JP3421530B2 - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

Info

Publication number
JP3421530B2
JP3421530B2 JP09406497A JP9406497A JP3421530B2 JP 3421530 B2 JP3421530 B2 JP 3421530B2 JP 09406497 A JP09406497 A JP 09406497A JP 9406497 A JP9406497 A JP 9406497A JP 3421530 B2 JP3421530 B2 JP 3421530B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
core
power supply
core portion
memory cell
supplied
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP09406497A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH10289570A (ja
Inventor
賢一 的場
勝 小柳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP09406497A priority Critical patent/JP3421530B2/ja
Priority to US09/058,218 priority patent/US6069835A/en
Publication of JPH10289570A publication Critical patent/JPH10289570A/ja
Priority to US09/535,952 priority patent/US6272063B1/en
Priority to US09/879,145 priority patent/US6349069B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3421530B2 publication Critical patent/JP3421530B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C8/00Arrangements for selecting an address in a digital store
    • G11C8/12Group selection circuits, e.g. for memory block selection, chip selection, array selection

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、メモリセルを有す
る半導体記憶装置に関し、特にメモリセルアレイが上下
左右に4分割されている半導体記憶装置に係わる。
【0002】
【従来の技術】半導体記憶装置の動作電流を削減するた
めに、メモリセルアレイを分散して活性化することが行
われている。近年、さらに動作電流を小さくするため
に、全てのメモリセルアレイを半分に分けて一方を選択
し、その選択されたメモリセルアレイ群の中のメモリセ
ルアレイを分散して活性化している。
【0003】図12は、従来の半導体記憶装置の構成を
示す。以下、同一の構成要素には同一の符号を付し、説
明を省略する。
【0004】コア部1乃至4は一般に同一の記憶容量を
有している。コア部1はチップCPの左上に、コア部2
はチップCPの左下に、コア部3はチップCPの右上
に、コア部4はチップCPの右下に配置されている。
【0005】アドレスバッファ11は、例えばコア部3
とコア部4との間の領域に配置されている。アドレスバ
ッファ11にはチップCP内のパッドから外部アドレス
信号A0〜A11が供給され、制御信号RAt11、R
Ac11を例えばアドレス信号A11から生成する。
【0006】コア部バッファ5乃至8は、コア部1乃至
4に隣接してそれぞれ設けられている。コア部バッファ
5、6にはアドレスバッファ11が出力する制御信号R
At11が供給され、コア部バッファ7、8にはアドレ
スバッファ11が出力する制御信号RAc11が供給さ
れる。コア部バッファ5乃至8は、これらの制御信号R
At11、RAc11に応じて対応するコア部1乃至4
を活性化する。
【0007】コア部1乃至4は、それぞれ複数のメモリ
セルアレイと、メモリセルアレイに接続されたセン
スアンプ10と、信号に応じてメモリセルを選択する図
示せぬアレイデコーダ及びロウデコーダなどの回路とに
より構成される。図12に示すように、メモリセルセル
アレイ9とセンスアンプ10は交互に配置され、1個の
センスアンプ10は2個のメモリセルアレイにより共
用されている。アレイデコーダは、例えばコア部バッフ
ァを介して供給されるアドレス信号の上位ビットに応じ
て、活性化の指示を受けたコア部内のメモリセルアレイ
を1つ又は複数選択し、ロウデコーダは、例えばコア部
バッファを介して供給されるアドレス信号の下位ビット
に応じて、アレイデコーダにより選択されたメモリセル
アレイの中のワード線を選択する。
【0008】コア部1とコア部2間、コア部3とコア部
4間、コア部1とコア部3間及びコア部2とコア部4間
には、前述のロウデコーダやカラムデコーダ等の周辺回
路12が設けられている。
【0009】また、周辺回路12が設けられる領域には
複数のパッド50が例えば左右に並んで設けられ、その
パッドの一部は電源パッドとして用いられる。
【0010】以下、4個のコア部に分割されたメモリセ
ルアレイを活性化させる方法を説明する。
【0011】アドレスバッファ11は、外部アドレス信
号中の1ビットA11からロウ系の制御信号RAt1
1、RAc11を生成する。制御信号RAc11は、制
御信号RAt11の反転信号である。以下、cは反転信
号を表し、tは正転信号を表すものとする。
【0012】信号RAt11が選択状態であり、信号R
Ac11が非選択状態である場合、左上のコア部1と左
下のコア部2が選択される。このとき右上のコア部3と
右下のコア部4は選択されず、非活性状態にある。
【0013】さらに、選択されたコア部1、2のメモリ
セルは2つのグループに分けられており、アドレス信号
の上位アドレスに応じていずれかのグループに属するメ
モリセルが活性化される。図12は、この状態における
半導体記憶装置の様子を示す。以下、図中で斜線を付し
たメモリセルアレイ9及びセンスアンプ10は、活性化
されていることを表す。
【0014】また、信号RAt11を非選択状態とし、
信号RAc11を選択状態とすると、右上のコア部3と
右下のコア部4中のメモリセルアレイが活性化される。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】センスアンプを用いて
ビット線を充放電するとき、すなわちビット線の電位を
1/2×VccからVccあるいはVssにするとき、
センスアンプとビット線とを接続するトランジスタのス
イッチング動作に伴いノイズが発生する。
【0016】上述したように、従来の半導体記憶装置で
は、活性化されるセルアレイは、半導体記憶装置の左右
のどちらかに集中する。コア部1、2が活性化されてい
る場合は、このノイズは半導体記憶装置の左側に集中し
て発生し、コア部3、4が活性化されている場合は、半
導体記憶装置の右側に集中して発生することになる。
【0017】このノイズは、電源配線等に反映され、活
性化されたコア部の近辺の入力ピンや周辺回路の動作に
影響を与える。すなわち、電圧Vssが供給される電源
線の電位が上昇し、Vssレベルを供給することができ
なくなる。その結果、センスアンプや周辺回路を構成す
る素子のしきい値等が変動し、それらの回路が誤動作す
ることがありうる。
【0018】図13に示すように、電圧Vssが供給さ
れる電源パッド13が例えばコア部1とコア部2間の領
域の左側に設けられ、電圧Vccが供給される電源パッ
ド14がコア部3とコア部4間の領域の右側に設けられ
ているとする。図13は、コア部3、4が活性化してい
る場合を表し、図13中の矢印は電源パッドへの電流の
主な流れを表す。
【0019】コア部3、4と電源パッド13との間の電
源線の長さは、コア部1、2と電源パッド13との間の
電源線の長さよりも長い。そのため、電源線に生じる電
圧降下はコア部3、4が活性化される場合に大きくな
る。コア部3、4が活性化される場合の電源線における
電圧降下による影響は、コア部1、2が活性化される場
合のそれよりも大きくなる。
【0020】また、図14に示すように、それぞれ電圧
Vcc、Vssが供給される電源パッド対15がコア部
1とコア部2間の領域の左側に設けられ、それぞれ電圧
Vcc、Vssが供給される電源パッド対16がコア部
3とコア部4間の領域の右側に設けられているとする。
図14に示した矢印は、電源パッドへの電流の主な流れ
を表す。
【0021】この場合、コア部1、2と左側の電源パッ
ド対15との間の電源線の長さは、コア部3、4と右側
の電源パッド対16との間の電源線の長さとほぼ同じで
ある。そのため、図13に示した例と異なり、活性化さ
れるコアの位置によって、電圧降下の影響が大きく異な
るということはない。
【0022】しかし、コア部1、2が活性化されるとき
は電流は左側の電源パッド対15に集中して流れ、コア
部3、4が活性化される場合は電流は右側の電源パッド
対16に集中して流れる。
【0023】一般に、半導体チップはリードフレーム上
に樹脂封止され、半導体チップ上の電源パッド等のパッ
ドはリードフレームのインナーリードとボンディングワ
イヤにより接続される。さらに、パッケージングされた
半導体装置はボード上に設置され、アウターリードはボ
ード上の配線に接続される。このため、電圧Vssが供
給される電源パッドには、リードフレームによるインダ
クタンスや、ボード上の配線によるインダクタンスなど
が付加されている。この電源パッドに付加されるインダ
クタンスをLとすると、ノイズは、L×di/dtで表
される。そのため、上述したように一方の電源パッド対
に電流が集中して流れると、インダクタンスを介して大
きなノイズが発生してしまう。
【0024】このように抵抗あるいはインダクタンスを
介して生じる電源ノイズは、回路の動作に対して無視で
きない影響を与えるレベルに達している。
【0025】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
で、メモリセルアレイを分散して活性化する半導体記憶
装置において、ノイズの発生を抑えることを目的とす
る。
【0026】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するため、複数のメモリセルアレイを有する第1のコ
ア部と、複数のメモリセルアレイを有し、前記第1のコ
ア部の下方に配置された第2のコア部と、複数のメモリ
セルアレイを有し、前記第1のコア部の右方に配置され
た第3のコア部と、複数のメモリセルアレイを有し、前
記第2のコア部の右方に配置された第4のコア部と、入
力端子にアドレス信号が供給され、前記アドレス信号の
一部に応じて、前記第1のコア部及び前記第4のコア部
を活性化させる第1の活性化信号と前記第2のコア部及
び前記第3のコア部を活性化させる第2の活性化信号の
いずれかを出力するアドレスバッファと、前記第1のコ
ア部及び前記第3のコア部に接続され、前記第1のコア
部の下辺及び前記第3のコア部の下辺に沿って配置され
た第1の電源線と、前記第2のコア部及び前記第4のコ
ア部に接続され、前記第2のコア部の上辺及び前記第4
のコア部の上辺に沿って配置され、前記第1の電源線の
下方に設けられた第2の電源線と、前記第1の電源線と
前記第2の電源線との間の領域に配置され、前記第1、
第2の電源配線に接続された複数のパッドと、前記第1
のコア部と前記第2のコア部間の領域及び前記第3のコ
ア部と前記第4のコア部間の領域において、前記第1の
電源線と前記第2の電源線とを接続する配線とを具備し
ている。
【0027】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。
【0028】図1は、本発明の実施例である半導体記憶
装置の構成の概略を示す。
【0029】アドレスバッファ11の出力信号RA
1は、左上のコア部1に接続されたコア部バッファ5と
右下のコア部4に接続されたコア部バッファ8に供給さ
れる。また、アドレスバッファ11の出力信号RA
1は、左下のコア部2に接続されたコア部バッファ6と
右上のコア部3に接続されたコア部バッファ7に供給さ
れる。その他の構成要素は、図12に示した従来例と同
様である。
【0030】以下、本実施例の動作を説明する。
【0031】外部アドレス信号A0〜A11は、アドレ
スバッファ11に供給される。アドレスバッファ11
は、外部アドレス信号中の1ビットA11からロウ系の
制御信号RAt11、RAc11を生成する。制御信号
RAc11と制御信号RAt11は、互いに反転した信
号である。
【0032】信号RAt11が選択状態であり、信号R
Ac11が非選択状態である場合、左上のコア部1と右
下のコア部4が選択される。このとき左下のコア部2と
右上のコア部3は選択されず、非活性状態にある。一
方、信号RAc11が選択状態にあり、信号RAt11
が非選択状態にある場合、左下のコア部2と右上のコア
が選択され、左上のコア部1と右下のコア部4は選
択されない。このように、たすき掛け状にコア部が活性
化される。
【0033】さらに、従来例と同様に、選択されたコア
部の内部で活性化されるメモリセルは分散している。
【0034】本実施例では、従来例と異なり、活性化さ
れるメモリセルアレイは半導体記憶装置の中で上下左右
均等に活性化される。そのため、センスアンプの動作時
に生じるノイズも上下左右に分散される。
【0035】図2は、電源電圧Vccが供給される電源
パッドが1つ設けられている場合の電流の流れを示す。
電源パッド13には電源電圧Vccが供給され、電源パ
ッド14には電圧Vssが供給される。図2中に示した
矢印は、電源パッドへの電流の主な流れを表す。
【0036】コア部が活性化される場合、この電源パッ
ド13から遠いコア部はコア部3またはコア部4のいず
れか1つである。そのため、チップ内の配線による電圧
降下は活性化されるコア部の組み合わせによって変わる
ことがない。また、電圧降下の最大値は従来例よりも小
さくなるため、活性化されたコア部近辺の入力ピンや周
辺回路などの回路動作への悪影響を小さくすることが可
能となる。
【0037】図3は、電源電圧Vccが供給される電源
パッドが2つ設けられている場合の電流の流れを示す。
電源パッド対15には電源電圧Vcc,Vssが供給さ
れ、電源パッド対にも電源電圧Vcc、Vssが供給さ
れる。図3に示した例では、電源パッド対15はコア部
1とコア部2間の領域の左側に設けられ、電源パッド対
16はコア部3とコア部4間の領域の右側に設けられて
いる。図3中に示した矢印は、電源パッドへの電流の主
な流れを表す。
【0038】コア部1、4が活性化される場合も、コア
部2、3が活性化される場合も、電源パッド対15を流
れる電流と電源パッド対16を流れる電流はほぼ等し
い。そのため、電源パッド対15、16に流れる電流の
最大値を従来よりも減らすことができる。その結果、電
源パッドに付加されたインダクタンスを介して発生する
ノイズを軽減することができる。
【0039】図4は、図1に示した実施例における電源
線のレイアウトを示す。図4において17はパッドを表
す。
【0040】電源線VEXTは、電源電圧Vccが供給
される電源パッドに接続される。電源線VEXTは例え
ば周辺回路にも接続される。電源線VAAには、電源電
圧Vccを例えば図5に示すような回路により降圧した
電圧が供給される。図5に示した回路は、例えば図4中
の領域19に設けられる。電源線VAAは、センスアン
プのコアに前記降圧電圧を供給したり、メモリセルにリ
ストア用の電圧を供給する。電源線Vssは、電圧Vs
sが供給される電源パッドに接続される。電源線VEX
T,VAA,Vssはいずれもコア部1乃至4の各々に
接続される。
【0041】電源線VEXT,VAA,Vssは図4に
示すようにコア部1、3の下辺とコア部2、4の上辺に
沿って設けられる。コア部1の下辺に沿って設けられた
電源線はコア部3の下辺に沿って設けられた電源線に接
続され、コア部2の上辺に沿って設けられた電源線はコ
ア部4の上辺に沿って設けられた電源線に接続されてい
る。上のコア部1、3と下のコア部2、4との間の領域
には一般にパッドが連続して配置されているため、上の
コア部1、3に接続される電源線と下のコア部2、4に
接続される電源線とはパッドを介して接続される以外接
続されていない。
【0042】電源Vcc及びVssが供給される電源パ
ッドが、例えばコア部3、4間の領域に配置されている
とする。また、活性化されたコア部の1つが出力する電
流をiとする。コア部1、4が活性化される場合、図4
に示すようにコア部1、4に接続された電源線VEX
T,VAA,Vssには電流iが流れるが、コア部2、
3は非活性状態にあるため、コア部2、3には主たる電
流は流れない。
【0043】なお、図6は、センスアンプ及びメモリセ
ルの回路例を示す。この図は、図4に示した領域18を
拡大したものである。図6に示したメモリセルやセンス
アンプは、一般的に用いられているものである。信号S
EP、SENは、アドレス信号A8によって選択される
信号であり、センスアンプを駆動するために用いられ
る。活性化されるコア部分に対応するトランジスタ6
0、61をオンすると、電圧VAAはPchセンスアン
プに供給され、電圧VSSはNchセンスアンプに供給
される。
【0044】図7は、本発明の電源線のレイアウトを示
す。
【0045】コア部1に接続された電源線VEXT,V
AA,Vssは、コア部1とコア部2間の領域におい
て、それぞれコア部2に接続された電源線VEXT,V
AA,Vssに接続されている。また、コア部3に接続
された電源線VEXT,VAA,Vssは、コア部3と
コア部4間の領域において、コア部4に接続された電源
線VEXT,VAA,Vssに接続されている。コア部
1の下辺に沿って設けられた電源線VEXT,VAA,
Vssはコア部3の下辺に沿って設けられた電源線VE
XT,VAA,Vssに接続され、コア部2の上辺に沿
って設けられた電源線VEXT,VAA,Vssはコア
部4の上辺に沿って設けられた電源線VEXT,VA
A,Vssに接続されている。
【0046】電源Vcc及びVssが供給される電源パ
ッドがコア部3、4間の領域に配置され、活性化された
コア部の1つが出力する電流がiであるとする。コア部
1、4が活性化されると、コア部1に接続された電源線
VEXT,VAA,Vssには電流i/2が流れ、活性
化されていないコア部2に接続された電源線VEXT,
VAA,Vssにも電流i/2が流れる。
【0047】このように、本発明の電源線のレイアウト
では、活性化されないコア部側に配置された電源線にも
電流が流れるため、電源線を有効に活用することができ
る。その結果、各電源線に流れる電流が1/2となるた
め、電源線における電圧降下が小さくなり、ノイズの影
響を小さくすることができる。また、パッド上下に配置
された電源線を共有することで、上下合計の電源線の線
幅を狭くすることができる。このため、チップサイズを
小型化したり、パッド間に電源線を配置することが可能
となる。
【0048】図8は、図1に示した半導体記憶装置をよ
り詳細に示した図である。
【0049】アドレスバッファ11には、アドレス信号
A0〜A11が供給される。アドレスバッファ11は、
アドレス信号RA0〜RA10、CA0〜CA10、制
御信号RAt11、RAc11、CAt11、CAc1
1を出力する。アドレス信号RA0〜RA10は、アド
レス信号A0〜A10と同一である。制御信号RAt1
1はアドレス信号A11と同一であり、制御信号RAc
11は制御信号RAt11の反転信号である。制御信号
CAt11はアドレス信号A11と同一であり、制御信
号CAc11は制御信号CAt11の反転信号である。
【0050】コア部バッファ5乃至8には、アドレス信
号RA0〜RA10が供給される。また、コア部バッフ
ァ6、7には制御信号RAt11が供給され、コア部バ
ッファ5、8には制御信号RAc11が供給される。
【0051】図9は、コア部バッファ5乃至8の回路例
を示す。コア部バッファ5乃至8は、アドレス信号RA
0〜RA10、RAc10と、制御信号RAt11また
はRAc11から、下位アドレス信号RAQt0〜RA
Qt7、上位アドレス信号RAQt8〜RAQt10、
RAQc9、RAQc10を生成し、それらの生成信号
を対応するコア部1乃至4に供給する。
【0052】図9に示したコア部バッファ回路におい
て、供給される制御信号RAt11またはRAc11が
ローレベルであると、アドレス信号RAQt0〜RAQ
t10はいずれもローレベルとなる。その結果、対応す
るコア部に何らアドレス信号が供給されなくなり、コア
部でデータの書き込みや読み出しを行うことができなく
なる。
【0053】図10は、図8に示すデータマルチプレク
サ21、22の回路例を示す。データマルチプレクサ2
1、22は同一構成である。図10において信号などが
括弧内に書かれている箇所では、括弧に書かれていない
符号はデータマルチプレクサ21に対応し、括弧内に書
かれている符号はデータマルチプレクサ22に対応す
る。
【0054】データマルチプレクサ21、22の入力端
子には、制御信号CAt11、CAc11が供給され、
図示せぬ入力段すなわちDinバッファから書き込みデ
ータWDt、WDcが供給される。データWDtとデー
タWDcは、互いに反転した信号である。データマルチ
プレクサ21の入出力端子はコア部1及びコア部3のR
WD線RWDL0〜RWDL7に接続され、データマル
チプレクサ22の入出力端子はコア部2及びコア部4の
RWD線RWDL0〜RWDL7に接続される。データ
マルチプレクサの出力端子は図示せぬ出力段すなわちD
outバッファに読み出しデータRDtを供給する。
【0055】以下、データマルチプレクサ21中のコア
部1に対応する部分の回路について説明する。
【0056】制御信号CA11cは、ノアゲート32の
第1の入力端子に接続される。ノアゲート32の第2の
入力端子は接地され、ノアゲート32の出力端子は2段
のインバータ33、34を介してライトドライバ35、
36の制御端子に接続される。ライトドライバ35のデ
ータ入力端子にはDinバッファが出力するデータの1
ビットWDtiが供給され、ライトドライバ36のデー
タ入力端子にはDinバッファが出力するデータWDc
iが供給される。以下iは0〜7の整数のいずれかを表
す。
【0057】ライトドライバ35の第1の出力端子はp
チャネルMOSトランジスタ37のゲートに接続され、
ライトドライバ35の第2の出力端子はnチャネルMO
Sトランジスタ38のゲートに接続される。pチャネル
MOSトランジスタ37のソースには電源電圧Vccが
供給される。pチャネルMOSトランジスタ37のドレ
インは、コア部1のRWD線RWDLtiとnチャネル
MOSトランジスタ38のドレインに接続される。nチ
ャネルMOSトランジスタ38のソースは接地される。
【0058】ライトドライバ36の第1の出力端子はp
チャネルMOSトランジスタ39のゲートに接続され、
ライトドライバ36の第2の出力端子はnチャネルMO
Sトランジスタ40のゲートに接続される。pチャネル
MOSトランジスタ39のソースには電源電圧Vccが
供給される。pチャネルMOSトランジスタ39のドレ
インは、コア部1のRWD線RWDLciとnチャネル
MOSトランジスタ40のドレインに接続される。nチ
ャネルMOSトランジスタ40のソースは接地される。
【0059】また、RWD線RWDLtiは、pチャネ
ルMOSトランジスタ42のゲートとnチャネルMOS
トランジスタ44のゲートに接続される。RWD線RW
DLciはインバータ41を介してnチャネルMOSト
ランジスタ43のゲートに接続される。
【0060】pチャネルMOSトランジスタ42のソー
スには電源電圧Vccが供給される。pチャネルMOS
トランジスタ42のドレインはDoutバッファの入力
線RDtiに接続され、またnチャネルMOSトランジ
スタ43のドレインに接続される。nチャネルMOSト
ランジスタ43のソースはnチャネルMOSトランジス
タ44のドレインに接続され、nチャネルMOSトラン
ジスタ44のソースは接地される。
【0061】これらのライトドライバ35、36、pチ
ャネルMOSトランジスタ37、39、42、nチャネ
ルMOSトランジスタ38、40、43、44、インバ
ータ41より構成される回路30は、データやRWD線
の各ビットに対して設けられている。図10に示した例
ではこの回路30は8個ある。
【0062】これらのデータマルチプレクサ21、22
は、書き込み動作時にDinバッファからのデータWD
を書き込みデータとしてRWD線に供給し、読み出し動
作時にRWD線のデータを読み出しデータとしてDou
tバッファに供給する。
【0063】図11は、メモリセルアレイやセンスアン
プの周辺回路を示す。この図は、図8の中の領域20を
拡大したものである。
【0064】アレイデコーダ23は、メモリセルアレイ
10の各々に対して1つ設けられている。アレイデコー
ダ23の入力端子には、上位アドレス信号RA8〜RA
10が供給される。アレイデコーダ23は上位アドレス
信号に基づいて対応するメモリセルアレイ、センスア
ンプ10を活性化させるか否かを決定する。
【0065】メモリセルアレイ10を活性化させる場
合、そのメモリセルアレイ10に対応するパーシャルデ
コーダ24及びロウデコーダ25が活性化される。パー
シャルデコーダ24とロウデコーダ25は、メモリセル
アレイの半分の中からワード線を選んで活性化するた
め、1つのセルアレイに2つずつ設けられている。パー
シャルデコーダ24及びロウデコーダ25は、下位アド
レス信号RA0〜RA7をデコードし、メモリセルアレ
中のワード線27を1本選択する。図11に示した
回路では、1個のメモリセルアレイに対して2個のロ
ウデコーダ25が設けられているため、ロウデコーダ2
5は2分の1個のメモリセルアレイ10の中から1個の
ワード線を選択する。DQバッファ26は、RWD線と
センスアンプ10との間に設置されている。
【0066】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
上下左右に配置されたコア部をたすき掛けに活性化して
活性化されるメモリセルアレイを分散するため、ノイズ
の影響を低減し、回路の動作に悪影響を及ぼすことを防
ぐことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体記憶装置を示す図。
【図2】図1に示した実施例における電流の流れを表す
図。
【図3】図1に示した実施例における電流の流れを表す
図。
【図4】電源線レイアウトを示す図。
【図5】電源線VEXTと電源線VAA間に設けられる
回路を示す図。
【図6】メモリセルアレイ及びセンスアンプの回路例を
示す図。
【図7】本発明の電源線レイアウトを示す図。
【図8】本発明の半導体記憶装置の詳細なパターン図。
【図9】コア部バッファの回路例を示す図。
【図10】データマルチプレクサの回路例を示す図。
【図11】メモリセルアレイの周辺回路を示す図。
【図12】従来の半導体記憶装置を示す図。
【図13】従来の半導体記憶装置における電流の流れを
示す図。
【図14】従来の半導体記憶装置における電流の流れを
示す図。
【符号の説明】
1〜4 …コア部、5〜8 …コア部バッファ、9
メモリセルアレイ、10 …センスアン
、11 …アドレスバッファ、12 …周辺
回路領域、13〜16…電源パッド、21、22…デー
タマルチプレクサ、23 …アレイデコーダ、24
…パーシャルデコーダ、25 …ロウデコー
ダ、26 …DQバッファ、27 …ワード
線、50 …パッド。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小柳 勝 神奈川県川崎市幸区堀川町580番1号 株式会社東芝半導体システム技術センタ ー内 (56)参考文献 特開 平4−283490(JP,A) 特開 平6−325575(JP,A) 特開 平8−139287(JP,A) 特開 平3−214669(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11C 11/401 G11C 11/41

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数のメモリセルアレイを有する第1の
    コア部と、 複数のメモリセルアレイを有し、前記第1のコア部の下
    方に配置された第2のコア部と、 複数のメモリセルアレイを有し、前記第1のコア部の右
    方に配置された第3のコア部と、 複数のメモリセルアレイを有し、前記第2のコア部の右
    方に配置された第4のコア部と、 入力端子にアドレス信号が供給され、前記アドレス信号
    の一部に応じて、前記第1のコア部及び前記第4のコア
    部を活性化させる第1の活性化信号と前記第2のコア部
    及び前記第3のコア部を活性化させる第2の活性化信号
    のいずれかを出力するアドレスバッファと、 前記第1のコア部及び前記第3のコア部に接続され、前
    記第1のコア部の下辺及び前記第3のコア部の下辺に沿
    って配置された第1の電源線と、 前記第2のコア部及び前記第4のコア部に接続され、前
    記第2のコア部の上辺及び前記第4のコア部の上辺に沿
    って配置され、前記第1の電源線の下方に設けられた第
    2の電源線と、 前記第1の電源線と前記第2の電源線との間の領域に配
    置され、前記第1、第2の電源配線に接続された複数の
    パッドと 前記第1のコア部と前記第2のコア部間の領域及び前記
    第3のコア部と前記第4のコア部間の領域において、前
    記第1の電源線と前記第2の電源線とを接続する配線
    と、 を具備することを特徴とする半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 前記配線は前記パッド間の領域に設けら
    れていることを特徴とする請求項記載の半導体記憶装
    置。
  3. 【請求項3】 前記第1乃至第4のコア部の各々は、 入力端子に前記アドレス信号の一部を除くアドレス信号
    と、そのコア部を活性化させる前記第1の活性化信号と
    前記第2の活性化信号のいずれかが供給され、前記供給
    された活性化信号に応じて、前記供給されたアドレス信
    号を出力するコア部バッファと、 前記コア部バッファが出力するアドレス信号の上位ビッ
    トを用いて、コア部を構成する前記複数のメモリセルア
    レイの中からメモリセルアレイを1つ選択するアレイデ
    コーダと、 前記コア部バッファが出力するアドレス信号の下位ビッ
    トを用いて、前記アレイデコーダにより選択されたメモ
    リセルアレイ中のワード線を1つ選択するロウデコーダ
    とを具備することを特徴とする請求項記載の半導体記
    憶装置。
JP09406497A 1997-04-11 1997-04-11 半導体記憶装置 Expired - Fee Related JP3421530B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP09406497A JP3421530B2 (ja) 1997-04-11 1997-04-11 半導体記憶装置
US09/058,218 US6069835A (en) 1997-04-11 1998-04-10 Semiconductor memory device
US09/535,952 US6272063B1 (en) 1997-04-11 2000-03-27 Semiconductor memory device
US09/879,145 US6349069B2 (en) 1997-04-11 2001-06-13 Semiconductor memory device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP09406497A JP3421530B2 (ja) 1997-04-11 1997-04-11 半導体記憶装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10289570A JPH10289570A (ja) 1998-10-27
JP3421530B2 true JP3421530B2 (ja) 2003-06-30

Family

ID=14100102

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP09406497A Expired - Fee Related JP3421530B2 (ja) 1997-04-11 1997-04-11 半導体記憶装置

Country Status (2)

Country Link
US (3) US6069835A (ja)
JP (1) JP3421530B2 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3421530B2 (ja) 1997-04-11 2003-06-30 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社 半導体記憶装置
US7211802B1 (en) 2005-12-30 2007-05-01 Eastman Kodak Company X-ray impingement event detection system and method for a digital radiography detector
JP2011065732A (ja) * 2009-09-18 2011-03-31 Elpida Memory Inc 半導体記憶装置
US11133043B2 (en) * 2020-02-05 2021-09-28 Arm Limited Configurable control of integrated circuits

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3435205B2 (ja) * 1994-03-16 2003-08-11 株式会社東芝 半導体記憶装置
US5838603A (en) * 1994-10-11 1998-11-17 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Semiconductor device and method for fabricating the same, memory core chip and memory peripheral circuit chip
JP3028913B2 (ja) * 1994-11-10 2000-04-04 株式会社東芝 半導体記憶装置
JP3267462B2 (ja) * 1995-01-05 2002-03-18 株式会社東芝 半導体記憶装置
JP3184085B2 (ja) * 1996-03-01 2001-07-09 株式会社東芝 半導体記憶装置
JPH10189877A (ja) * 1996-12-26 1998-07-21 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JP3421530B2 (ja) * 1997-04-11 2003-06-30 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社 半導体記憶装置
US6005801A (en) * 1997-08-20 1999-12-21 Micron Technology, Inc. Reduced leakage DRAM storage unit

Also Published As

Publication number Publication date
US20010028596A1 (en) 2001-10-11
US6349069B2 (en) 2002-02-19
US6272063B1 (en) 2001-08-07
JPH10289570A (ja) 1998-10-27
US6069835A (en) 2000-05-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR0141495B1 (ko) 반도체 기억장치 및 그 결함구제방법
JP4056107B2 (ja) 半導体集積回路
JP4877894B2 (ja) 半導体装置
JP3524384B2 (ja) 半導体メモリ装置
JPH01171190A (ja) 大記憶容量高速動作スタティックramメモリ
JP3945858B2 (ja) 半導体メモリ装置
JPH04258161A (ja) 半導体集積回路装置
JPH073754B2 (ja) 半導体記憶装置
JP2006147145A (ja) 半導体メモリ装置の配置方法
JP3421530B2 (ja) 半導体記憶装置
KR100400049B1 (ko) 행 선택신호에 의해 구동되는 워드 라인 및 이와 평행하게배치되는 열 선택신호 라인을 포함하는 반도체 메모리 장치
US5040151A (en) Memory circuit with improved power interconnections
KR19980080620A (ko) 다이나믹형 ram
JP2666526B2 (ja) 半導体記憶装置
JP3115623B2 (ja) スタティック型ram
US6118727A (en) Semiconductor memory with interdigitated array having bit line pairs accessible from either of two sides of the array
US6185146B1 (en) Semiconductor memory device and method for producing the same
JPH08138378A (ja) 半導体記憶装置
US20050259500A1 (en) Semiconductor memory device and semiconductor device
JP2900944B2 (ja) 半導体メモリ
JP3035956B2 (ja) 書込みマスク可能な半導体メモリ装置
JPH0472318B2 (ja)
JPH0215956B2 (ja)
JP4484124B2 (ja) 半導体装置
JP3026341B2 (ja) 半導体メモリ装置

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20021224

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20030408

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080418

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090418

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100418

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100418

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110418

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130418

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140418

Year of fee payment: 11

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees