JP4482188B2 - 矩形基板の処理装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は矩形基板の上面と下面とを処理するための処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
たとえば液晶表示装置の製造工程においては、ガラス製の矩形基板を高い清浄度で洗浄処理することが要求される工程がある。矩形基板を洗浄処理する方式としては、洗浄液中に矩形基板を浸漬するデイップ方式や矩形基板を1枚ずつ洗浄処理する枚葉方式があり、最近では高い清浄度が得られるとともに、コスト的に有利な枚葉方式が採用されることが多くなってきている。
【0003】
枚葉方式の1つとして矩形基板を搬送ローラで搬送しながらその上下面を洗浄処理する処理装置が知られている。このような搬送方式によると、通常、所定間隔で配設された搬送ローラによって矩形基板の幅方向両端部を保持しならが搬送するようにしている。
【0004】
しかしながら、矩形基板が大型化した場合には幅方向中央部に生じるたわみが大きくなるから、たわみが生じないようにするため、幅方向中途部の裏面の1乃至複数個所を支持ローラで支持するようにしている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、矩形基板を搬送ローラによって搬送しながら洗浄処理する方式の場合、装置の全長が長くなるということがある。とくに、矩形基板が大型化すると、その傾向が顕著になる。そのため、クリーンルーム内に大きな設置スペースが必要になるということがある。
【0006】
そこで、搬送ローラを用いた搬送方式に代えて矩形基板を回転させながらその上下面を洗浄処理するスピン処理方式とすることが考えられている。しかしながら、従来のスピン処理方式は、矩形基板を保持する回転テーブルが回転モータの回転軸に取り付けられる基部から4本のアームを放射状に突出させた構成であるため、この回転テーブルに保持された矩形基板の下面側に処理ツールを進入させることができなかった。
【0007】
そのため、回転テーブルに保持された矩形基板の上面は確実に洗浄処理することができても、下面は確実に洗浄処理することができないので、上面を洗浄処理してから上下面を反転させ、再度上面を洗浄処理しなければならないということになり、洗浄処理を能率よく行うことができないということがあった。
【0008】
この発明は、基板の上下両面を同時に、しかも良好に処理することができるようにした矩形基板の処理装置を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
請求項1の発明は、矩形基板の上下面を処理する処理装置において、
外形が円形状をなし上記矩形基板が挿入される挿入孔及びこの挿入孔に入れられた矩形基板の周縁部を保持する保持部を有する保持部材と、
この保持部材をほぼ水平な状態で保持する支持手段と、
この支持手段に保持された上記保持部材を周方向に回転駆動する回転駆動機構と、
上部回転駆動源に一端が連結されて回転駆動されるアーム及びこのアームの他端に設けられた上部処理ツールを有し、この上部処理ツールが上記保持部に保持された上記矩形基板から退避した位置と上記矩形基板の中心部に対向する位置との間で回動駆動されて上記矩形基板の上面を処理する上部処理機構と、
下部回転駆動源に一端が連結されて回転駆動されるアーム及びこのアームの他端に設けられた下部処理ツールを有し、この下部処理ツールが上記保持部に保持された上記矩形基板から退避した位置と上記矩形基板の中心部に対向する位置との間で回動駆動されて上記矩形基板の下面を処理する下部処理機構と、
上記保持部材の保持部に保持された上記矩形基板の下面側で回動する上記下部処理機構のアームに干渉することのない位置に配置され上記矩形基板の下面を支持してこの矩形基板が撓むのを制限する回転自在な複数のローラからなる撓み防止手段と
を具備したことを特徴とする矩形基板の処理装置にある。
【0010】
請求項2の発明は、上記保持手段は、軸線をほぼ垂直にして回転可能に設けられ上端部を小径軸部とすることで上記保持部材の周辺部を係合保持する段部が形成された少なくとも3本の軸体からなることを特徴とする請求項1記載の矩形基板の処理装置にある。
【0011】
請求項3の発明は、上記回転駆動機構は、上記軸体の少なくとも1本を回転駆動する駆動手段と、上記軸体の回転を上記保持部材に伝達する動力伝達手段とから構成されていることを特徴とする請求項2記載の矩形基板の処理装置にある。
【0012】
請求項4の発明は、上記回転駆動機構は、上記軸体の少なくとも1本を回転駆動する駆動手段と、上記保持部材の外周面に形成された第1の歯車と、上記軸体の小径軸部の外周面に形成され上記第1の歯車と噛合する第2の歯車とから構成されていることを特徴とする請求項2記載の矩形基板の処理装置にある。
【0013】
請求項5の発明は、上記回転駆動機構は、回転軸に駆動プーリが設けられた第1の駆動源と、上記保持部材に一体的に設けられた従動プーリと、この従動プーリと上記駆動プーリとに張設された伝動ベルトから構成されていることを特徴とする請求項1記載の矩形基板の処理装置にある。
【0014】
請求項6の発明は、上記上部処理機構と下部処理機構は、先端に処理ツールが設けられたアームを有し、少なくとも上部処理機構のアームは第2の駆動源によって上記処理ツールが上記保持部材に保持された矩形基板の板面に対向する位置と、その板面から退避する位置との間で駆動されることを特徴とする請求項1記載の矩形基板の処理装置にある。
【0015】
請求項7の発明は、上記保持部材の下方には、保持部に保持された矩形基板を保持部材から押し上げる押し上げ手段が設けられていることを特徴とする請求項1記載の矩形基板の処理装置にある。
【0016】
請求項8の発明は、上記保持部材に形成された保持部は、矩形基板の周縁部の全長を保持する構成であることを特徴とする請求項1記載の矩形基板の処理装置にある。
【0017】
請求項9の発明は、上記保持部材に形成される挿入孔は、上記保持部に保持される矩形基板の外周面との間に所定の隙間を形成する形状であることを特徴とする請求項1記載の矩形基板の処理装置にある。
【0019】
請求項1乃至請求項5の発明によれば、保持部材の保持部に矩形基板を保持し、この保持部材をほぼ水平な状態で保持して回転させるようにしたから、保持部材の上面側と下面側とにそれぞれ処理機構を進入させ、矩形基板の上面と下面とを処理することが可能となる。
また、矩形基板が大型化しても、保持部材の保持部に保持された矩形基板が撓み過ぎるのを防止することができる。
【0020】
請求項6の発明によれば、少なくとも上部処理機構のアームを保持部材に保持された基板の板面と対向する位置から退避する位置へ移動させれば、ロボットなどによって保持部材に対する矩形基板の着脱を自動で行うことが可能となる。
【0021】
請求項7の発明によれば、矩形基板を保持部材の保持部から押し上げることができるため、それによって保持部材から矩形基板を容易に取り出すことが可能となる。
【0022】
請求項8の発明によれば、矩形基板は保持部材の保持部によって周縁部の全長が保持されるため、下方への撓み量が低減されることになる。
【0023】
請求項9の発明によれば、保持部材の保持部に保持される矩形基板の外周面と挿入孔との間に隙間が形成されるようにしたことで、その隙間にロボットのハンドを入れることができるから、保持部材に対する矩形基板の着脱を自動化することが可能となる。
【0025】
【発明の実施形態】
以下、この発明の形態を図面を参照して説明する。
【0026】
図1乃至図3はこの発明の第1の実施の形態で、図1に示すこの発明の処理装置は処理槽1を備えている。この処理槽1はベース板2上に設けられた筒状ケース3を有する。この筒状ケース3内の高さ方向中途部には仕切板5が設けられている。この仕切板5には周壁6によって囲まれた複数の挿通孔、この実施の形態では3つの挿通孔7がほぼ同一円周上に位置するよう形成されている。各挿通孔7にはそれぞれ軸体8a〜8cが挿通されている。3本の軸体のうちの1本は駆動軸8aで、残りの2本は従動軸8b、8cとなっている。
【0027】
なお、各軸体8a〜8cには上記周壁6とでラビリンス構造をなす周壁9が設けられ、それによって上記挿通孔7から処理槽1に供給される処理液が漏れ出るのを防止するようになっている。
【0028】
上記筒状ケース3の下方には支持板11が配設されている。この支持板11には第1の軸受体12が設けられている。この第1の軸受体12には、軸線をほぼ垂直にした上記駆動軸8aの下端部が回転可能に支持されている。
【0029】
2本の従動軸8b,8cは、同じく軸線をほぼ垂直にして第2の軸受体13によって下端部が回転可能に支持されている。上記第2の軸受体13は上記支持板11の下面に接合固定された保持板14によって保持固定され、図示せぬ調整ねじで矢印方向に位置決め調整可能となっている。
【0030】
上記駆動軸8aの下端部は上記支持板11に形成された通孔18から下面側に突出し、その突出端には従動プーリ19が嵌着されている。
【0031】
上記駆動軸8aの支持板11からの突出端の近傍には駆動手段である回転駆動源21が配設されている。この回転駆動源21の出力軸22には駆動プーリ23が嵌着され、この駆動プーリ23と上記従動プーリ19とにはベルト24が張設されている。したがって、上記回転駆動源21が作動すれば、上記駆動軸8aが回転駆動されるようになっている。
【0032】
上記駆動軸8aと従動軸8b、8cの上端部はそれぞれ小径軸部25,26,27に形成されている。この小径軸部25,26,27によって各軸体の上端部には保持手段を構成する段部28,29,30が形成されている。
【0033】
3本の軸体8a〜8cの段部28〜30には外形が円形をなした保持部材32が周辺部の下面を係合させて保持されている。この保持部材32には矩形状の挿入孔33が穿設されている。この挿入孔33の内周には保持部としての段部34が形成され、この段部34には液晶表示装置に用いられるガラス製の矩形基板35が周辺部を係合させて着脱可能に保持されている。
【0034】
上記保持部材32は上記駆動軸8aによって回転駆動されるようになっている。つまり、図3に示すように保持部材32の外周面には第1の歯車51が形成され、各軸体8a〜8cの小径軸部25〜27の外周面には上記第1の歯車51に噛合する第2の歯車52が形成されている。
【0035】
それによって、駆動軸8aが回転駆動されると、その小径軸部25の第2の歯車52に噛合した第1の歯車51が形成された保持部材32が回転駆動されることになるから、その回転に一対の従動軸8b,8cがこれらの小径軸26、27に形成された第2歯車52を介して連動することになる。つまり、保持部材32は3本の軸体8a〜8cの段部28〜30によってほぼ水平に保持された状態で周方向に回転駆動されることになる。
【0036】
なお、第1の歯車51に噛合する第2の歯車52は、駆動軸8aだけに形成し、一対の従動軸8b,8cには形成しなくともよい。
【0037】
保持部材32に保持された基板35の下方には、この基板35を保持部材32から押し上げる押上げ手段としての3本の押上げ軸36が軸線をほぼ垂直にして設けられている。各押上げ軸36の下端部は仕切板5に穿設された挿通孔71に挿通され、連結板72に連結固定されている。この連結板72は上記支持板11上に配設されたシリンダ37によって上下方向に駆動されるようになっている。
【0038】
上記挿通孔71の周囲は周壁73によって囲まれ、上記押上げ軸36には上記周壁73とでラビリンス構造をなす周壁74が設けられている。それによって、上記挿通孔71から処理液が流出するのを阻止している。
【0039】
さらに、保持部材32に保持された基板35の下面は回転自在に設けられた複数のローラ38によって支持され、それによって基板35の下方への撓み量が制限されている。なお、各ローラ38は基板35が回転することで一緒に回転するように配置されている。それによって、基板35とローラ38との間に生じる摩擦力が低減されるようになっている。
【0040】
保持部材32に保持された基板35の上方には上部処理機構41が配置され、下方には下部処理機構42が配置されている。各処理機構41,42はアーム43を有する。上部処理機構41のアーム43の一端は上部回転駆動源44の回転軸45に連結され、他端には上部処理ツール46が設けられている。下部処理機構42のアーム43の一端は下部回転駆動源47の回転軸48に連結され、他端には下部処理ツール49が設けられている。
【0041】
上記上部回転駆動源44と下部回転駆動源47とはそれぞれアーム43を所定の範囲内で回動させるようになっている。つまり、各アーム43に設けられた上部処理ツール46と下部処理ツール49とは、図2に実線で示すように保持部材32に保持された矩形基板35から退避した位置と、同図に鎖線で示すように矩形基板35の上面及び下面のほぼ中心部に対向する位置の間で回動駆動されるようになっている。
【0042】
なお、上記押上げ軸36とローラ38とは、回動するアーム43に干渉することのない位置に配設されている。
【0043】
上記各処理ツール46,49としては処理液を噴射するノズル体、処理液に超音波振動を与えて噴射する超音波ノズル体、矩形基板35をブラシ洗浄するディスクブラシなどを選択的に使用することが可能であり、この実施の形態では矩形基板35に洗浄液を噴射して洗浄処理するノズル体が用いられている。
【0044】
矩形基板35の処理としては洗浄処理に限られず、上面に付着したレジストを薬液によって剥離処理し、下面を洗浄処理する場合にも適用でき、さらに上面にエッチング液を供給してエッチング処理し、下面を洗浄処理する場合などのように、上面と下面とで異なる処理をする場合にも適用することができる。
【0045】
つぎに、上記構成の処理装置を用いて矩形基板35の上下面を洗浄処理する場合について説明する。
【0046】
まず、3本の軸体8a〜8cによってほぼ水平に保持された保持部材32の挿入孔33に矩形基板35が図示しないロボットによって供給され、周縁部を段部34に係合して保持される。つまり、押上げ軸36を上昇させておき、その上端に矩形基板35をロボットのハンドによって供給したならば、上記押上げ軸36を下降させることで、矩形基板35が挿入孔33に入り込んで周縁部が段部34に係合して保持されることになる。
【0047】
矩形基板35が供給されたならば、回転駆動源21を作動させて駆動軸8aを回転させる。それによって、駆動軸8aの回転がその小径軸部25の第2の歯車52から保持部材32の第1の歯車51に伝達されるから、保持部材32は周方向に回転駆動されることになる。
【0048】
保持部材32を回転駆動したならば、上部処理機構41と下部処理機構42との回転駆動源44、47を作動させてそれぞれのアーム43を図2に矢印で示すように矩形基板35の径方向に沿って所定の範囲で回動駆動すると同時に、各処理機構41,42の処理ツール46、49から矩形基板35の上面と下面とに向けて洗浄液を噴射する。それによって、矩形基板35の上面と下面とが同時に洗浄処理されることになる。
【0049】
このようにして矩形基板35の上下面を所定時間洗浄処理したならば、各処理ツール46、49からの洗浄液の噴射を停止すると共に、各処理機構41、42のアーム43を図2に実線で示す位置に退避させる。ついで、押上げ軸36を上昇方向に駆動して保持部材32の段部34に保持された矩形基板35を上昇させる。
【0050】
矩形基板35を保持部材32から上昇させたならば、図示しないロボットのハンドによって矩形基板35の周縁部を保持し、処理槽1から搬出する。ついで未処理の矩形基板35を供給し、上述した洗浄処理が繰り返して行われることになる。
【0051】
このように、矩形基板35を保持した保持部材32を3本の軸体8a〜8cに保持して回転駆動すると共に、その上面と下面とに処理ツール46、49によって処理液を噴射することができるようにした。そのため、矩形基板35の上下面をスピン方式によって同時に洗浄処理することができる。
【0052】
つまり、保持部材32を3本の軸体8a〜8cに形成された段部28〜30よって支持した。そのため、保持部材32の挿入孔33に入れられて周縁部が段部34に保持された矩形基板35の下面側に、アーム43の先端に設けられた下部処理ツール49を、このアーム43を回動させることで進入させることができるから、矩形基板35を回転させながら処理するスピン方式であっても、矩形基板35の下面を上面と同時に処理することが可能となる。
【0053】
上部処理機構41の上部処理ツール46と下部処理機構42の下部処理ツール49とを、それぞれアーム43を回動させることで矩形基板35の上面及び下面に対向する位置から退避させることができるようにした。そのため、保持部材32に対して矩形基板35をロボットによって着脱する際、上部処理ツール46が邪魔になることがない。
【0054】
保持部材32の挿入孔33に保持された矩形基板35を押上げ軸36によって押し上げることができるようにした。そのため、ロボットによって保持部材32の保持孔32から処理された矩形基板32を取り出すときや供給するときに、そのロボットのハンドによって矩形基板35の周辺部を確実に保持することが可能となる。
【0055】
保持部材32の保持孔33に保持された矩形基板35の下面はローラ38によって支持されている。そのため、矩形基板35が大型化しても、その下方への撓み量が制限されることになるから、矩形基板35が撓み過ぎて損傷するのを防止できる。
【0056】
上記ローラ38が矩形基板35の下面に接触すると、接触による汚れの発生を招く虞がある。しかしながら、矩形基板35が回転駆動されることで、ローラ38が矩形基板35の同一部分に接触し続けることがないから、矩形基板35のローラ38と接触する部分であっても、非接触時に洗浄されるため、矩形基板35の裏面が部分的に汚れるということがない。
【0057】
矩形基板35は挿入孔34の内周に形成された段部34によって周辺部の全長が保持されている。そのため、ローラ搬送時のように、幅方向両端部だけが保持される場合に比べて下方への撓みが発生しにくくなっているから、その点でもローラ搬送方式に比べて優れている。
【0058】
なお、上記第1の実施の形態では下部処理ツール49をアーム43によって保持部材32に保持された基板35に対向する位置と退避する位置との間で回動できるようにしたが、矩形基板35の下面に対向する位置に固定的に配置するようにしてもよい。
【0059】
また、一対の処理ツール46,49はアーム43によって回動駆動させるようにしたが、直線駆動によって矩形板35に対向する位置と退避する位置との間で移動させるようにしてもよい。さらに、各処理ツール46,47がディスクブラシなどの場合には、回転駆動だけでなく、上下駆動できる構成とした方がよい。
【0060】
図4(a),(b)はこの発明の第2の実施の形態を示す。この第2の実施の形態は保持部材32を回転駆動するための機構の変形例である。つまり、保持部材32の下面にはこの保持部材32と一体に従動プーリ55が形成されている。保持部材32の近傍には回転駆動源56が配設されている。この回転駆動源56の回転軸57には駆動プーリ58が嵌着されている。そして、この駆動プーリ58と上記従動プーリ55とにはたとえばタイミングベルトなどの伝動ベルト59が張設されている。
【0061】
したがって、上記回転駆動源56が作動すれば、伝動ベルト59を介して保持部材32が回転駆動されることになる。
【0062】
なお、この第2の実施の形態において、各軸体8a〜8cは保持部材32を回転可能に支持するだけでよく、駆動軸8aを回転駆動する構成は不要となること明らかである
第1、第2の実施の形態において、3本の軸体及び保持部材の外周面を歯車とせず、一対の従動軸8b、8cを図示しない直線駆動源によって駆動軸8aに対して接離する方向に駆動できる構成とし、それによって3本の軸体8a〜8cの小径軸25〜27の外周面を保持部材32の外周面に圧接させるようにすれば、これらの摩擦力によって駆動軸8aの回転を保持部材32に伝達することが可能となる。
【0063】
図5(a)、(b)はこの発明の第3の実施の形態を示す。この第3の実施の形態は保持部材32に形成される挿入孔33の変形例で、この挿入孔33には、ここに保持される矩形基板35の対向する一対の両側辺に対向する部分に、この矩形基板35の両側辺との間に所定の隙間を形成する凹部61が形成されている。
【0064】
また、矩形基板35は挿入孔33の四隅部にだけに設けられた段部34aによって保持されるようになっている。
【0065】
このような構成の保持部材32によれば、矩形基板35をロボットによって着脱する際、そのハンドを凹部61に挿入することで、矩形基板35の両側部を保持することができる。したがって、矩形基板35を第1の実施の形態に示された押上げ軸36によって挿入孔33から押し上げることなく着脱することが可能となる。
【0066】
【発明の効果】
請求項1乃至請求項5の発明によれば、保持部材の保持部に矩形基板を保持し、この保持部材をほぼ水平な状態で保持して回転させるようにした。
【0067】
そのため、上部処理機構の処理ツールを退避させることで、保持部材からロボットによって矩形基板を着脱する際、処理ツールにロボットが干渉するのを防止できるから、ロボットによる矩形基板の着脱を自動で行うことが可能となる。
また、保持部材に保持された矩形基板の下面を支持するようにした。
そのため、矩形基板が大型化しても、保持部材に保持された矩形基板が撓み過ぎるのを防止することができる。
【0068】
請求項6の発明によれば、少なくとも上部処理機構の処理ツールを保持部材に保持された基板の板面と対向する位置から退避する位置へ駆動できるようにした。
【0069】
そのため、上部処理機構の処理ツールを退避させることで、保持部材からロボットによって矩形基板を着脱する際、処理ツールにロボットが干渉するのを防止できるから、ロボットによる矩形基板の着脱を自動で行うことが可能となる。
【0070】
請求項7の発明によれば、矩形基板を保持部材の挿入孔から押し上げることができるため、それによって保持部材から矩形基板を容易に取り出すことが可能となる。
【0071】
請求項8の発明によれば、矩形基板は保持部材の保持部によって周縁部の全長が保持されるため、下方への撓み量が低減されることになる。
【0072】
請求項9の発明によれば、保持部材の保持孔と、この保持孔に保持される矩形基板の外周面との間に隙間が形成されるようにした。
【0073】
そのため、保持孔と矩形基板との隙間にロボットのハンドを入れることができるから、保持部材に対する矩形基板の着脱を自動化することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施の形態を示す処理装置の概略的構成を示す縦断面図。
【図2】同じく上部処理機構と下部処理機構の配置状態を示す平面図。
【図3】同じく保持部材を回転駆動する回転駆動機構の側面図。
【図4】(a)はこの発明の第2の実施の形態を示す回転駆動機構の平面図、(b)は同じく側面図。
【図5】(a)はこの発明の第3の実施の形態を示す保持部材の平面図、(b)は同じく断面図。
【符号の説明】
8a〜8c…軸体
21…回転駆動源
32…保持部材
33…挿入孔
34…段部(保持部)
35…矩形基板
36…押上げ軸
41…上部処理機構
42…下部処理機構
44…上部回転駆動源(第2の駆動源)
46…上部処理ツール
47…下部回転駆動源
49…下部処理ツール
56…回転駆動源(第1の駆動源)
Claims (9)
- 矩形基板の上下面を処理する処理装置において、
外形が円形状をなし上記矩形基板が挿入される挿入孔及びこの挿入孔に入れられた矩形基板の周縁部を保持する保持部を有する保持部材と、
この保持部材をほぼ水平な状態で保持する支持手段と、
この支持手段に保持された上記保持部材を周方向に回転駆動する回転駆動機構と、
上部回転駆動源に一端が連結されて回転駆動されるアーム及びこのアームの他端に設けられた上部処理ツールを有し、この上部処理ツールが上記保持部に保持された上記矩形基板から退避した位置と上記矩形基板の中心部に対向する位置との間で回動駆動されて上記矩形基板の上面を処理する上部処理機構と、
下部回転駆動源に一端が連結されて回転駆動されるアーム及びこのアームの他端に設けられた下部処理ツールを有し、この下部処理ツールが上記保持部に保持された上記矩形基板から退避した位置と上記矩形基板の中心部に対向する位置との間で回動駆動されて上記矩形基板の下面を処理する下部処理機構と、
上記保持部材の保持部に保持された上記矩形基板の下面側で回動する上記下部処理機構のアームに干渉することのない位置に配置され上記矩形基板の下面を支持してこの矩形基板が撓むのを制限する回転自在な複数のローラからなる撓み防止手段と
を具備したことを特徴とする矩形基板の処理装置。 - 上記支持手段は、軸線をほぼ垂直にして回転可能に設けられ上端部を小径軸部とすることで上記保持部材の周辺部を係合保持する段部が形成された少なくとも3本の軸体からなることを特徴とする請求項1記載の矩形基板の処理装置。
- 上記回転駆動機構は、上記軸体の少なくとも1本を回転駆動する駆動手段と、上記軸体の回転を上記保持部材に伝達する動力伝達手段とから構成されていることを特徴とする請求項2記載の矩形基板の処理装置。
- 上記回転駆動機構は、上記軸体の少なくとも1本を回転駆動する駆動手段と、上記保持部材の外周面に形成された第1の歯車と、上記軸体の小径軸部の外周面に形成され上記第1の歯車と噛合する第2の歯車とから構成されていることを特徴とする請求項2記載の矩形基板の処理装置。
- 上記回転駆動機構は、回転軸に駆動プーリが設けられた第1の駆動源と、上記保持部材に一体的に設けられた従動プーリと、この従動プーリと上記駆動プーリとに張設された伝動ベルトから構成されていることを特徴とする請求項1記載の矩形基板の処理装置。
- 上記上部処理機構と下部処理機構は、先端に処理ツールが設けられたアームを有し、少なくとも上部処理機構のアームは第2の駆動源によって上記処理ツールが上記保持部材に保持された矩形基板の板面に対向する位置と、その板面から退避する位置との間で駆動されることを特徴とする請求項1記載の矩形基板の処理装置。
- 上記保持部材の下方には、保持部に保持された矩形基板を保持部材から押し上げる押し上げ手段が設けられていることを特徴とする請求項1記載の矩形基板の処理装置。
- 上記保持部材に形成された保持部は、矩形基板の周縁部の全長を保持する構成であることを特徴とする請求項1記載の矩形基板の処理装置。
- 上記保持部材に形成される挿入孔は、上記保持部に保持される矩形基板の外周面との間に所定の隙間を形成する形状であることを特徴とする請求項1記載の矩形基板の処理装置。
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