JP3556932B2 - 光記録基板および光記録媒体並びにその製造法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光記録基板、それを用いた光記録媒体および前記基板の製造法に関する。さらに詳しくは、光ヘッドの高開口数化、短波長化に対応可能な光記録基板およびそれを使用した高密度記録が可能な光記録媒体および光記録基板の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光ディスクや光カードなどの光記録用の基板材料としては、従来、ポリカーボネート樹脂やポリメチルメタクリレート樹脂などが光学材料として優れるため、広く利用されてきた。中でもポリカーボネート樹脂は、透明性、耐熱安定性、靭性などに優れるため、広く光ディスク用基板材料として使用されている。
【０００３】
近年、光（光磁気）記録ディスクの大容量化、あるいはＤＶＤの開発、ブルーレーザの開発に代表される技術的進歩により記録密度の高密度化がますます進展している。ディスク基板の厚みは、ＣＤの１．２ｍｍから、ＤＶＤの０．６ｍｍと薄くなっており、更に光ディスクの記録容量の高密度化には益々薄いものが必要とされている。しかしながら、０．３５ｍｍ以下の薄い光ディスク基板の射出成形法による製造では、樹脂の冷却が非常に早いことから、基板の外周部までの樹脂の充填、内外周の良好な厚さ均一性、ピット、グルーブの転写性を満足した基板を得ることが困難であった。金型、成形条件の工夫で、これらの特性を満足した０．３ｍｍ厚の基板を得ることは可能であるが、成形時の樹脂流動による分子の配向が緩和されにくくなるため、複屈折の値は非常に大きくなる。製造条件の最適化ではその低減にも限界がある。複屈折を小さくする目的で、ゼオネックス、ゼオノア（日本ゼオン（株））、アートン（ＪＳＲ（株））などのアモルファスポリオレフィンが従来から提案されている。これらのポリオレフィンは光弾性定数が小さいため１．２ｍｍ厚さの基板では、ポリカーボネートを用いた場合に比べ、かなり小さな複屈折の基板を得ることができる。しかし、０．６ｍｍ厚さの基板では、複屈折はせいぜいポリカーボネートの場合の１／２程度にしか小さくならない。０．３ｍｍ厚さでは、複屈折はポリカーボネート樹脂を用いた場合とあまり変わらず大きい。また０．１ｍｍの厚さになると、射出成形で所定の外径寸法を得ることさえも難しくなり、また基板の剛性も低下するため、スタンパから基板を離型させ、ロボットで取り出すことも困難になる。
【０００４】
これに対して、スタンパにフィルムを接触させ、熱と圧力によってスタンパ模様をフィルムに転写させる方法が従来から提案されている。特開平１−１１３２２４号公報では、熱可塑性樹脂フィルムまたはシートを、それに熱可塑性樹脂材料のガラス転移温度以上で直流電界を印加しながら、加圧成形する方法が提案され、複屈折のムラが小さくなることが開示されている。特開平４−２７０６３３号公報では、加熱板と型板（スタンパ）との間にフィルム状ヒータを挟んで上下から加熱する方法、および型板と熱可塑性樹脂を重ね合わせて加熱加圧ロールの間を通過させる方法が提案され、複屈折のムラが改善されることが示されている。これらの方法によれば、昇温、冷却時間が短縮され、生産性が改善されるが、スタンパ模様が部分的に転写されない部分が発生する。仮え肉眼ではこの欠陥が観察できなくても、数ｎｍから数μｍの微少な欠陥が顕微鏡、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）などで観察され、これが媒体の欠陥となる。枚葉式プレス機を用いたこれらの方法とは異なり、ロールを用いた連続式転写法も提案されている。特開平５−２６９８４５号公報では表面にプリフォーマットパターンを有するロールスタンパと鏡面ロール間に、溶融樹脂シートを挟んで転写する方法が提案されている。この方式では、樹脂シートも連続的に供給されるため生産性も良く、前述した部分的な転写欠陥は比較的少ない。しかし樹脂シートに加わっている力は長さ方向と幅方向では異なり、寸法上の均一性を保持することが非常に難しい。特開平１１−３４５４３６号公報ではこれに対し、変形を見越してスタンパでの配置形状を修正する方法を提案しているが、シートの寸法、形状は巻き取り条件、プレス条件などで微妙に変化し、これを完全に制御するのは困難であった。
【０００５】
光記録の高密度化は今後もますます進展することが予想され、レーザ光源の短波長化、光ヘッドの高開口数化に対応可能な光記録基板の出現が望まれている。中でも、アクセススピードが速く、高密度記録が可能な光ディスクの分野での短波長化による高密度化が急がれている。その有力な候補が厚さ０．３５ｍｍ以下で、かつグルーブ、ピットが転写されている基板である。従来の技術では射出成形、プレス成形とも要求特性を満足するこのような厚さの基板が得られなかった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、こうした課題を解決した光記録基板、とりわけ光ディスク基板の製造法を提供することにある。
本発明の他の目的は、加熱プレス法により、薄い有機高分子シートにスタンパ模様を転写漏れなく容易に転写しうる光記録基板の製造法を提供することにある。
本発明のさらに他の目的は、上記の如き方法で製造される光記録基板を用いて、高密度記録が可能な光記録媒体を製造する方法を提供することにある。
本発明のさらに他の目的は、本発明方法で得られる光記録基板および光記録媒体を提供することにある。
本発明のさらに他の目的および利点は以下の説明から明らかになろう。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第１に、
ガラス転移温度が１２０〜１９０℃の範囲にあり、シングルパスの複屈折レターデーションが＋１０ｎｍ〜−１０ｎｍの範囲にあり、厚さが０．３５ｍｍ以下でありそして少なくともスタンパと接触する面が粗面化またはエンボスされている有機高分子シートに、凹凸および／または溝を有するスタンパを、減圧下で接触させかつ加熱プレスせしめることを特徴とする光記録基板の製造法によって達成される。
【０００８】
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第２に、
上記本発明方法により得られた光記録基板の、スタンパの凹凸および／または溝が転写された面上に、反射膜および／または記録膜を形成することを特徴とする光記録媒体の製造法によって達成される。
【０００９】
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第３に、
本発明の上記方法のそれぞれで得られた光記録基板および光記録媒体によって達成される。
【００１０】
【発明の好ましい実施形態】
まず、有機高分子シートについて説明する。
【００１１】
本発明における有機高分子のシート厚さは０．３５ｍｍ以下、好ましくは０．３５〜０．００１ｍｍである。光ピックアップの対物レンズと光記録媒体の記録面（反射面）までの距離に依存して、そりなどの原因で光記録媒体の記録面（反射面）が傾斜したときの光の収差が大きくなるため、反射面までの経路にあたる基板の厚さは薄い程好ましい。現在市場に展開されてきたＤＶＤでは０．６ｍｍであるが、さらに０．３ｍｍ、０．１ｍｍの基板（光透過層）が必要になってきている。本発明はこれらの薄い基板に対応できるものである。
【００１２】
本発明における光記録基板の材料は１２０℃〜１９０℃のガラス転移温度を有することが必要である。光ディスクは高温度の車中で使用されることも多いので、光ディスクには１１０℃での耐熱テストが要求される。ガラス転移温度が低い場合には、外観上の熱変形だけではなく、記録時や再生時のレーザの熱、または／および、相変化型光記録媒体では初期化（初期結晶化）の時の高パワーレーザの照射で、ピットやランド・グルーブといったフォーマットパターンが変形することもある。こうした点から、ガラス転移温度は、高い方が好ましく、１２０℃以上、より好ましくは１３０℃以上である。また、高すぎると、成形時においてシートへのスタンパ凹凸やグルーブの転写が困難になり、転写不良や複屈折が大きくなるという問題がある。
【００１３】
本発明の一つの大きな特徴は、材料として用いる成形前の有機高分子シートの複屈折レターデーションがシングルパスで＋１０〜−１０ｎｍであることにある。ここでいう複屈折レターデーションとは、波長６３３ｎｍの光がシート面に垂直に入射した時の（いわゆる垂直入射の）レターデーションを意味する。レターデーションの値が＋１０ｎｍ〜−１０ｎｍの範囲であれば良好な電気特性が得られる。光記録媒体の記録再生に用いられるレーザ光の波長によってレターデーションは異なるが、波長４００ｎｍの光によるレターデーションの値でも６３３ｎｍでの値に対して２％程度しか変わらず、４２０ｎｍのレーザ光で記録再生する光記録媒体でもこの範囲を満足すれば良好な電気特性が得られる。このような条件を満足するシート材料としては、例えばポリカーボネート樹脂やゼオネックスおよびゼオノア（ともに日本ゼオン（株）製）、アートン（ＪＳＲ（株）製）などのアモルファスポリオレフィン樹脂などがあげられる。また、ポリカーボネートと反対の複屈折性を有するポリスチレンなどとポリカーボネートとの共重合体などがあげられる。押し出し法で作製したシートでは、複屈折の絶対値が大きかったり、長さ方向と幅方向で複屈折が異なったりするため、アニール処理を行うことが効果的である。これらの中でも、流延法ポリカーボネートフィルムであるピュアエース（商品名、帝人（株）製）は、複屈折が小さいだけでなく、フィルムの厚さ分布もほとんどないため、とりわけ優れている。
【００１４】
本発明で用いられる有機高分子シートは、少なくともスタンパに接触する片面が、粗面化加工されている。前述したように従来の枚様式プレス法では、肉眼で観察できる１ｍｍ〜数ｃｍの大きいものだけでなく、顕微鏡やＡＦＭで検出される微少な未転写の部分が存在し、プレス条件の検討だけでは完全に解決することが困難であった。この問題について鋭意検討した結果、スタンパと有機高分子シート間に残存している空気がその主原因になっていることをつきとめた。有機高分子シートとスタンパを重ねて設置すると、両者は部分的に密着し、場合によっては両者間に残存する空気を完全に取り除けない場合がある。とりわけ、有機高分子シートのガラス転移温度以上にプレス温度を設定すると、両者の接触部で部分的な融着が発生し、そのような場所に取り囲まれた領域ではその後長く真空引きを行っても空気の除去が行われなくなる。これを解決するためには、有機高分子シートとスタンパ表面の間に存在する空気を、両者が完全に接触する前に完全に除去してから積層するか、あるいはプレス温度を室温かもしくは少なくともガラス転移温度以下にして積層し、真空引きを十分に行ってからプレス温度を昇温することが必要である。しかし、前者では設備的に複雑になり、後者では生産速度が遅くなることは否めない。これを改善するには、有機高分子シートのスタンパとの接触面をあらかじめ粗面化あるいはエンボス化し、プレス前に減圧した際、そこに残存する空気を逃げやすくすることが有効である。この面と反対の面についてもそこに空気が残っていると、スタンパに対する実質的な接圧が変化し、転写性に影響を及ぼすことがあるので、反対側の面も粗面化あるいはエンボス化したほうが好ましい。粗面化の凹凸形状はどんな形であってもよいが、スタンパと接触した際、空気層が連続している形が好ましい。この意味で、シート面にへこみがあるというものより、逆に突起が存在する形状が好ましい。例えば突起の断面のおおよその形状が正方形、長方形、円形、三角形であるような突起があるものや、それらの先端部が平らになっている台形状のものが挙げられる。これらの突起の高さは適宜選択されるが、あまり低すぎると空気逃げ改善の効果が小さい。一方、大きすぎると、加熱プレス後にその凹凸形状の一部が残ってしまうので好ましくない。プレス前はスタンパに完全に接触せずに、プレス後はその凹凸が完全に消えてしまう形状が好ましい。この点から、突起の高さは、好ましくは１μｍ〜１ｍｍ、より好ましくは数拾μｍである。粗面化する方法は特に限定されないが、例えば織物,編物の如き凹凸表面を有する基材をシートと接触させ、表面凹凸形状を加熱プレスによって転写する方法が用いられる。シートの突起の先端形状をシンプルにするためには、織物、編物の繊維間にはあまりシートの樹脂が侵入しない方が好ましい。そのためには適当な樹脂を織物、編物に予め僅かに含浸させて、繊維間に予め樹脂を充填し、しかしながら表面は凹凸形状を保持しているものとして用いるのが好ましい。充填には加熱プレスを使用するのが好ましいので、充填する樹脂は耐熱性を有するものが好ましい。フッ素樹脂例えばテフロン（登録商標）はシートとの離型も良いので好ましく用いられる。例えばテフロン（登録商標）を含浸したガラス繊維シートが好適に用いられる。
【００１５】
有機高分子シートは、情報を記録再生させるレーザ光が透過する必要があるため、透過率が高いほうが好ましく例えば８５％以上あることが好ましい。
【００１６】
光記録媒体には、情報を記録再生するための光ビームの案内溝（グルーブ）や、位置情報、ドライブでのディスク回転情報、信号の記録再生条件などが凹凸の形（ピット）で存在する。本発明方法では、光記録基板はこれらの形状を有機高分子シートにスタンパを減圧下で加熱プレスすることによって転写させて製造する。ここでいう減圧とは、転写を助けるために系内の空気を除くことを目的としており、好ましくは約０．３気圧（３×１０^４ Ｐａ）以下とするのがよい。通常は装置の密閉性もあり、より好ましくは０．１気圧程度の圧力で行われることが多い。また加熱プレスとは、加熱した状態で圧力をかけることを意味している。加熱プレスの際に使用される温度は、有機高分子シートのガラス転移温度より５℃〜５０℃程度高い温度が好ましく、１５℃〜３５℃高い温度がさらに好ましい。これより低いと、十分な転写を得ることが難しく、高すぎると有機高分子シートの変形などの問題がおきやすい。例えばガラス転移温度が１４５℃の樹脂の場合には１６０℃から１８０℃の範囲が好適に用いられる。また加える好ましい圧力は、用いる樹脂、温度、その他の条件により変化するが、例えば数十から数百Ｋｇ／ｃｍ^２である。これより低いと十分な転写を得るのが困難であり、逆に高いと加熱プレス成形後の有機高分子シートの取り出し時の離型が問題になる場合がある。
【００１７】
加熱プレスする際に、圧力を有機高分子シート／スタンパ面に均一に加えることは、未転写部分の発生防止に重要である。プレス装置（上下プレス台間）の平行度、接触面の平滑性に少しでも問題があると、均一に圧力がかからない。また有機高分子シート／スタンパを金属板で挟んで加熱プレスすることが好ましく多く用いられるが、この金属板の平滑性も必ずしも良好とは限らず、この場合には圧力が均一に伝わりにくく、転写不良の領域ができることがある。このような加熱プレス操作時の影響を少なくするために、クッション材が好ましく用いられる。弾性、耐熱性の観点から、クッション材の素材としては、例えばシリコーンゴム、フッ素樹脂系のゴムが好適に用いられる。クッション材の厚さは厚すぎると熱伝導が小さくなり、薄すぎると圧力均一化の効果が減少するので、クッション材としては０．５ｍｍ〜２ｍｍ程度の厚さのものが好ましく用いられる。このクッション材は、プレス台とスタンパの間またはプレス台と有機高分子シートの間のどちらかに用いれば効果的であり、両方に用いればより望ましい。
【００１８】
本発明方法で製造される光記録基板のサイズは特に制限はないが、該光記録基板が光ディスク基板の場合、一般には、直径３０ｍｍから３００ｍｍ程度で、約１５ｍｍ直径のセンターホールが開いたドーナツ形状のものが好ましい。
【００１９】
本発明の光記録基板は、従来公知の加熱プレス成形設備を改良して製造することが可能である。減圧にするには、例えばシリコーンゴムのような弾力性のある耐熱材料で周囲を囲んだ範囲を真空ポンプで排気するような方法でよい。また従来の枚葉式加熱プレス装置で指摘されていた、冷却、加熱に時間がかかるという問題は、例えば実施例で図１に示すように、４個の工程を自動的に連続して行う作業ステージが在って、各々基板取り出しおよび有機高分子シートセット→予熱→加熱プレス→徐冷 という４工程を１サイクルで実施できる設備を用いれば、生産性も良好である。
【００２０】
本発明方法で製造される光記録基板は、光カードや光ディスクに用いられる基板であり、特に、書き換え可能なディスクとして、光磁気記録媒体、相変化を利用した記録媒体、１度だけ書き込み可能な媒体である染料を用いた媒体（−Ｒと言われる）、ピットの形で最初から信号が記録されている媒体（−ＲＯＭと言われる）などに用いられる。
【００２１】
これらの光記録基板には、目的に応じて、各種の記録層および／または反射層並びに、場合により、保護層、保護樹脂層などが形成され、また、必要であれば２枚が貼り合わされ、光記録媒体例えば光ディスクとして使用される。記録層および／または反射層は、光記録基板の、スタンパの凹凸および／または溝が転写された面上に形成される。ブルー対応記録メディアといわれる波長４２０ｎｍ以下のレーザを用いて情報再生する、または記録再生する光ディスクでは、薄い基板の要求が強く、かつ複屈折の影響がより重要になるため 本発明の効果が大きい。
【００２２】
【発明の効果】
本発明における光記録基板は、薄い基板にピット、グルーブなどが存在しているものであり、今後の高密度記録化に必要な記録や読み取り波長の短波長化、光ヘッドの高開口数化に有利な、高密度光記録用の基板である。特に、高密度記録に用いられる光ディスク基板である。
【００２３】
【実施例】
以下に実施例により本発明を詳述する。但し、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。
【００２４】
参考例１
日精樹脂工業（株）製ＮＩＣ２００型成形機を用いて光記録基板の成形を行った。本設備は図１に示すように、（１）試料（シート）セット、基板取り出し(プレス０) （２）予熱プレス(プレス１) （３）加熱プレス(プレス２) （４）冷却プレス(プレス３)の４つのステージから成っており、所定時間毎にスタンパと有機高分子シートとの積層体がその接触面を減圧に保ちながら、回転移動できるようになっている。プレス０では、スタンパおよび有機高分子シートなどの被プレス材料が積層される。積層された後、蓋を閉め、真空引きを開始し、次工程へ回転移動する。被プレス材料は、プレス１で予熱された後、プレス２で所定温度まで加熱されスタンパ表面形状が転写される。その後プレス３で冷却固定され、プレス０で基板が取り出される。
【００２５】
有機高分子シートとしては、流延法で製造されたポリカーボネートフィルムであるピュアエース （商品名、帝人（株）製、以下ＰＣフィルムと略す）の厚さ１００μｍフィルムを用いた。このフィルムのＤＳＣ（示差走査熱量測定法）で測定したガラス転移温度は１６０℃、複屈折レターデーションはシングルパスで７ｎｍである。スタンパとしてはブルーレーザ記録用である、グルーブ深さ４５ｎｍ、トラックピッチ０．３μｍ（ランド・グルーブ記録）で外径１３８ｍｍ（記録ゾーンの外径：１１８ｍｍ）のものを使用した。ＰＣフィルムをスタンパの情報面と接触させ、これらの両側を１．０ｍｍ厚さのステンレス板（ＰＣフィルム接触面は鏡面）で挟み、シート成形機のプレス０位置にセットした。セット後、真空引きを開始し、１０分後予熱工程に移動させた。プレスは、予熱温度１５０℃、加熱温度１７０℃、プレス圧力２０トン、プレス時間１分の条件で行った。冷却工程は、温度は２０℃、時間１分の条件とした。
【００２６】
得られた光ディスク基板を、（１）肉眼検査、（２）強力光源であるハロゲンランプ光照射による観察、および（３）ＡＦＭ（原子間力顕微鏡、セイコー電子工業製ＳＦＡ−３００）によるグルーブ転写状況観察および微細欠陥観察を行った。同一条件で作製したシート５枚の観察を行った。いずれもＡＦＭ観察で得られたランド、グルーブの形状とグルーブ深さから判断した転写性は問題なく、また、肉眼観察での表面異常（転写異常による部分的曇りなど）もない良好な基板が得られた。
【００２７】
また、ハロゲンランプ観察でも問題のない基板が得られた。
【００２８】
なお、転写後の有機高分子シートの複屈折レターデーションは６ｎｍであり、シート成形前より若干低下していた。
【００２９】
参考比較例１
参考例１で、真空引きをしないでシート成形を行った。この場合は肉眼検査で４０％程度の領域に転写不良の領域が見られた。参考例１と比較して、良好な転写を得るには真空引きが必須なことがわかる。
【００３０】
実施例１
参考例１において、プレス０での真空引き時間を１分とし、さらにＰＣフィルムを、上記シート成形機を用いて予めテフロン（登録商標）含浸ガラス繊維織物と接触させてその片面を粗面化した。この粗面化した面をスタンパ−の情報面と接触させ、参考例１と同じ成形、評価を行った。この場合には、参考例１よりもプレス０での真空引き時間を短くしていたにもかかわらず、５枚のサンプル全てにおいて、全ての評価で良好な結果を得た。これより、ＰＣフィルムの粗面化加工を行うことは、成形サイクルを短縮して生産性をあげた上で、高い収率が得られることを確認した。
【００３１】
なお、フィルムの厚さ分布を縦横１ｃｍ間隔で測定したところ、成形前で平均値１００．２μｍ、標準偏差１．０μｍであった。また成形後においても同一場所を測定したところ、各々１００．５μｍ、１．２μｍであった。これより、粗面化しても成形後では厚さ分布に何の影響もなく、厚さ分布の小さい良好な状態を保持していることがわかった。
【００３２】
参考例２
参考例１において、ステンレス板を一部に変形が見られたステンレス板とし、さらにプレス台と変形したステンレス板の間に、厚さ１．２ｍｍのシリコーンゴムを用いて同様のシート成形を行った（構成：シリコーンゴム／ステンレス板／片面粗面ＰＣフィルム／スタンパ−／ステンレス板）。そして、参考例１と同様に５枚の光ディスク基板の成形、評価を行った。これでは、全ての基板で、（１）〜（３）の全ての評価について良好な結果が得られた。多少の変形があっても、シリコーンゴムがクッション材として働き、ＰＣフィルム、スタンパ間全面に均一な力が働いたものと思われる。
【００３３】
参考例３
参考例１で用いたＰＣフィルムの代わりに、溶融押し出し法で成形した３００μｍ厚さのポリカーボネートシートを用いた。ただ、このシートの複屈折レターデーションは３１ｎｍであったので、１６５℃、２０分アニ−ル処理を行ってから使用した。この処理により、複屈折レターデーションは１．２ｎｍになった。シート成形条件は参考例１と同じである。この場合も５枚の評価を同様に行った。その結果、（１）〜（３）の全ての評価で良好な結果が得られた。シート成形後の複屈折レターデーションは１．１ｎｍとほとんど変化がなかった。
【００３４】
参考比較例２
参考例３でアニ−ル処理を行わないで、シート成形を行った。シート成形後の複屈折レターデーションは２３ｎｍであった。
電気特性評価
【００３５】
参考例１、２、３および参考比較例２で得られた基板を内径１５ｍｍ、外径１２０ｍｍのドーナツ状に打抜いて、そのグルーブ面にスパッタリング法で無機薄膜の積層体である相変化記録膜構造を形成し、さらに該無機薄膜の積層体上に１．２ｍｍ厚さ、内径１５ｍｍ、外径１２０ｍｍのポリカーボネート円板を貼り合わせて光ディスクを作製した。表１に媒体構成を示した。
【００３６】
【表１】

【００３７】
スパッタ法による無機薄膜の積層体の作製方法は以下である。
【００３８】
誘電体膜としてＺｎＳ―ＳｉＯ_２膜（ＺｎＳ：ＳｉＯ_２＝８０：２０ｍｏｌ％のターゲットをスパッタして得られる膜）とＳｉＯ_２膜を用いた。記録層は、ＧｅＳｂＴｅ合金膜（Ｇｅ：Ｓｂ：Ｔｅ＝２：２：５ 原子％）である。反射層は、ＡｌＣｒ合金膜（Ａｌ：Ｃｒ＝９７：３ 原子％）である。これらの無機薄膜は透明基板上にマグネトロンスパッタリングによって形成した。使用したスパッタ装置はＡＮＥＬＶＡ Ｃｏｒｐ．製のインラインスパッタ装置（ＩＬＣ３１０２型）であり、ターゲットは８インチ直径で、基板は自公転しながら製膜される。膜厚はスパッタ時間で調節した。膜面から４１０ｎｍの光を照射した時の反射率が約２５％になるように、誘電体の膜厚を調節した。なお、ＺｎＳ―ＳｉＯ_２膜の屈折率（波長６３３ｎｍの値）は２．１８、ＳｉＯ_２膜の屈折率（波長６３３ｎｍの値）は１．５３、記録膜を結晶化（初期化）した後の反射率（波長４１０ｎｍの値）は７．２％であった。
【００３９】
これらの光ディスクの記録再生特性を以下のように評価した。用いた評価機はパルステック工業株式会社製の型式：ＤＤＵ−１０００評価機であり、基板（シート）の厚さの違いから、参考例１、２（１００μｍ厚さ）では、レーザ波長４００ｎｍ、ＮＡ＝０．８５の光ヘッドを用い、参考例３（３００μｍ厚さ）では、レーザ波長４０２ｎｍ、ＮＡ＝０．６５の光ヘッドを用いた。そして、絶対的な性能とスタンパ形状の転写の一様性を調べる目的で、再生信号の大きさと再生信号のディスク一周内の変動（再生信号エンベロープ変動）を評価項目とした。
【００４０】
[評価条件]
測定半径＝２８ｍｍ（内周）と５８ｍｍ（外周）で、それぞれランドとグルーブを測定した。
記録再生の線速度＝４．０ｍ／ｓｅｃ
線記録密度＝０．１１５μｍ／ｂｉｔ（１−７ＲＬＬ変調記録）
記録レーザパワー＝３．２ｍＷ（参考例１、２）、４．５ｍＷ（参考例３）
消去レーザパワー＝１．５ｍＷ（参考例１、２）、３．２ｍＷ（参考例３）
再生レーザパワー＝０．４ｍＷ（参考例１、２）、０．５ｍＷ（参考例３）
【００４１】
[評価結果]
１−７変調の３Ｔ再生信号のＣＮＲ（ｄＢ）と再生信号振幅の一周内変動（％）を表１に示した。参考例の光ディスク媒体では、ＣＮＲの値は、いずれもデジタル記録で必要と言われる４６ｄＢを満足している。再生信号エンベロープの変動率も５％以下であり、良好な結果であった。参考比較例２の光ディスク媒体では、ＣＮＲが低下した。特に、ランドトラックとグルーブトラックとのＣＮＲ値差が大きく、複屈折が大きい影響と思われた。また、出力エンベロープ変動も大きかった。
【００４２】
【表２】

【図面の簡単な説明】
【図１】本発明方法を実施するために用いられる光記録基板の製造工程の説明図である。

Claims (7)

1. ガラス転移温度が１２０〜１９０℃の範囲にあり、シングルパスの複屈折レターデーションが＋１０ｎｍ〜−１０ｎｍの範囲にあり、厚さが０．３５ｍｍ以下でありそして少なくともスタンパと接触する面が粗面化またはエンボスされている有機高分子シートに、凹凸および／または溝を有するスタンパを、減圧下で接触させかつ加熱プレスせしめることを特徴とする光記録基板の製造法。
2. 加熱プレスを、有機高分子シートとスタンパをプレス台でプレスすることにより実施し、その際有機高分子シートとプレス台の間および／またはスタンパとプレス台の間に、クッション材を挿入する請求項１に記載の製造法。
3. 請求項１〜２のいずれかの方法により得られた光記録基板の、スタンパの凹凸および／または溝が転写された面上に、反射膜および／または記録膜を形成することを特徴とする光記録媒体の製造法。
4. 請求項１〜２のいずれかの方法により製造された光記録基板。
5. ディスクである請求項４に記載の光記録基板。
6. 請求項３の方法により製造された光記録媒体。
7. ディスクである請求項６に記載の光記録媒体。

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