JP4482188B2 - 矩形基板の処理装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は矩形基板の上面と下面とを処理するための処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
たとえば液晶表示装置の製造工程においては、ガラス製の矩形基板を高い清浄度で洗浄処理することが要求される工程がある。矩形基板を洗浄処理する方式としては、洗浄液中に矩形基板を浸漬するデイップ方式や矩形基板を１枚ずつ洗浄処理する枚葉方式があり、最近では高い清浄度が得られるとともに、コスト的に有利な枚葉方式が採用されることが多くなってきている。
【０００３】
枚葉方式の１つとして矩形基板を搬送ローラで搬送しながらその上下面を洗浄処理する処理装置が知られている。このような搬送方式によると、通常、所定間隔で配設された搬送ローラによって矩形基板の幅方向両端部を保持しならが搬送するようにしている。
【０００４】
しかしながら、矩形基板が大型化した場合には幅方向中央部に生じるたわみが大きくなるから、たわみが生じないようにするため、幅方向中途部の裏面の１乃至複数個所を支持ローラで支持するようにしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、矩形基板を搬送ローラによって搬送しながら洗浄処理する方式の場合、装置の全長が長くなるということがある。とくに、矩形基板が大型化すると、その傾向が顕著になる。そのため、クリーンルーム内に大きな設置スペースが必要になるということがある。
【０００６】
そこで、搬送ローラを用いた搬送方式に代えて矩形基板を回転させながらその上下面を洗浄処理するスピン処理方式とすることが考えられている。しかしながら、従来のスピン処理方式は、矩形基板を保持する回転テーブルが回転モータの回転軸に取り付けられる基部から４本のアームを放射状に突出させた構成であるため、この回転テーブルに保持された矩形基板の下面側に処理ツールを進入させることができなかった。
【０００７】
そのため、回転テーブルに保持された矩形基板の上面は確実に洗浄処理することができても、下面は確実に洗浄処理することができないので、上面を洗浄処理してから上下面を反転させ、再度上面を洗浄処理しなければならないということになり、洗浄処理を能率よく行うことができないということがあった。
【０００８】
この発明は、基板の上下両面を同時に、しかも良好に処理することができるようにした矩形基板の処理装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、矩形基板の上下面を処理する処理装置において、
外形が円形状をなし上記矩形基板が挿入される挿入孔及びこの挿入孔に入れられた矩形基板の周縁部を保持する保持部を有する保持部材と、
この保持部材をほぼ水平な状態で保持する支持手段と、
この支持手段に保持された上記保持部材を周方向に回転駆動する回転駆動機構と、
上部回転駆動源に一端が連結されて回転駆動されるアーム及びこのアームの他端に設けられた上部処理ツールを有し、この上部処理ツールが上記保持部に保持された上記矩形基板から退避した位置と上記矩形基板の中心部に対向する位置との間で回動駆動されて上記矩形基板の上面を処理する上部処理機構と、
下部回転駆動源に一端が連結されて回転駆動されるアーム及びこのアームの他端に設けられた下部処理ツールを有し、この下部処理ツールが上記保持部に保持された上記矩形基板から退避した位置と上記矩形基板の中心部に対向する位置との間で回動駆動されて上記矩形基板の下面を処理する下部処理機構と、
上記保持部材の保持部に保持された上記矩形基板の下面側で回動する上記下部処理機構のアームに干渉することのない位置に配置され上記矩形基板の下面を支持してこの矩形基板が撓むのを制限する回転自在な複数のローラからなる撓み防止手段と
を具備したことを特徴とする矩形基板の処理装置にある。
【００１０】
請求項２の発明は、上記保持手段は、軸線をほぼ垂直にして回転可能に設けられ上端部を小径軸部とすることで上記保持部材の周辺部を係合保持する段部が形成された少なくとも３本の軸体からなることを特徴とする請求項１記載の矩形基板の処理装置にある。
【００１１】
請求項３の発明は、上記回転駆動機構は、上記軸体の少なくとも１本を回転駆動する駆動手段と、上記軸体の回転を上記保持部材に伝達する動力伝達手段とから構成されていることを特徴とする請求項２記載の矩形基板の処理装置にある。
【００１２】
請求項４の発明は、上記回転駆動機構は、上記軸体の少なくとも１本を回転駆動する駆動手段と、上記保持部材の外周面に形成された第１の歯車と、上記軸体の小径軸部の外周面に形成され上記第１の歯車と噛合する第２の歯車とから構成されていることを特徴とする請求項２記載の矩形基板の処理装置にある。
【００１３】
請求項５の発明は、上記回転駆動機構は、回転軸に駆動プーリが設けられた第１の駆動源と、上記保持部材に一体的に設けられた従動プーリと、この従動プーリと上記駆動プーリとに張設された伝動ベルトから構成されていることを特徴とする請求項１記載の矩形基板の処理装置にある。
【００１４】
請求項６の発明は、上記上部処理機構と下部処理機構は、先端に処理ツールが設けられたアームを有し、少なくとも上部処理機構のアームは第２の駆動源によって上記処理ツールが上記保持部材に保持された矩形基板の板面に対向する位置と、その板面から退避する位置との間で駆動されることを特徴とする請求項１記載の矩形基板の処理装置にある。
【００１５】
請求項７の発明は、上記保持部材の下方には、保持部に保持された矩形基板を保持部材から押し上げる押し上げ手段が設けられていることを特徴とする請求項１記載の矩形基板の処理装置にある。
【００１６】
請求項８の発明は、上記保持部材に形成された保持部は、矩形基板の周縁部の全長を保持する構成であることを特徴とする請求項１記載の矩形基板の処理装置にある。
【００１７】
請求項９の発明は、上記保持部材に形成される挿入孔は、上記保持部に保持される矩形基板の外周面との間に所定の隙間を形成する形状であることを特徴とする請求項１記載の矩形基板の処理装置にある。
【００１９】
請求項１乃至請求項５の発明によれば、保持部材の保持部に矩形基板を保持し、この保持部材をほぼ水平な状態で保持して回転させるようにしたから、保持部材の上面側と下面側とにそれぞれ処理機構を進入させ、矩形基板の上面と下面とを処理することが可能となる。
また、矩形基板が大型化しても、保持部材の保持部に保持された矩形基板が撓み過ぎるのを防止することができる。
【００２０】
請求項６の発明によれば、少なくとも上部処理機構のアームを保持部材に保持された基板の板面と対向する位置から退避する位置へ移動させれば、ロボットなどによって保持部材に対する矩形基板の着脱を自動で行うことが可能となる。
【００２１】
請求項７の発明によれば、矩形基板を保持部材の保持部から押し上げることができるため、それによって保持部材から矩形基板を容易に取り出すことが可能となる。
【００２２】
請求項８の発明によれば、矩形基板は保持部材の保持部によって周縁部の全長が保持されるため、下方への撓み量が低減されることになる。
【００２３】
請求項９の発明によれば、保持部材の保持部に保持される矩形基板の外周面と挿入孔との間に隙間が形成されるようにしたことで、その隙間にロボットのハンドを入れることができるから、保持部材に対する矩形基板の着脱を自動化することが可能となる。
【００２５】
【発明の実施形態】
以下、この発明の形態を図面を参照して説明する。
【００２６】
図１乃至図３はこの発明の第１の実施の形態で、図１に示すこの発明の処理装置は処理槽１を備えている。この処理槽１はベース板２上に設けられた筒状ケース３を有する。この筒状ケース３内の高さ方向中途部には仕切板５が設けられている。この仕切板５には周壁６によって囲まれた複数の挿通孔、この実施の形態では３つの挿通孔７がほぼ同一円周上に位置するよう形成されている。各挿通孔７にはそれぞれ軸体８ａ〜８ｃが挿通されている。３本の軸体のうちの１本は駆動軸８ａで、残りの２本は従動軸８ｂ、８ｃとなっている。
【００２７】
なお、各軸体８ａ〜８ｃには上記周壁６とでラビリンス構造をなす周壁９が設けられ、それによって上記挿通孔７から処理槽１に供給される処理液が漏れ出るのを防止するようになっている。
【００２８】
上記筒状ケース３の下方には支持板１１が配設されている。この支持板１１には第１の軸受体１２が設けられている。この第１の軸受体１２には、軸線をほぼ垂直にした上記駆動軸８ａの下端部が回転可能に支持されている。
【００２９】
２本の従動軸８ｂ，８ｃは、同じく軸線をほぼ垂直にして第２の軸受体１３によって下端部が回転可能に支持されている。上記第２の軸受体１３は上記支持板１１の下面に接合固定された保持板１４によって保持固定され、図示せぬ調整ねじで矢印方向に位置決め調整可能となっている。
【００３０】
上記駆動軸８ａの下端部は上記支持板１１に形成された通孔１８から下面側に突出し、その突出端には従動プーリ１９が嵌着されている。
【００３１】
上記駆動軸８ａの支持板１１からの突出端の近傍には駆動手段である回転駆動源２１が配設されている。この回転駆動源２１の出力軸２２には駆動プーリ２３が嵌着され、この駆動プーリ２３と上記従動プーリ１９とにはベルト２４が張設されている。したがって、上記回転駆動源２１が作動すれば、上記駆動軸８ａが回転駆動されるようになっている。
【００３２】
上記駆動軸８ａと従動軸８ｂ、８ｃの上端部はそれぞれ小径軸部２５，２６，２７に形成されている。この小径軸部２５，２６，２７によって各軸体の上端部には保持手段を構成する段部２８，２９，３０が形成されている。
【００３３】
３本の軸体８ａ〜８ｃの段部２８〜３０には外形が円形をなした保持部材３２が周辺部の下面を係合させて保持されている。この保持部材３２には矩形状の挿入孔３３が穿設されている。この挿入孔３３の内周には保持部としての段部３４が形成され、この段部３４には液晶表示装置に用いられるガラス製の矩形基板３５が周辺部を係合させて着脱可能に保持されている。
【００３４】
上記保持部材３２は上記駆動軸８ａによって回転駆動されるようになっている。つまり、図３に示すように保持部材３２の外周面には第１の歯車５１が形成され、各軸体８ａ〜８ｃの小径軸部２５〜２７の外周面には上記第１の歯車５１に噛合する第２の歯車５２が形成されている。
【００３５】
それによって、駆動軸８ａが回転駆動されると、その小径軸部２５の第２の歯車５２に噛合した第１の歯車５１が形成された保持部材３２が回転駆動されることになるから、その回転に一対の従動軸８ｂ，８ｃがこれらの小径軸２６、２７に形成された第２歯車５２を介して連動することになる。つまり、保持部材３２は３本の軸体８ａ〜８ｃの段部２８〜３０によってほぼ水平に保持された状態で周方向に回転駆動されることになる。
【００３６】
なお、第１の歯車５１に噛合する第２の歯車５２は、駆動軸８ａだけに形成し、一対の従動軸８ｂ，８ｃには形成しなくともよい。
【００３７】
保持部材３２に保持された基板３５の下方には、この基板３５を保持部材３２から押し上げる押上げ手段としての３本の押上げ軸３６が軸線をほぼ垂直にして設けられている。各押上げ軸３６の下端部は仕切板５に穿設された挿通孔７１に挿通され、連結板７２に連結固定されている。この連結板７２は上記支持板１１上に配設されたシリンダ３７によって上下方向に駆動されるようになっている。
【００３８】
上記挿通孔７１の周囲は周壁７３によって囲まれ、上記押上げ軸３６には上記周壁７３とでラビリンス構造をなす周壁７４が設けられている。それによって、上記挿通孔７１から処理液が流出するのを阻止している。
【００３９】
さらに、保持部材３２に保持された基板３５の下面は回転自在に設けられた複数のローラ３８によって支持され、それによって基板３５の下方への撓み量が制限されている。なお、各ローラ３８は基板３５が回転することで一緒に回転するように配置されている。それによって、基板３５とローラ３８との間に生じる摩擦力が低減されるようになっている。
【００４０】
保持部材３２に保持された基板３５の上方には上部処理機構４１が配置され、下方には下部処理機構４２が配置されている。各処理機構４１，４２はアーム４３を有する。上部処理機構４１のアーム４３の一端は上部回転駆動源４４の回転軸４５に連結され、他端には上部処理ツール４６が設けられている。下部処理機構４２のアーム４３の一端は下部回転駆動源４７の回転軸４８に連結され、他端には下部処理ツール４９が設けられている。
【００４１】
上記上部回転駆動源４４と下部回転駆動源４７とはそれぞれアーム４３を所定の範囲内で回動させるようになっている。つまり、各アーム４３に設けられた上部処理ツール４６と下部処理ツール４９とは、図２に実線で示すように保持部材３２に保持された矩形基板３５から退避した位置と、同図に鎖線で示すように矩形基板３５の上面及び下面のほぼ中心部に対向する位置の間で回動駆動されるようになっている。
【００４２】
なお、上記押上げ軸３６とローラ３８とは、回動するアーム４３に干渉することのない位置に配設されている。
【００４３】
上記各処理ツール４６，４９としては処理液を噴射するノズル体、処理液に超音波振動を与えて噴射する超音波ノズル体、矩形基板３５をブラシ洗浄するディスクブラシなどを選択的に使用することが可能であり、この実施の形態では矩形基板３５に洗浄液を噴射して洗浄処理するノズル体が用いられている。
【００４４】
矩形基板３５の処理としては洗浄処理に限られず、上面に付着したレジストを薬液によって剥離処理し、下面を洗浄処理する場合にも適用でき、さらに上面にエッチング液を供給してエッチング処理し、下面を洗浄処理する場合などのように、上面と下面とで異なる処理をする場合にも適用することができる。
【００４５】
つぎに、上記構成の処理装置を用いて矩形基板３５の上下面を洗浄処理する場合について説明する。
【００４６】
まず、３本の軸体８ａ〜８ｃによってほぼ水平に保持された保持部材３２の挿入孔３３に矩形基板３５が図示しないロボットによって供給され、周縁部を段部３４に係合して保持される。つまり、押上げ軸３６を上昇させておき、その上端に矩形基板３５をロボットのハンドによって供給したならば、上記押上げ軸３６を下降させることで、矩形基板３５が挿入孔３３に入り込んで周縁部が段部３４に係合して保持されることになる。
【００４７】
矩形基板３５が供給されたならば、回転駆動源２１を作動させて駆動軸８ａを回転させる。それによって、駆動軸８ａの回転がその小径軸部２５の第２の歯車５２から保持部材３２の第１の歯車５１に伝達されるから、保持部材３２は周方向に回転駆動されることになる。
【００４８】
保持部材３２を回転駆動したならば、上部処理機構４１と下部処理機構４２との回転駆動源４４、４７を作動させてそれぞれのアーム４３を図２に矢印で示すように矩形基板３５の径方向に沿って所定の範囲で回動駆動すると同時に、各処理機構４１，４２の処理ツール４６、４９から矩形基板３５の上面と下面とに向けて洗浄液を噴射する。それによって、矩形基板３５の上面と下面とが同時に洗浄処理されることになる。
【００４９】
このようにして矩形基板３５の上下面を所定時間洗浄処理したならば、各処理ツール４６、４９からの洗浄液の噴射を停止すると共に、各処理機構４１、４２のアーム４３を図２に実線で示す位置に退避させる。ついで、押上げ軸３６を上昇方向に駆動して保持部材３２の段部３４に保持された矩形基板３５を上昇させる。
【００５０】
矩形基板３５を保持部材３２から上昇させたならば、図示しないロボットのハンドによって矩形基板３５の周縁部を保持し、処理槽１から搬出する。ついで未処理の矩形基板３５を供給し、上述した洗浄処理が繰り返して行われることになる。
【００５１】
このように、矩形基板３５を保持した保持部材３２を３本の軸体８ａ〜８ｃに保持して回転駆動すると共に、その上面と下面とに処理ツール４６、４９によって処理液を噴射することができるようにした。そのため、矩形基板３５の上下面をスピン方式によって同時に洗浄処理することができる。
【００５２】
つまり、保持部材３２を３本の軸体８ａ〜８ｃに形成された段部２８〜３０よって支持した。そのため、保持部材３２の挿入孔３３に入れられて周縁部が段部３４に保持された矩形基板３５の下面側に、アーム４３の先端に設けられた下部処理ツール４９を、このアーム４３を回動させることで進入させることができるから、矩形基板３５を回転させながら処理するスピン方式であっても、矩形基板３５の下面を上面と同時に処理することが可能となる。
【００５３】
上部処理機構４１の上部処理ツール４６と下部処理機構４２の下部処理ツール４９とを、それぞれアーム４３を回動させることで矩形基板３５の上面及び下面に対向する位置から退避させることができるようにした。そのため、保持部材３２に対して矩形基板３５をロボットによって着脱する際、上部処理ツール４６が邪魔になることがない。
【００５４】
保持部材３２の挿入孔３３に保持された矩形基板３５を押上げ軸３６によって押し上げることができるようにした。そのため、ロボットによって保持部材３２の保持孔３２から処理された矩形基板３２を取り出すときや供給するときに、そのロボットのハンドによって矩形基板３５の周辺部を確実に保持することが可能となる。
【００５５】
保持部材３２の保持孔３３に保持された矩形基板３５の下面はローラ３８によって支持されている。そのため、矩形基板３５が大型化しても、その下方への撓み量が制限されることになるから、矩形基板３５が撓み過ぎて損傷するのを防止できる。
【００５６】
上記ローラ３８が矩形基板３５の下面に接触すると、接触による汚れの発生を招く虞がある。しかしながら、矩形基板３５が回転駆動されることで、ローラ３８が矩形基板３５の同一部分に接触し続けることがないから、矩形基板３５のローラ３８と接触する部分であっても、非接触時に洗浄されるため、矩形基板３５の裏面が部分的に汚れるということがない。
【００５７】
矩形基板３５は挿入孔３４の内周に形成された段部３４によって周辺部の全長が保持されている。そのため、ローラ搬送時のように、幅方向両端部だけが保持される場合に比べて下方への撓みが発生しにくくなっているから、その点でもローラ搬送方式に比べて優れている。
【００５８】
なお、上記第１の実施の形態では下部処理ツール４９をアーム４３によって保持部材３２に保持された基板３５に対向する位置と退避する位置との間で回動できるようにしたが、矩形基板３５の下面に対向する位置に固定的に配置するようにしてもよい。
【００５９】
また、一対の処理ツール４６，４９はアーム４３によって回動駆動させるようにしたが、直線駆動によって矩形板３５に対向する位置と退避する位置との間で移動させるようにしてもよい。さらに、各処理ツール４６，４７がディスクブラシなどの場合には、回転駆動だけでなく、上下駆動できる構成とした方がよい。
【００６０】
図４（ａ），（ｂ）はこの発明の第２の実施の形態を示す。この第２の実施の形態は保持部材３２を回転駆動するための機構の変形例である。つまり、保持部材３２の下面にはこの保持部材３２と一体に従動プーリ５５が形成されている。保持部材３２の近傍には回転駆動源５６が配設されている。この回転駆動源５６の回転軸５７には駆動プーリ５８が嵌着されている。そして、この駆動プーリ５８と上記従動プーリ５５とにはたとえばタイミングベルトなどの伝動ベルト５９が張設されている。
【００６１】
したがって、上記回転駆動源５６が作動すれば、伝動ベルト５９を介して保持部材３２が回転駆動されることになる。
【００６２】
なお、この第２の実施の形態において、各軸体８ａ〜８ｃは保持部材３２を回転可能に支持するだけでよく、駆動軸８ａを回転駆動する構成は不要となること明らかである
第１、第２の実施の形態において、３本の軸体及び保持部材の外周面を歯車とせず、一対の従動軸８ｂ、８ｃを図示しない直線駆動源によって駆動軸８ａに対して接離する方向に駆動できる構成とし、それによって３本の軸体８ａ〜８ｃの小径軸２５〜２７の外周面を保持部材３２の外周面に圧接させるようにすれば、これらの摩擦力によって駆動軸８ａの回転を保持部材３２に伝達することが可能となる。
【００６３】
図５（ａ）、（ｂ）はこの発明の第３の実施の形態を示す。この第３の実施の形態は保持部材３２に形成される挿入孔３３の変形例で、この挿入孔３３には、ここに保持される矩形基板３５の対向する一対の両側辺に対向する部分に、この矩形基板３５の両側辺との間に所定の隙間を形成する凹部６１が形成されている。
【００６４】
また、矩形基板３５は挿入孔３３の四隅部にだけに設けられた段部３４ａによって保持されるようになっている。
【００６５】
このような構成の保持部材３２によれば、矩形基板３５をロボットによって着脱する際、そのハンドを凹部６１に挿入することで、矩形基板３５の両側部を保持することができる。したがって、矩形基板３５を第１の実施の形態に示された押上げ軸３６によって挿入孔３３から押し上げることなく着脱することが可能となる。
【００６６】
【発明の効果】
請求項１乃至請求項５の発明によれば、保持部材の保持部に矩形基板を保持し、この保持部材をほぼ水平な状態で保持して回転させるようにした。
【００６７】
そのため、上部処理機構の処理ツールを退避させることで、保持部材からロボットによって矩形基板を着脱する際、処理ツールにロボットが干渉するのを防止できるから、ロボットによる矩形基板の着脱を自動で行うことが可能となる。
また、保持部材に保持された矩形基板の下面を支持するようにした。
そのため、矩形基板が大型化しても、保持部材に保持された矩形基板が撓み過ぎるのを防止することができる。
【００６８】
請求項６の発明によれば、少なくとも上部処理機構の処理ツールを保持部材に保持された基板の板面と対向する位置から退避する位置へ駆動できるようにした。
【００６９】
そのため、上部処理機構の処理ツールを退避させることで、保持部材からロボットによって矩形基板を着脱する際、処理ツールにロボットが干渉するのを防止できるから、ロボットによる矩形基板の着脱を自動で行うことが可能となる。
【００７０】
請求項７の発明によれば、矩形基板を保持部材の挿入孔から押し上げることができるため、それによって保持部材から矩形基板を容易に取り出すことが可能となる。
【００７１】
請求項８の発明によれば、矩形基板は保持部材の保持部によって周縁部の全長が保持されるため、下方への撓み量が低減されることになる。
【００７２】
請求項９の発明によれば、保持部材の保持孔と、この保持孔に保持される矩形基板の外周面との間に隙間が形成されるようにした。
【００７３】
そのため、保持孔と矩形基板との隙間にロボットのハンドを入れることができるから、保持部材に対する矩形基板の着脱を自動化することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の第１の実施の形態を示す処理装置の概略的構成を示す縦断面図。
【図２】同じく上部処理機構と下部処理機構の配置状態を示す平面図。
【図３】同じく保持部材を回転駆動する回転駆動機構の側面図。
【図４】（ａ）はこの発明の第２の実施の形態を示す回転駆動機構の平面図、（ｂ）は同じく側面図。
【図５】（ａ）はこの発明の第３の実施の形態を示す保持部材の平面図、（ｂ）は同じく断面図。
【符号の説明】
８ａ〜８ｃ…軸体
２１…回転駆動源
３２…保持部材
３３…挿入孔
３４…段部（保持部）
３５…矩形基板
３６…押上げ軸
４１…上部処理機構
４２…下部処理機構
４４…上部回転駆動源（第２の駆動源）
４６…上部処理ツール
４７…下部回転駆動源
４９…下部処理ツール
５６…回転駆動源（第１の駆動源）
【発明の属する技術分野】
この発明は矩形基板の上面と下面とを処理するための処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
たとえば液晶表示装置の製造工程においては、ガラス製の矩形基板を高い清浄度で洗浄処理することが要求される工程がある。矩形基板を洗浄処理する方式としては、洗浄液中に矩形基板を浸漬するデイップ方式や矩形基板を１枚ずつ洗浄処理する枚葉方式があり、最近では高い清浄度が得られるとともに、コスト的に有利な枚葉方式が採用されることが多くなってきている。
【０００３】
枚葉方式の１つとして矩形基板を搬送ローラで搬送しながらその上下面を洗浄処理する処理装置が知られている。このような搬送方式によると、通常、所定間隔で配設された搬送ローラによって矩形基板の幅方向両端部を保持しならが搬送するようにしている。
【０００４】
しかしながら、矩形基板が大型化した場合には幅方向中央部に生じるたわみが大きくなるから、たわみが生じないようにするため、幅方向中途部の裏面の１乃至複数個所を支持ローラで支持するようにしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、矩形基板を搬送ローラによって搬送しながら洗浄処理する方式の場合、装置の全長が長くなるということがある。とくに、矩形基板が大型化すると、その傾向が顕著になる。そのため、クリーンルーム内に大きな設置スペースが必要になるということがある。
【０００６】
そこで、搬送ローラを用いた搬送方式に代えて矩形基板を回転させながらその上下面を洗浄処理するスピン処理方式とすることが考えられている。しかしながら、従来のスピン処理方式は、矩形基板を保持する回転テーブルが回転モータの回転軸に取り付けられる基部から４本のアームを放射状に突出させた構成であるため、この回転テーブルに保持された矩形基板の下面側に処理ツールを進入させることができなかった。
【０００７】
そのため、回転テーブルに保持された矩形基板の上面は確実に洗浄処理することができても、下面は確実に洗浄処理することができないので、上面を洗浄処理してから上下面を反転させ、再度上面を洗浄処理しなければならないということになり、洗浄処理を能率よく行うことができないということがあった。
【０００８】
この発明は、基板の上下両面を同時に、しかも良好に処理することができるようにした矩形基板の処理装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、矩形基板の上下面を処理する処理装置において、
外形が円形状をなし上記矩形基板が挿入される挿入孔及びこの挿入孔に入れられた矩形基板の周縁部を保持する保持部を有する保持部材と、
この保持部材をほぼ水平な状態で保持する支持手段と、
この支持手段に保持された上記保持部材を周方向に回転駆動する回転駆動機構と、
上部回転駆動源に一端が連結されて回転駆動されるアーム及びこのアームの他端に設けられた上部処理ツールを有し、この上部処理ツールが上記保持部に保持された上記矩形基板から退避した位置と上記矩形基板の中心部に対向する位置との間で回動駆動されて上記矩形基板の上面を処理する上部処理機構と、
下部回転駆動源に一端が連結されて回転駆動されるアーム及びこのアームの他端に設けられた下部処理ツールを有し、この下部処理ツールが上記保持部に保持された上記矩形基板から退避した位置と上記矩形基板の中心部に対向する位置との間で回動駆動されて上記矩形基板の下面を処理する下部処理機構と、
上記保持部材の保持部に保持された上記矩形基板の下面側で回動する上記下部処理機構のアームに干渉することのない位置に配置され上記矩形基板の下面を支持してこの矩形基板が撓むのを制限する回転自在な複数のローラからなる撓み防止手段と
を具備したことを特徴とする矩形基板の処理装置にある。
【００１０】
請求項２の発明は、上記保持手段は、軸線をほぼ垂直にして回転可能に設けられ上端部を小径軸部とすることで上記保持部材の周辺部を係合保持する段部が形成された少なくとも３本の軸体からなることを特徴とする請求項１記載の矩形基板の処理装置にある。
【００１１】
請求項３の発明は、上記回転駆動機構は、上記軸体の少なくとも１本を回転駆動する駆動手段と、上記軸体の回転を上記保持部材に伝達する動力伝達手段とから構成されていることを特徴とする請求項２記載の矩形基板の処理装置にある。
【００１２】
請求項４の発明は、上記回転駆動機構は、上記軸体の少なくとも１本を回転駆動する駆動手段と、上記保持部材の外周面に形成された第１の歯車と、上記軸体の小径軸部の外周面に形成され上記第１の歯車と噛合する第２の歯車とから構成されていることを特徴とする請求項２記載の矩形基板の処理装置にある。
【００１３】
請求項５の発明は、上記回転駆動機構は、回転軸に駆動プーリが設けられた第１の駆動源と、上記保持部材に一体的に設けられた従動プーリと、この従動プーリと上記駆動プーリとに張設された伝動ベルトから構成されていることを特徴とする請求項１記載の矩形基板の処理装置にある。
【００１４】
請求項６の発明は、上記上部処理機構と下部処理機構は、先端に処理ツールが設けられたアームを有し、少なくとも上部処理機構のアームは第２の駆動源によって上記処理ツールが上記保持部材に保持された矩形基板の板面に対向する位置と、その板面から退避する位置との間で駆動されることを特徴とする請求項１記載の矩形基板の処理装置にある。
【００１５】
請求項７の発明は、上記保持部材の下方には、保持部に保持された矩形基板を保持部材から押し上げる押し上げ手段が設けられていることを特徴とする請求項１記載の矩形基板の処理装置にある。
【００１６】
請求項８の発明は、上記保持部材に形成された保持部は、矩形基板の周縁部の全長を保持する構成であることを特徴とする請求項１記載の矩形基板の処理装置にある。
【００１７】
請求項９の発明は、上記保持部材に形成される挿入孔は、上記保持部に保持される矩形基板の外周面との間に所定の隙間を形成する形状であることを特徴とする請求項１記載の矩形基板の処理装置にある。
【００１９】
請求項１乃至請求項５の発明によれば、保持部材の保持部に矩形基板を保持し、この保持部材をほぼ水平な状態で保持して回転させるようにしたから、保持部材の上面側と下面側とにそれぞれ処理機構を進入させ、矩形基板の上面と下面とを処理することが可能となる。
また、矩形基板が大型化しても、保持部材の保持部に保持された矩形基板が撓み過ぎるのを防止することができる。
【００２０】
請求項６の発明によれば、少なくとも上部処理機構のアームを保持部材に保持された基板の板面と対向する位置から退避する位置へ移動させれば、ロボットなどによって保持部材に対する矩形基板の着脱を自動で行うことが可能となる。
【００２１】
請求項７の発明によれば、矩形基板を保持部材の保持部から押し上げることができるため、それによって保持部材から矩形基板を容易に取り出すことが可能となる。
【００２２】
請求項８の発明によれば、矩形基板は保持部材の保持部によって周縁部の全長が保持されるため、下方への撓み量が低減されることになる。
【００２３】
請求項９の発明によれば、保持部材の保持部に保持される矩形基板の外周面と挿入孔との間に隙間が形成されるようにしたことで、その隙間にロボットのハンドを入れることができるから、保持部材に対する矩形基板の着脱を自動化することが可能となる。
【００２５】
【発明の実施形態】
以下、この発明の形態を図面を参照して説明する。
【００２６】
図１乃至図３はこの発明の第１の実施の形態で、図１に示すこの発明の処理装置は処理槽１を備えている。この処理槽１はベース板２上に設けられた筒状ケース３を有する。この筒状ケース３内の高さ方向中途部には仕切板５が設けられている。この仕切板５には周壁６によって囲まれた複数の挿通孔、この実施の形態では３つの挿通孔７がほぼ同一円周上に位置するよう形成されている。各挿通孔７にはそれぞれ軸体８ａ〜８ｃが挿通されている。３本の軸体のうちの１本は駆動軸８ａで、残りの２本は従動軸８ｂ、８ｃとなっている。
【００２７】
なお、各軸体８ａ〜８ｃには上記周壁６とでラビリンス構造をなす周壁９が設けられ、それによって上記挿通孔７から処理槽１に供給される処理液が漏れ出るのを防止するようになっている。
【００２８】
上記筒状ケース３の下方には支持板１１が配設されている。この支持板１１には第１の軸受体１２が設けられている。この第１の軸受体１２には、軸線をほぼ垂直にした上記駆動軸８ａの下端部が回転可能に支持されている。
【００２９】
２本の従動軸８ｂ，８ｃは、同じく軸線をほぼ垂直にして第２の軸受体１３によって下端部が回転可能に支持されている。上記第２の軸受体１３は上記支持板１１の下面に接合固定された保持板１４によって保持固定され、図示せぬ調整ねじで矢印方向に位置決め調整可能となっている。
【００３０】
上記駆動軸８ａの下端部は上記支持板１１に形成された通孔１８から下面側に突出し、その突出端には従動プーリ１９が嵌着されている。
【００３１】
上記駆動軸８ａの支持板１１からの突出端の近傍には駆動手段である回転駆動源２１が配設されている。この回転駆動源２１の出力軸２２には駆動プーリ２３が嵌着され、この駆動プーリ２３と上記従動プーリ１９とにはベルト２４が張設されている。したがって、上記回転駆動源２１が作動すれば、上記駆動軸８ａが回転駆動されるようになっている。
【００３２】
上記駆動軸８ａと従動軸８ｂ、８ｃの上端部はそれぞれ小径軸部２５，２６，２７に形成されている。この小径軸部２５，２６，２７によって各軸体の上端部には保持手段を構成する段部２８，２９，３０が形成されている。
【００３３】
３本の軸体８ａ〜８ｃの段部２８〜３０には外形が円形をなした保持部材３２が周辺部の下面を係合させて保持されている。この保持部材３２には矩形状の挿入孔３３が穿設されている。この挿入孔３３の内周には保持部としての段部３４が形成され、この段部３４には液晶表示装置に用いられるガラス製の矩形基板３５が周辺部を係合させて着脱可能に保持されている。
【００３４】
上記保持部材３２は上記駆動軸８ａによって回転駆動されるようになっている。つまり、図３に示すように保持部材３２の外周面には第１の歯車５１が形成され、各軸体８ａ〜８ｃの小径軸部２５〜２７の外周面には上記第１の歯車５１に噛合する第２の歯車５２が形成されている。
【００３５】
それによって、駆動軸８ａが回転駆動されると、その小径軸部２５の第２の歯車５２に噛合した第１の歯車５１が形成された保持部材３２が回転駆動されることになるから、その回転に一対の従動軸８ｂ，８ｃがこれらの小径軸２６、２７に形成された第２歯車５２を介して連動することになる。つまり、保持部材３２は３本の軸体８ａ〜８ｃの段部２８〜３０によってほぼ水平に保持された状態で周方向に回転駆動されることになる。
【００３６】
なお、第１の歯車５１に噛合する第２の歯車５２は、駆動軸８ａだけに形成し、一対の従動軸８ｂ，８ｃには形成しなくともよい。
【００３７】
保持部材３２に保持された基板３５の下方には、この基板３５を保持部材３２から押し上げる押上げ手段としての３本の押上げ軸３６が軸線をほぼ垂直にして設けられている。各押上げ軸３６の下端部は仕切板５に穿設された挿通孔７１に挿通され、連結板７２に連結固定されている。この連結板７２は上記支持板１１上に配設されたシリンダ３７によって上下方向に駆動されるようになっている。
【００３８】
上記挿通孔７１の周囲は周壁７３によって囲まれ、上記押上げ軸３６には上記周壁７３とでラビリンス構造をなす周壁７４が設けられている。それによって、上記挿通孔７１から処理液が流出するのを阻止している。
【００３９】
さらに、保持部材３２に保持された基板３５の下面は回転自在に設けられた複数のローラ３８によって支持され、それによって基板３５の下方への撓み量が制限されている。なお、各ローラ３８は基板３５が回転することで一緒に回転するように配置されている。それによって、基板３５とローラ３８との間に生じる摩擦力が低減されるようになっている。
【００４０】
保持部材３２に保持された基板３５の上方には上部処理機構４１が配置され、下方には下部処理機構４２が配置されている。各処理機構４１，４２はアーム４３を有する。上部処理機構４１のアーム４３の一端は上部回転駆動源４４の回転軸４５に連結され、他端には上部処理ツール４６が設けられている。下部処理機構４２のアーム４３の一端は下部回転駆動源４７の回転軸４８に連結され、他端には下部処理ツール４９が設けられている。
【００４１】
上記上部回転駆動源４４と下部回転駆動源４７とはそれぞれアーム４３を所定の範囲内で回動させるようになっている。つまり、各アーム４３に設けられた上部処理ツール４６と下部処理ツール４９とは、図２に実線で示すように保持部材３２に保持された矩形基板３５から退避した位置と、同図に鎖線で示すように矩形基板３５の上面及び下面のほぼ中心部に対向する位置の間で回動駆動されるようになっている。
【００４２】
なお、上記押上げ軸３６とローラ３８とは、回動するアーム４３に干渉することのない位置に配設されている。
【００４３】
上記各処理ツール４６，４９としては処理液を噴射するノズル体、処理液に超音波振動を与えて噴射する超音波ノズル体、矩形基板３５をブラシ洗浄するディスクブラシなどを選択的に使用することが可能であり、この実施の形態では矩形基板３５に洗浄液を噴射して洗浄処理するノズル体が用いられている。
【００４４】
矩形基板３５の処理としては洗浄処理に限られず、上面に付着したレジストを薬液によって剥離処理し、下面を洗浄処理する場合にも適用でき、さらに上面にエッチング液を供給してエッチング処理し、下面を洗浄処理する場合などのように、上面と下面とで異なる処理をする場合にも適用することができる。
【００４５】
つぎに、上記構成の処理装置を用いて矩形基板３５の上下面を洗浄処理する場合について説明する。
【００４６】
まず、３本の軸体８ａ〜８ｃによってほぼ水平に保持された保持部材３２の挿入孔３３に矩形基板３５が図示しないロボットによって供給され、周縁部を段部３４に係合して保持される。つまり、押上げ軸３６を上昇させておき、その上端に矩形基板３５をロボットのハンドによって供給したならば、上記押上げ軸３６を下降させることで、矩形基板３５が挿入孔３３に入り込んで周縁部が段部３４に係合して保持されることになる。
【００４７】
矩形基板３５が供給されたならば、回転駆動源２１を作動させて駆動軸８ａを回転させる。それによって、駆動軸８ａの回転がその小径軸部２５の第２の歯車５２から保持部材３２の第１の歯車５１に伝達されるから、保持部材３２は周方向に回転駆動されることになる。
【００４８】
保持部材３２を回転駆動したならば、上部処理機構４１と下部処理機構４２との回転駆動源４４、４７を作動させてそれぞれのアーム４３を図２に矢印で示すように矩形基板３５の径方向に沿って所定の範囲で回動駆動すると同時に、各処理機構４１，４２の処理ツール４６、４９から矩形基板３５の上面と下面とに向けて洗浄液を噴射する。それによって、矩形基板３５の上面と下面とが同時に洗浄処理されることになる。
【００４９】
このようにして矩形基板３５の上下面を所定時間洗浄処理したならば、各処理ツール４６、４９からの洗浄液の噴射を停止すると共に、各処理機構４１、４２のアーム４３を図２に実線で示す位置に退避させる。ついで、押上げ軸３６を上昇方向に駆動して保持部材３２の段部３４に保持された矩形基板３５を上昇させる。
【００５０】
矩形基板３５を保持部材３２から上昇させたならば、図示しないロボットのハンドによって矩形基板３５の周縁部を保持し、処理槽１から搬出する。ついで未処理の矩形基板３５を供給し、上述した洗浄処理が繰り返して行われることになる。
【００５１】
このように、矩形基板３５を保持した保持部材３２を３本の軸体８ａ〜８ｃに保持して回転駆動すると共に、その上面と下面とに処理ツール４６、４９によって処理液を噴射することができるようにした。そのため、矩形基板３５の上下面をスピン方式によって同時に洗浄処理することができる。
【００５２】
つまり、保持部材３２を３本の軸体８ａ〜８ｃに形成された段部２８〜３０よって支持した。そのため、保持部材３２の挿入孔３３に入れられて周縁部が段部３４に保持された矩形基板３５の下面側に、アーム４３の先端に設けられた下部処理ツール４９を、このアーム４３を回動させることで進入させることができるから、矩形基板３５を回転させながら処理するスピン方式であっても、矩形基板３５の下面を上面と同時に処理することが可能となる。
【００５３】
上部処理機構４１の上部処理ツール４６と下部処理機構４２の下部処理ツール４９とを、それぞれアーム４３を回動させることで矩形基板３５の上面及び下面に対向する位置から退避させることができるようにした。そのため、保持部材３２に対して矩形基板３５をロボットによって着脱する際、上部処理ツール４６が邪魔になることがない。
【００５４】
保持部材３２の挿入孔３３に保持された矩形基板３５を押上げ軸３６によって押し上げることができるようにした。そのため、ロボットによって保持部材３２の保持孔３２から処理された矩形基板３２を取り出すときや供給するときに、そのロボットのハンドによって矩形基板３５の周辺部を確実に保持することが可能となる。
【００５５】
保持部材３２の保持孔３３に保持された矩形基板３５の下面はローラ３８によって支持されている。そのため、矩形基板３５が大型化しても、その下方への撓み量が制限されることになるから、矩形基板３５が撓み過ぎて損傷するのを防止できる。
【００５６】
上記ローラ３８が矩形基板３５の下面に接触すると、接触による汚れの発生を招く虞がある。しかしながら、矩形基板３５が回転駆動されることで、ローラ３８が矩形基板３５の同一部分に接触し続けることがないから、矩形基板３５のローラ３８と接触する部分であっても、非接触時に洗浄されるため、矩形基板３５の裏面が部分的に汚れるということがない。
【００５７】
矩形基板３５は挿入孔３４の内周に形成された段部３４によって周辺部の全長が保持されている。そのため、ローラ搬送時のように、幅方向両端部だけが保持される場合に比べて下方への撓みが発生しにくくなっているから、その点でもローラ搬送方式に比べて優れている。
【００５８】
なお、上記第１の実施の形態では下部処理ツール４９をアーム４３によって保持部材３２に保持された基板３５に対向する位置と退避する位置との間で回動できるようにしたが、矩形基板３５の下面に対向する位置に固定的に配置するようにしてもよい。
【００５９】
また、一対の処理ツール４６，４９はアーム４３によって回動駆動させるようにしたが、直線駆動によって矩形板３５に対向する位置と退避する位置との間で移動させるようにしてもよい。さらに、各処理ツール４６，４７がディスクブラシなどの場合には、回転駆動だけでなく、上下駆動できる構成とした方がよい。
【００６０】
図４（ａ），（ｂ）はこの発明の第２の実施の形態を示す。この第２の実施の形態は保持部材３２を回転駆動するための機構の変形例である。つまり、保持部材３２の下面にはこの保持部材３２と一体に従動プーリ５５が形成されている。保持部材３２の近傍には回転駆動源５６が配設されている。この回転駆動源５６の回転軸５７には駆動プーリ５８が嵌着されている。そして、この駆動プーリ５８と上記従動プーリ５５とにはたとえばタイミングベルトなどの伝動ベルト５９が張設されている。
【００６１】
したがって、上記回転駆動源５６が作動すれば、伝動ベルト５９を介して保持部材３２が回転駆動されることになる。
【００６２】
なお、この第２の実施の形態において、各軸体８ａ〜８ｃは保持部材３２を回転可能に支持するだけでよく、駆動軸８ａを回転駆動する構成は不要となること明らかである
第１、第２の実施の形態において、３本の軸体及び保持部材の外周面を歯車とせず、一対の従動軸８ｂ、８ｃを図示しない直線駆動源によって駆動軸８ａに対して接離する方向に駆動できる構成とし、それによって３本の軸体８ａ〜８ｃの小径軸２５〜２７の外周面を保持部材３２の外周面に圧接させるようにすれば、これらの摩擦力によって駆動軸８ａの回転を保持部材３２に伝達することが可能となる。
【００６３】
図５（ａ）、（ｂ）はこの発明の第３の実施の形態を示す。この第３の実施の形態は保持部材３２に形成される挿入孔３３の変形例で、この挿入孔３３には、ここに保持される矩形基板３５の対向する一対の両側辺に対向する部分に、この矩形基板３５の両側辺との間に所定の隙間を形成する凹部６１が形成されている。
【００６４】
また、矩形基板３５は挿入孔３３の四隅部にだけに設けられた段部３４ａによって保持されるようになっている。
【００６５】
このような構成の保持部材３２によれば、矩形基板３５をロボットによって着脱する際、そのハンドを凹部６１に挿入することで、矩形基板３５の両側部を保持することができる。したがって、矩形基板３５を第１の実施の形態に示された押上げ軸３６によって挿入孔３３から押し上げることなく着脱することが可能となる。
【００６６】
【発明の効果】
請求項１乃至請求項５の発明によれば、保持部材の保持部に矩形基板を保持し、この保持部材をほぼ水平な状態で保持して回転させるようにした。
【００６７】
そのため、上部処理機構の処理ツールを退避させることで、保持部材からロボットによって矩形基板を着脱する際、処理ツールにロボットが干渉するのを防止できるから、ロボットによる矩形基板の着脱を自動で行うことが可能となる。
また、保持部材に保持された矩形基板の下面を支持するようにした。
そのため、矩形基板が大型化しても、保持部材に保持された矩形基板が撓み過ぎるのを防止することができる。
【００６８】
請求項６の発明によれば、少なくとも上部処理機構の処理ツールを保持部材に保持された基板の板面と対向する位置から退避する位置へ駆動できるようにした。
【００６９】
そのため、上部処理機構の処理ツールを退避させることで、保持部材からロボットによって矩形基板を着脱する際、処理ツールにロボットが干渉するのを防止できるから、ロボットによる矩形基板の着脱を自動で行うことが可能となる。
【００７０】
請求項７の発明によれば、矩形基板を保持部材の挿入孔から押し上げることができるため、それによって保持部材から矩形基板を容易に取り出すことが可能となる。
【００７１】
請求項８の発明によれば、矩形基板は保持部材の保持部によって周縁部の全長が保持されるため、下方への撓み量が低減されることになる。
【００７２】
請求項９の発明によれば、保持部材の保持孔と、この保持孔に保持される矩形基板の外周面との間に隙間が形成されるようにした。
【００７３】
そのため、保持孔と矩形基板との隙間にロボットのハンドを入れることができるから、保持部材に対する矩形基板の着脱を自動化することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の第１の実施の形態を示す処理装置の概略的構成を示す縦断面図。
【図２】同じく上部処理機構と下部処理機構の配置状態を示す平面図。
【図３】同じく保持部材を回転駆動する回転駆動機構の側面図。
【図４】（ａ）はこの発明の第２の実施の形態を示す回転駆動機構の平面図、（ｂ）は同じく側面図。
【図５】（ａ）はこの発明の第３の実施の形態を示す保持部材の平面図、（ｂ）は同じく断面図。
【符号の説明】
８ａ〜８ｃ…軸体
２１…回転駆動源
３２…保持部材
３３…挿入孔
３４…段部（保持部）
３５…矩形基板
３６…押上げ軸
４１…上部処理機構
４２…下部処理機構
４４…上部回転駆動源（第２の駆動源）
４６…上部処理ツール
４７…下部回転駆動源
４９…下部処理ツール
５６…回転駆動源（第１の駆動源）
Claims (9)
- 矩形基板の上下面を処理する処理装置において、
外形が円形状をなし上記矩形基板が挿入される挿入孔及びこの挿入孔に入れられた矩形基板の周縁部を保持する保持部を有する保持部材と、
この保持部材をほぼ水平な状態で保持する支持手段と、
この支持手段に保持された上記保持部材を周方向に回転駆動する回転駆動機構と、
上部回転駆動源に一端が連結されて回転駆動されるアーム及びこのアームの他端に設けられた上部処理ツールを有し、この上部処理ツールが上記保持部に保持された上記矩形基板から退避した位置と上記矩形基板の中心部に対向する位置との間で回動駆動されて上記矩形基板の上面を処理する上部処理機構と、
下部回転駆動源に一端が連結されて回転駆動されるアーム及びこのアームの他端に設けられた下部処理ツールを有し、この下部処理ツールが上記保持部に保持された上記矩形基板から退避した位置と上記矩形基板の中心部に対向する位置との間で回動駆動されて上記矩形基板の下面を処理する下部処理機構と、
上記保持部材の保持部に保持された上記矩形基板の下面側で回動する上記下部処理機構のアームに干渉することのない位置に配置され上記矩形基板の下面を支持してこの矩形基板が撓むのを制限する回転自在な複数のローラからなる撓み防止手段と
を具備したことを特徴とする矩形基板の処理装置。 - 上記支持手段は、軸線をほぼ垂直にして回転可能に設けられ上端部を小径軸部とすることで上記保持部材の周辺部を係合保持する段部が形成された少なくとも３本の軸体からなることを特徴とする請求項１記載の矩形基板の処理装置。
- 上記回転駆動機構は、上記軸体の少なくとも１本を回転駆動する駆動手段と、上記軸体の回転を上記保持部材に伝達する動力伝達手段とから構成されていることを特徴とする請求項２記載の矩形基板の処理装置。
- 上記回転駆動機構は、上記軸体の少なくとも１本を回転駆動する駆動手段と、上記保持部材の外周面に形成された第１の歯車と、上記軸体の小径軸部の外周面に形成され上記第１の歯車と噛合する第２の歯車とから構成されていることを特徴とする請求項２記載の矩形基板の処理装置。
- 上記回転駆動機構は、回転軸に駆動プーリが設けられた第１の駆動源と、上記保持部材に一体的に設けられた従動プーリと、この従動プーリと上記駆動プーリとに張設された伝動ベルトから構成されていることを特徴とする請求項１記載の矩形基板の処理装置。
- 上記上部処理機構と下部処理機構は、先端に処理ツールが設けられたアームを有し、少なくとも上部処理機構のアームは第２の駆動源によって上記処理ツールが上記保持部材に保持された矩形基板の板面に対向する位置と、その板面から退避する位置との間で駆動されることを特徴とする請求項１記載の矩形基板の処理装置。
- 上記保持部材の下方には、保持部に保持された矩形基板を保持部材から押し上げる押し上げ手段が設けられていることを特徴とする請求項１記載の矩形基板の処理装置。
- 上記保持部材に形成された保持部は、矩形基板の周縁部の全長を保持する構成であることを特徴とする請求項１記載の矩形基板の処理装置。
- 上記保持部材に形成される挿入孔は、上記保持部に保持される矩形基板の外周面との間に所定の隙間を形成する形状であることを特徴とする請求項１記載の矩形基板の処理装置。
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| JP36818099A JP4482188B2 (ja) | 1999-12-24 | 1999-12-24 | 矩形基板の処理装置 |
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| JP36818099A JP4482188B2 (ja) | 1999-12-24 | 1999-12-24 | 矩形基板の処理装置 |
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