４μｍであり、アルミニウム板の表面の全面に均一に生成する。
更に、電気量を増やしていくと平均開口径０．０１〜０．４μｍのピットを表面に有する平均開口径１〜１５μｍのピットが生成する。このような砂目を得るためには電解反応が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和が、１０Ｃ／ｄｍ²以上であるのが好ましく、５０Ｃ／ｄｍ²以上であるのがより好ましく、更には１００Ｃ／ｄｍ²以上であるのが好ましい。また、２０００Ｃ／ｄｍ²以下であるのが好ましく、６００Ｃ／ｄｍ²以下であるのがより好ましい。

第一電解粗面化処理として塩酸電解を行う場合（実施態様３〜５）においては、アノード反応にあずかる電気量の総和を１５０〜２０００Ｃ／ｄｍ²と大きくすることでクレーター状の大きなうねりを同時に形成することも可能である。この場合でも平均開孔径０．０１〜０．４μｍの微細な凹凸を表面に有する平均開口径１〜１５μｍのピットが生成する。この際の電流密度は、電流のピーク値で２０〜１００Ａ／ｄｍ²であるのが好ましい。

上記大電気量でアルミニウム板を塩酸電解すると、大きなうねりと微細な凹凸を同時に形成させることができ、後述する第二アルカリエッチング処理によりこの大きなうねりをより均一にすることで、耐汚れ性を向上させることができる。

硝酸または塩酸を含有する水溶液を用いる第一電解粗面化処理は、例えば、特公昭４８−２８１２３号公報および英国特許第８９６，５６３号明細書に記載されている電気化学的グレイン法（電解グレイン法）に従うことができる。この電解グレイン法は、正弦波形の交流電流を用いるものであるが、特開昭５２−５８６０２号公報に記載されているような特殊な波形を用いて行ってもよい。また、特開平３−７９７９９号公報に記載されている波形を用いることもできる。また、特開昭５５−１５８２９８号、特開昭５６−２８８９８号、特開昭５２−５８６０２号、特開昭５２−１５２３０２号、特開昭５４−８５８０２号、特開昭６０−１９０３９２号、特開昭５８−１２０５３１号、特開昭６３−１７６１８７号、特開平１−５８８９号、特開平１−２８０５９０号、特開平１−１１８４８９号、特開平１−１４８５９２号、特開平１−１７８４９６号、特開平１−１８８３１５号、特開平１−１５４７９７号、特開平２−２３５７９４号、特開平３−２６０１００号、特開平３−２５３６００号、特開平４−７２０７９号、特開平４−７２０９８号、特開平３−２６７４００号、特開平１−１４１０９４号の各公報に記載されている方法も適用できる。また、前述のほかに、電解コンデンサーの製造方法として提案されている特殊な周波数の交番電流を用いて電解することも可能である。例えば、米国特許第４，２７６，１２９号明細書および同第４，６７６，８７９号明細書に記載されている。

電解槽および電源については、種々提案されているが、米国特許第４，２０３，６３７号明細書、特開昭５６−１２３４００号、特開昭５７−５９７７０号、特開昭５３−１２７３８号、特開昭５３−３２８２１号、特開昭５３−３２８２２号、特開昭５３−３２８２３号、特開昭５５−１２２８９６号、特開昭５５−１３２８８４号、特開昭６２−１２７５００号、特開平１−５２１００号、特開平１−５２０９８号、特開昭６０−６７７００号、特開平１−２３０８００号、特開平３−２５７１９９号の各公報等に記載されているものを用いることができる。
また、特開昭５２−５８６０２号、特開昭５２−１５２３０２号、特開昭５３−１２７３８号、特開昭５３−１２７３９号、特開昭５３−３２８２１号、特開昭５３−３２８２２号、特開昭５３−３２８３３号、特開昭５３−３２８２４号、特開昭５３−３２８２５号、特開昭５４−８５８０２号、特開昭５５−１２２８９６号、特開昭５５−１３２８８４号、特公昭４８−２８１２３号、特公昭５１−７０８１号、特開昭５２−１３３８３８号、特開昭５２−１３３８４０号、特開昭５２−１３３８４４号、特開昭５２−１３３８４５号、特開昭５３−１４９１３５号、特開昭５４−１４６２３４号の各公報等に記載されているもの等も用いることができる。

アルミニウム板を連続的に電解粗面化処理していくと、アルカリ溶液中のアルミニウムイオン濃度が上昇していき、第一電解粗面化処理により形成されるアルミニウム板の凹凸の形状が変動する。そこで、硝酸電解液または塩酸電解液の組成管理を、以下のようにして行うのが好ましい。
即ち、硝酸濃度または塩酸濃度とアルミニウムイオン濃度とのマトリクスに対応する、電導度と比重と温度とのマトリクス、または、電導度と超音波伝搬速度と温度とのマトリクスをあらかじめ作成しておき、電導度と比重と温度、または、電導度と超音波伝搬速度と温度によって液組成を測定し、液組成の制御目標値になるように硝酸または塩酸と水とを添加する。そして、硝酸または塩酸と水とを添加することによって増加した電解液を、循環タンクからオーバーフローさせることにより、その液量を一定に保つ。添加する硝酸としては、工業用の３０〜７０質量％のものを用いることができる。添加する塩酸としては、工業用の３０〜４０質量％のものを用いることができる。
電導度計および比重計としては、それぞれ温度補償されているものを用いるのが好ましい。比重計としては、差圧式のものを用いるのが好ましい。
液組成の測定に用いるために電解液から採取されたサンプルは、電解液とは別の熱交換機を用いて、一定温度（例えば、４０±０．５℃）に制御した後に、測定に用いるのが、測定の精度が高くなる点で好ましい。

電気化学的粗面化処理に用いられる交流電源波は、特に限定されず、サイン波（ｓｉｎ波）、矩形波、台形波、三角波等が用いられるが、サイン波、矩形波または台形波が好ましく、台形波が特に好ましい。塩酸電解の場合には、平均直径１μｍ以上のピットが均一に生成しやすくなる点でサイン波が特に好ましい。サイン波とは、図５に示したものをいう。
台形波とは、図２に示したものをいう。この台形波において電流がゼロからピークに達するまでの時間（ＴＰ）は０．５〜３ｍｓｅｃであるのが好ましい。ＴＰが３ｍｓｅｃを超えると、特に硝酸を含有する水溶液を用いると、電解処理で自然発生的に増加するアンモニウムイオン等に代表される電解液中の微量成分の影響を受けやすくなり、均一な砂目立てが行われにくくなる。その結果、平版印刷版としたときの耐汚れ性が低下する傾向にある。

交流のｄｕｔｙ比（ｔａ／Ｔ、１サイクルに占めるアノード反応時間の割合）は１：２〜２：１のものが使用可能であるが、特開平５−１９５３００号公報に記載されているように、アルミニウムにコンダクタロールを用いない間接給電方式においてはｄｕｔｙ比が１：１のものが好ましい。
交流の周波数は０．１〜１２０Ｈｚのものを用いることが可能であるが、５０〜７０Ｈｚが設備上好ましい。５０Ｈｚよりも低いと、主極のカーボン電極が溶解しやすくなり、また、７０Ｈｚよりも高いと、電源回路上のインダクタンス成分の影響を受けやすくなり、電源コストが高くなる。

図３は、本発明の平版印刷版用支持体の製造方法における交流を用いた電気化学的粗面化処理に用いるラジアル型セルの一例を示す側面図である。
電解槽には１個以上の交流電源を接続することができる。主極に対向するアルミニウム板に加わる交流の陽極と陰極との電流比をコントロールし、均一な砂目立てを行うことと、主極のカーボンを溶解することとを目的として、図３に示したように、補助陽極を設置し、交流電流の一部を分流させることが好ましい。図３において、１１はアルミニウム板であり、１２はラジアルドラムローラであり、１３ａおよび１３ｂは主極であり、１４は電解処理液であり、１５は電解液供給口であり、１６はスリットであり、１７は電解液通路であり、１８は補助陽極であり、１９ａおよび１９ｂはサイリスタであり、２０は交流電源であり、４０は主電解槽であり、５０は補助陽極槽である。整流素子またはスイッチング素子を介して電流値の一部を二つの主電極とは別の槽に設けた補助陽極に直流電流として分流させることにより、主極に対向するアルミニウム板上で作用するアノード反応にあずかる電流値と、カソード反応にあずかる電流値との比を制御することができる。主極に対向するアルミニウム板上で、陽極反応と陰極反応とにあずかる電気量の比（陰極時電気量／陽極時電気量）は、０．３〜０．９５であるのが好ましい。

電解槽は、縦型、フラット型、ラジアル型等の公知の表面処理に用いる電解槽が使用可能であるが、特開平５−１９５３００号公報に記載されているようなラジアル型電解槽が特に好ましい。電解槽内を通過する電解液は、アルミニウムウェブの進行方向に対してパラレルであってもカウンターであってもよい。

また、直流を用いた電気化学的粗面化処理には、通常の直流を用いた電気化学的粗面化処理に用いられる電解液を用いることができる。具体的には、上記交流を用いた電気化学的粗面化処理に用いられる電解液と同様のものを用いることができる。

電気化学的粗面化処理に用いられる直流電源波は、極性の変化しない電流であれば特に限定されず、くし形波、連続直流、商用交流をサイリスタで全波整流したもの等が用いられるが、平滑化された連続直流が好ましい。
直流を用いた電気化学的粗面化処理は、回分法、半連続法および連続法のいずれでも行うことができるが、連続法で行うのが好ましい。

直流を用いた電気化学的粗面化処理に用いられる装置は、交互に配置された陽極と陰極との間に直流電圧を印加し、アルミニウム板を該陽極および該陰極と、間隔を保って通過させることができるものであれば、特に限定されない。
例えば、図６に示される一つの電解槽を有する装置が挙げられる。図６において、アルミニウム板６１は、電解液６４で満たされた電解槽６５を通過する。電解槽６５に交互に配置された陽極６２と陰極６３との間には、直流電圧が印加されている。電解槽６５においては、電解液６４が供液ノズル６６から供給され、排液管６７を通じて排出される。
また、図７に示される陽極６２の槽と陰極６３の槽とが別個の電解槽である装置も挙げられる。図７において、アルミニウム板６１は、電解液６４で満たされた複数の電解槽６５を通過する。各電解槽６５には、陽極６２または陰極６３が、交互になるように配置されている。交互に配置された陽極６２と陰極６３との間には、直流電圧が印加されている。各電解槽６５においては、電解液６４が供液管６８から供給され、排液管６７を通じて排出される。

電極は、特に限定されず、電気化学的粗面化処理に用いられる従来公知の電極を用いることができる。
陽極としては、例えば、チタン、タンタル、ニオブ等のバルブ金属に白金族系の金属をめっきし、またはクラッドしたもの；バルブ金属に白金族系の金属の酸化物を塗布し、または焼結させたもの；アルミニウム；ステンレスが挙げられる。中でも、バルブ金属に白金をクラッドしたものが好ましい。電極の内部に水を通して水冷化するなどの方法により、陽極の寿命を更に長くすることができる。
陰極としては、例えば、ブールベイダイヤグラムから、電極電位を負としたときに溶解しない金属等を選択して用いることができる。中でも、カーボンが好ましい。

電極の配列は、波状構造に応じて、適宜選択することができる。また、陽極と陰極とのアルミニウム板の進行方向の長さを変えたり、アルミニウム板の通過速度を変えたり、電解液の流速、液温、液組成、電流密度等を帰ることにより、波状構造を調整することができる。また、図７に示す装置のように、陽極の槽と陰極の槽とを別個の電解槽とした場合には、各処理槽の電解条件を変えることもできる。

第一電解粗面化処理で生成する凹部の平均開口径の測定は、例えば、電子顕微鏡を用いて支持体の表面を真上から倍率２０００倍または５００００倍で撮影し、得られた電子顕微鏡写真において、それぞれで生成した、ピットの周囲が環状に連なっているピットをそれぞれ少なくとも５０個抽出し、その直径を読み取って開口径とし、平均開口径を算出することにより行う。
また、測定のバラツキを抑制するために、市販の画像解析ソフトによる等価円直径測定を行うこともできる。この場合、上記電子顕微鏡写真をスキャナーで取り込んでデジタル化し、ソフトウェアにより二値化した後、等価円直径を求める。
本発明者が測定したところ、目視測定の結果とデジタル処理の結果とは、ほぼ同じ値を示した。

第一電解粗面化処理が終了した後は、ニップローラで液切りし、更に、１〜１０秒間水洗処理を行った後、ニップローラで液切りするのが好ましい。
水洗処理は、スプレー管を用いて水洗するのが好ましい。水洗処理に用いられるスプレー管としては、例えば、扇状に噴射水が広がるスプレーチップをアルミニウム板の幅方向に複数個有するスプレー管を用いることができる。スプレーチップの間隔は２０〜１００ｍｍであるのが好ましく、また、スプレーチップ１本あたりの液量は１〜２０Ｌ／ｍｉｎであるのが好ましい。スプレー管は複数本用いるのが好ましい。

＜第二アルカリエッチング処理＞
第一電解粗面化処理と第二電解粗面化処理との間に行われる第二アルカリエッチング処理は、第一電解粗面化処理で生成したスマットを溶解させること、および、第一電解粗面化処理により形成されたピットのエッジ部分を溶解させることを目的として行われる。これにより、第一電解粗面化処理解によって形成された大きなピットのエッジ部分が溶解して表面が滑らかになり、インキを該エッジ部分にひっかかりにくくするため、耐汚れ性に優れる平版印刷版原版を得ることができる。
第二アルカリエッチング処理は、基本的に第一アルカリエッチング処理と同様であるので、異なる点のみ以下に説明する。

第二アルカリエッチング処理においては、エッチング量は、０．０５ｇ／ｍ²以上であるのが好ましく、０．１ｇ／ｍ²以上であるのがより好ましく、また、４ｇ／ｍ²以下であるのが好ましく、３．５ｇ／ｍ²以下であるのがより好ましい。エッチング量が０．０５ｇ／ｍ²以上であると、平版印刷版の非画像部において、第一電解粗面化処理で生成したピットのエッジ部分が滑らかとなり、インキがひっかかりにくくなるため、耐汚れ性が優れる。一方、エッチング量が４ｇ／ｍ²以下であると、第一電解粗面化処理で生成した凹凸が大きくなるため、耐刷性が優れる。

第二アルカリエッチング処理においては、アルカリ溶液の濃度は、３０ｇ／Ｌ以上であるのが好ましく、３００ｇ／Ｌ以上であるのがより好ましく、また、５００ｇ／Ｌ以下であるのが好ましく、４５０ｇ／Ｌ以下であるのがより好ましい。
また、アルカリ溶液は、アルミニウムイオンを含有しているのが好ましい。アルミニウムイオン濃度は、１ｇ／Ｌ以上であるのが好ましく、５０ｇ／Ｌ以上であるのがより好ましく、また、２００ｇ／Ｌ以下であるのが好ましく、１５０ｇ／Ｌ以下であるのがより好ましい。

＜第二デスマット処理＞
第二アルカリエッチング処理を行った後、表面に残留する汚れ（スマット）を除去するために酸洗い（第二デスマット処理）を行うのが好ましい。第二デスマット処理は、第一デスマット処理と同様の方法で行うことができる。

第二デスマット処理においては、硝酸または硫酸を用いるのが好ましい。
第二デスマット処理においては、１〜４００ｇ／Ｌの酸および０．１〜８ｇ／Ｌのアルミニウムイオンを含有する酸性溶液を用いるのが好ましい。
硫酸を用いる場合は、具体的には、硫酸濃度１００〜３５０ｇ／Ｌの硫酸水溶液に、硫酸アルミニウムを溶解させてアルミニウムイオン濃度を０．１〜５ｇ／Ｌとなるように調整した液を用いることができる。また、後述する陽極酸化処理に用いられる電解液のオーバーフロー廃液を用いこともできる。
第二デスマット処理においては、処理時間は、１秒以上であるのが好ましく、４秒以上であるのがより好ましく、また、６０秒以下であるのが好ましく、２０秒以下であるのがより好ましい。
第二デスマット処理においては、酸水溶液の温度は、２０℃以上であるのが好ましく、３０℃以上であるのがより好ましく、また、７０℃以下であるのが好ましく、６０℃以下であるのがより好ましい。

＜第二電解粗面化処理＞
第二電解粗面化処理は、例えば、実施態様１、５および６では、塩酸を含有する水溶液中での交流または直流を用いた電気化学的粗面化処理である。本発明においては、上述した第一電解粗面化処理と、この第二電解粗面化処理とを組み合わせることにより、複雑な凹凸構造をアルミニウム板の表面に形成させることができ、ひいては、耐刷性を優れたものにすることができる。また、第二電解粗面化処理は、第二アルカリエッチングで滑らかにしたアルミニウム板の表面に平均直径０．０１〜０．４μｍの凹部を生成させる。それによって、耐刷性を高めることができる。

第一電解粗面化処理の後に行う第二電解粗面化処理としての塩酸電解は、上記第一電解粗面化処理としての塩酸電解で説明したのと基本的に同様である。
塩酸電解における塩酸を含有する水溶液中での電気化学的な粗面化でアルミニウム板が陽極反応にあずかる電気量の総和は、電気化学的な粗面化処理が終了した時点で、１０〜２００Ｃ／ｄｍ²の範囲から選択でき、１０〜１００Ｃ／ｄｍ²が好ましく、５０〜８０Ｃ／ｄｍ²が特に好ましい。

第一電解粗面化処理および第二電解粗面化処理として塩酸電解を行う場合には、第一電解粗面化処理での電解反応が終了した時点でのアノード反応にあずかる電気量の総和Ｑ₁が、第二電解粗面化処理での電解反応が終了した時点でのアノード反応にあずかる電気量Ｑ₂の総和より大（Ｑ₁＞Ｑ₂）であるのが好ましい。これにより、第一電解粗面化処理で生成した平均開口径１〜１５μｍのピットによりアルミニウム板の表面積が増大し、その上に設けられる画像記録層との密着性が向上して耐刷性に優れる。

＜第三アルカリエッチング処理＞
第二電解粗面化処理の後に行われる第三アルカリエッチング処理は、第二電解粗面化処理で生成したスマットを溶解させること、および、第二電解粗面化処理により形成されたピットのエッジ部分を溶解させることを目的として行われる。第三アルカリエッチング処理は、基本的に第一アルカリエッチング処理と同様であるので、異なる点のみ以下に説明する。

第三アルカリエッチング処理においては、エッチング量は、０．０５ｇ／ｍ²以上であるのが好ましく、０．１ｇ／ｍ²以上であるのがより好ましく、また、０．３ｇ／ｍ²以下であるのが好ましく、０．２５ｇ／ｍ²以下であるのがより好ましい。エッチング量が０．０５ｇ／ｍ²以上であると、平版印刷版の非画像部において、第二電解粗面化処理で生成したピットのエッジ部分が滑らかとなり、インキがひっかかりにくくなるため、耐汚れ性が優れる。一方、エッチング量が０．３ｇ／ｍ²以下であると、第一電解粗面化処理および第二電解粗面化処理で生成した凹凸が大きくなるため、耐刷性が優れる。

第三アルカリエッチング処理においては、アルカリ溶液の濃度は、３０ｇ／Ｌ以上であるのが好ましく、また、前段の電解粗面化処理によって生じた凹凸を小さくしすぎないようにするため、１００ｇ／Ｌ以下であるのが好ましく、７０ｇ／Ｌ以下であるのがより好ましい。
また、アルカリ溶液は、アルミニウムイオンを含有しているのが好ましい。アルミニウムイオン濃度は、１ｇ／Ｌ以上であるのが好ましく、３ｇ／Ｌ以上であるのがより好ましく、また、５０ｇ／Ｌ以下であるのが好ましく、８ｇ／Ｌ以下であるのがより好ましい。このようなアルカリ溶液は、例えば、水と４８質量％カセイソーダ水溶液とアルミン酸ソーダとを用いて調製することができる。

第三アルカリエッチング処理においては、アルカリ溶液の温度は、２５℃以上であるのが好ましく、３０℃以上であるのがより好ましく、また、６０℃以下であるのが好ましく、５０℃以下であるのがより好ましい。
第三アルカリエッチング処理においては、処理時間は、１秒以上であるのが好ましく、２秒以上であるのがより好ましく、また、３０秒以下であるのが好ましく、１０秒以下であるのがより好ましい。

＜第三デスマット処理＞
第三アルカリエッチング処理を行った後、表面に残留する汚れ（スマット）を除去するために酸洗い（第三デスマット処理）を行うのが好ましい。第三デスマット処理は、基本的に第一デスマット処理と同様であるので、異なる点のみ以下に説明する。
第三デスマット処理においては、引き続き行われる陽極酸化処理に用いられる電解液（例えば、硫酸）と同じ種類の液を用いるのが、第三デスマット処理と陽極酸化処理との間の水洗工程を省略することができる点で好ましい。
第三デスマット処理においては、５〜４００ｇ／Ｌの酸および０．５〜８ｇ／Ｌのアルミニウムイオンを含有する酸性溶液を用いるのが好ましい。硫酸を用いる場合は、具体的には、硫酸濃度１００〜３５０ｇ／Ｌの硫酸水溶液に、硫酸アルミニウムを溶解させてアルミニウムイオン濃度を１〜５ｇ／Ｌとなるように調整した液が好ましい。
第三デスマット処理においては、処理時間は、１秒以上であるのが好ましく、４秒以上であるのがより好ましく、また、６０秒以下であるのが好ましく、１５秒以下であるのがより好ましい。
第三デスマット処理において、デスマット処理液として、引き続き行われる陽極酸化処理に用いられる電解液と同じ種類の液を用いる場合には、デスマット処理後にニップローラによる液切りおよび水洗処理を省略することができる。

＜陽極酸化処理＞
以上のように処理されたアルミニウム板には、更に、陽極酸化処理が施される。陽極酸化処理はこの分野で従来行われている方法で行うことができる。この場合、例えば、硫酸濃度５０〜３００ｇ／Ｌで、アルミニウム濃度５質量％以下の溶液中で、アルミニウム板を陽極として通電して陽極酸化皮膜を形成させることができる。陽極酸化処理に用いられる溶液としては、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸、アミドスルホン酸等を単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。

この際、少なくともアルミニウム板、電極、水道水、地下水等に通常含まれる成分が電解液中に含まれていても構わない。更には、第二、第三の成分が添加されていても構わない。ここでいう第二、第三の成分としては、例えば、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｌｉ、Ｃａ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ等の金属のイオン；アンモニウムイオン等の陽イオン；硝酸イオン、炭酸イオン、塩化物イオン、リン酸イオン、フッ化物イオン、亜硫酸イオン、チタン酸イオン、ケイ酸イオン、ホウ酸イオン等の陰イオンが挙げられ、０〜１００００ｐｐｍ程度の濃度で含まれていてもよい。

陽極酸化処理の条件は、使用される電解液によって種々変化するので一概に決定され得ないが、一般的には電解液濃度１〜８０質量％、液温５〜７０℃、電流密度０．５〜６０Ａ／ｄｍ²、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１５秒〜５０分であるのが適当であり、所望の陽極酸化皮膜量となるように調整される。

また、特開昭５４−８１１３３号、特開昭５７−４７８９４号、特開昭５７−５１２８９号、特開昭５７−５１２９０号、特開昭５７−５４３００号、特開昭５７−１３６５９６号、特開昭５８−１０７４９８号、特開昭６０−２００２５６号、特開昭６２−１３６５９６号、特開昭６３−１７６４９４号、特開平４−１７６８９７号、特開平４−２８０９９７号、特開平６−２０７２９９号、特開平５−２４３７７号、特開平５−３２０８３号、特開平５−１２５５９７号、特開平５−１９５２９１号の各公報等に記載されている方法を使用することもできる。

中でも、特開昭５４−１２８５３号公報および特開昭４８−４５３０３号公報に記載されているように、電解液として硫酸溶液を用いるのが好ましい。電解液中の硫酸濃度は、１０〜３００ｇ／Ｌ（１〜３０質量％）であるのが好ましく、５０〜２００ｇ／Ｌ（５〜２０質量％）であるのがより好ましく、また、アルミニウムイオン濃度は、１〜２５ｇ／Ｌ（０．１〜２．５質量％）であるのが好ましく、２〜１０ｇ／Ｌ（０．２〜１質量％）であるのがより好ましい。このような電解液は、例えば、硫酸濃度が５０〜２００ｇ／Ｌである希硫酸に硫酸アルミニウム等を添加することにより調製することができる。

電解液の組成管理は、上述した硝酸電解等の場合と同様の方法を用いて、硫酸濃度とアルミニウムイオン濃度とのマトリクスに対応する、電導度と比重と温度、または、電導度と超音波伝搬速度と温度により管理するのが好ましい。

電解液の液温は、２５〜５５℃であるのが好ましく、３０〜５０℃であるのがより好ましい。

硫酸を含有する電解液中で陽極酸化処理を行う場合には、アルミニウム板と対極との間に直流を印加してもよく、交流を印加してもよい。
アルミニウム板に直流を印加する場合においては、電流密度は、１〜６０Ａ／ｄｍ²であるのが好ましく、５〜４０Ａ／ｄｍ²であるのがより好ましい。
連続的に陽極酸化処理を行う場合には、アルミニウム板の一部に電流が集中していわゆる「焼け」（皮膜が周囲より厚くなる部分）が生じないように、陽極酸化処理の開始当初は、５〜１０Ａ／ｍ²の低電流密度で電流を流し、陽極酸化処理が進行するにつれ、３０〜５０Ａ／ｄｍ²またはそれ以上に電流密度を増加させるのが好ましい。
具体的には、直流電源の電流配分を、下流側の直流電源の電流が上流側の直流電源の電流以上にするのが好ましい。このような電流配分とすることにより、いわゆる焼けが生じにくくなり、その結果、高速での陽極酸化処理が可能となる。

連続的に陽極酸化処理を行う場合には、アルミニウム板に、電解液を介して給電する液給電方式により行うのが好ましい。
このような条件で陽極酸化処理を行うことによりポア（マイクロポア）と呼ばれる孔を多数有する多孔質皮膜が得られるが、通常、その平均ポア径は５〜５０ｎｍ程度であり、平均ポア密度は３００〜８００個／μｍ²程度である。

陽極酸化皮膜の量は１〜５ｇ／ｍ²であるのが好ましい。１ｇ／ｍ²未満であると版に傷が入りやすくなり、一方、５ｇ／ｍ²を超えると製造に多大な電力が必要となり、経済的に不利となる。陽極酸化皮膜の量は、１．５〜４ｇ／ｍ²であるのがより好ましい。また、アルミニウム板の中央部と縁部近傍との間の陽極酸化皮膜量の差が１ｇ／ｍ²以下になるように行うのが好ましい。

陽極酸化処理に用いられる電解装置としては、特開昭４８−２６６３８号、特開昭４７−１８７３９号、特公昭５８−２４５１７号、特開２００１−１１６９８号の各公報等に記載されているものを用いることができる。
中でも、図４に示す装置が好適に用いられる。図４は、アルミニウム板の表面を陽極酸化処理する装置の一例を示す概略図である。

図４に示される陽極酸化処理装置４１０では、アルミニウム板４１６に電解液を経由して通電するために、アルミニウム板４１６の進行方向の上流側に給電槽４１２、下流側に陽極酸化処理槽４１４を設置してある。アルミニウム板４１６は、パスローラ４２２および４２８により、図４中矢印で示すように搬送される。アルミニウム板４１６が最初に導入される給電槽４１２においては、直流電源４３４の正極に接続された陽極４２０が設置されており、アルミニウム板４１６は陰極となる。したがって、アルミニウム板４１６においてはカソード反応が起こる。

アルミニウム板４１６が引き続き導入される陽極酸化処理槽４１４においては、直流電源４３４の負極に接続された陰極４３０が設置されており、アルミニウム板４１６は陽極となる。したがって、アルミニウム板４１６においてはアノード反応が起こり、アルミニウム板４１６の表面に陽極酸化皮膜が形成される。
アルミニウム板４１６と陰極４３０の間隔は５０〜２００ｍｍであるのが好ましい。陰極４３０としてはアルミニウムが用いられる。陰極４３０としては、アノード反応により発生する水素ガスが系から抜けやすくなるようにするために、広い面積を有する電極でなく、アルミニウム板４１６の進行方向に複数個に分割した電極であるのが好ましい。

給電槽４１２と陽極酸化処理槽４１４との間には、図４に示されるように、中間槽４１３と呼ばれる電解液が溜まらない槽を設けるのが好ましい。中間槽４１３を設けることにより、電流がアルミニウム板４１６を経由せず陽極４２０から陰極４３０にバイパスすることを抑止することができる。中間槽４１３にはニップローラ４２４を設置して液切りを行うことにより、バイパス電流を極力少なくするようにするのが好ましい。液切りにより出た電解液は、排液口４４２から陽極酸化処理装置４１０の外に排出される。

給電槽４１２に貯留される電解液４１８は、電圧ロスを少なくするために、陽極酸化処理槽４１４に貯留される電解液４２６よりも高温および／または高濃度とする。また、電解液４１８および４２６は、陽極酸化皮膜の形成効率、陽極酸化皮膜のマイクロポアの形状、陽極酸化皮膜の硬さ、電圧、電解液のコスト等から、組成、温度等が決定される。

給電槽４１２および陽極酸化処理槽４１４には、給液ノズル４３６および４３８から電解液を噴出させて給液する。電解液の分布を一定にし、陽極酸化処理槽４１４でのアルミニウム板４１６の局所的な電流集中を防ぐ目的で、給液ノズル４３６および４３８にはスリットが設けられ、噴出する液流を幅方向で一定にする構造となっている。

陽極酸化処理槽４１４においては、陽極４３０からみてアルミニウム板４１６を挟んだ反対側にはしゃへい板４４０が設けられ、電流がアルミニウム板４１６の陽極酸化皮膜を形成させたい面の反対側に流れるのを抑止する。アルミニウム板４１６としゃへい板４４０の間隔は５〜３０ｍｍであるのが好ましい。直流電源４３４は複数個用いて、正極側を共通に接続して用いるのが好ましい。これによって、陽極酸化処理槽４１４中の電流分布を制御することができる。

＜封孔処理＞
封孔処理は、陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアを封じる処理である。封孔処理を行うことにより、平版印刷版原版の現像性（感度）を向上させることができる。
陽極酸化皮膜が、皮膜面にほぼ垂直な方向にポアと称する細孔を有する多孔質皮膜であることはよく知られている。本発明においては、陽極酸化処理に高封孔率の封孔処理を施すのが好ましい。封孔率は５０％以上であるのが好ましく、７０％以上であるのがより好ましく、９０％以上であるのが更に好ましい。ここで、「封孔率」は、下記式により定義される。

封孔率＝（封孔前の表面積−封孔後の表面積）／封孔前の表面積×１００％

表面積は、例えば、簡易ＢＥＴ方式の表面積測定装置（例えば、ＱＵＡＮＴＡＳＯＲＢ（カンタソーブ）、湯浅アイオニクス社製）を用いて測定することができる。

封孔処理は、特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。例えば、熱水処理、沸騰水処理、水蒸気処理、重クロム酸塩処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム塩処理、電着封孔処理、特公昭３６−２２０６３号公報等に記載されているようなフッ化ジルコン酸処理、特開平９−２４４２２７号公報に記載されているリン酸塩および無機フッ素化合物を含む水溶液での処理、特開平９−１３４００２号公報に記載されている糖を含む水溶液での処理、特開２０００−８１７０４号公報および特開２０００−８９４６６号公報に記載されているチタンとフッ素を含む水溶液での処理、米国特許３，１８１，４６１号明細書等に記載されているアルカリ金属ケイ酸塩処理が挙げられる。

好適な封孔処理の一例として、アルカリ金属ケイ酸塩処理が挙げられる。アルカリ金属ケイ酸塩処理は、液のゲル化および陽極酸化皮膜の溶解を起こすことのない２５℃においてｐＨ１０〜１３であるアルカリ金属ケイ酸酸塩水溶液を用いて、アルカリ金属ケイ酸塩濃度、処理温度、処理時間等の処理条件を適宜選択して行うことができる。好適なアルカリ金属ケイ酸塩としては、例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムが挙げられる。また、アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のｐＨを高く調整するために、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を配合することができる。

更に、必要に応じて、アルカリ金属ケイ酸塩水溶液にアルカリ土類金属塩および／または４族（第ＩＶＡ族）金属塩を配合してもよい。このアルカリ土類金属塩としては、例えば、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウム等の硝酸塩；アルカリ土類金属の硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、ホウ酸塩等の水溶性の塩が挙げられる。４族（第ＩＶＡ族）金属塩としては、例えば、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。アルカリ土類金属塩および４族（第ＩＶＡ族）金属塩は、単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。
アルカリ金属ケイ酸塩水溶液の濃度は、０．０１〜１０質量％であるのが好ましく、０．０５〜５．０質量％であるのがより好ましい。

好適な封孔処理の別の一例として、フッ化ジルコン酸処理が挙げられる。フッ化ジルコン酸処理は、フッ化ジルコン酸ナトリウム、フッ化ジルコン酸カリウム等のフッ化ジルコン酸塩を用いて行われる。これにより、平版印刷版原版の感度（現像性）が優れたものとなる。フッ化ジルコン酸処理に用いられるフッ化ジルコン酸塩溶液の濃度は、０．０１〜２質量％であるのが好ましく、０．１〜０．３質量％であるのがより好ましい。
フッ化ジルコン酸塩溶液は、リン酸二水素ナトリウムを含有するのが好ましい。リン酸二水素ナトリウムの濃度は、０．０１〜３質量％であるのが好ましく、０．１〜０．３質量％であるのがより好ましい。

封孔処理の温度は、２０〜９０℃であるのが好ましく、５０〜８０℃であるのがより好ましい。
封孔処理の時間（溶液中への浸せき時間）は、１〜２０秒であるのが好ましく、５〜１５秒であるのがより好ましい。

また、必要に応じて、封孔処理を行った後、上述したアルカリ金属ケイ酸塩処理、ポリビニルホスホン酸、ポリアクリル酸、スルホ基等を側鎖に有するポリマーまたはコポリマー、特開平１１−２３１５０９号公報に記載されているアミノ基とホスフィン基、ホスホン基およびリン酸基からなる群から選ばれる基とを有する有機化合物またはその塩等を含む溶液に浸し、または塗布する処理等の表面処理を行うことができる。

封孔処理の後には、後述する親水化処理を行うのが好ましい。

＜親水化処理＞
陽極酸化処理後または封孔処理後、親水化処理を行ってもよい。親水化処理としては、例えば、米国特許第２，９４６，６３８号明細書に記載されているフッ化ジルコニウム酸カリウム処理、米国特許第３，２０１，２４７号明細書に記載されているホスホモリブデート処理、英国特許第１，１０８，５５９号に記載されているアルキルチタネート処理、独国特許第１，０９１，４３３号明細書に記載されているポリアクリル酸処理、独国特許第１，１３４，０９３号明細書および英国特許第１，２３０，４４７号明細書に記載されているポリビニルホスホン酸処理、特公昭４４−６４０９号公報に記載されているホスホン酸処理、米国特許第３，３０７，９５１号明細書に記載されているフィチン酸処理、特開昭５８−１６８９３号公報および特開昭５８−１８２９１号公報に記載されている親油性有機高分子化合物と２価の金属との塩による処理、米国特許第３，８６０，４２６号明細書に記載されているように、水溶性金属塩（例えば、酢酸亜鉛）を含む親水性セルロース（例えば、カルボキシメチルセルロース）の下塗層を設ける処理、特開昭５９−１０１６５１号公報に記載されているスルホ基を有する水溶性重合体を下塗りする処理が挙げられる。

また、特開昭６２−０１９４９４号公報に記載されているリン酸塩、特開昭６２−０３３６９２号公報に記載されている水溶性エポキシ化合物、特開昭６２−０９７８９２号公報に記載されているリン酸変性デンプン、特開昭６３−０５６４９８号公報に記載されているジアミン化合物、特開昭６３−１３０３９１号公報に記載されているアミノ酸の無機または有機酸、特開昭６３−１４５０９２号公報に記載されているカルボキシ基またはヒドロキシ基を含む有機ホスホン酸、特開昭６３−１６５１８３号公報に記載されているアミノ基とホスホン酸基を有する化合物、特開平２−３１６２９０号公報に記載されている特定のカルボン酸誘導体、特開平３−２１５０９５号公報に記載されているリン酸エステル、特開平３−２６１５９２号公報に記載されている１個のアミノ基とリンの酸素酸基１個を持つ化合物、特開平３−２１５０９５号公報に記載されているリン酸エステル、特開平５−２４６１７１号公報に記載されているフェニルホスホン酸等の脂肪族または芳香族ホスホン酸、特開平１−３０７７４５号公報に記載されているチオサリチル酸のようなＳ原子を含む化合物、特開平４−２８２６３７号公報に記載されているリンの酸素酸のグループを持つ化合物等を用いた下塗りによる処理も挙げられる。
更に、特開昭６０−６４３５２号公報に記載されている酸性染料による着色を行うこともできる。

また、ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に浸せきさせる方法、親水性ビニルポリマーまたは親水性化合物を塗布して親水性の下塗層を形成させる方法等により、親水化処理を行うのが好ましい。

ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液による親水化処理は、米国特許第２，７１４，０６６号明細書および米国特許第３，１８１，４６１号明細書に記載されている方法および手順に従って行うことができる。
アルカリ金属ケイ酸塩としては、例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムが挙げられる。アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を適当量含有してもよい。
また、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液は、アルカリ土類金属塩または４族（第ＩＶＡ族）金属塩を含有してもよい。アルカリ土類金属塩としては、例えば、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウム等の硝酸塩；硫酸塩；塩酸塩；リン酸塩；酢酸塩；シュウ酸塩；ホウ酸塩が挙げられる。４族（第ＩＶＡ族）金属塩としては、例えば、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムが挙げられる。これらのアルカリ土類金属塩および４族（第ＩＶＡ族）金属塩は、単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。

アルカリ金属ケイ酸塩処理によって吸着するＳｉ量は蛍光Ｘ線分析装置により測定することができ、その吸着量は約１．０〜１５．０ｍｇ／ｍ²であるのが好ましい。
このアルカリ金属ケイ酸塩処理により、平版印刷版用支持体の表面のアルカリ現像液に対する耐溶解性向上の効果が得られ、アルミニウム成分の現像液中への溶出が抑制されて、現像液の疲労に起因する現像カスの発生を低減することができる。

また、親水性の下塗層の形成による親水化処理は、特開昭５９−１０１６５１号公報および特開昭６０−１４９４９１号公報に記載されている条件および手順に従って行うこともできる。
この方法に用いられる親水性ビニルポリマーとしては、例えば、ポリビニルスルホン酸、スルホ基を有するｐ−スチレンスルホン酸等のスルホ基含有ビニル重合性化合物と（メタ）アクリル酸アルキルエステル等の通常のビニル重合性化合物との共重合体が挙げられる。また、この方法に用いられる親水性化合物としては、例えば、−ＮＨ₂基、−ＣＯＯＨ基およびスルホ基からなる群から選ばれる少なくとも一つを有する化合物が挙げられる。

＜乾燥＞
上述したようにして平版印刷版用支持体を得た後、画像記録層を設ける前に、平版印刷版用支持体の表面を乾燥させるのが好ましい。乾燥は、表面処理の最後の処理の後、水洗処理およびニップローラで液切りしてから行うのが好ましい。
乾燥温度は、７０℃以上であるのが好ましく、８０℃以上であるのがより好ましく、また、１１０℃以下であるのが好ましく、１００℃以下であるのがより好ましい。
乾燥時間は、１秒以上であるのが好ましく、２秒以上であるのがより好ましく、また２０秒以下であるのが好ましく、１５秒であるのがより好ましい。

＜液組成の管理＞
本発明においては、上述した表面処理に用いられる各種の処理液の組成を、特開２００１−１２１８３７号公報に記載されている方法で管理するのが好ましい。あらかじめ、種々の濃度の多数の処理液サンプルを調製し、それぞれ二つの液温における超音波の伝搬速度を測定し、マトリクス状のデータテーブルを作成しておき、処理中に、液温および超音波の伝搬速度をリアルタイム測定し、それに基づいて濃度の制御を行うのが好ましい。特に、デスマット処理において、硫酸濃度２５０ｇ／Ｌ以上の電解液を用いる場合においては、上述する方法により、濃度の制御を行うのが好ましい。
なお、電解粗面化処理および陽極酸化処理に用いられる各電解液は、Ｃｕ濃度が１００ｐｐｍ以下であるのが好ましい。Ｃｕ濃度が高すぎると、ラインを停止するとアルミニウム板上にＣｕが析出し、ラインを再度稼動した際に析出したＣｕがパスロールに転写されて、処理ムラの原因となる場合がある。

［平版印刷版原版］
本発明により得られる平版印刷版用支持体には、画像記録層を設けて平版印刷版原版とすることができる。画像記録層には、感光性組成物が用いられる。
本発明に好適に用いられる感光性組成物としては、例えば、アルカリ可溶性高分子化合物と光熱変換物質とを含有するサーマルポジ型感光性組成物（以下、この組成物およびこれを用いた画像記録層について、「サーマルポジタイプ」という。）、硬化性化合物と光熱変換物質とを含有するサーマルネガ型感光性組成物（以下、同様に「サーマルネガタイプ」という。）、光重合型感光性組成物（以下、同様に「フォトポリマータイプ」という。）、ジアゾ樹脂または光架橋樹脂を含有するネガ型感光性組成物（以下、同様に「コンベンショナルネガタイプ」という。）、キノンジアジド化合物を含有するポジ型感光性組成物（以下、同様に「コンベンショナルポジタイプ」という。）、特別な現像工程を必要としない感光性組成物（以下、同様に「無処理タイプ」という。）が挙げられる。
また、本発明により得られる平版印刷版用支持体は、サーマルポジタイプ、サーマルネガタイプ等として、レーザー光のような高収斂性の輻射線にデジタル化された画像情報を担持させて、その光で平版印刷版原版を走査露光し、リスフィルムを介することなく、直接平版印刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート（ＣＴＰ）技術に好適に用いられる。
以下、これらの好適な感光性組成物について説明する。

＜サーマルポジタイプ＞
＜感光層＞
サーマルポジタイプの感光性組成物は、アルカリ可溶性高分子化合物と光熱変換物質とを含有する。サーマルポジタイプの画像記録層においては、光熱変換物質が赤外線レーザ等の光のエネルギーを熱に変換し、その熱がアルカリ可溶性高分子化合物のアルカリ溶解性を低下させている相互作用を効率よく解除する。

アルカリ可溶性高分子化合物としては、例えば、分子中に酸性基を含有する樹脂およびその２種以上の混合物が挙げられる。特に、フェノール性ヒドロキシ基、スルホンアミド基（−ＳＯ₂ＮＨ−Ｒ（式中、Ｒは炭化水素基を表す。））、活性イミノ基（−ＳＯ₂ＮＨＣＯＲ、−ＳＯ₂ＮＨＳＯ₂Ｒ、−ＣＯＮＨＳＯ₂Ｒ（各式中、Ｒは上記と同様の意味である。））等の酸性基を有する樹脂がアルカリ現像液に対する溶解性の点で好ましい。
とりわけ、赤外線レーザ等の光による露光での画像形成性に優れる点で、フェノール性ヒドロキシ基を有する樹脂が好ましく、例えば、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、ｐ−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、ｍ−／ｐ−混合クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、フェノール／クレゾール（ｍ−、ｐ−およびｍ−／ｐ−混合のいずれでもよい）混合−ホルムアルデヒド樹脂（フェノール−クレゾール−ホルムアルデヒド共縮合樹脂）等のノボラック樹脂が好適に挙げられる。
更に、特開２００１−３０５７２２号公報（特に［００２３］〜［００４２］）に記載されている高分子化合物、特開２００１−２１５６９３号公報に記載されている一般式（１）で表される繰り返し単位を含む高分子化合物、特開２００２−３１１５７０号公報（特に［０１０７］）に記載されている高分子化合物も好適に挙げられる。

光熱変換物質としては、記録感度の点で、波長７００〜１２００ｎｍの赤外域に光吸収域がある顔料または染料が好適に挙げられる。染料としては、例えば、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体（例えば、ニッケルチオレート錯体）が挙げられる。中でも、シアニン染料が好ましく、とりわけ特開２００１−３０５７２２号公報に記載されている一般式（Ｉ）で表されるシアニン染料が好ましい。

サーマルポジタイプの感光性組成物中には、溶解阻止剤を含有させることができる。溶解阻止剤としては、例えば、特開２００１−３０５７２２号公報の［００５３］〜［００５５］に記載されているような溶解阻止剤が好適に挙げられる。
また、サーマルポジタイプの感光性組成物中には、添加剤として、感度調節剤、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼出し剤、画像着色剤としての染料等の化合物、塗布性および処理安定性を向上させるための界面活性剤を含有させるのが好ましい。これらについては、特開２００１−３０５７２２号公報の［００５６］〜［００６０］に記載されているような化合物が好ましい。
上記以外の点でも、特開２００１−３０５７２２号公報に詳細に記載されている感光性組成物が好ましく用いられる。

また、サーマルポジタイプの画像記録層は、単層に限らず、２層構造であってもよい。
２層構造の画像記録層（重層系の画像記録層）としては、支持体に近い側に耐刷性および耐溶剤性に優れる下層（以下「Ａ層」という。）を設け、その上にポジ画像形成性に優れる層（以下「Ｂ層」という。）を設けたタイプが好適に挙げられる。このタイプは感度が高く、広い現像ラチチュードを実現することができる。Ｂ層は、一般に、光熱変換物質を含有する。光熱変換物質としては、上述した染料が好適に挙げられる。
Ａ層に用いられる樹脂としては、スルホンアミド基、活性イミノ基、フェノール性ヒドロキシ基等を有するモノマーを共重合成分として有するポリマーが耐刷性および耐溶剤性に優れている点で好適に挙げられる。Ｂ層に用いられる樹脂としては、フェノール性ヒドロキシ基を有するアルカリ水溶液可溶性樹脂が好適に挙げられる。
Ａ層およびＢ層に用いられる組成物には、上記樹脂のほかに、必要に応じて、種々の添加剤を含有させることができる。具体的には、特開２００２−３２３３７６９号公報の［００６２］〜［００８５］に記載されているような種々の添加剤が好適に用いられる。また、上述した特開２００１−３０５７２２号公報の［００５３］〜［００６０］に記載されている添加剤も好適に用いられる。
Ａ層およびＢ層を構成する各成分およびその含有量については、特開平１１−２１８９１４号公報に記載されているようにするのが好ましい。

＜中間層＞
サーマルポジタイプの画像記録層と支持体との間には、中間層を設けるのが好ましい。中間層に含有される成分としては、特開２００１−３０５７２２号公報の［００６８］に記載されている種々の有機化合物が好適に挙げられる。

＜その他＞
サーマルポジタイプの画像記録層の製造方法および製版方法については、特開２００１−３０５７２２号公報に詳細に記載されている方法を用いることができる。

＜サーマルネガタイプ＞
サーマルネガタイプの感光性組成物は、硬化性化合物と光熱変換物質とを含有する。サーマルネガタイプの画像記録層は、赤外線レーザ等の光で照射された部分が硬化して画像部を形成するネガ型の感光層である。
＜重合層＞
サーマルネガタイプの画像記録層の一つとして、重合型の画像記録層（重合層）が好適に挙げられる。重合層は、光熱変換物質と、ラジカル発生剤と、硬化性化合物であるラジカル重合性化合物と、バインダーポリマーとを含有する。重合層においては、光熱変換物質が吸収した赤外線を熱に変換し、この熱によりラジカル発生剤が分解してラジカルが発生し、発生したラジカルによりラジカル重合性化合物が連鎖的に重合し、硬化する。

光熱変換物質としては、例えば、上述したサーマルポジタイプに用いられる光熱変換物質が挙げられる。特に好ましいシアニン色素の具体例としては、特開２００１−１３３９６９号公報の［００１７］〜［００１９］に記載されているものが挙げられる。
ラジカル発生剤としては、オニウム塩が好適に挙げられる。特に、特開２００１−１３３９６９号公報の［００３０］〜［００３３］に記載されているオニウム塩が好ましい。
ラジカル重合性化合物としては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物が挙げられる。
バインダーポリマーとしては、線状有機ポリマーが好適に挙げられる。水または弱アルカリ水に対して可溶性または膨潤性である線状有機ポリマーが好適に挙げられる。中でも、アリル基、アクリロイル基等の不飽和基またはベンジル基と、カルボキシ基とを側鎖に有する（メタ）アクリル樹脂が、膜強度、感度および現像性のバランスに優れている点で好適である。
ラジカル重合性化合物およびバインダーポリマーについては、特開２００１−１３３９６９号公報の［００３６］〜［００６０］に詳細に記載されているものを用いることができる。

サーマルネガタイプの感光性組成物中には、特開２００１−１３３９６９号公報の［００６１］〜［００６８］に記載されている添加剤（例えば、塗布性を向上させるための界面活性剤）を含有させるのが好ましい。

重合層の製造方法および製版方法については、特開２００１−１３３９６９号公報に詳細に記載されている方法を用いることができる。

＜酸架橋層＞
また、サーマルネガタイプの画像記録層の一つとして、酸架橋型の画像記録層（酸架橋層）も好適に挙げられる。酸架橋層は、光熱変換物質と、熱酸発生剤と、硬化性化合物である酸により架橋する化合物（架橋剤）と、酸の存在下で架橋剤と反応しうるアルカリ可溶性高分子化合物とを含有する。酸架橋層においては、光熱変換物質が吸収した赤外線を熱に変換し、この熱により熱酸発生剤が分解して酸が発生し、発生した酸により架橋剤とアルカリ可溶性高分子化合物とが反応し、硬化する。

光熱変換物質としては、重合層に用いられるのと同様のものが挙げられる。
熱酸発生剤としては、例えば、光重合の光開始剤、色素類の光変色剤、マイクロレジスト等に使用されている酸発生剤等の熱分解化合物が挙げられる。
架橋剤としては、例えば、ヒドロキシメチル基またはアルコキシメチル基で置換された芳香族化合物；Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキシメチル基またはＮ−アシルオキシメチル基を有する化合物；エポキシ化合物が挙げられる。
アルカリ可溶性高分子化合物としては、例えば、ノボラック樹脂、側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマーが挙げられる。

＜フォトポリマータイプ＞
光重合型感光性組成物は、付加重合性化合物と、光重合開始剤と、高分子結合剤とを含有する。
付加重合性化合物としては、付加重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物が好適に挙げられる。エチレン性不飽和結合含有化合物は、末端エチレン性不飽和結合を有する化合物である。具体的には、例えば、モノマー、プレポリマー、これらの混合物等の化学的形態を有する。モノマーの例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸）と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミドが挙げられる。
また、付加重合性化合物としては、ウレタン系付加重合性化合物も好適に挙げられる。

光重合開始剤としては、種々の光重合開始剤または２種以上の光重合開始剤の併用系（光開始系）を、使用する光源の波長により適宜選択して用いることができる。例えば、特開２００１−２２０７９号公報の［００２１］〜［００２３］に記載されている開始系が好適に挙げられる。
高分子結合剤は、光重合型感光性組成物の皮膜形成剤として機能するだけでなく、画像記録層をアルカリ現像液に溶解させる必要があるため、アルカリ水に対して可溶性または膨潤性である有機高分子重合体が用いられる。そのような有機高分子重合体としては、特開２００１−２２０７９号公報の［００３６］〜［００６３］に記載されているものが好適に挙げられる。

フォトポリマータイプの光重合型感光性組成物中には、特開２００１−２２０７９号公報の［００７９］〜［００８８］に記載されている添加剤（例えば、塗布性を向上させるための界面活性剤、着色剤、可塑剤、熱重合禁止剤）を含有させるのが好ましい。

また、フォトポリマータイプの画像記録層の上に、酸素の重合禁止作用を防止するために酸素遮断性保護層を設けることが好ましい。酸素遮断性保護層に含有される重合体としては、例えば、ポリビニルアルコール、その共重合体が挙げられる。
更に、特開２００１−２２８６０８号公報の［０１２４］〜［０１６５］に記載されているような中間層または接着層を設けるのも好ましい。

＜コンベンショナルネガタイプ＞
コンベンショナルネガタイプの感光性組成物は、ジアゾ樹脂または光架橋樹脂を含有する。中でも、ジアゾ樹脂とアルカリ可溶性または膨潤性の高分子化合物（結合剤）とを含有する感光性組成物が好適に挙げられる。
ジアゾ樹脂としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩とホルムアルデヒド等の活性カルボニル基含有化合物との縮合物；ｐ−ジアゾフェニルアミン類とホルムアルデヒドとの縮合物とヘキサフルオロリン酸塩またはテトラフルオロホウ酸塩との反応生成物である有機溶媒可溶性ジアゾ樹脂無機塩が挙げられる。特に、特開昭５９−７８３４０号公報に記載されている６量体以上を２０モル％以上含んでいる高分子量ジアゾ化合物が好ましい。
結合剤としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸またはマレイン酸を必須成分として含む共重合体が挙げられる。具体的には、特開昭５０−１１８８０２号公報に記載されているような２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリル酸等のモノマーの多元共重合体、特開昭５６−４１４４号公報に記載されているようなアルキルアクリレート、（メタ）アクリロニトリルおよび不飽和カルボン酸からなる多元共重合体が挙げられる。

コンベンショナルネガタイプの感光性組成物には、添加剤として、特開平７−２８１４２５号公報の［００１４］〜［００１５］に記載されている焼出し剤、染料、塗膜の柔軟性および耐摩耗性を付与するための可塑剤、現像促進剤等の化合物、塗布性を向上させるための界面活性剤を含有させるのが好ましい。

コンベンショナルネガタイプの感光層の下には、特開２０００−１０５４６２号公報に記載されている、酸基を有する構成成分とオニウム基を有する構成成分とを有する高分子化合物を含有する中間層を設けるのが好ましい。

＜コンベンショナルポジタイプ＞
コンベンショナルポジタイプの感光性組成物は、キノンジアジド化合物を含有する。中でも、ｏ−キノンジアジド化合物とアルカリ可溶性高分子化合物とを含有する感光性組成物が好適に挙げられる。
ｏ−キノンジアジド化合物としては、例えば、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂またはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル、米国特許第３，６３５，７０９号明細書に記載されている１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステルが挙げられる。
アルカリ可溶性高分子化合物としては、例えば、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、フェノール−クレゾール−ホルムアルデヒド共縮合樹脂、ポリヒドロキシスチレン、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミドの共重合体、特開平７−３６１８４号公報に記載されているカルボキシ基含有ポリマー、特開昭５１−３４７１１号公報に記載されているようなフェノール性ヒドロキシ基を含有するアクリル系樹脂、特開平２−８６６号公報に記載されているスルホンアミド基を有するアクリル系樹脂、ウレタン系の樹脂が挙げられる。

コンベンショナルポジタイプの感光性組成物には、添加剤として、特開平７−９２６６０号公報の［００２４］〜［００２７］に記載されている感度調節剤、焼出剤、染料等の化合物や、特開平７−９２６６０号公報の［００３１］に記載されているような塗布性を向上させるための界面活性剤を含有させるのが好ましい。

コンベンショナルポジタイプの感光層の下には、上述したコンベンショナルネガタイプに好適に用いられる中間層と同様の中間層を設けるのが好ましい。

＜無処理タイプ＞
無処理タイプの感光性組成物には、熱可塑性微粒子ポリマー型、マイクロカプセル型、スルホン酸発生ポリマー含有型等が挙げられる。これらはいずれも光熱変換物質を含有する感熱型である。光熱変換物質は、上述したサーマルポジタイプに用いられるのと同様の染料が好ましい。

熱可塑性微粒子ポリマー型の感光性組成物は、疎水性かつ熱溶融性の微粒子ポリマーが親水性高分子マトリックス中に分散されたものである。熱可塑性微粒子ポリマー型の画像記録層においては、露光により発生する熱により疎水性の微粒子ポリマーが溶融し、互いに融着して疎水性領域、即ち、画像部を形成する。
微粒子ポリマーとしては、微粒子同士が熱により溶融合体するものが好ましく、表面が親水性で、湿し水等の親水性成分に分散しうるものがより好ましい。具体的には、ＲｅｓｅａｃｈＤｉｓｃｌｏｓｕｒｅＮｏ．３３３０３（１９９２年１月）、特開平９−１２３３８７号、同９−１３１８５０号、同９−１７１２４９号および同９−１７１２５０号の各公報、欧州特許出願公開第９３１，６４７号明細書等に記載されている熱可塑性微粒子ポリマーが好適に挙げられる。中でも、ポリスチレンおよびポリメタクリル酸メチルが好ましい。親水性表面を有する微粒子ポリマーとしては、例えば、ポリマー自体が親水性であるもの；ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール等の親水性化合物を微粒子ポリマー表面に吸着させて表面を親水性化したものが挙げられる。
微粒子ポリマーは、反応性官能基を有するのが好ましい。

マイクロカプセル型の感光性組成物としては、特開２０００−１１８１６０号公報に記載されているもの、特開２００１−２７７７４０号公報に記載されているような熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセル型が好適に挙げられる。

スルホン酸発生ポリマー含有型の感光性組成物に用いられるスルホン酸発生ポリマーとしては、例えば、特開平１０−２８２６７２号公報に記載されているスルホン酸エステル基、ジスルホン基またはｓｅｃ−もしくはｔｅｒｔ−スルホンアミド基を側鎖に有するポリマーが挙げられる。

無処理タイプの感光性組成物に、親水性樹脂を含有させることにより、機上現像性が良好となるばかりか、感光層自体の皮膜強度も向上する。親水性樹脂としては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、カルボキシメチル基等の親水基を有するもの、親水性のゾルゲル変換系結着樹脂が好ましい。

無処理タイプの画像記録層は、特別な現像工程を必要とせず、印刷機上で現像することができる。無処理タイプの画像記録層の製造方法および製版印刷方法については、特開２００２−１７８６５５号公報に詳細に記載されている方法を用いることができる。

＜バックコート＞
このようにして、本発明により得られる平版印刷版用支持体上に各種の画像記録層を設けて得られる平版印刷版原版の裏面には、必要に応じて、重ねた場合における画像記録層の傷付きを防止するために、有機高分子化合物からなる被覆層を設けることができる。

［製版方法（平版印刷版の製造方法）］
本発明により得られる平版印刷版用支持体を用いた平版印刷版原版は、画像記録層に応じた種々の処理方法により、平版印刷版とされる。
像露光に用いられる活性光線の光源としては、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプが挙げられる。レーザビームとしては、例えば、ヘリウム−ネオンレーザ（Ｈｅ−Ｎｅレーザ）、アルゴンレーザ、クリプトンレーザ、ヘリウム−カドミウムレーザ、ＫｒＦエキシマーレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、ＹＡＧ−ＳＨＧレーザが挙げられる。

上記露光の後、画像記録層がサーマルポジタイプ、サーマルネガタイプ、コンベンショナルネガタイプ、コンベンショナルポジタイプおよびフォトポリマータイプのいずれかである場合は、露光した後、現像液を用いて現像して平版印刷版を得るのが好ましい。
現像液は、アルカリ現像液であるのが好ましく、有機溶剤を実質的に含有しないアルカリ性の水溶液であるのがより好ましい。
また、アルカリ金属ケイ酸塩を実質的に含有しない現像液も好ましい。アルカリ金属ケイ酸塩を実質的に含有しない現像液を用いて現像する方法としては、特開平１１−１０９６３７号公報に詳細に記載されている方法を用いることができる。
また、アルカリ金属ケイ酸塩を含有する現像液を用いることもできる。

以下に実施例を示して本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限られるものではない。
１．アルミニウム板エンボス加工用ロールの製造
（実施例１−１〜１−３ならびに比較例１−１および１−２）
工具鋼（ＳＫＤ１１）を焼入れしてＨｖ７５０としたロールを用いて、以下の処理（１）〜（５）を順次行い、各アルミニウム板エンボス加工用ロールを得た。

（１）鏡面研磨処理
鏡面研磨処理としてバフ研磨処理を行い、ロール表面を研磨した砥石の痕を除去した。

（２）ブラスト処理
ロールの表面に、平均粒径１００μｍのアルミナ粒子をグリッド材として用いたエアーブラスト法を２回行うことにより、粗面化処理を施した。エアーブラスト法の各回につき、吹き付け圧は、２ｋｇｆ／ｃｍ²（１．９６×１０⁵Ｐａ）、吹き付け時間は２秒であった。

（３）脱脂処理
液温３０℃の脱脂槽に３０秒間浸せきさせ、表面の油分を脱脂液で除去処理した。その後、水洗処理し、エアーを吹き付け、水分を除去した。

（４）電解処理
クロム酸３００ｇ／Ｌ、硫酸２ｇ／Ｌ、鉄１ｇ／Ｌを含む液温５０℃の電解液中で、連続直流電流を加え、ロールを陽極として電流密度３０Ａ／ｄｍ²で電解処理を行った。電解処理の電気量を第１表に示す。
電流波形は、３相全波整流し、更にフィルター回路を通してリップル成分を５％以下とした直流を用いた。対極は鉛を用いた。ロールは電解液中に縦置きとし、その周囲を囲むように円筒状に鉛電極を配置した。ロールのシャフト部分には電解処理が行われないように塩化ビニルでマスキング処理を行った。

（５）クロムめっき処理
つぎに、クロム酸３００ｇ／Ｌ、硫酸２ｇ／Ｌ、鉄１ｇ／Ｌを含む液温５０℃の電解液中で、連続直流電流を加え、ロールを陰極として電流密度４０Ａ／ｄｍ²でめっき処理を行った。めっき処理時間は、めっき厚が６μｍとなるように設定した。
電流波形は、３相全波整流し、更にフィルター回路を通してリップル成分を５％以下とした直流を用いた。対極は鉛を用いた。ロールは電解液中に縦置きとし、その周囲を囲むように円筒状に鉛電極を配置した。ロールのシャフト部分にはめっき処理が行われないように塩化ビニルでマスキング処理を行った。

（実施例１−４）
上記（２）ブラスト処理の後、かつ、上記（３）脱脂処理の前に、下記（６）機械的研磨処理を行った以外は、実施例１−２と同様の方法により、アルミニウム板エンボス加工用ロールを得た。

（６）機械的研磨処理
サンドペーパー（＃２０００）で表面を再研磨し、ブラスト処理により生じた、ロール表面の部分的に高い凸部を研削して、平均表面粗さＲ_aを０．６μｍとした。平均表面粗さＲ_aは、後述する方法により測定した。

２．アルミニウム板エンボス加工用ロールの表面形状
（１）平均表面粗さＲ_a、最大高さＲ_y、凹凸の平均間隔Ｓ_mおよび平均傾斜Δａ
鏡面研磨処理後、ブラスト処理後、電解処理後およびクロムめっき処理後のロールについて、触針式粗さ計（ｓｕｆｃｏｍ５７５、東京精密社製）を用いて下記条件で２次元粗さ測定を行い、ＩＳＯ４２８７に規定されている平均表面粗さＲ_aを５回測定し、その平均値を求めた。最大高さＲ_y、凹凸の平均間隔Ｓ_mおよび平均傾斜Δａも同様にして測定した。

＜測定条件＞
カットオフ値０．８ｍｍ、傾斜補正ＦＬＡＴ−ＭＬ、測定長３ｍｍ、縦倍率１００００倍、走査速度０．３ｍｍ／ｓｅｃ、触針先端径２μｍ

鏡面研磨処理後のロールの表面は、平均表面粗さＲ_aが０．２μｍ、最大高さＲ_yが１μｍであった。
また、ブラスト処理後のロールの表面は、平均表面粗さＲ_aが０．９μｍであった。
また、電解処理後およびクロムめっき処理後のロールの表面の平均表面粗さＲ_a、最大高さＲ_y、凹凸の平均間隔Ｓ_mおよび平均傾斜Δａを第１表に示す。

（２）レプリカ法による断面プロフィールの観察
上記で得られたアルミニウム板エンボス加工用ロールの表面をレプリカ法で観察した。具体的には、応研商事（株）製のテクノビット３０４０を用いてレプリカを作成し、得られたレプリカを用いて、実施例１−２および比較例１−１で得られたアルミニウム板エンボス加工用ロールの断面プロフィールを測定した。断面プロフィールの測定には、菱化システム（株）のマイクロマップ５２０を使用し、ロールの長手方向の断面に位置する凹凸を測定し、チャートに記録させた。その結果、実施例１−２で得られたロールは、比較例１−１で得られたロールに比べて、ロール表面の山の高さが揃っていた。

３．平版印刷版用支持体の作製
（実施例２−１）
Ｓｉ：０．０７３質量％、Ｆｅ：０．２７質量％、Ｃｕ：０．１質量％、Ｍｎ：０．０００質量％、Ｍｇ：０．０００質量％、Ｃｒ：０．００１質量％、Ｚｎ：０．００３質量％、Ｔｉ：０．００２質量％を含有し、残部はＡｌと不可避不純物とからなるアルミニウム合金を用いて溶湯を調製し、溶湯処理およびろ過を行った上で、厚さ５００ｍｍ、幅１２００ｍｍの鋳塊をＤＣ鋳造法で作成した。表面を平均１０ｍｍの厚さで面削機により削り取った後、５５０℃で、約５時間均熱保持し、温度４００℃に下がったところで、熱間圧延機を用いて厚さ２．７ｍｍの圧延板とした。更に、連続焼鈍機を用いて熱処理を５００℃で行った後、実施例１−１で得られたアルミニウム板エンボス加工用ロールを用いて冷間圧延を行って、厚さ０．３ｍｍ、幅１０６０ｍｍに仕上げ、アルミニウム板を得た。

上記で得られたアルミニウム板を以下に示す表面処理に供し、第２表に示される各平版印刷版用支持体を得た。

＜表面処理＞
表面処理は、以下の（ａ）〜（ｊ）の各種処理を連続的に行うことにより行った。

（ａ）アルカリ水溶液中でのエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度３７０ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度１００ｇ／Ｌ、温度６０℃の水溶液をスプレー管から吹き付けて、エッチング処理を行った。アルミニウム板の後に電気化学的粗面化処理を施す面のエッチング量は、３ｇ／ｍ²であった。
その後、ニップローラで液切りし、更に、後述する水洗処理を行った後、ニップローラで液切りした。水洗処理は、自由落下カーテン状の液膜により水洗処理する装置を用いて水洗し、更に、スプレー管に取り付けられたスプレーチップから扇状に噴き出す水で５秒間水洗することにより行った。

（ｂ）デスマット処理
温度３５℃の硝酸水溶液をスプレー管から５秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。硝酸水溶液としては、後述する（ｃ）硝酸水溶液中での交流を用いた電気化学的粗面化処理工程の廃液を用いた。
その後、ニップローラによる液切りを行わずに、アルミニウム板に硝酸水溶液が付着している状態で搬送した。搬送時間は２５秒間であった。

（ｃ）硝酸水溶液中での交流を用いた電気化学的粗面化処理（硝酸電解）
電気化学的粗面化処理を行う直前に、アルミニウム板に、後述する硝酸交流電解に用いた電解液と同じ組成および温度を有する電解液を吹き付けた。
その後、１０．４ｇ／Ｌ硝酸水溶液に硝酸アルミニウムを溶解させてアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌとした電解液（液温３５℃）を用い、６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的粗面化処理を行った。交流電源波形は図２に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間Ｔｐが１．２ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比（ｔａ／Ｔ）０．５であった。カーボン電極を対極として用いた。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図３に示すものを２槽使用した。
電気化学的粗面化処理において、交流のピーク時におけるアルミニウム板のアノード反応時の電流密度は、６０Ａ／ｄｍ²であった。アルミニウム板のアノード反応時の電気量の総和とカソード反応時の電気量の総和との比は０．９５であった。電気量はアルミニウム板のアノード時の電気量の総和で２１５Ｃ／ｄｍ²であった。補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。
その後、ニップローラで液切りし、更に、スプレー管に取り付けられたスプレーチップから扇状に噴き出す水で５秒間水洗処理を行った後、ニップローラで液切りした。

（ｄ）アルカリ水溶液中でのエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度３７０ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度１００ｇ／Ｌ、温度６４℃の水溶液をスプレー管から７秒間吹き付けて、エッチング処理を行った。アルミニウム板の電気化学的粗面化処理を施した面のエッチング量は、３ｇ／ｍ²であった。
その後、ニップローラで液切りし、更に、後述する水洗処理を行った後、ニップローラで液切りした。水洗処理は、自由落下カーテン状の液膜により水洗処理する装置を用いて水洗し、更に、スプレー管に取り付けられたスプレーチップから扇状に噴き出す水で５秒間水洗することにより行った。

（ｅ）デスマット処理
３００ｇ／Ｌ硝酸水溶液に硝酸アルミニウムを溶解させてアルミニウムイオン濃度を２ｇ／Ｌとした水溶液（液温３５℃）をスプレー管から１０秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。
その後、ニップローラで液切りし、更に、スプレー管に取り付けられたスプレーチップから扇状に噴き出す水で５秒間水洗処理を行った後、ニップローラで液切りした。

（ｆ）塩酸水溶液中での交流を用いた電気化学的粗面化処理（塩酸電解）
５ｇ／Ｌ塩酸水溶液に塩化アルミニウムを溶解させてアルミニウムイオン濃度を５ｇ／Ｌとした電解液（液温３５℃）を用い、６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的粗面化処理を行った。交流電源波形は図２に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間Ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比（ｔａ／Ｔ）０．５であった。カーボン電極を対極として用いた。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図３に示すものを１槽使用した。
電気化学的粗面化処理において、交流のピーク時におけるアルミニウム板のアノード反応時の電流密度は、５０Ａ／ｄｍ²であった。アルミニウム板のアノード反応時の電気量の総和とカソード反応時の電気量の総和との比は０．９５であった。電気量はアルミニウム板のアノード時の電気量の総和で６５Ｃ／ｄｍ²であった。補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。アルミニウム板と電解液の相対速度は、電解槽内の平均で１．５ｍ／ｓｅｃであった。
その後、ニップローラで液切りし、更に、スプレー管に取り付けられたスプレーチップから扇状に噴き出す水で５秒間水洗処理を行った後、ニップローラで液切りした。

（ｇ）アルカリ水溶液中でのエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度５０ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度５ｇ／Ｌ、温度３５℃の水溶液をスプレー管から吹き付けて、エッチング処理を行った。アルミニウム板の電気化学的粗面化処理を施した面のエッチング量は、０．２ｇ／ｍ²であった。
その後、ニップローラで液切りし、更に、後述する水洗処理を行った後、ニップローラで液切りした。水洗処理は、自由落下カーテン状の液膜により水洗処理する装置を用いて水洗し、更に、スプレー管に取り付けられたスプレーチップから扇状に噴き出す水で５秒間水洗することにより行った。

（ｈ）デスマット処理
硫酸濃度１７０ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度５ｇ／Ｌの水溶液（液温３５℃）をスプレー管から５秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。水溶液としては、後述する（ｉ）陽極酸化処理工程の廃液を用いた。
その後、ニップローラで液切りしたが、水洗処理は行わなかった。

（ｉ）陽極酸化処理
陽極酸化処理装置を用いて陽極酸化処理を行った。
電解液としては、１７０ｇ／Ｌ硫酸水溶液に硫酸アルミニウムを溶解させてアルミニウムイオン濃度を５ｇ／Ｌとした電解液（温度３３℃）を用いた。陽極酸化処理は、アルミニウム板がアノード反応する間の平均電流密度が１５Ａ／ｄｍ²となるように行い、最終的な酸化皮膜量は２．４ｇ／ｍ²であった。
その後、ニップローラで液切りし、更に、スプレー管に取り付けられたスプレーチップから扇状に噴き出す水で５秒間水洗処理を行った後、ニップローラで液切りした。

（ｊ）親水化処理
アルミニウム板をケイ酸ソーダ１質量％水溶液（液温２０℃）に１０秒間浸せき、親水化処理を行った。蛍光Ｘ線分析装置で測定したアルミニウム板表面のＳｉ量は、３．５ｍｇ／ｍ²であった。
その後、ニップローラで液切りし、更に、スプレー管に取り付けられたスプレーチップから扇状に噴き出す水で５秒間水洗処理を行った後、ニップローラで液切りした。
更に、９０℃の風を１０秒間吹き付けて乾燥させて、平版印刷版用支持体を得た。

（実施例２−２）
実施例１−１で得られたアルミニウム板エンボス加工用ロールの代わりに、実施例１−２で得られたアルミニウム板エンボス加工用ロールを用いた以外は、実施例２−１と同様の方法により、平版印刷版用支持体を得た。
（実施例２−３）
実施例１−１で得られたアルミニウム板エンボス加工用ロールの代わりに、実施例１−３で得られたアルミニウム板エンボス加工用ロールを用いた以外は、実施例２−１と同様の方法により、平版印刷版用支持体を得た。
（実施例２−４）
実施例１−１で得られたアルミニウム板エンボス加工用ロールの代わりに、実施例１−４で得られたアルミニウム板エンボス加工用ロールを用いた以外は、実施例２−１と同様の方法により、平版印刷版用支持体を得た。

（実施例２−５）
上記（ｉ）と上記（ｊ）との間に、下記（ｋ）を行った以外は、実施例２−２と同様の方法により、平版印刷版用支持体を得た。

（ｋ）封孔処理
アルミニウム板を、０．２質量％のフッ化ジルコン酸ナトリウムと、０．２質量％のリン酸二水素ナトリウムとを含有する水溶液（液温６０℃）に１０秒間浸せきさせ、封孔処理を行った。
その後、ニップローラで液切りし、更に、スプレー管に取り付けられたスプレーチップから扇状に噴き出す水で５秒間水洗処理を行った後、ニップローラで液切りした。

（比較例２−１）
実施例１−１で得られたアルミニウム板エンボス加工用ロールの代わりに、比較例１−１で得られたアルミニウム板エンボス加工用ロールを用いた以外は、実施例２−１と同様の方法により、平版印刷版用支持体を得た。
（比較例２−２）
実施例１−１で得られたアルミニウム板エンボス加工用ロールの代わりに、比較例１−２で得られたアルミニウム板エンボス加工用ロールを用いた以外は、実施例２−１と同様の方法により、平版印刷版用支持体を得た。

４．アルミニウム板の表面形状
実施例２−２において、実施例１−２のアルミニウム板エンボス加工用ロールを用いて得られたアルミニウム板（上記（ａ）を施す前のもの）について、アルミニウム板エンボス加工用ロールの場合と同様の方法により、平均表面粗さＲ_a、最大高さＲ_y、凹凸の平均間隔Ｓ_mおよび平均傾斜Δａを測定した。
その結果、平均表面粗さＲ_aは０．６５μｍ、最大高さＲ_yは５．７μｍ、凹凸の平均間隔Ｓ_mは７０μｍ、平均傾斜Δａは７．５°であった。

５．平版印刷版用支持体の表面の観察
実施例２−１〜２−５の各平版印刷版用支持体の表面を、走査型電子顕微鏡（ＪＳＭ−５５００、日本電子社製。以下同じ。）を用いて、倍率５００００倍で観察したところ、直径０．１μｍ程度の微細な凹凸が均一にかつ緻密に生成していた。
また、走査型電子顕微鏡を用いて倍率２０００倍で観察したところ、直径１〜５μｍの凹凸が均一に生成していた。
なお、直径０．１μｍ程度の微細な凹凸は、直径１〜５μｍの凹凸に重畳して生成していた。

６．平版印刷版原版の作製
上記で得られた各平版印刷版用支持体に、以下のようにしてサーマルポジタイプの画像記録層を設けて平版印刷版原版を得た。なお、画像記録層を設ける前には、後述するように下塗層を設けた。

平版印刷版用支持体上に、下記組成の下塗液を塗布し、８０℃で１５秒間乾燥し、下塗層の塗膜を形成させた。乾燥後の塗膜の被覆量は１５ｍｇ／ｍ²であった。

＜下塗液組成＞
・下記高分子化合物 ０．３ｇ
・メタノール １００ｇ
・水 １ｇ

更に、下記組成の感熱層塗布液を調製し、下塗層を設けた平版印刷版用支持体に、この感熱層塗布液を乾燥後の塗布量（感熱層塗布量）が１．８ｇ／ｍ²になるよう塗布し、乾燥させて感熱層（サーマルポジタイプの画像記録層）を形成させ、平版印刷版原版を得た。

＜感熱層塗布液組成＞
・ノボラック樹脂（ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾール＝６０／４０、重量平均分子量７，０００、未反応クレゾール０．５質量％含有） ０．９０ｇ
・メタクリル酸エチル／メタクリル酸イソブチル／メタクリル酸共重合体（モル比３５／３５／３０） ０．１０ｇ
・下記構造式で表されるシアニン染料Ａ ０．１ｇ
・テトラヒドロ無水フタル酸 ０．０５ｇ
・ｐ−トルエンスルホン酸 ０．００２ｇ
・エチルバイオレットの対イオンを６−ヒドロキシ−β−ナフタレンスルホン酸にしたもの ０．０２ｇ
・フッ素系界面活性剤（ディフェンサＦ−７８０Ｆ、大日本インキ化学工業社製、固形分３０質量％） ０．００４５ｇ（固形分換算）
・フッ素系界面活性剤（ディフェンサＦ−７８１Ｆ、大日本インキ化学工業社製、固形分１００質量％） ０．０３５ｇ
・メチルエチルケトン １２ｇ

７．平版印刷版原版の評価
得られた平版印刷版原版について、感度、耐刷性（印刷枚数）、耐汚れ性およびインキの絡みにくさを評価した。
その結果、実施例２−１〜２−３で得られた平版印刷版用支持体を用いた平版印刷版原版は、感度、耐刷性、耐汚れ性およびインキの絡みにくさのいずれにも優れていた。
また、実施例２−４および２−５で得られた平版印刷版用支持体を用いた平版印刷版原版は、実施例２−１〜２−３の場合と比べて、同等の耐刷性、耐汚れ性およびインキの絡みにくさを有し、かつ、より優れた感度を有していた。
これに対し、比較例２−１および２−２で得られた平版印刷版用支持体を用いた平版印刷版原版は、実施例２−１〜２−３の場合と比べて、同等の耐汚れ性およびインキの絡みにくさを有していたが、感度および耐刷性に劣っていた。

本発明の平版印刷版用支持体の製造方法における水洗処理に用いられる自由落下カーテン状の液膜により水洗処理する装置の模式的な断面図である。 本発明の平版印刷版用支持体の製造方法における電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。 本発明の平版印刷版用支持体の製造方法における交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。 本発明の平版印刷版用支持体の製造方法における陽極酸化処理に用いられる陽極酸化処理装置の概略図である。 本発明の平版印刷版用支持体の製造方法における電気化学的粗面化処理に用いられるサイン波形図の一例を示すグラフである。 本発明の平版印刷版用支持体の製造方法における直流を用いた電気化学的粗面化処理に用いられる装置の一例を示す側面図である。 本発明の平版印刷版用支持体の製造方法における直流を用いた電気化学的粗面化処理に用いられる装置の別の一例を示す側面図である。

符号の説明

１ アルミニウム板
１１ アルミニウム板
１２ ラジアルドラムローラ
１３ａ、１３ｂ 主極
１４ 電解処理液
１５ 電解液供給口
１６ スリット
１７ 電解液通路
１８ 補助陽極
１９ａ、１９ｂ サイリスタ
２０ 交流電源
４０ 主電解槽
５０ 補助陽極槽
６１ アルミニウム板
６２ 陽極
６３ 陰極
６４ 電解液
６５ 電解槽
６６ 供液ノズル
６７ 排液管
６８ 供液管
１００ 自由落下カーテン状の液膜により水洗処理する装置
１０２ 水
１０４ 貯水タンク
１０６ 給水筒
１０８ 整流部
４１０ 陽極酸化処理装置
４１２ 給電槽
４１３ 中間槽
４１４ 陽極酸化処理槽
４１６ アルミニウム板
４１８、４２６ 電解液
４２０ 陽極
４２２、４２８ パスローラ
４２４ ニップローラ
４３０ 陰極
４３４ 直流電源
４３６、４３８ 給液ノズル
４４０ しゃへい板
４４２ 排液口

Claims (6)

1. 鋼製のロールに、その表面に対し、少なくとも、ブラスト処理と、前記ロールを陽極とする、電気量３，５００〜８，５００Ｃ／ｄｍ²の電解処理と、クロムめっき処理とをこの順に施してなるアルミニウム板エンボス加工用ロールにおいて、
   前記電解処理前のロールが、平均表面粗さＲ_aが０．３〜１．５μｍである表面を有し、
   前記電解処理後のロールが、平均表面粗さＲ_aが０．５〜２．０μｍ、凹凸の平均間隔Ｓ_mが１０〜２００μｍ、最大高さＲ_yが５〜２５μｍ、および、平均傾斜Δａが５〜２５°である表面を有する、アルミニウム板エンボス加工用ロール。
2. 前記ブラスト処理の後、かつ、前記電解処理の前に、前記表面に対し、前記ブラスト処理により生じた凸部を機械的に研磨する処理を施す、請求項１に記載のアルミニウム板エンボス加工用ロール。
3. 前記ブラスト処理前のロールが、あらかじめ鏡面研磨処理を施されている表面を有する、請求項１または２に記載のアルミニウム板エンボス加工用ロール。
4. 前記電解処理前のロールが、最大高さＲ _y が７〜１５μｍである表面を有する、請求項１〜３のいずれかに記載のアルミニウム板エンボス加工用ロール。
5. 前記電解処理後のロールが、平均傾斜Δａが８〜２０°である表面を有する、請求項１〜４のいずれかに記載のアルミニウム板エンボス加工用ロール。
6. 請求項１〜５のいずれかに記載のアルミニウム板エンボス加工用ロールで、アルミニウム板の表面に凹凸を転写する工程を具備する、平版印刷版用支持体の製造方法。

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