JPH09106973A - 基板洗浄装置 - Google Patents
基板洗浄装置Info
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- JPH09106973A JPH09106973A JP26160295A JP26160295A JPH09106973A JP H09106973 A JPH09106973 A JP H09106973A JP 26160295 A JP26160295 A JP 26160295A JP 26160295 A JP26160295 A JP 26160295A JP H09106973 A JPH09106973 A JP H09106973A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 標準的に使用される吸引手段によって基板か
ら液切りされた洗浄液を確実に吸引除去することがで
き、これによって洗浄後の基板へのパーティクル再付着
を確実に防止し得るようにする。 【解決手段】 洗浄液による洗浄後の基板Bに水平姿勢
を維持させた状態で回転させながら液切りを行う基板洗
浄装置1であって、上記基板Bを水平姿勢で保持する支
持板35と、この支持板35を回転させる回転昇降機構
4と、回転している支持板35の外周を覆う上方が開放
し、かつ、底部に環状底部63を有したインナーカップ
61と、上記環状底部63に接続された複数の吸引管7
1と、この吸引管71に連通した吸引ブロア73とから
なり、上記複数の吸引管71が周方向に略等分配置され
ている。
ら液切りされた洗浄液を確実に吸引除去することがで
き、これによって洗浄後の基板へのパーティクル再付着
を確実に防止し得るようにする。 【解決手段】 洗浄液による洗浄後の基板Bに水平姿勢
を維持させた状態で回転させながら液切りを行う基板洗
浄装置1であって、上記基板Bを水平姿勢で保持する支
持板35と、この支持板35を回転させる回転昇降機構
4と、回転している支持板35の外周を覆う上方が開放
し、かつ、底部に環状底部63を有したインナーカップ
61と、上記環状底部63に接続された複数の吸引管7
1と、この吸引管71に連通した吸引ブロア73とから
なり、上記複数の吸引管71が周方向に略等分配置され
ている。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体や液晶など
の基板を回転させながらその表面に洗浄液を供給して洗
浄し、その後、基板に残留した洗浄液を高速回転によっ
て振り切るようにした基板洗浄装置に関するものであ
る。
の基板を回転させながらその表面に洗浄液を供給して洗
浄し、その後、基板に残留した洗浄液を高速回転によっ
て振り切るようにした基板洗浄装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来、例えば現像装置、エッチング装
置、あるいは剥離装置などの処理操作装置が組み合わさ
れて構成された半導体や液晶などの基板を処理する基板
処理装置が知られている。かかる基板処理装置にあって
は、上記各単位処理装置で所定の処理液が供給され、こ
の処理液によって基板に所定の処理が施されるようにな
っている。従って、基板が上流側の装置から下流側の装
置に引き渡されるに際し、あるいは基板を最終仕上げす
るに際し、先の処理で使用された処理液が基板に残留し
ないようにするとともに、基板そのものを清浄化する必
要があり、このために基板処理装置の適所に基板洗浄装
置が設けられている。
置、あるいは剥離装置などの処理操作装置が組み合わさ
れて構成された半導体や液晶などの基板を処理する基板
処理装置が知られている。かかる基板処理装置にあって
は、上記各単位処理装置で所定の処理液が供給され、こ
の処理液によって基板に所定の処理が施されるようにな
っている。従って、基板が上流側の装置から下流側の装
置に引き渡されるに際し、あるいは基板を最終仕上げす
るに際し、先の処理で使用された処理液が基板に残留し
ないようにするとともに、基板そのものを清浄化する必
要があり、このために基板処理装置の適所に基板洗浄装
置が設けられている。
【0003】このような基板洗浄装置としては、表面に
洗浄液を供給された基板をブラシなどの洗浄治具を用い
て洗浄したあと、基板の表裏面に窒素等の不活性ガスを
吹き付けながら基板を高速回転させ、付着している洗浄
液を遠心力で吹き飛ばすようにしたものが一般的に採用
されている。
洗浄液を供給された基板をブラシなどの洗浄治具を用い
て洗浄したあと、基板の表裏面に窒素等の不活性ガスを
吹き付けながら基板を高速回転させ、付着している洗浄
液を遠心力で吹き飛ばすようにしたものが一般的に採用
されている。
【0004】さらに詳しくは、上記基板洗浄装置は、基
板を水平姿勢で保持する支持板と、この支持板を支持軸
回りに回転させるとともに基板の給排時に昇降させ得る
回転昇降機構と、支持板の外周を覆う環状フードと、こ
の環状フード内の空気を下降気流にして吸引する吸引手
段とから基本構成され、回転昇降機構の駆動による基板
の高速回転によって周囲に飛び散った洗浄液を環状フー
ドの内壁面で捕捉するとともに、捕捉時の衝突で生じた
微細な液滴(ミスト)を、上記吸引手段の吸気によって
環状フード内に形成された下降気流と共に系外に排出す
るようになっている。
板を水平姿勢で保持する支持板と、この支持板を支持軸
回りに回転させるとともに基板の給排時に昇降させ得る
回転昇降機構と、支持板の外周を覆う環状フードと、こ
の環状フード内の空気を下降気流にして吸引する吸引手
段とから基本構成され、回転昇降機構の駆動による基板
の高速回転によって周囲に飛び散った洗浄液を環状フー
ドの内壁面で捕捉するとともに、捕捉時の衝突で生じた
微細な液滴(ミスト)を、上記吸引手段の吸気によって
環状フード内に形成された下降気流と共に系外に排出す
るようになっている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の上記
基板洗浄装置においては、環状フードに底板が設けら
れ、この底板の任意の個所に排気口が一つだけ設けられ
ており、この排気口が吸引手段に連通されていた。かか
る構成では、吸引手段を駆動することにより環状フード
内には排気口の近辺に強力な下降気流が形成されるが、
排気口から遠ざかるにつれて気流は弱くなり、排気口の
対角線上にある環状フードの上縁部では、ほとんど排気
口に向かう気流が形成されない状態になる。
基板洗浄装置においては、環状フードに底板が設けら
れ、この底板の任意の個所に排気口が一つだけ設けられ
ており、この排気口が吸引手段に連通されていた。かか
る構成では、吸引手段を駆動することにより環状フード
内には排気口の近辺に強力な下降気流が形成されるが、
排気口から遠ざかるにつれて気流は弱くなり、排気口の
対角線上にある環状フードの上縁部では、ほとんど排気
口に向かう気流が形成されない状態になる。
【0006】このように、環状フード内での周方向に亘
った気流の分布が不均一になると、基板の高速回転とも
相俟って環状フード内に乱流が生じ、基板から一旦吹き
飛ばされた洗浄液が上記乱流に押し上げられて基板に再
付着するという問題点を有していた。
った気流の分布が不均一になると、基板の高速回転とも
相俟って環状フード内に乱流が生じ、基板から一旦吹き
飛ばされた洗浄液が上記乱流に押し上げられて基板に再
付着するという問題点を有していた。
【0007】そこで、環状フードの適所に気流調整用の
調整板を設け、この調整板での整流操作によって乱流の
発生を抑制することが試みられている。かかる調整板を
設けることにより、上記乱流発生の抑制に加え、支持板
昇降時の支持軸と軸受部との摺動によって発生するパー
ティクルの確実な吸引除去が期待されるが、上記調整板
による流路抵抗の増大によって排気効率が低下してしま
うという問題点が存在する。また、排気口近傍の気流が
さらに増大するため、調製板による調製をより必要と
し、そのためさらに流路抵抗が増大するといった悪循環
の繰り返しとなっていた。
調整板を設け、この調整板での整流操作によって乱流の
発生を抑制することが試みられている。かかる調整板を
設けることにより、上記乱流発生の抑制に加え、支持板
昇降時の支持軸と軸受部との摺動によって発生するパー
ティクルの確実な吸引除去が期待されるが、上記調整板
による流路抵抗の増大によって排気効率が低下してしま
うという問題点が存在する。また、排気口近傍の気流が
さらに増大するため、調製板による調製をより必要と
し、そのためさらに流路抵抗が増大するといった悪循環
の繰り返しとなっていた。
【0008】このような問題点を解消するために、吸引
手段の吸引力を増大させることが考えられるが、吸引手
段の吸引力を増大させようとすれば、同手段の大型化を
図らなければならず、設備コストおよび運転コストが増
加するという新たな問題点が発生する。
手段の吸引力を増大させることが考えられるが、吸引手
段の吸引力を増大させようとすれば、同手段の大型化を
図らなければならず、設備コストおよび運転コストが増
加するという新たな問題点が発生する。
【0009】本発明は、上記のような問題点を解決する
ためになされたものであり、標準的に使用される吸引手
段によって基板から液切りされた洗浄液を確実に吸引除
去することができ、これによって洗浄後のミストやパー
ティクルの基板への再付着を確実に防止し得る基板洗浄
装置を提供することを目的としている。
ためになされたものであり、標準的に使用される吸引手
段によって基板から液切りされた洗浄液を確実に吸引除
去することができ、これによって洗浄後のミストやパー
ティクルの基板への再付着を確実に防止し得る基板洗浄
装置を提供することを目的としている。
【0010】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の基板洗浄
装置は、洗浄後の基板を回転させて液切りを行う基板洗
浄装置において、軸受部材に軸支された支持軸を下部に
有し、上記基板を上部で支持する回転支持部材と、上記
支持軸に回転力を与える駆動手段と、上方を開放した状
態で上記回転支持部材を囲繞して洗浄室を形成する環状
フード部と、この環状フード部に設けられた複数の排気
口と、この排気口に連通した吸引手段とからなり、上記
複数の排気口は、上記回転支持部材に支持された上記基
板の水平面以下であって、かつ、上記回転支持部材の回
転中心に対して周方向に略等分配置されていることを特
徴とするものである。
装置は、洗浄後の基板を回転させて液切りを行う基板洗
浄装置において、軸受部材に軸支された支持軸を下部に
有し、上記基板を上部で支持する回転支持部材と、上記
支持軸に回転力を与える駆動手段と、上方を開放した状
態で上記回転支持部材を囲繞して洗浄室を形成する環状
フード部と、この環状フード部に設けられた複数の排気
口と、この排気口に連通した吸引手段とからなり、上記
複数の排気口は、上記回転支持部材に支持された上記基
板の水平面以下であって、かつ、上記回転支持部材の回
転中心に対して周方向に略等分配置されていることを特
徴とするものである。
【0011】この基板洗浄装置によれば、洗浄液による
洗浄後の基板を、回転支持部材に保持させた状態で駆動
手段により回転させることにより、基板に付着残留して
いる洗浄液は、遠心力によって径方向に飛び散り、環状
フード部の内周壁面に衝突して捕捉され、上記衝突によ
って微細な液滴になる。この微細な液滴は、環状フード
部内において吸引手段の吸引力により複数の排気口に向
かうように形成された下降気流により環状フード部内か
ら吸引除去される。
洗浄後の基板を、回転支持部材に保持させた状態で駆動
手段により回転させることにより、基板に付着残留して
いる洗浄液は、遠心力によって径方向に飛び散り、環状
フード部の内周壁面に衝突して捕捉され、上記衝突によ
って微細な液滴になる。この微細な液滴は、環状フード
部内において吸引手段の吸引力により複数の排気口に向
かうように形成された下降気流により環状フード部内か
ら吸引除去される。
【0012】そして、上記複数の排気口は、それらの各
々が周方向に略等分配置されているため、環状フード部
内において各排気口に向かう下降気流がアンバランスに
ならず、環状フード部内の気流の乱れが防止される。従
って、気流の乱れに起因した環状フード部内に空気の吹
き上げ現象が起こらず、液滴が基板表面に吹き戻されな
いようになる。また、排気口は基板が保持された水平面
以下の位置に設けられているため、気流は確実に下降気
流となり、基板上部へのミスト飛散が防止できる。
々が周方向に略等分配置されているため、環状フード部
内において各排気口に向かう下降気流がアンバランスに
ならず、環状フード部内の気流の乱れが防止される。従
って、気流の乱れに起因した環状フード部内に空気の吹
き上げ現象が起こらず、液滴が基板表面に吹き戻されな
いようになる。また、排気口は基板が保持された水平面
以下の位置に設けられているため、気流は確実に下降気
流となり、基板上部へのミスト飛散が防止できる。
【0013】請求項2記載の基板洗浄装置は、請求項1
記載の基板洗浄装置において、上記回転支持部材の支持
軸を昇降させる昇降機構と、上記回転支持部材上に基板
を受け取る上方位置と、上記回転支持部材を上記環状フ
ード部内で回転させる下方位置とに切り換える切換手段
とを備えたことを特徴とするものである。
記載の基板洗浄装置において、上記回転支持部材の支持
軸を昇降させる昇降機構と、上記回転支持部材上に基板
を受け取る上方位置と、上記回転支持部材を上記環状フ
ード部内で回転させる下方位置とに切り換える切換手段
とを備えたことを特徴とするものである。
【0014】この基板洗浄装置によれば、切換手段の操
作により、駆動回転を停止させた状態の支持軸を昇降機
構によって上昇させ、回転支持部材を上方位置に位置さ
せることにより、回転支持部材に対する基板の着脱操作
が行い易くなる。また、回転軸を下降させて基板を下方
位置に位置させることにより、基板は環状フード部内に
収容された状態になり、基板の回転によって飛び散った
処理液が環状フード部に捕捉される。
作により、駆動回転を停止させた状態の支持軸を昇降機
構によって上昇させ、回転支持部材を上方位置に位置さ
せることにより、回転支持部材に対する基板の着脱操作
が行い易くなる。また、回転軸を下降させて基板を下方
位置に位置させることにより、基板は環状フード部内に
収容された状態になり、基板の回転によって飛び散った
処理液が環状フード部に捕捉される。
【0015】
【発明の実施の形態】図1は、本発明に係る基板洗浄装
置1の一実施形態を示す一部切欠き斜視図であり、図2
は図1のA−A線断面図である。これらの図に示すよう
に、基板洗浄装置1は、フロアF上に立設された円筒状
の軸ホルダ(軸受部材)2、この軸ホルダ2に支持さ
れ、かつ上部に基板Bが装着されるスピンナ3、このス
ピンナ3を垂直軸心回りに回転させるとともに、基板B
の昇降を行わせるための回転昇降機構4、回転中の基板
Bの表面に純水などの洗浄液を供給する洗浄液ノズル
5、基板Bの回転による遠心力で径方向に飛散する洗浄
液を捕捉する液捕捉手段6、およびこの液捕捉手段6に
より捕捉された洗浄液を気流により吸引する吸引手段7
を備えた構成を有している。
置1の一実施形態を示す一部切欠き斜視図であり、図2
は図1のA−A線断面図である。これらの図に示すよう
に、基板洗浄装置1は、フロアF上に立設された円筒状
の軸ホルダ(軸受部材)2、この軸ホルダ2に支持さ
れ、かつ上部に基板Bが装着されるスピンナ3、このス
ピンナ3を垂直軸心回りに回転させるとともに、基板B
の昇降を行わせるための回転昇降機構4、回転中の基板
Bの表面に純水などの洗浄液を供給する洗浄液ノズル
5、基板Bの回転による遠心力で径方向に飛散する洗浄
液を捕捉する液捕捉手段6、およびこの液捕捉手段6に
より捕捉された洗浄液を気流により吸引する吸引手段7
を備えた構成を有している。
【0016】上記軸ホルダ2は、その下部に下部フラン
ジ20を、上縁部に上部フランジ21を有し、下部フラ
ンジ20でフロアFにボルト止めされている。この軸ホ
ルダ2は、上下方向に延びる円筒体によって形成され、
この円筒体の内部に上記スピンナ3が嵌装されるように
なっている。
ジ20を、上縁部に上部フランジ21を有し、下部フラ
ンジ20でフロアFにボルト止めされている。この軸ホ
ルダ2は、上下方向に延びる円筒体によって形成され、
この円筒体の内部に上記スピンナ3が嵌装されるように
なっている。
【0017】上記スピンナ3は、上下方向に延びる回転
筒31、この回転筒31の頂部に一体に設けられた支持
円盤32、この支持円盤32の周縁部で上方に向けて突
設された支持突片33、上記回転筒31のに嵌装された
スプライン軸(支持軸)34、およびこのスプライン軸
34の上部に固定された支持板35を具備している。上
記支持突片33は、基板Bを支持板35上に固定するた
めの後述するチャック部材37を図略の支持軸回りに回
動自在に支持するためのものである。
筒31、この回転筒31の頂部に一体に設けられた支持
円盤32、この支持円盤32の周縁部で上方に向けて突
設された支持突片33、上記回転筒31のに嵌装された
スプライン軸(支持軸)34、およびこのスプライン軸
34の上部に固定された支持板35を具備している。上
記支持突片33は、基板Bを支持板35上に固定するた
めの後述するチャック部材37を図略の支持軸回りに回
動自在に支持するためのものである。
【0018】上記回転筒31は、外径寸法が上記軸ホル
ダ2の内径寸法よりも若干小さく設定されている。そし
てこの回転筒31は、軸ホルダ2に上下一対のベアリン
グ23を介して嵌装され、これによってスピンナ3が軸
ホルダ2に垂直軸心回りに回転可能に支持されている。
ダ2の内径寸法よりも若干小さく設定されている。そし
てこの回転筒31は、軸ホルダ2に上下一対のベアリン
グ23を介して嵌装され、これによってスピンナ3が軸
ホルダ2に垂直軸心回りに回転可能に支持されている。
【0019】また、上記回転筒31の内径寸法は、上記
スプライン軸34の外径寸法よりも大きく設定されてい
る。そして、このスプライン軸34が回転筒31に嵌装
された状態で回転筒31の内周面とスプライン軸34の
外周面との間にはボールスプライン36が介設され、こ
れによってスプライン軸34は回転筒31と垂直軸心回
りに共回りするとともに、回転筒31に対して上下方向
に相対移動が可能になっている。
スプライン軸34の外径寸法よりも大きく設定されてい
る。そして、このスプライン軸34が回転筒31に嵌装
された状態で回転筒31の内周面とスプライン軸34の
外周面との間にはボールスプライン36が介設され、こ
れによってスプライン軸34は回転筒31と垂直軸心回
りに共回りするとともに、回転筒31に対して上下方向
に相対移動が可能になっている。
【0020】上記支持円盤32は、上面縁部に図1に示
すような円弧形状の4つの整流部材32aを有してい
る。これら4つの整流部材32aを支持円盤32の上面
縁部に周方向に順次取り付けることによって円弧状の各
整流部材32aの弦の部分に囲繞された矩形状の基板装
着部32bが形成され、この基板装着部32bに基板B
が装着されるようになっている。上記支持板35は上記
基板装着部32bに嵌め込まれ得る矩形寸法に設定され
ている。
すような円弧形状の4つの整流部材32aを有してい
る。これら4つの整流部材32aを支持円盤32の上面
縁部に周方向に順次取り付けることによって円弧状の各
整流部材32aの弦の部分に囲繞された矩形状の基板装
着部32bが形成され、この基板装着部32bに基板B
が装着されるようになっている。上記支持板35は上記
基板装着部32bに嵌め込まれ得る矩形寸法に設定され
ている。
【0021】上記支持板35の表面には基板Bを支持す
る複数の支持ピン35aが立設されている。この支持ピ
ン35aは、支持板35が下方位置まで下降した状態で
頂部の高さ位置が整流部材32aの上面高さ位置より若
干低くなるように寸法設定され、これによって基板Bが
基板装着部32bに装着された状態で基板Bの表面と整
流部材32aの表面とが面一状態になるようにしてい
る。
る複数の支持ピン35aが立設されている。この支持ピ
ン35aは、支持板35が下方位置まで下降した状態で
頂部の高さ位置が整流部材32aの上面高さ位置より若
干低くなるように寸法設定され、これによって基板Bが
基板装着部32bに装着された状態で基板Bの表面と整
流部材32aの表面とが面一状態になるようにしてい
る。
【0022】上記支持円盤32は、基板装着部32bに
装着された基板Bを固定する釘状のチャック部材37を
有している。このチャック部材37は、隣合った整流部
材32aのそれぞれの側部に、同側部と上記支持突片3
3とにより挾持された状態でペアーで設けられ、これら
一対のチャック部材37で基板Bの隅部を挟み込むこと
により基板Bが周方向に移動したりずれたりするのを阻
止するようにしている。 上記チャック部材37は、支
持板35の上昇によって図略の支持軸回りに回動して外
方に傾倒し、これによって支持板35に対する基板Bの
着脱操作を行い得るようになるとともに、支持板35の
下降によって支持軸回りに上記と逆方向に回動し、チャ
ック部材37の頭部が基板Bの縁部に係合し、これによ
って基板Bが支持板35に固定されるようになってえい
る。
装着された基板Bを固定する釘状のチャック部材37を
有している。このチャック部材37は、隣合った整流部
材32aのそれぞれの側部に、同側部と上記支持突片3
3とにより挾持された状態でペアーで設けられ、これら
一対のチャック部材37で基板Bの隅部を挟み込むこと
により基板Bが周方向に移動したりずれたりするのを阻
止するようにしている。 上記チャック部材37は、支
持板35の上昇によって図略の支持軸回りに回動して外
方に傾倒し、これによって支持板35に対する基板Bの
着脱操作を行い得るようになるとともに、支持板35の
下降によって支持軸回りに上記と逆方向に回動し、チャ
ック部材37の頭部が基板Bの縁部に係合し、これによ
って基板Bが支持板35に固定されるようになってえい
る。
【0023】本実施形態においては、図1に示すよう
に、対角線に沿い互いに対向するように二組みのチャッ
ク部材37が設けられている。ただし、チャック部材3
7の設置個数は、二組に限定されるものではなく、基板
Bの四隅を対象に四組みを設けてもよいし、基板Bの辺
部をも対象としてそれ以上多く設けてもよい。
に、対角線に沿い互いに対向するように二組みのチャッ
ク部材37が設けられている。ただし、チャック部材3
7の設置個数は、二組に限定されるものではなく、基板
Bの四隅を対象に四組みを設けてもよいし、基板Bの辺
部をも対象としてそれ以上多く設けてもよい。
【0024】このチャック部材37は、支持板35の下
降位置でそれぞれの頭部が立直し、一方支持板35の上
昇位置では、図3に示すように、それぞれの頭部が相互
に離間する方向に傾倒するように構成されている。これ
によって支持板35が上昇したときはチャック部材37
による基板Bの固定が自動的に解除されるとともに、支
持板35が下降したときは基板Bがチャック部材37に
よって自動的に固定される。
降位置でそれぞれの頭部が立直し、一方支持板35の上
昇位置では、図3に示すように、それぞれの頭部が相互
に離間する方向に傾倒するように構成されている。これ
によって支持板35が上昇したときはチャック部材37
による基板Bの固定が自動的に解除されるとともに、支
持板35が下降したときは基板Bがチャック部材37に
よって自動的に固定される。
【0025】上記スプライン軸34は、軸心部分に上下
方向に延びる気体供給管路34aが形成されているとと
もに、頂部には気体噴射ノズル34bが備えられ、この
気体噴射ノズル34bからの気体の噴射によって基板装
着部32bに装着された基板Bの裏面に洗浄液が付着し
ないようにしている。
方向に延びる気体供給管路34aが形成されているとと
もに、頂部には気体噴射ノズル34bが備えられ、この
気体噴射ノズル34bからの気体の噴射によって基板装
着部32bに装着された基板Bの裏面に洗浄液が付着し
ないようにしている。
【0026】また、気体噴射ノズル34bの上方には、
基板Bの上面に臨む上部気体噴射ノズル34cが設けら
れ、この上部気体噴射ノズル34cからの気体の噴射に
よって基板Bの表面に付着している洗浄液ノズル5から
の洗浄液を吹き飛ばすようにしている。なお、上記上部
気体噴射ノズル34cは、図略の駆動機構によって移動
可能に構成され、基板Bの表面に気体を噴射するときは
基板Bの中央上部に位置するとともに、基板Bが昇降す
るときは、基板Bに干渉しない位置に待避するようにな
っている。
基板Bの上面に臨む上部気体噴射ノズル34cが設けら
れ、この上部気体噴射ノズル34cからの気体の噴射に
よって基板Bの表面に付着している洗浄液ノズル5から
の洗浄液を吹き飛ばすようにしている。なお、上記上部
気体噴射ノズル34cは、図略の駆動機構によって移動
可能に構成され、基板Bの表面に気体を噴射するときは
基板Bの中央上部に位置するとともに、基板Bが昇降す
るときは、基板Bに干渉しない位置に待避するようにな
っている。
【0027】上記洗浄液ノズル5は、図1に示すよう
に、複数本が下方位置にある基板Bの表面に向かって先
下がりに傾斜して並設され、これらの洗浄液ノズル5か
らの洗浄液の噴射供給によって基板Bの表面が洗浄され
るようになっている。これら洗浄液ノズル5は、図略の
駆動機構によって出没可能に構成され、基板Bに洗浄液
を供給しないときは昇降するスピンナ3の整流部材32
aに干渉しない位置に待避するようになっている。
に、複数本が下方位置にある基板Bの表面に向かって先
下がりに傾斜して並設され、これらの洗浄液ノズル5か
らの洗浄液の噴射供給によって基板Bの表面が洗浄され
るようになっている。これら洗浄液ノズル5は、図略の
駆動機構によって出没可能に構成され、基板Bに洗浄液
を供給しないときは昇降するスピンナ3の整流部材32
aに干渉しない位置に待避するようになっている。
【0028】また、上記基板洗浄装置1は、図1に示す
ように、基板装着部32bに装着された基板Bの表面を
清浄化するブラッシング手段8を有している。このブラ
ッシング手段8は、基板洗浄装置1の近傍に立設された
垂直ロッド81、この垂直ロッド81の上端部に水平方
向に延びるように延設され、図略の駆動機構によって基
板B上で揺動される支持杆82、およびこの支持杆82
の先端下面部において図略の垂直軸回りに回転可能に軸
支され、図略の駆動機構によって駆動される回転ブラシ
83とから構成されている。そして、この支持杆82
は、基板Bの表面をブラッシングするとき、図1に実線
で示すようにセッティングされ、ブラッシングしないと
きには、二点鎖線で示す待避位置に待避するようにして
いる。
ように、基板装着部32bに装着された基板Bの表面を
清浄化するブラッシング手段8を有している。このブラ
ッシング手段8は、基板洗浄装置1の近傍に立設された
垂直ロッド81、この垂直ロッド81の上端部に水平方
向に延びるように延設され、図略の駆動機構によって基
板B上で揺動される支持杆82、およびこの支持杆82
の先端下面部において図略の垂直軸回りに回転可能に軸
支され、図略の駆動機構によって駆動される回転ブラシ
83とから構成されている。そして、この支持杆82
は、基板Bの表面をブラッシングするとき、図1に実線
で示すようにセッティングされ、ブラッシングしないと
きには、二点鎖線で示す待避位置に待避するようにして
いる。
【0029】上記回転昇降機構4は、スプライン軸34
を回転させる第1モータ(駆動手段)4aと、上記スプ
ライン軸34を昇降させる第2モータ4dとを備えてい
る。上記第1モータ4aは、フロアF下部の回転筒31
近傍に配置されている一方、上記回転筒31には、その
下端部に回転筒31と一体の従動プーリ31aが形成さ
れている。そして、この従動プーリ31aと上記第1モ
ータ4aの駆動軸に設けられた駆動プーリ4bとの間に
は駆動ベルト4cが張設されている。従って、第1モー
タ4aの駆動回転は、駆動プーリ4b、駆動ベルト4c
および従動プーリ31aを介して回転筒31に伝達さ
れ、これによって回転筒31が回転することになる。
を回転させる第1モータ(駆動手段)4aと、上記スプ
ライン軸34を昇降させる第2モータ4dとを備えてい
る。上記第1モータ4aは、フロアF下部の回転筒31
近傍に配置されている一方、上記回転筒31には、その
下端部に回転筒31と一体の従動プーリ31aが形成さ
れている。そして、この従動プーリ31aと上記第1モ
ータ4aの駆動軸に設けられた駆動プーリ4bとの間に
は駆動ベルト4cが張設されている。従って、第1モー
タ4aの駆動回転は、駆動プーリ4b、駆動ベルト4c
および従動プーリ31aを介して回転筒31に伝達さ
れ、これによって回転筒31が回転することになる。
【0030】一方、フロアFの裏面から支柱40が垂設
され、その下端部に上記第1モータ4a側に向かって突
設された水平ロッド40aが設けられている。この水平
ロッド40aとフロアFとの間には、同ロッド40aに
平行にガイドロッド45とネジ軸43とが設けられてい
る。上記ガイドロッド45はフロアFおよび水平ロッド
40a間に固定されているのに対し、上記ネジ軸43
は、フロアFおよび水平ロッド40a間に自軸心回りに
回転可能に支持されているとともに、このネジ軸43の
中心軸が水平ロッド40aを貫通して垂下され、これに
従動プーリ43aが取り付けられている。
され、その下端部に上記第1モータ4a側に向かって突
設された水平ロッド40aが設けられている。この水平
ロッド40aとフロアFとの間には、同ロッド40aに
平行にガイドロッド45とネジ軸43とが設けられてい
る。上記ガイドロッド45はフロアFおよび水平ロッド
40a間に固定されているのに対し、上記ネジ軸43
は、フロアFおよび水平ロッド40a間に自軸心回りに
回転可能に支持されているとともに、このネジ軸43の
中心軸が水平ロッド40aを貫通して垂下され、これに
従動プーリ43aが取り付けられている。
【0031】また、上記第2モータ4dは、駆動軸に取
り付けられた上下方向に延びる駆動プーリ4eを有し、
この駆動プーリ4eと上記従動プーリ43aとの間に駆
動ベルト4fが張設され、これによって第2モータ4d
の駆動回転が駆動プーリ4e、駆動ベルト4fおよび従
動プーリ43aを介してネジ軸43に伝達されるように
なっている。
り付けられた上下方向に延びる駆動プーリ4eを有し、
この駆動プーリ4eと上記従動プーリ43aとの間に駆
動ベルト4fが張設され、これによって第2モータ4d
の駆動回転が駆動プーリ4e、駆動ベルト4fおよび従
動プーリ43aを介してネジ軸43に伝達されるように
なっている。
【0032】一方、スプライン軸34は、下端面から垂
設された駆動軸41aを有しており、この駆動軸41a
と、上記ネジ軸43と、上記ガイドロッド45とに昇降
案内板41bが外嵌されている。この昇降案内板41b
は、上記駆動軸41aに対し上下動が規制された状態で
駆動軸41aが回転し得るように駆動軸41aに接続さ
れているとともに、ネジ軸43およびガイドロッド45
に対し、その外周面に摺接状態で上下動し得るようにな
っている。そして、昇降案内板41bの右方下面部に
は、駆動軸41aが上下方向に貫通したロータリーエン
コーダ41が設けられ、このロータリーエンコーダ41
によってスプライン軸34の回転変位や回転速度を検出
することができるようになっている。
設された駆動軸41aを有しており、この駆動軸41a
と、上記ネジ軸43と、上記ガイドロッド45とに昇降
案内板41bが外嵌されている。この昇降案内板41b
は、上記駆動軸41aに対し上下動が規制された状態で
駆動軸41aが回転し得るように駆動軸41aに接続さ
れているとともに、ネジ軸43およびガイドロッド45
に対し、その外周面に摺接状態で上下動し得るようにな
っている。そして、昇降案内板41bの右方下面部に
は、駆動軸41aが上下方向に貫通したロータリーエン
コーダ41が設けられ、このロータリーエンコーダ41
によってスプライン軸34の回転変位や回転速度を検出
することができるようになっている。
【0033】また、上記ネジ軸43には昇降案内板41
bの下部でナット部材44が螺着され、ネジ軸43の回
転でこのナット部材44が昇降するようになっている。
このナット部材44は、その下部に一体に取り付けられ
ネジ軸43に摺接状態で外嵌された図2の右方に延びる
ナット支持部材42aを有しており、このナット支持部
材42aの右方に延びた部分にはネジ軸43に平行に上
方に延びる接続ロッド42が立設されている。
bの下部でナット部材44が螺着され、ネジ軸43の回
転でこのナット部材44が昇降するようになっている。
このナット部材44は、その下部に一体に取り付けられ
ネジ軸43に摺接状態で外嵌された図2の右方に延びる
ナット支持部材42aを有しており、このナット支持部
材42aの右方に延びた部分にはネジ軸43に平行に上
方に延びる接続ロッド42が立設されている。
【0034】そして、この接続ロッド42の上端部は、
上記昇降案内板41bの略中央部分に連結され、これに
よってナット部材44が昇降すると、この昇降がナット
支持部材42aおよび接続ロッド42を介して昇降案内
板41bに伝達され、これによってスプライン軸34が
昇降するようになっている。また、上記接続ロッド42
の中間部分には、自在継手の一種であるフローティング
ジョイント42bが介設され、これによって接続ロッド
42の心狂いを吸収するようにし、スプライン軸34の
昇降がスムーズに行い得るようにしている。
上記昇降案内板41bの略中央部分に連結され、これに
よってナット部材44が昇降すると、この昇降がナット
支持部材42aおよび接続ロッド42を介して昇降案内
板41bに伝達され、これによってスプライン軸34が
昇降するようになっている。また、上記接続ロッド42
の中間部分には、自在継手の一種であるフローティング
ジョイント42bが介設され、これによって接続ロッド
42の心狂いを吸収するようにし、スプライン軸34の
昇降がスムーズに行い得るようにしている。
【0035】そして本実施形態においては、上記第2モ
ータ4d、この第2モータ4dの駆動回転によって回転
する上記ネジ軸43、このネジ軸43に螺着され、その
回転で昇降する上記ナット部材44、このナット部材4
4に固定された上記ナット支持部材42a、このナット
支持部材42aに取り付けられた上記接続ロッド42、
およびこの接続ロッド42に接続され、上記ガイドロッ
ド45およびネジ軸43に案内されて昇降し、この昇降
によってスプライン軸34を昇降させる上記昇降案内板
41bによって本発明に係る切換手段が形成されてい
る。
ータ4d、この第2モータ4dの駆動回転によって回転
する上記ネジ軸43、このネジ軸43に螺着され、その
回転で昇降する上記ナット部材44、このナット部材4
4に固定された上記ナット支持部材42a、このナット
支持部材42aに取り付けられた上記接続ロッド42、
およびこの接続ロッド42に接続され、上記ガイドロッ
ド45およびネジ軸43に案内されて昇降し、この昇降
によってスプライン軸34を昇降させる上記昇降案内板
41bによって本発明に係る切換手段が形成されてい
る。
【0036】この回転昇降機構4の構成によれば、支持
板35が支持円盤32上に下降した下方位置にある状態
(図2)において、第2モータ4dを所定方向に駆動回
転させることにより、この回転が駆動プーリ4e、駆動
ベルト4f、従動プーリ43aを介してネジ軸43に伝
えられ、このネジ軸43の所定方向の回転によってナッ
ト部材44が上昇する。この上昇は、ナット支持部材4
2aおよび接続ロッド42を介して昇降案内板41bに
伝達され、これによって昇降案内板41bがガイドロッ
ド45に案内されつつ上昇するため、スプライン軸34
が上方に押し上げられ、図3に示すように、支持板35
が支持円盤32の基板装着部32bから上方に突出した
上方位置に位置する状態になる。
板35が支持円盤32上に下降した下方位置にある状態
(図2)において、第2モータ4dを所定方向に駆動回
転させることにより、この回転が駆動プーリ4e、駆動
ベルト4f、従動プーリ43aを介してネジ軸43に伝
えられ、このネジ軸43の所定方向の回転によってナッ
ト部材44が上昇する。この上昇は、ナット支持部材4
2aおよび接続ロッド42を介して昇降案内板41bに
伝達され、これによって昇降案内板41bがガイドロッ
ド45に案内されつつ上昇するため、スプライン軸34
が上方に押し上げられ、図3に示すように、支持板35
が支持円盤32の基板装着部32bから上方に突出した
上方位置に位置する状態になる。
【0037】また、上記支持板35が上方位置にある状
態(図3)において、第2モータ4dを上記と逆の方向
に駆動回転させることにより、ネジ軸43の上記と逆方
向の回転によって昇降案内板41bがガイドロッド45
に案内されつつ下降し、これによるスプライン軸34の
下降によって支持板35は図2に示す下方位置に復帰し
た状態になる。
態(図3)において、第2モータ4dを上記と逆の方向
に駆動回転させることにより、ネジ軸43の上記と逆方
向の回転によって昇降案内板41bがガイドロッド45
に案内されつつ下降し、これによるスプライン軸34の
下降によって支持板35は図2に示す下方位置に復帰し
た状態になる。
【0038】上記液捕捉手段6は、上記回転筒31の上
部および支持円盤32の外周を包囲した上下部開放状態
のインナーカップ61と、このインナーカップ61の外
周を離間状態で包囲したアウターカップ62とを具備し
ている。これらインナーカップ61とアウターカップ6
2とで本発明に係る環状フード部が形成されている。上
記インナーカップ61は、図2に示すように、その上縁
部が、下方位置にある基板Bの高さ位置よりも上方に突
出され、かつ、この突出した部分が中心方向に向かって
湾曲され、これによって基板Bの回転による洗浄水の上
方への飛散を確実に阻止し得るようにしている。
部および支持円盤32の外周を包囲した上下部開放状態
のインナーカップ61と、このインナーカップ61の外
周を離間状態で包囲したアウターカップ62とを具備し
ている。これらインナーカップ61とアウターカップ6
2とで本発明に係る環状フード部が形成されている。上
記インナーカップ61は、図2に示すように、その上縁
部が、下方位置にある基板Bの高さ位置よりも上方に突
出され、かつ、この突出した部分が中心方向に向かって
湾曲され、これによって基板Bの回転による洗浄水の上
方への飛散を確実に阻止し得るようにしている。
【0039】上記アウターカップ62は径方向の中央部
に向かって先下がりの傾斜が形成された環状底部63を
有している。この環状底部63の内周側には中心方向に
向かって突出した環状突起63aが設けられ、この環状
突起63aが、軸ホルダ2の上縁部に形成された上部フ
ランジ21に載置されることによってアウターカップ6
2が軸ホルダ2に支持された状態になっている。また、
環状底部63の最低部には下方へのドレン管63cが連
通され、このドレン管63cを介して環状底部63に溜
った液が系外に排出されるようになっている。
に向かって先下がりの傾斜が形成された環状底部63を
有している。この環状底部63の内周側には中心方向に
向かって突出した環状突起63aが設けられ、この環状
突起63aが、軸ホルダ2の上縁部に形成された上部フ
ランジ21に載置されることによってアウターカップ6
2が軸ホルダ2に支持された状態になっている。また、
環状底部63の最低部には下方へのドレン管63cが連
通され、このドレン管63cを介して環状底部63に溜
った液が系外に排出されるようになっている。
【0040】上記インナーカップ61は、その内周面下
部に周方向に等間隔で設けられた複数のボルト受け61
aを有している。これらのボルト受け61aの各々には
上下方向にボルト61bが螺着され、これらボルト61
bの下端部が環状底部63に設けられた支持片63bの
孔に嵌め込まれた状態でインナーカップ61がアウター
カップ62内に装着されている。従って、ボルト61b
のボルト受け61aに対する螺着量を変更することによ
って、インナーカップ61の下縁部と環状底部63の上
面部との間の隙間寸法を調節することができるようにな
っている。
部に周方向に等間隔で設けられた複数のボルト受け61
aを有している。これらのボルト受け61aの各々には
上下方向にボルト61bが螺着され、これらボルト61
bの下端部が環状底部63に設けられた支持片63bの
孔に嵌め込まれた状態でインナーカップ61がアウター
カップ62内に装着されている。従って、ボルト61b
のボルト受け61aに対する螺着量を変更することによ
って、インナーカップ61の下縁部と環状底部63の上
面部との間の隙間寸法を調節することができるようにな
っている。
【0041】また、上記インナーカップ61は、下部外
周面の全周に亘り複数枚の調節板64を有している。こ
れらの調節板64には、上下方向に延びる長孔64a
(図1)が穿設されており、この長孔64aを貫通した
ボルト64bがインナーカップ61の図略のボルト孔に
螺着されることによって調節板64がインナーカップ6
1に固定されている。これらの調節板64は、ボルト6
4bを弛めた状態で上下動させることが可能であり、こ
れによって調節板64の下縁部と環状底部63の上面と
の間の隙間寸法を調節することができるようになってい
る。
周面の全周に亘り複数枚の調節板64を有している。こ
れらの調節板64には、上下方向に延びる長孔64a
(図1)が穿設されており、この長孔64aを貫通した
ボルト64bがインナーカップ61の図略のボルト孔に
螺着されることによって調節板64がインナーカップ6
1に固定されている。これらの調節板64は、ボルト6
4bを弛めた状態で上下動させることが可能であり、こ
れによって調節板64の下縁部と環状底部63の上面と
の間の隙間寸法を調節することができるようになってい
る。
【0042】上記吸引手段7は、上流端(排気口)が上
記環状底部63に接続された複数の吸引管(連通管)7
1、これら吸引管71の下流端が接続された吸引ボック
ス72、およびこの吸引ボックス72の下流端に接続さ
れた吸引ブロア73を備えている。上記吸引ボックス7
2は、各吸引管71に対する吸引ブロア73の吸引力を
均一化するためのものである。
記環状底部63に接続された複数の吸引管(連通管)7
1、これら吸引管71の下流端が接続された吸引ボック
ス72、およびこの吸引ボックス72の下流端に接続さ
れた吸引ブロア73を備えている。上記吸引ボックス7
2は、各吸引管71に対する吸引ブロア73の吸引力を
均一化するためのものである。
【0043】かかる吸引手段7は、スピンナ3の高速回
転による遠心力で径方向に吹き飛ばされた基板B表面の
付着洗浄液を吸引捕捉するためのものであり、吹き飛ば
された洗浄液はインナーカップ61の内側に衝突して微
細な液滴になり、この液滴が吸引ブロア73の吸引力に
よってインナーカップ61内に形成された気流と共に吸
引管71内を流下し、吸引ブロア73の下流側に設けら
れた図略のエリミネータで捕捉されるようになってい
る。
転による遠心力で径方向に吹き飛ばされた基板B表面の
付着洗浄液を吸引捕捉するためのものであり、吹き飛ば
された洗浄液はインナーカップ61の内側に衝突して微
細な液滴になり、この液滴が吸引ブロア73の吸引力に
よってインナーカップ61内に形成された気流と共に吸
引管71内を流下し、吸引ブロア73の下流側に設けら
れた図略のエリミネータで捕捉されるようになってい
る。
【0044】また、上記吸引管71は、その上端部が上
記環状底部63の上面部よりも上方に突出した状態でア
ウターカップ62に接続され、この突出した部分で突出
部71aが形成されている。かかる突出部71aを設け
ることによって、アウターカップ62の環状底部63に
溜った洗浄液が吸引管71内に流れ込むのを防止し得る
ようになっている。
記環状底部63の上面部よりも上方に突出した状態でア
ウターカップ62に接続され、この突出した部分で突出
部71aが形成されている。かかる突出部71aを設け
ることによって、アウターカップ62の環状底部63に
溜った洗浄液が吸引管71内に流れ込むのを防止し得る
ようになっている。
【0045】上記アウターカップ62の環状突起63a
の上部には、環状の集塵リング65が設けられている。
この集塵リング65は、回転筒31の上部を包囲し、こ
の部分からの発塵を吸引するためのものであり、内周面
に集塵口65aが設けられているとともに、外周面には
外方に通じる複数の排気管65bが設けられている。こ
の排気管65bは、その下流端が吸引ボックス72に接
続されて、回転筒31の周りに生じた粉塵は、集塵リン
グ65の集塵口65aから吸引された空気と共に捕捉さ
れ、吸引ボックス72および吸引ブロア73を介して系
外に排出されるようになっている。
の上部には、環状の集塵リング65が設けられている。
この集塵リング65は、回転筒31の上部を包囲し、こ
の部分からの発塵を吸引するためのものであり、内周面
に集塵口65aが設けられているとともに、外周面には
外方に通じる複数の排気管65bが設けられている。こ
の排気管65bは、その下流端が吸引ボックス72に接
続されて、回転筒31の周りに生じた粉塵は、集塵リン
グ65の集塵口65aから吸引された空気と共に捕捉さ
れ、吸引ボックス72および吸引ブロア73を介して系
外に排出されるようになっている。
【0046】図4は、吸引管71の排気口構造の第1実
施形態を示す平面略図である。第1実施形態の排気口構
造においては、環状底部63の同一円周上に周方向に略
等分配置で同一の直径を有する三つの排気口711が設
けられている。従って、環状底部63における各排気口
711の吸引ブロア73による吸引力は略均等になって
おり、インナーカップ61内における各吸引管71に向
かう気流に偏りはなく、各吸引管71から等量の気流が
吸引される。
施形態を示す平面略図である。第1実施形態の排気口構
造においては、環状底部63の同一円周上に周方向に略
等分配置で同一の直径を有する三つの排気口711が設
けられている。従って、環状底部63における各排気口
711の吸引ブロア73による吸引力は略均等になって
おり、インナーカップ61内における各吸引管71に向
かう気流に偏りはなく、各吸引管71から等量の気流が
吸引される。
【0047】図5は、吸引管71の排気口構造の第2実
施形態を示す平面略図である。第2実施形態において
は、環状底部63の同一円周上に略等間隔に排気口71
1および排気口712が設けられている。二つの排気口
711はそれぞれ同じ開口面積であり、一方、排気口7
12は周方向に隣接した二つの小径排気口712aから
なり、これら二つの小径排気口712aの合計の開口面
積は、上記一つの排気口711の開口面積に等しくして
ある。二つの小径排気口712aを有する排気口712
が排気口711に見合うものとして取り扱われ、排気口
711と、排気口712とが周方向に略等分配置されて
いる。こうすることにより、インナーカップ61内にお
いて排気口711,712に向かう気流に偏りが生じな
いようにしている。
施形態を示す平面略図である。第2実施形態において
は、環状底部63の同一円周上に略等間隔に排気口71
1および排気口712が設けられている。二つの排気口
711はそれぞれ同じ開口面積であり、一方、排気口7
12は周方向に隣接した二つの小径排気口712aから
なり、これら二つの小径排気口712aの合計の開口面
積は、上記一つの排気口711の開口面積に等しくして
ある。二つの小径排気口712aを有する排気口712
が排気口711に見合うものとして取り扱われ、排気口
711と、排気口712とが周方向に略等分配置されて
いる。こうすることにより、インナーカップ61内にお
いて排気口711,712に向かう気流に偏りが生じな
いようにしている。
【0048】また、第2実施形態にあっては、吸引管7
1の各管路に開閉バルブ74が設けられ、これら開閉バ
ルブ74の開閉状態を調節することによって各吸引管7
1からの吸引量の微調節を行うことができるようにして
いる。これにより各吸引管71からの吸引量をより均一
にすることが可能になる。
1の各管路に開閉バルブ74が設けられ、これら開閉バ
ルブ74の開閉状態を調節することによって各吸引管7
1からの吸引量の微調節を行うことができるようにして
いる。これにより各吸引管71からの吸引量をより均一
にすることが可能になる。
【0049】図6は、吸引管71の排気口構造の第3実
施形態を示す平面略図である。第3実施形態において
は、環状底部63の同一円周上に周方向に同一間隔で同
一の直径を有する円形の四つの排気口711が設けられ
ている。排気口の個数を三つから四つに増やしたことに
より、インナーカップ61内での気流分布が周方向でよ
り偏りのないものになる。
施形態を示す平面略図である。第3実施形態において
は、環状底部63の同一円周上に周方向に同一間隔で同
一の直径を有する円形の四つの排気口711が設けられ
ている。排気口の個数を三つから四つに増やしたことに
より、インナーカップ61内での気流分布が周方向でよ
り偏りのないものになる。
【0050】以下本発明の作用について説明する。ま
ず、図3に示すように、支持円盤32の上方に突出した
支持板35に、図略の上流側の処理装置から搬送された
基板Bが載置される。ついで第2モータ42の駆動で支
持板35を降下させることにより、図1および図2に示
すように、基板Bはスピンナ3の表面の基板装着部32
bに装着され、かつ、チャック部材37によって周方向
の移動が規制された状態になる。
ず、図3に示すように、支持円盤32の上方に突出した
支持板35に、図略の上流側の処理装置から搬送された
基板Bが載置される。ついで第2モータ42の駆動で支
持板35を降下させることにより、図1および図2に示
すように、基板Bはスピンナ3の表面の基板装着部32
bに装着され、かつ、チャック部材37によって周方向
の移動が規制された状態になる。
【0051】この状態で、洗浄液ノズル5を基板Bの表
面に臨ませ、その先端から洗浄液を噴出させるととも
に、ブラッシング手段8の回転ブラシ83を基板Bの表
面に接触させて回転させ、さらに第1モータ41の駆動
によってスピンナ3を回転させる。同時に吸引ブロア7
3を駆動してインナーカップ61内に吸引管71に向か
う気流を発生させる。そうすると、支持板35に装着さ
れて回転している基板Bの表面は、洗浄液ノズル5から
の洗浄液の供給を受けつつ回転ブラシ83によって洗浄
される。洗浄後の洗浄液は基板Bの表面から環状底部6
3上に落下し、ドレン管63cを介して系外に導出され
る。
面に臨ませ、その先端から洗浄液を噴出させるととも
に、ブラッシング手段8の回転ブラシ83を基板Bの表
面に接触させて回転させ、さらに第1モータ41の駆動
によってスピンナ3を回転させる。同時に吸引ブロア7
3を駆動してインナーカップ61内に吸引管71に向か
う気流を発生させる。そうすると、支持板35に装着さ
れて回転している基板Bの表面は、洗浄液ノズル5から
の洗浄液の供給を受けつつ回転ブラシ83によって洗浄
される。洗浄後の洗浄液は基板Bの表面から環状底部6
3上に落下し、ドレン管63cを介して系外に導出され
る。
【0052】そして、上記洗浄処理が完了すると、ブラ
ッシング手段8は基板Bの表面から後退され、洗浄液ノ
ズル5は洗浄液の供給が停止されたのち後退され、この
状態で第1モータ41の回転速度を略2000rpmに
まで上げる液切り処理が施される。
ッシング手段8は基板Bの表面から後退され、洗浄液ノ
ズル5は洗浄液の供給が停止されたのち後退され、この
状態で第1モータ41の回転速度を略2000rpmに
まで上げる液切り処理が施される。
【0053】このとき、吸引ブロア73は駆動を継続し
ているので、基板Bの表面に残留している洗浄液は遠心
力で高速回転している基板Bの径方向に吹き飛ばされ、
インナーカップ61の内壁面に衝突し、この衝突時に微
細な液滴になってインナーカップ61内に飛び散るが、
インナーカップ61内には吸引ブロア73による下降気
流が形成されているため、飛び散った液滴はこの下降気
流と共に、吸引管71を通って吸引ボックス72に吸引
され、さらに吸引ブロア73を通って系外の図略のエル
ミネータに導入される。
ているので、基板Bの表面に残留している洗浄液は遠心
力で高速回転している基板Bの径方向に吹き飛ばされ、
インナーカップ61の内壁面に衝突し、この衝突時に微
細な液滴になってインナーカップ61内に飛び散るが、
インナーカップ61内には吸引ブロア73による下降気
流が形成されているため、飛び散った液滴はこの下降気
流と共に、吸引管71を通って吸引ボックス72に吸引
され、さらに吸引ブロア73を通って系外の図略のエル
ミネータに導入される。
【0054】そして、本発明においては、インナーカッ
プ61内での気流の形成状態が各吸引管71によって異
なることのないように吸引管71を径方向に略等間隔に
配置したり、各吸引管71に開閉バルブ74を設けて吸
引流量を調節するようにしているため、インナーカップ
61内での下降気流は周方向でバラツキの少ないバラン
スのとれた状態になっており、吸引状態のアンバランス
に起因した液滴の基板B表面への吹き戻しが確実に抑制
され、これによって一旦液切りした基板B表面の洗浄液
による再汚染が確実に防止される。
プ61内での気流の形成状態が各吸引管71によって異
なることのないように吸引管71を径方向に略等間隔に
配置したり、各吸引管71に開閉バルブ74を設けて吸
引流量を調節するようにしているため、インナーカップ
61内での下降気流は周方向でバラツキの少ないバラン
スのとれた状態になっており、吸引状態のアンバランス
に起因した液滴の基板B表面への吹き戻しが確実に抑制
され、これによって一旦液切りした基板B表面の洗浄液
による再汚染が確実に防止される。
【0055】すなわち、上記の実施形態においては、複
数の排気口は回転支持部材の回転中心に対して周方向に
略等分配置されているが、「排気口の略等分配置」の概
念は、複数の吸引管71に対して均一な気流を形成する
ことが目的であることから、必ずしもスプンナ3の回転
中心を介して対向位置に配置されていることを必須とす
るものではなく、各吸引管71に対して均一な気流が得
られるように、前述した吸引管71の開口径を同一径と
し、環状フード部内に均等配置する場合に限らず、吸引
管71の開口径を吸引管毎に変化させたり、吸引管71
の排気経路毎に設けられた開閉バルブ74により流量調
整を行うことにより、吸引管71の等分配置の位置から
大きく外れた配置であっても、上記請求項1に記載の
「略等分配置」に包含されるものである。
数の排気口は回転支持部材の回転中心に対して周方向に
略等分配置されているが、「排気口の略等分配置」の概
念は、複数の吸引管71に対して均一な気流を形成する
ことが目的であることから、必ずしもスプンナ3の回転
中心を介して対向位置に配置されていることを必須とす
るものではなく、各吸引管71に対して均一な気流が得
られるように、前述した吸引管71の開口径を同一径と
し、環状フード部内に均等配置する場合に限らず、吸引
管71の開口径を吸引管毎に変化させたり、吸引管71
の排気経路毎に設けられた開閉バルブ74により流量調
整を行うことにより、吸引管71の等分配置の位置から
大きく外れた配置であっても、上記請求項1に記載の
「略等分配置」に包含されるものである。
【0056】本発明は、上記の実施形態に限定されるも
のではなく、以下の実施形態をも採用し得るものであ
る。
のではなく、以下の実施形態をも採用し得るものであ
る。
【0057】(1)上記の実施形態においては、インナ
ーカップ61の外周にさらにアウターカップ62が設け
られ、これら両カップ61,62によってスピンナ3が
二重に覆われているが、アウターカップ62は必須では
なく、特に設けなくてもよい。ただしアウターカップ6
2を採用しない場合は、インナーカップ61を有底にす
る必要がある。
ーカップ61の外周にさらにアウターカップ62が設け
られ、これら両カップ61,62によってスピンナ3が
二重に覆われているが、アウターカップ62は必須では
なく、特に設けなくてもよい。ただしアウターカップ6
2を採用しない場合は、インナーカップ61を有底にす
る必要がある。
【0058】(2)上記の実施形態においては、排気口
711,712等はアウターカップ62の環状底部63
に形成されているが、インナーカップ61の周壁、ある
いはその下部に形成してもよい。
711,712等はアウターカップ62の環状底部63
に形成されているが、インナーカップ61の周壁、ある
いはその下部に形成してもよい。
【0059】(3)上記の実施形態においては、回転昇
降機構4の昇降手段としてネジ軸43が用いられている
が、ネジ軸43を用いる代りにシリンダ機構によってス
プライン軸34を昇降させるようにしてもよい。
降機構4の昇降手段としてネジ軸43が用いられている
が、ネジ軸43を用いる代りにシリンダ機構によってス
プライン軸34を昇降させるようにしてもよい。
【0060】(4)上記の実施形態においては、環状底
部63に複数設けられた排気口711,712等は、そ
れぞれが一つの開口を有するもので形成されたり、一つ
の開口のものと複数の開口を有するものとが混在されて
形成されているが、すべての排気口を複数の開口を備え
たものにしてもよい。
部63に複数設けられた排気口711,712等は、そ
れぞれが一つの開口を有するもので形成されたり、一つ
の開口のものと複数の開口を有するものとが混在されて
形成されているが、すべての排気口を複数の開口を備え
たものにしてもよい。
【0061】(5)上記の実施形態においては、環状底
部63に複数設けられた排気口711,712は、合計
で三つまたは四つにしているが、三つまたは四つに限定
されるものではなく、二つであってもよく、また五つ以
上であってもよい。なお、排気口の個数については、実
際はレイアウト上の制約や設備コストとの兼ね合いで決
定されるのが一般的である。
部63に複数設けられた排気口711,712は、合計
で三つまたは四つにしているが、三つまたは四つに限定
されるものではなく、二つであってもよく、また五つ以
上であってもよい。なお、排気口の個数については、実
際はレイアウト上の制約や設備コストとの兼ね合いで決
定されるのが一般的である。
【0062】(6)上記の実施形態においては、洗浄液
ノズル5は、基板洗浄装置1の近傍に、装着された基板
Bに対して出没自在に設けられているが、こうする代わ
りに、図1に二点鎖線で示すように、洗浄のズル5aを
ブラッシング手段8の支持杆82の先端部分に設けるよ
うにしてもよい。
ノズル5は、基板洗浄装置1の近傍に、装着された基板
Bに対して出没自在に設けられているが、こうする代わ
りに、図1に二点鎖線で示すように、洗浄のズル5aを
ブラッシング手段8の支持杆82の先端部分に設けるよ
うにしてもよい。
【0063】
【発明の効果】上記請求項1記載の基板洗浄装置は、洗
浄後の基板を回転させて液切りを行う基板洗浄装置にお
いて、軸受部材に軸支された支持軸を下部に有し、上記
基板を上部で支持する回転支持部材と、上記支持軸に回
転力を与える駆動手段と、上方を開放した状態で上記回
転支持部材を囲繞して洗浄室を形成する環状フード部
と、この環状フード部に設けられた複数の排気口と、こ
の排気口に連通した吸引手段とからなり、上記複数の排
気口は、上記回転支持部材に支持された上記基板の水平
面以下であって、かつ、上記回転支持部材の回転中心に
対して周方向に略等分配置されているものであるため、
洗浄液による洗浄後の基板を、回転支持部材に保持させ
た状態で駆動手段により回転させることにより、基板に
付着残留している洗浄液は、遠心力によって径方向に飛
び散り、環状フード部の内周壁面に衝突して捕捉され、
上記衝突によって微細な液滴になる。この微細な液滴
は、環状フード部内において吸引手段の吸引力により複
数の排気口に向かうように形成された下降気流と共に環
状フード部内から吸引除去される。
浄後の基板を回転させて液切りを行う基板洗浄装置にお
いて、軸受部材に軸支された支持軸を下部に有し、上記
基板を上部で支持する回転支持部材と、上記支持軸に回
転力を与える駆動手段と、上方を開放した状態で上記回
転支持部材を囲繞して洗浄室を形成する環状フード部
と、この環状フード部に設けられた複数の排気口と、こ
の排気口に連通した吸引手段とからなり、上記複数の排
気口は、上記回転支持部材に支持された上記基板の水平
面以下であって、かつ、上記回転支持部材の回転中心に
対して周方向に略等分配置されているものであるため、
洗浄液による洗浄後の基板を、回転支持部材に保持させ
た状態で駆動手段により回転させることにより、基板に
付着残留している洗浄液は、遠心力によって径方向に飛
び散り、環状フード部の内周壁面に衝突して捕捉され、
上記衝突によって微細な液滴になる。この微細な液滴
は、環状フード部内において吸引手段の吸引力により複
数の排気口に向かうように形成された下降気流と共に環
状フード部内から吸引除去される。
【0064】そして、そして、上記複数の排気口は、そ
れらの各々が周方向に略等分配置されているため、環状
フード部内において各排気口に向かう下降気流がアンバ
ランスにならず、環状フード部内の気流の乱れが防止さ
れ、この乱れに起因した気流の吹き上げ現象が発生しな
い。従って、この気流の吹き上げ現象による液滴の基板
表面への吹き戻しが防止され、基板の表面に洗浄液の再
付着によって生じる汚染を確実に防止する上で好都合で
ある。
れらの各々が周方向に略等分配置されているため、環状
フード部内において各排気口に向かう下降気流がアンバ
ランスにならず、環状フード部内の気流の乱れが防止さ
れ、この乱れに起因した気流の吹き上げ現象が発生しな
い。従って、この気流の吹き上げ現象による液滴の基板
表面への吹き戻しが防止され、基板の表面に洗浄液の再
付着によって生じる汚染を確実に防止する上で好都合で
ある。
【0065】上記請求項2記載の基板洗浄装置は、回転
支持部材の支持軸を昇降させる昇降機構と、上記回転支
持部材上に基板を受け取る上方位置と、上記回転支持部
材を上記環状フード部内で回転させる下方位置とに切り
換える切換手段とを備えてなるものであるため、切換手
段の操作により、駆動回転を停止させた状態の支持軸を
昇降機構によって上昇させ、回転支持部材を上方位置に
位置させることにより、回転支持部材に対する基板の着
脱操作が行い易くなる。また、回転軸を下降させて基板
を下方位置に位置させることにより、基板は環状フード
部内に収容された状態になり、基板の回転によって飛び
散った処理液を環状フード部によって確実に捕捉する上
で有効である。
支持部材の支持軸を昇降させる昇降機構と、上記回転支
持部材上に基板を受け取る上方位置と、上記回転支持部
材を上記環状フード部内で回転させる下方位置とに切り
換える切換手段とを備えてなるものであるため、切換手
段の操作により、駆動回転を停止させた状態の支持軸を
昇降機構によって上昇させ、回転支持部材を上方位置に
位置させることにより、回転支持部材に対する基板の着
脱操作が行い易くなる。また、回転軸を下降させて基板
を下方位置に位置させることにより、基板は環状フード
部内に収容された状態になり、基板の回転によって飛び
散った処理液を環状フード部によって確実に捕捉する上
で有効である。
【図1】本発明に係る基板洗浄装置の一実施形態を示す
一部切欠き斜視図である。
一部切欠き斜視図である。
【図2】図1のA−A線断面図である。
【図3】図1のA−A線断面図であり、支持板が上昇し
た状態を示している。
た状態を示している。
【図4】吸引管の排気口構造の第1実施形態を示す平面
略図である。
略図である。
【図5】吸引管の排気口構造の第2実施形態を示す平面
略図である。
略図である。
【図6】吸引管の排気口構造の第3実施形態を示す平面
略図である。
略図である。
B 基板 1 基板洗浄装置 2 軸ホルダ(軸受部材) 20 下部フランジ 21 上部フランジ 22 嵌装孔 23 ベアリング 3 スピンナ 31 回転筒 32 支持円盤 32a 整流部材 32b 基板装着部 33 支持突片 34 スプライン軸(支持軸) 34a 気体供給管路 34b 気体噴射ノズル 34c 上部気体噴射ノズル 35 支持板 35a 支持ピン 36 ボールスプライン 37 チャック部材 4 回転昇降機構 4a 第1モータ 4b 駆動プーリ 4c,4f 駆動ベルト 4d 第2モータ 4e 駆動プーリ 40 支柱 40a 水平ロッド 41 ロータリーエンコーダ 41a駆動軸 42 接続ロッド 42a ナット支持部材 43 ネジ軸 44 ナット部材 45 ガイドロッド 5 洗浄液ノズル 6 液捕捉手段 61 インナーカップ 61a ボルト受け 61b ボルト 62 アウターカップ 63 環状底部 63a 環状突起 63b 支持片 64 調節板 64a 長孔 64b ボルト 65 集塵リング 65a 集塵口 65b 排気管 7 吸引手段 71 吸引管(連通管) 71a 突出部 711,712 排気口 712a 小径排気口 72 吸引ボックス 73 吸引ブロア 74 開閉バルブ 8 ブラッシング手段 81 垂直ロッド 82 支持杆 83 回転ブラシ
Claims (2)
- 【請求項1】 洗浄後の基板を回転させて液切りを行う
基板洗浄装置において、軸受部材に軸支された支持軸を
下部に有し、上記基板を上部で支持する回転支持部材
と、上記支持軸に回転力を与える駆動手段と、上方を開
放した状態で上記回転支持部材を囲繞して洗浄室を形成
する環状フード部と、この環状フード部に設けられた複
数の排気口と、この排気口に連通した吸引手段とからな
り、上記複数の排気口は、上記回転支持部材に支持され
た上記基板の水平面以下であって、かつ、上記回転支持
部材の回転中心に対して周方向に略等分配置されている
ことを特徴とする基板洗浄装置。 - 【請求項2】 請求項1記載の基板洗浄装置において、
上記回転支持部材の支持軸を昇降させる昇降機構と、上
記回転支持部材上に基板を受け取る上方位置と、上記回
転支持部材を上記環状フード部内で回転させる下方位置
とに切り換える切換手段とを備えたことを特徴とする基
板洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26160295A JPH09106973A (ja) | 1995-10-09 | 1995-10-09 | 基板洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26160295A JPH09106973A (ja) | 1995-10-09 | 1995-10-09 | 基板洗浄装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09106973A true JPH09106973A (ja) | 1997-04-22 |
Family
ID=17364190
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26160295A Pending JPH09106973A (ja) | 1995-10-09 | 1995-10-09 | 基板洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09106973A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001185522A (ja) * | 1999-12-24 | 2001-07-06 | Shibaura Mechatronics Corp | 矩形基板の処理装置 |
CN102290331A (zh) * | 2008-07-02 | 2011-12-21 | 东京毅力科创株式会社 | 基板清洗装置 |
JP2021131573A (ja) * | 2020-05-29 | 2021-09-09 | ベイジン バイドゥ ネットコム サイエンス アンド テクノロジー カンパニー リミテッド | 車両用の撮影装置 |
CN117956772A (zh) * | 2024-03-26 | 2024-04-30 | 成都宏明电子股份有限公司 | 具有高效散热和清洁功能的磁电阻角位移传感器 |
-
1995
- 1995-10-09 JP JP26160295A patent/JPH09106973A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001185522A (ja) * | 1999-12-24 | 2001-07-06 | Shibaura Mechatronics Corp | 矩形基板の処理装置 |
JP4482188B2 (ja) * | 1999-12-24 | 2010-06-16 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 矩形基板の処理装置 |
CN102290331A (zh) * | 2008-07-02 | 2011-12-21 | 东京毅力科创株式会社 | 基板清洗装置 |
JP2021131573A (ja) * | 2020-05-29 | 2021-09-09 | ベイジン バイドゥ ネットコム サイエンス アンド テクノロジー カンパニー リミテッド | 車両用の撮影装置 |
US11938868B2 (en) | 2020-05-29 | 2024-03-26 | Apollo Intelligent Connectivity (Beijing) Technology Co., Ltd. | Photographing device for vehicle |
CN117956772A (zh) * | 2024-03-26 | 2024-04-30 | 成都宏明电子股份有限公司 | 具有高效散热和清洁功能的磁电阻角位移传感器 |
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