JP3724530B2 - 光記録媒体 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射層を有しレーザーを照射することによりピットを形成する光記録媒体に関する。特に、記録再生波長が600〜680nmの光記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】
本発明の発明者らはCD(コンパクトディスク)規格に対応した記録可能な光記録媒体としてCD−R(追記型コンパクトディスク)を開発してきた。このCD−Rに使用する色素として、シアニン色素は溶解性、波長特性等から広く使用されてきた。しかし、シアニン色素には耐光性が弱いという欠点がある。これを解決する方法として、クエンチャーの添加、Ni、Cuジチオレン金属錯体との塩形成等が試みられてきた。これら方法では、耐光性が十分向上しなかったり、溶解性が悪いため、生産性が悪い等の問題点があった。
【0003】
また、カチオン性アゾ色素としては、特開平8−244352号に開示されているが、この中では780nmにおける屈折率の実部(N)が少なくとも1.8であり、かつ虚部(k)が0.01〜0.15となっている。このような色素を利用した場合、680〜600nmでの記録再生では、反射率が小さくなりすぎて使用できない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、耐光性に優れ、ポリカーボネート基板を侵さない塗布溶剤に十分な溶解性をもち、680nm以下の波長光で優れた記録再生特性を有する光記録媒体を提供することである。特に、タクトタイムを向上できるフッ素化アルコール系溶媒、セロソルブ系溶媒に十分な溶解性を持つ色素を用いて記録層の塗設が可能となる光記録媒体を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
このような目的は、下記(1)、(2)、(3)によって達成される。
(1) 記録および/または再生波長が680nm以下である光記録媒体において、
下記式(I)で表され、635nmでの複素屈折率の実部nが2.0〜2.8、虚部kが0.4以下であるアゾ色素を含有する記録層を有することを特徴とする光記録媒体。
【0006】
【化2】
【0007】
[式(I)において、Q1はピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、イミダゾール環、ピラジン環またはピロール環を形成するための原子群を表す。Q2はベンゼン環、ナフタレン環、インドール環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、イミダゾール環、ピラジン環またはピロール環を形成するための原子群を表す。R1はアルキル基を表す。X−はビスフェニレンジチオール系の金属錯体の陰イオンまたはフェニルアゾフェニル金属錯体の陰イオンを表す。]
(2) 式(I)中のQ1が、チアゾール環、イミダゾール環、ピリジン環またはキノリン環を形成するための原子群である上記(1)の光記録媒体。
(3) 式(I)中のQ2が、ベンゼン環、ピロール環またはインドール環を形成するための原子群である上記(1)または(2)の光記録媒体。
【0008】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の光記録媒体は、記録および/または再生波長が680nm以下であり、式(I)で表されるカチオン性のアゾ色素を含有する記録層を有する。
【0009】
このようなアゾ色素の635nmの波長における複素屈折率の実部(n)は2.0〜2.8であり、虚部(k)は0.4以下である。このようなnおよびkのものを用いることによって十分な反射率と信号の変調度が得られ、680nm以下、特に600〜680nmの波長光での記録および/または再生を良好に行うことができる。これに対し、nが2.0未満となると信号の変調度が小さくなり、kが0.4をこえると十分な反射率が得られない。またnが2.8をこえる色素の合成は事実上不可能である。
【0010】
なお、色素のnおよびkは、所定の透明基板上に色素膜を光記録媒体の記録層程度の厚さ、例えば40〜100nm程度の厚さに記録層と同条件で設層して、測定用サンプルを作製し、次いで、この測定用サンプルの635nmにおける反射率および透過率を測定し、これらの測定値から、例えば、共立全書「光学」石黒浩三P168〜178に準じ、算出したものである。反射率は測定用サンプルの基板を通しての反射率あるいは色素膜側からの反射率であり、鏡面反射(5°程度)にて測定したものである。
【0011】
本発明の光記録媒体の記録層に用いられる式(I)で表されるアゾ色素について説明する。式(I)について説明すると、Q1は5または6員の含窒素芳香環を形成するための原子群を表し、さらに縮合環を有していてもよい。Q2は芳香環を形成するための原子群を表し、さらに縮合環を有していてもよい。R1はアルキル基を表し、X-は対アニオンを表す。
【0012】
Q1で完成される含窒素芳香環としては、単環であっても、縮合多環や環集合の多環であってもよい。このような芳香環としては、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、イミダゾール環、ピラジン環、ピロール環などが挙げられる。なかでも、チアゾール環、イミダゾール環、ピリジン環、キノリン環などが好ましい。
【0013】
R1で表されるアルキル基としては炭素数1〜6のものが好ましく、直鎖状であっても分岐を有するものであってもよいが、直鎖の炭素数1〜4のアルキル基が特に好ましい。また、アルキル基はアルコキシ基(メトキシ、エトキシ等)などの置換基を有していてもよい。
【0014】
また、Q1で完成される含窒素芳香環はR1のほかに、さらに置換基を有していてもよく、このような置換基としてはアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基等が挙げられる。
【0015】
また、Q2で完成される芳香環としては、炭素環であっても複素環であってもよく、単環であっても、縮合多環や環集合の多環であってもよい。このような芳香環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、インドール環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、イミダゾール環、ピラジン環、ピロール環などが挙げられ、なかでもベンゼン環、ピロール環、インドール環などが好ましい。
【0016】
Q2で完成される芳香環はさらに置換基を有していてもよく、このような置換基としては、アルキル基、アリール基、アミノ基(特にジアルキルアミノ基)、アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基等が挙げられる。このなかで、Q2で完成される芳香環がベンゼン環であるとき、ベンゼン環における−N=N−の結合位置のp位にジアルキルアミノ基を有することが好ましい。
【0017】
X-で表される陰イオンとして、具体的にはハロゲン化物イオン(Cl- 、Br- 、I- 等)、ClO4 -、BF4 -、PF6 -、VO3 -、VO4 3- 、WO4 2- 、CH3 SO3 -、CF3 COO- 、CH3 COO- 、HSO4 -、CF3 SO3 -、PO4 ・12WO3 3- 、パラトルエンスルホン酸イオン(PTS- )、p−三フッ化メチルフェニルスルホン酸イオン(PFS- )等が挙げられる。なかでも、ClO4 -、BF4 -等が好ましい。
【0018】
また、有機金属錯体の陰イオンが好ましいものとして挙げられる。このような有機金属錯体としては、金属錯体クエンチャーとして知られているものがある。具体的には、アセチルアセトナート系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビスフェニレンジチオール系などのビスジチオール系、チオカテコール系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビスフェノレート系等の金属錯体の陰イオンが挙げられる。なかでも、ビスフェニレンジチオール系の金属錯体の陰イオンが好ましい。ビスフェニレンジチオール系の金属錯体の陰イオンとしては下記式(A−1)で示されるものが好ましい。
【0019】
【化3】
【0020】
式(A−1)において、Mは中心金属を表わし、中心金属としてはNi、Cu、Co、Pd、Pt等が挙げられ、Ni、Cu等が好ましい。Rはアルキル基、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基またはハロゲン原子を表す。nは1〜4の整数である。
【0021】
Rで表されるアルキル基としては直鎖状であっても分岐を有していてもよく、炭素数1〜4のものが好ましく、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、t−ブチル等が挙げられる。アルコキシ基としては炭素数1〜4のものが好ましく、メトキシ、エトキシ等が挙げられる。アルキル置換アミノ基としては炭素数1〜4のアルキル基が置換したものが好ましく、ジ−置換体が好ましく、ジブチルアミノ等が挙げられる。ハロゲン原子としてはCl等が挙げられる。
【0022】
nは1〜4の整数であるが、特に1〜3の整数であることが好ましい。
【0023】
式(A−1)で示される陰イオンの具体例を以下に示すが、本発明はこれに限定されるものでない。ここでは、式(A−1a)等の表示に従い、M、R01等の組合せで示している。
【0024】
【化4】
【0025】
また、フェニルアゾフェニル金属錯体の陰イオンが挙げられ、下記式(A−2)で示されるものが好ましい。
【0026】
【化5】
【0027】
式(A−2)において、R1 〜R4 は各々ニトロ基、ハロゲン原子、アミノ基、スルファモイル基、アルキル基またはアルコキシ基を表し、t〜wは各々0〜4の整数である。M1 はコバルトまたはニッケルを表す。ただし、t、u、vおよびwは同時に0になることはなく、t+u+v+wは1〜16である。
【0028】
式(A−2)についてさらに説明すると、R1 〜R4 で表されるハロゲン原子としては、F、Cl、Br、Iなどが挙げられる。
【0029】
R1 〜R4 で表されるアミノ基としては、アルキル基、アルコキシ基、アシル基等の置換基を有するものであってよく、さらにこれらの置換基はハロゲン原子(Cl、Br、I等)やヒドロキシ基、アルコキシ基等で置換されていてもよい。R1 〜R4 で表されるアミノ基として、具体的にはアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アセチルアミノ基、ベンジルアミノ基などが挙げられる。このようなアミノ基の総炭素数は0〜8であることが好ましい。
【0030】
R1 〜R4 で表されるスルファモイル基としては、アルキル基、アルコキシ基等の置換基を有するものであってもよく、さらにこれらの置換基はハロゲン原子(Cl、Br、I等)やヒドロキシ基、アルコキシ基等で置換されていてもよい。R1 〜R4 で表されるスルファモイル基として、具体的にはスルファモイル基、N−メチルスルファモイル基、N,N−ジメチルスルファモイル基、N,N−ジエチルスルファモイル基、N,N−メチルヒドロキシエチルスルファモイル基、N,N−メトキシエチルスルファモイル基、N−メトキシエチルスルファモイル基などが挙げられる。このようなスルファモイル基の総炭素数は0〜10であることが好ましい。
【0031】
R1 〜R4 で表されるアルキル基としては、炭素数1〜4のものが好ましく、直鎖状であっても分岐を有するものであってもよく、置換基(例えばハロゲン原子、アルコキシ基等)を有していてもよく、具体的にはメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、メトキシエチル基などが挙げられる。
【0032】
R1 〜R4 で表されるアルコキシ基としては、アルキル部分の炭素数が1〜4のものが好ましく、置換基(例えばハロゲン原子等)を有していてもよく、具体的にはメトキシ基、エトキシ基などが挙げられる。
【0033】
t〜wは各々0〜4の整数であり、これらは同時に0になることはなく、t+u+v+wは1〜16である。また、t、u、v、wが2以上の整数であるとき、各R1 同士、各R2 同士、各R3 同士、各R4 同士は同一でも異なるものであってもよく、隣接するもの同士が組み合って縮合環(ベンゼン環等)を形成してもよい。t、u、v、wは上記条件下で0、1、2であることが好ましく、特に1であることが好ましい。
【0034】
式(A−2)においては、t=u=v=w=1で、R1=R3、R2=R4であることが好ましい。
【0035】
式(A−2)において、M1 はCoまたはNiであり、特にCoが好ましい。
【0036】
以下に式(A−2)で示される陰イオンの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。ここでは式(A−2a)、式(A−2b)のR11等の組合せで示しており、R11〜R14等においてすべてHであるときはHで、また置換基であるときはそのもののみを示しHの表示は省略している。
【0037】
【化6】
【0038】
【化7】
【0039】
【化8】
【0040】
【化9】
【0041】
【化10】
【0042】
陰イオンとしては、特に有機金属錯体の陰イオンが好ましい。
【0043】
以下に、本発明に用いられる一般式(I)のアゾ色素を示すが、本発明はこれらに限定されるものでなない。ここでは、式(I−1)〜式(I−5)の表示に従って示し、X-が有機金属錯体陰イオンであるとき、先に例示した表示に従って示している。
【0044】
【化11】
【0045】
【化12】
【0046】
【化13】
【0047】
【化14】
【0048】
【化15】
【0049】
一般式(I)のアゾ色素は例えば式(I−1)の化合物であれば、以下のスキームAに従って合成することができる。
【0050】
【化16】
【0051】
また、Topics in Applied Chemistry:The Chemistry and Application of Dyes,D.R.Waring and G.Hallas,Eds.,Plenum Press,New York,Chap.5.(1990)に記載されている方法で合成を行うことができる。
【0052】
また、有機金属錯体の陰イオンをもつアゾ色素を得るには、ClO4 -塩やBF4 -塩を合成したのち、目的とする有機金属錯体の陰イオンに応じ、有機金属錯体塩(例えば下記化合物B1、B2)を用いて、公知の方法に従って陰イオンを交換すればよい。
【0053】
【化17】
【0054】
【化18】
【0055】
本発明のアゾ色素の融点(mp)は220〜350℃であり、λmax(50nm厚の色素薄膜で測定)は480〜630nmの範囲にある。
【0056】
上記の例示化合物について、λmax、n、kを示す。
【0057】
【表1】
【0058】
本発明のアゾ色素は、記録層用の色素として、1種のみを用いても2種以上を併用してもよい。
【0059】
これらの色素は、耐光性に優れ、有機溶媒に対する溶解性が十分であり、光記録媒体の基板材料として汎用されているポリカーボネート樹脂(PC)を侵すことがない塗布溶媒に対する溶解度が大きくなる。
【0060】
これらの色素を用いた記録層は、特に追記型の光記録ディスク(DVD−R)に用いることが好ましい。このような記録層は、色素含有塗布液を用いて設層することができ、特に、回転する基板上に塗布液を展開塗布するスピンコート法によることが好ましい。このほか、グラビア塗布、スプレーコート、ディッピングなどによってもよい。
【0061】
上記のようなスピンコートの後、必要に応じて塗膜を乾燥させる。このようにして形成される記録層の厚さは、目的とする反射率などに応じて適宜設定されるものであるが、通常、500〜3000Aである。
【0062】
なお、塗布液における色素含有量は、通常0.05〜10wt% とするのがよい。本発明のアゾ色素は溶解性が良好であるので、このような含有量の塗布液を容易に調製することが容易である。具体的に言えば、本発明のアゾ色素は、主に極性溶媒に良好な溶解性を示し、アルコールやセロソルブ系ないしアルコキシアルコール系、ジアセトンアルコールなどのケトアルコール、シクロヘキサンなどのケトン、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノールなどのフッ素化アルコールなどに0.5〜10wt% 溶解する。特にポリカーボネート製ディスクに塗布する際に好適な塗布溶媒である、エチルセロソルブや2,2,3,3−テトラフルオロプロパノールに1wt% 以上溶解し、短時間に良質なスピンコート膜を成膜することが可能である。
【0063】
また、塗布液には適宜バインダー、分散剤、安定剤などを含有させてもよい。
【0064】
本発明の光記録媒体の記録層には本発明の色素のほか、他の種類の光吸収色素を含有させてもよい。このような色素としては、シアニン系色素、上記とは別種の金属錯体色素、スチリル系色素、ポリフィリン系色素、上記とは別種のアゾ色素、ホルマザン金属錯体などが挙げられる。このような場合には、塗布液中にこのような色素を含有させて記録層を設層すればよい。
【0065】
本発明に用いられる塗布溶媒として、具体的には、アルコール系(ケトアルコール系、エチレングリコールモノアルキルエーテル系等のアルコキシアルコール系を含む。)、脂肪族炭化水素系、ケトン系、エステル系、エーテル系、芳香族系、ハロゲン化アルキル系等から適宜選択すればよい。
【0066】
このなかで、アルコール系、脂肪族炭化水素系などが好ましい。アルコール系のなかでは、アルコキシアルコール系、ケトアルコール系などが好ましい。アルコキシアルコール系は、アルコキシ部分の炭素原子数が1〜4であることが好ましく、かつアルコール部分の炭素原子数が1〜5、さらには2〜5であることが好ましく、総炭素原子数が3〜7であることが好ましい。具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル(メチルセロソルブ)やエチレングリコールモノエチルエーテル(エチルセロソルブ、エトキシエタノールともいう)やブチルセロソルブ、2−イソプロポキシ−1−エタノール等のエチレングリコールモノアルキルエーテル(セロソルブ)系や1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−ブタノール、3−メトキシ−1−ブタノール、4−メトキシ−1−ブタノール、1−エトキシ−2−プロパノール等が挙げられる。ケトアルコール系としてはジアセトンアルコール等が挙げられる。さらには2,2,3,3−テトラフルオロプロパノールなどのフッ素化アルコールも用いることができる。
【0067】
脂肪族炭化水素系としては、n−ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、シクロオクタン、ジメチルシクロヘキサン、n−オクタン、iso−プロピルシクロヘキサン、t−ブチルシクロヘキサンなどが好ましく、なかでもエチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサンなどが好ましい。
【0068】
また、ケトン系としてはシクロヘキサノンなどが挙げられる。
【0069】
本発明では、特にエチレングリコールモノアルキルエーテル系等のアルコキシアルコール系が好ましく、なかでもエチレングリコールモノエチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−ブタノール等が好ましく、さらにはこれらの混合溶媒であってもよく、例えばエチレングリコールモノエチルエーテルと1−メトキシ−2−ブタノールの組合せのようなものが挙げられる。また、フッ素アルコールも好ましく用いられる。
【0070】
本発明の光記録媒体の好ましい態様である635nm、650nm程度の短波長で記録・再生を行う追記型デジタルビデオディスク(DVD−R)の構成例を図1に示す。図1は部分断面図である。
【0071】
図1で示されるように光記録ディスク10は、DVD規格に対応した光記録ディスクであり、同様な構造のディスク2枚の保護膜15および保護膜25同士を貼り合わせて形成する。接着剤層50の厚さは、10〜200μm 程度である。この場合の基板(通常、ポリカーボネート樹脂)一枚当たりの厚さは0.6mmであり、グルーブ123を有する基板12上に記録層13、反射層14、保護膜15を順次形成し、一方グルーブ223を有する基板22上に同様に記録層23、反射層24、保護膜25を形成し、上述のように貼り合わされて得られるものである。貼り合わせの方法としては、ホットメルト接着剤、遅効性UV接着剤、粘着シート等を利用できる。
【0072】
基板12または22は、ディスク状のものであり、基板2の裏面側からの記録および再生を可能とするために、記録光および再生光(波長600〜680nm程度、さらには波長630〜680nm程度、なかでも波長635〜680nm程度のレーザー光、特に635nmまたは650nm)に対し、実質的に透明(好ましくは透過率88%以上)な樹脂あるいはガラスを用いて形成するのがよい。また、大きさは、直径64〜200mm程度、厚さ0.6mm程度のものとする。
【0073】
基板12または22の記録層13または23形成面には、図1に示すように、トラッキング用のグルーブ123または223が形成される。グルーブ123または223は、スパイラル状の連続型グルーブであることが好ましく、深さは0.05〜0.20μm (500〜2000A)、幅は0.20〜0.40μm 、グルーブピッチは0.65〜0.85μm であることが好ましい。グルーブをこのような構成とすることにより、グルーブの反射レベルを下げることなく、良好なトラッキング信号を得ることができる。特にグルーブ幅を0.20〜0.40μm に規制することは重要であり、グルーブ幅を0.2μm 未満とすると、十分な大きさのトラッキング信号が得られにくく、記録時のトラッキングのわずかなオフセットによって、ジッターが大きくなりやすい。またグルーブ幅が大きくなると波形ひずみが生じやすくなる。
【0074】
基板12または22は、材質的には、樹脂を用いることが好ましく、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、アモルファスポリオレフィン、TPX、ポリスチレン系樹脂等の各種熱可塑性樹脂が好適である。そして、このような樹脂を用いて射出成形等の公知の方法に従って製造することができる。グルーブ123または223は、基板12または22の成形時に形成することが好ましい。なお、基板12または22の製造後に2P法等によりグルーブ123または223を有する樹脂層を形成してもよい。また、場合によってはガラス基板を用いてもよい。
【0075】
図1に示されるように、基板12または22に設層される記録層13または23は、前記の色素含有塗布液を用い、前記のように、好ましくはスピンコート法により形成されたものである。スピンコートは通常の条件に従い、内周から外周にかけて、回転数を500〜5000rpm の間で調整するなどして行えばよい。
【0076】
このようにして形成される記録層13または23の厚さは、50〜300nm(500〜3000A)であり、記録光および再生光波長における複素屈折率は実部n=2.0〜2.8、虚部k=0.4以下である。
【0077】
上記の範囲外の厚さでは反射率が低下して、良好な再生を行うことが難しくなる。
【0078】
また、上記のようにn、kを規制することによって、良好な記録、再生が行える。kが0.4を超えると、十分な反射率が得られない。nが2.0未満では信号の変調度が小さすぎる。nの上限には特に制限はないが、色素化合物の合成上の都合等から通常2.8程度である。
【0079】
なお、記録層のnおよびkは、所定の透明基板上に記録層を例えば40〜100nm程度の厚さに実際の条件にて設層して、測定用サンプルを作製し、次いで、この測定用サンプルの基板を通しての反射率あるいは記録層側からの反射率を測定することによって求める。この場合、反射率は、記録再生光波長(635nmまたは650nm)を用いて鏡面反射(5°程度)にて測定する。また、サンプルの透過率を測定する。そして、これらの測定値から、例えば、共立全書「光学」石黒浩三P168〜178に準じ、n、kを算出すればよい。
【0080】
図1に示されるように、記録層13または23上には、直接密着して反射層14または24が設層される。反射層14または24としては、Au、Cu、Al、Ag、AgCu等の高反射率金属ないし合金を用いるのがよい。反射層14または24の厚さは50nm(500A) 以上であることが好ましく、蒸着、スパッタ等により設層すればよい。また、厚さの上限に特に制限はないが、コスト、生産作業時間等を考慮すると、120nm(1200A) 程度以下であることが好ましい。これにより、反射層14または24単独での反射率は、90%以上となり、媒体の未記録部の基板を通しての反射率は十分である。
【0081】
図1に示されるように、反射層14または24上には、保護膜15または25が設層される。保護膜15または25は、例えば紫外線硬化樹脂等の各種樹脂材質から、通常は、0.5〜100μm 程度の厚さに設層すればよい。保護膜15または25は、層状であってもシート状であってもよい。保護膜15または25は、スピンコート、グラビア塗布、スプレーコート、ディッピング等の通常の方法により形成すればよい。
【0082】
このような構成の光記録ディスク1に記録ないし追記を行うには、例えば635nmあるいは650nmの記録光を、基板12または22を通してパルス状に照射し、照射部の光反射率を変化させる。なお、記録光を照射すると、記録層13または23が光を吸収して発熱し、同時に基板12または22も加熱される。この結果、基板12または22と記録層13または23との界面近傍において、色素等の記録層材質の融解や分解が生じ、記録層13と基板12、あるいは記録層23と基板22との界面に圧力が加わり、グルーブの底面や側壁を変形させることがある。
【0083】
【実施例】
以下、本発明の具体的実施例を比較例とともに示し、本発明をさらに詳細に説明する。
【0084】
参考例1
光記録層用色素として、色素I−1−1を用い、プリグルーブ(深さ0.12μm、幅0.30μm、グルーブピッチ0.74μm)を有する直径120mm、厚さ0.6mmのポリカーボネート樹脂基板上に、スピンコート法により色素を含有する記録層を1000A(100nm)の厚さに成形した。この場合の塗布液として、1.0wt%の2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール溶液を用いた。次に、この記録層にAu反射層を850Aの厚さにスパッタ法により形成し、さらに紫外線硬化型のアクリル樹脂の透明な保護膜(膜厚5μm)を形成した。同様にして形成したディスク2枚の保護膜を内側にして接着剤で貼り付けてディスクを作製した(図1参照)。
【0085】
これをサンプルNo.1とする。
【0086】
また、サンプルNo.1において、記録層用の色素として、色素I−1−1のかわりに色素、I−2−1、I−3−1をそれぞれ用いるほかは同様にしてサンプルを作製した。これらのサンプルをサンプルNo.2,3とする
このようにして作製したサンプルNo.1,2,3に対し、レーザー光635nm使用して線速3.5m/sで信号を記録し、次にこのディスクを線速3.5m/sの650nmレーザー光で再生し、特性を評価した。なお、レンズ孔径NA=0.60であった。特性は650nmでの反射率、変調度(14TMod.)、ジッター(Jitter)、635nmでの最適記録パワー(P0 )について評価した。
【0087】
結果を下記に示す。
【0088】
【0089】
以上より、反射率、変調度、ジッター共に良好であることがわかる。
【0090】
さらに、上記のサンプルNo.1,2,3について耐光性を調べた。耐光性は8万ルックスのキセノンランプ(島津社製キセノンフェードメーター)を40時間照射した後の、ディスクのジッターを測定することによって調べた。いずれのサンプルについてもジッターは変化しなかった。また、80℃80%RH100時間の信頼性試験を行ったが、特性の劣化はなかった。
【0091】
実施例1
光記録層用色素として、色素I−1−1と前出の金属錯体B1(例示の陰イオンA−2a−1のNa塩)とから得られた色素I−1−4を用い、プリグルーブ(深さ0.14μm、幅0.35μm、グルーブピッチ0.74μm)を有する直径120mm、厚さ0.6mmのポリカーボネート樹脂基板上に、スピンコート法により色素を含有する記録層を1000A(100nm)の厚さに成形した。この場合の塗布液として、1.2wt%の2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール溶液を用いた。次に、この記録層にAu反射層を850Aの厚さにスパッタ法により形成し、さらに紫外線硬化型のアクリル樹脂の透明な保護膜(膜厚5μm)を形成した。同様にして形成したディスク2枚の保護膜を内側にして接着剤で貼り付けてディスクを作製した(図1参照)。
【0092】
これをサンプルNo.4とする。
【0093】
また、サンプルNo.4において、記録層用の色素として、色素I−1−4のかわりに色素I−2−1と前出の金属錯体B2(例示の陰イオンA−1a−1のテトラブチルアンモニウム塩)とから得られた色素I−2−2を用いるほかは同様にしてサンプルを作製した。これらのサンプルをサンプルNo.5とする
このようにして作製したサンプルNo.4,5に対し、レーザー光635nm使用して線速3.5m/sで信号を記録し、次にこのディスクを線速3.5m/sの650nmレーザー光で再生し、特性を評価した。なお、レンズ孔径NA=0.60であった。特性は650nmでの反射率、変調度(14TMod.)、ジッター(Jitter)、635nmでの最適記録パワー(P0 )について評価した。
【0094】
結果を下記に示す。
【0095】
【0096】
以上より、反射率、変調度、ジッター共に良好であることがわかる。
【0097】
さらに、上記のサンプルNo.4,5について耐光性を調べた。耐光性は8万ルックスのキセノンランプ(島津社製キセノンフェードメーター)を40時間照射した後の、ディスクのジッターを測定することによって調べた。いずれのサンプルについてもジッターは変化しなかった。また、80℃80%RH100時間の信頼性試験を行ったが、特性の劣化はなかった。
【0098】
参考例1及び実施例1のサンプルにおいて、色素I−1−2、I−1−3、I−1−5〜7、I−2−3〜6、I−3−2〜4、I−4−1〜4、I−5−1〜4を各々用いて上記と同様にして特性を調べたところ、アゾ色素の陰イオンに応じ、参考例1及び実施例1と同等の結果が得られた。
【0099】
比較例1
シアニン色素T1(下記)を使用したこと以外は参考例1と同様にディスクサンプルを作製した。作製したサンプルの評価では、十分な耐光性が得られず、ジッターの劣化が大きかった。信頼性試験でも、変調度、ジッターの劣化が大きかった。
【0100】
【化19】
【0101】
比較例2
下記に示す特開平8−244352号公報のアゾ色素T2(上記公報実施例1の色素4)を使用した以外は参考例1と同様にディスクサンプルを作製し、参考例1と同様に評価した。この色素T2の635nmにおけるn、kの値は1.8、0.53であった。ディスク特性は、反射率が10%以下であり、変調度も30%で、ジッターも悪かった。
【0102】
【化20】
【0103】
【発明の効果】
本発明によれば、溶解性、耐光性、信頼性に優れたカチオン性アゾ色素を光吸収層として用いることにより、記録感度と反射率と変調度のバランスに優れ、記録感度が高くジッターが小さいなどの特性に優れた光記録媒体が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光ディスクの一例を示す部分断面図である。
【符号の説明】
10 光記録ディスク
12、22 基板
123、223 グルーブ
13、23 記録層
14、24 反射層
15、25 保護層
50 接着層
Claims (3)
- 記録および/または再生波長が680nm以下である光記録媒体において、
下記式(I)で表され、635nmでの複素屈折率の実部nが2.0〜2.8、虚部kが0.4以下であるアゾ色素を含有する記録層を有することを特徴とする光記録媒体。
- 前記Q1は、チアゾール環、イミダゾール環、ピリジン環またはキノリン環を形成するための原子群であることを特徴とする請求項1の光記録媒体。
- 前記Q2は、ベンゼン環、ピロール環またはインドール環を形成するための原子群であることを特徴とする請求項1または2の光記録媒体。
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