JP3372727B2 - レンズ鏡筒及びそれを有する光学機器 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はレンズ鏡筒及びそれ
を有する光学機器に関し、特に３５ｍｍフィルム用カメ
ラやビデオカメラ等の光学機器に用いているレンズ鏡筒
内において防振用のレンズ群を保持している光学保持手
段を光軸と直交する平面内において駆動させる為の電磁
駆動手段、例えば永久磁石を取着した磁路板を筐体内に
高精度に、しかも容易に収納保持する際に好適なもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】従来より光学機器に用いられているレン
ズ鏡筒においては筐体内においてレンズ群を保持してい
る光学保持手段を電磁駆動手段の駆動力により移動させ
てフォーカス，ズームそして防振等の各種の操作を行っ
ている。電磁駆動手段の１つとしては、例えば永久磁石
磁気回路が用いられている。

【０００３】この永久磁石磁気回路はコイルと組み合わ
せた可動線論型若しくは可動磁石型の駆動手段として利
用されることが多い。そしていずれの形式においても永
久磁石には力が加わる為に永久磁石を磁路板に安定して
固定しておく必要がある。又駆動力を大きくする為に永
久磁石磁気回路内の磁束の流れを適切な向きにしておく
必要がある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】永久磁石を磁路板に安
定して固定する為には永久磁石を磁路板に接着するか或
いは永久磁石の位置規制部材を設ける必要がある。しか
しながら一般に接着の場合は永久磁石を位置決めして接
着する工程が煩わしく、又位置規制部材を設ける場合も
その取付作業が必要となってくるという問題点があっ
た。

【０００５】又永久磁石磁気回路内の磁束を整流させる
為には磁路板に設ける永久磁石の対向面を永久磁石側に
突出させる必要がある。しかしながら、この様に磁路板
に凸部を設けると磁路板を簡易な方法でプレス加工して
製作するのが難しくなってくるという問題点があった。

【０００６】本発明は、光学機器に用いるレンズ鏡筒に
おいて駆動用のレンズ群を保持している光学保持手段を
電磁駆動させる為の電磁駆動手段を構成する要素、例え
ば磁路板と永久磁石等をプレス加工技術を利用して適切
に構成することにより組立容易で、かつ磁束の流れを良
好に整流し、安定動作させることができるレンズ鏡筒及
びそれを有する光学機器の提供を目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明のレンズ
鏡筒は、光学要素を保持して光軸と直交方向に駆動する
光学保持手段、該光学保持手段を駆動させる為の永久磁
石磁気回路、そして該永久磁石磁気回路を固定保持する
為の地板とを有したレンズ鏡筒において、該永久磁石磁
気回路は磁路板と永久磁石とを有し、該磁路板の一方の
面に該永久磁石を配置させ、他方の面は該地板と結合し
ており、該地板に設けた突出部により該磁路板を貫通し
て該永久磁石の位置決めを行っていることを特徴として
いる。

【０００８】請求項２の発明は請求項１記載のレンズ鏡
筒を用いて所定面上に画像を形成していることを特徴と
している。

【０００９】

【００１０】

【００１１】

【００１２】

【発明の実施の形態】図１は防振システムを用いた光学
機器のレンズ鏡筒に適用したときの参考例１の要部斜視
図である。同図において地板７１の背面突出耳７１ａ
（同図では３ヶ所設けているが、図では２ヶ所示してい
る。）は鏡筒（不図示）に嵌合し、公知の鏡筒コロ等が
孔７１ｂにネジ止めされ、鏡筒に固定されている。

【００１３】磁性体より成り、光沢メッキが施された第
２ヨーク（固定部）７２は円周上に設けた孔７２ａを貫
通するネジで地板７１の孔７１ｃにネジ止めされてい
る。又第２ヨーク７２にはネオジウムマグネット等の永
久磁石７３（シフトマグネット）が磁気的に吸着されて
いる。尚、矢印７３ａは各永久磁石７３の磁化方向であ
る。７４は防振用の光学要素としてのレンズである。レ
ンズ７４をＣリング等で固定した支持枠７５にはコイル
７６ｐ，７６ｙ（シフトコイル）がパッチン接着され、
又IRED等の投光素子７７ｐ，７７ｙも支持枠７５の背面
に接着されている。投光素子７７ｐ，７７ｙからの光束
はスリット７５ａｐ，７５ａｙを通して後述するＰＳＤ
等の位置検出素子７８ｐ，７８ｙに入射する。

【００１４】支持枠７５の孔７５ｂ（３ヶ所）には図２
に示す様にＰＯＭ等の先端球状の支持球７９ａ，７９ｂ
及びチャージバネ７１０が装入され、支持球７９ａが支
持枠７５に熱カシメされ固定されている（支持球７９ｂ
はチャージバネ７１０のバネ力に逆らって孔７５ｂの延
出方向に摺動可能となっている。）。

【００１５】図２はレンズ鏡筒の組立後の横断面図を示
しており、支持枠７５の孔７５ｂに矢印７９ｃ方向に支
持球７９ｂ，チャージしたチャージバネ７１０，支持球
７９ａ，の順に装入して、次いで（支持球７９ａ，７９
ｂは同形状部品）最後に孔７５ｂの周端部７５ｃを熱カ
シメして支持球７９ａの抜け止めを行っている。

【００１６】図３は図２の孔７５ｂと直交する要部断面
図、図４は図３の矢印７９ｃ方向から見たときの要部平
面図である。図４における各点Ａ〜Ｄは図３（Ｃ）の各
点Ａ〜Ｄに対応している。ここで支持球７９ａの羽根部
７９ａａの後端部は深さＡ面の範囲で受けられ規制され
ている。この為周端部７５ｃを熱カシメすることにより
支持球７９ａを支持枠７５に固定している。

【００１７】支持球７９ｂの羽根部７９ｂａの先端部は
深さＢ面の範囲で受けられている。この為に支持球７９
ｂがチャージバネのチャージバネ力で孔７５ｂより矢印
７９ｃの方向に抜けてしまうことがない様にしている。
レンズ鏡筒の組立が終了すると支持球７９ｂは第２ヨー
ク７２に受けられる。この為支持枠７５より抜け出るこ
とは無くなるが、組立性を考慮して抜け止め範囲にＢ面
を設けている。

【００１８】図２〜図４において支持枠７５の孔７５ｂ
の形状は支持枠７５を成形で作る場合においても複雑な
内径スライド型を必要とせず、矢印７９ｃと反対側に型
を抜く単純な２分割型で成形可能としてその分、寸法精
度を厳しく設定できる様にしている。

【００１９】又支持球７９ａ，７９ｂとも同部品である
為、組立ミスがなく部品管理上も有利となっている。図
１において支持枠７５の軸受部７５ｄには例えばフッ素
系のグリスを塗布し、Ｌ字形の軸７１１（非磁性のステ
ンレス材）を装入し、Ｌ字軸７１１の他端を地板７１に
形成された軸受部７１ｄ（同様にグリス塗布）に装入
し、３ヶ所の支持球７９ｂと共に第２ヨーク７２に乗せ
て支持枠７５を地板７１内に収めている。

【００２０】次に電磁駆動用の金属板としての第１ヨー
ク７１２の位置決め孔７１２ａ（３ヶ所）を地板７１の
ピン７１ｆ（図５の３ヶ所）に嵌合させ、受け面７１ｅ
（５ヶ所）にて第１ヨーク７１２を受けて地板７１に対
し、磁気的に結合する（永久磁石７３の磁力方向７３
ａ）。これにより第１ヨーク７１２の背面が支持球７９
ａと当接し、図２に示す様に支持枠７５を第１ヨーク７
１２と第２ヨーク７２にて挟持して、光軸方向の位置決
めをしている。

【００２１】支持球７９ａ，７９ｂと第１ヨーク７１２
と第２ヨーク７２の互いの当接面にもフッ素系グリスが
塗布してあり、支持枠７５は地板７１に対して光軸と直
交する平面内にて自由に摺動可能となっている。Ｌ字軸
７１１は支持枠７５が地板７１に対し矢印７１３ｐ，７
１３ｙ方向にのみ摺動可能となる様に支持しており、こ
れにより支持枠７５の地板７１に対する光軸回りの相対
的回転（ローリング）を規制している。

【００２２】尚、Ｌ字軸７１１と軸受部７１ｄ，７５ｄ
の嵌合ガタは光軸方向には大きく設定してあり、支持球
７９ａ，７９ｂと第１ヨーク７１２，第２ヨーク７２の
挟持による光軸方向規制と重複嵌合してしまうことを防
いでいる。第１ヨーク７１２の表面には絶縁用シート７
１４が被せられ、その上に複数のＩＣ（位置検出素子７
８ｐ，７８ｙ、出力増幅用ＩＣ、コイル（７５ｐ，７６
ｙ）、駆動用ＩＣ等）を有するハード基板７１５が位置
決め孔７１５ａ（２ヶ所）を地板７１のピン７１ｈ（図
５の２ヶ所）に嵌合され、孔７１５ｂ，第１ヨーク７１
２の孔７１２ｂと共に地板７１の孔７１ｇにネジ結合さ
れている。

【００２３】ここでハード基板７１５には位置検出素子
７８ｐ，７８ｙが工具にて位置決めされてハンダ付けし
て固定している。又信号伝達用のフレキシブル基板７１
６も面７１６ａがハード基板７１５の背面に破線で囲む
範囲７１５ｃに熱圧着している。フレキシブル基板７１
６からは光軸と直交する平面方向に一対の腕７１６ｂ
ｐ，７１６ｂｙが延出しており、図６に示す様に各々支
持枠７５の引っ掛け部７５ｅｐ，７５ｅｙに引っ掛けら
れIRED７７ｐ，７７ｙの端子及びコイル７６ｐ，７６ｙ
の端子がハンダ付けされている。

【００２４】これによりIRED７７ｐ，７７ｙとコイル７
６ｐ，７６ｙの駆動をハード基板７１５よりフレキシブ
ル基板７１６を介在して行っている。フレキシブル基板
７１６の腕部７１６ｂｐ，７１６ｂｙには各々屈曲部７
１６ｃｐ，７１６ｃｙが設けられており、この屈曲部７
１６ｃｐ，７１６ｃｙの弾性により支持枠７５が光軸と
直交する平面内に動き回ることに対する腕部７１６ｂ
ｐ，７１６ｂｙの負荷を低減している。

【００２５】第１ヨーク７１２はエンボスによる突出面
（凸部）７１２ｃを有し、突出面７１２ｃは絶縁シート
７１４の孔７１４ａを通りハード基板７１５と直接接触
している。この接触面のハード基板７１５側にはアース
（ＧＮＤ；グランド）パターンが形成されており、ハー
ド基板７１５を地板７１に結合手段としてのネジでネジ
結合することで第１ヨーク７１２はアースされ、アンテ
ナになってハード基板７１５にノイズを与えることが無
くなる様にしている。

【００２６】マスク７１７は地板７１のピン７１ｈに位
置決めされてハード基板７１５上に両面テープにて固定
されている。地板７１には永久磁石用の貫通孔７１ｉが
開けられており、ここから第２ヨーク７２の背面が露出
している。この貫通孔７１ｉにはヨーク７２７に設けた
永久磁石７１８（ロックマグネット）が組み込まれ、第
２ヨーク７２と磁気結合している（図２）。

【００２７】図７は組立終了後のレンズ鏡筒を図１の背
面方向から見たときの概略図である。ロックリング（係
止部）７１９の外径切り欠き部７１９ｃ（図８の３ヶ
所）を地板７１の内径突起７１ｊ（３ヶ所）に位相を合
わせてロックリング７１９を地板７１に押し込み、その
後ロックリング７１９をアンロック方向（図示反時計回
り方向）に回して地板７１に対しバヨネット結合してい
る。これによりロックリング７１９が地板７１に対し光
軸方向に拘束し、光軸回りには回転可能となる様にして
いる。

【００２８】そしてロックリング７１９が回転して再び
該ロックリング７１９の切り欠き部７１９ｃが突起７１
ｊと同位相になり、バヨネット結合が外れてしまうこと
を防ぐ為に弾性部材としてロックゴム（制限部材）７２
６を地板７１に設けている。これによりロックリング７
１９がロックゴム７２６により規制される駆動範囲（切
り欠き部７１９ｄの角度θ₀ ）しか回転できない様に回
転規制している。

【００２９】即ち、ロックゴム７２６を設けていないと
きはロックリング７１９は地板７１に対して広い駆動範
囲を持つ様になる。これによってもバヨネット結合、バ
ヨネット結合の解除が可能であるが、ロックゴム７２６
を設け、駆動範囲を角度θ₀に規制することにより外径
切り欠き部７１９ｃが内径突起７１ｊと同位相まで回転
できなくなり、これによりバヨネット抜け止めをしてい
る。

【００３０】ここでロックゴム７２６は地板７１の孔
（不図示）に圧入して植設している。ロックゴム２６の
倒れ方向に関しては地板７１の背面突出耳７１ａとネジ
穴（セルフタップ穴）７１Ｌ周辺の地板７１に対する凸
形状部により、外周の略半周を囲むことにより規制して
いる。又ヨーク７２７を地板７１にネジ結合して図１１
（図７の周方向に沿った断面概略図）の様にロックゴム
７２６をヨーク７２７と第２ヨーク７２との間に挟んで
ゴムの弾性を若干チャージして抜け止めしている。これ
によりネジや接着剤の追加を行うこと無しでロックゴム
７２６を地板７１に固定している。

【００３１】次に図９，図１０を用いてロックゴム７２
６とロックリング７１９との当接位置関係及びロックリ
ング７１９の駆動範囲について説明する。図９，図１０
は図７の平面部から要部のみ抜出した概略図であり、説
明を解りやすくする為に実際の組立状態とは若干、形
状，レイアウトを変化させている。

【００３２】図９はロック状態を示す平面図である。図
中、ロックリング７１９はロックバネ７２８で時計回り
に付勢されているが、ロックゴム７２６がロックリング
７１９の辺７１９ｉと当接して回り止めしている。そし
てこのロックリング７１９の回り止めは地板７１とは別
体のゴムの為、弾性的に行われ、ロック時の衝撃を吸収
し、大きな音を発生しない様にしている。又ロックゴム
７２６の当接辺７１９ｉはコイル７２０の近傍に設けて
いる。コイル７２０近傍はロックリング７１９の中でも
質量が集中している部分であり、ロックリング７１９の
回転時に最も大きな慣性力を有する。

【００３３】フック７１９ｅの部分で回り止めをすると
コイル７２０と離れている為にロックリング７１９が変
形し、この変形によりロック時の衝撃時の音質が悪く、
不快となり、且つロックリング７１９が地板７１より抜
けやすくなる（パッチン結合の為）。この為本発明にお
いてはコイル７２０近傍でロックリング７１９を弾性的
に回り止めして緩衝作用があること、質量集中点で受け
ることによりロックリング７１９のロック時の変形がな
く、且つロック時の音が小さく、且つ音質も良くなる様
にしている。

【００３４】又バヨネット結合はパッチン結合より強固
であり、且つロックリング７１９の変形がない為ロック
リング７１９が地板７１から外れることがない。ロック
リング７１９はロック方向とアンロック方向に駆動され
るが、この駆動が規制され、止められる時の音も両方向
で発生する。

【００３５】しかしアンロック方向の駆動終了直前で
は、まずはじめにアーマチュア７２４が吸着ヨーク７２
９に弱い力で当接（アーマチュアバネ７２３の弾性力に
よる）し、そのとき小さな金属音がするが、その後アー
マチュアバネ７２３の弾性により駆動終了時の音は発生
しない。又上記金属音も撮影者のレリーズ操作（防振シ
ステムオン時）に同期して発生する為、撮影者にとって
不快感は少ない。以上の様にしてロック時の発生音を小
さくしている。

【００３６】参考例１では上述した様にロックゴム７２
６を設けてコイル７２０近傍でロックリング７１９と当
接する様にしている。この様に参考例１では （Ａ１）ロック方向に付勢バネを有するロックリング７
１９を （Ａ２）地板７１に対してロック方向（時計回り方向）
に回して装入し、 （Ａ３）次いでアンロック方向に回してバヨネット結合
し、ロックゴムで抜け止めする。

【００３７】以上３つの構成を捕らえることにより、
（Ｂ１）簡易なバヨネット抜け止め構造でロックリング
を地板に対して安定的に結合でき、（Ｂ２）ロック時の
発生音を小さく抑えることができる（Ｂ３）更にロック
ゴムの配置をコイル近傍にすることでロックリングの変
形を防ぎ、ロック時発生音質を悪化させることがない。
等の効果を得ている。

【００３８】又参考例１に係るロックゴム７２６はロッ
クリング７１９のアンロック時のストッパーにもなって
いることを特徴としている。

【００３９】図１０はロックリング７１９がアンロック
方向に回転してアーマチュア７２４が吸着ヨーク７２９
に当接した瞬間の概略図である。この時ロックゴム７２
６の外周とロックリングの辺７１９ｊのクリアランスを
θ₂ 、ロックリング耳部７１９ａとアーマチュア７２４
のクリアランスをφ（アーマチュア７２４を吸着ヨーク
７２９にイコライズする駆動余裕量）としたとき θ₂ ＜φ となっている。

【００４０】即ち辺７１９ｊがないと図９の状態から図
１０の状態（駆動余裕量を使い切った状態）迄のロック
リング７１９の駆動角をθ₁ とすると θ₁ −φ＜θ₀ ＜θ₁ の関係になっている。

【００４１】これにより図１０の状態で更にロックリン
グ７１９がアンロック方向に駆動を続けてもロックゴム
７２６が辺７１９ｊと弾性的に当接する方がロックリン
グ耳部７１９ａがアーマチュア７２４を押し付けるより
も早い為にアーマチュア７２４は吸着ヨーク７２９に確
実に吸着される。

【００４２】以上の様に両方向を回転を規制するストッ
パとし、且つストッパを１つの弾性手段で形成すること
及びストッパは部材の部品間に挟まれるだけで固定され
ていること、及びストッパはバヨネット抜け止めを兼用
させることで組立作業性が良く、作動時に不快な発生音
がなく、安定した機構且つ確実に作動する係止手段（係
止装置）を得ている。

【００４３】以上のレンズ鏡筒における機構部は大別す
ると、レンズ７４、支持枠７５、コイル７６ｐ，７６
ｙ、IRED７７ｐ，７７ｙ、支持球７９ａ，７９ｂ、チャ
ージバネ７１０、支持軸７１１は光軸を偏心させる光学
保持手段（補正手段）の一要素を構成し、地板７１、第
２ヨーク７２、永久磁石７３、第１ヨーク７１２は補正
手段を支持する支持手段の一要素を構成し、永久磁石７
１８、ロックリング７１９、コイルバネ７２０、アーマ
チュア軸７２１、アーマチュアゴム７２２、アーマチュ
アバネ７２３、アーマチュア７２４、ヨーク７２７、ロ
ックバネ７２８、吸着ヨーク７２９、吸着コイル７３０
は補正手段を係止する係止手段の一要素を構成してい
る。アーマチュア７２４、ヨーク７２９、コイル７３０
は保持部の一要素を構成している。アーマチュア軸７２
１、アーマチュアゴム７２２、アーマチュアバネ７２３
はイコライズ手段の一要素を構成している。

【００４４】次に図１に戻り、ハード基板７１５上のＩ
Ｃ７３１ｐ，７３１ｙは各々位置検出素子７８ｐ，７８
ｙの出力増幅用のＩＣである。図１２はその内部構成の
説明図である（ＩＣ７３１ｐ，７３１ｙは同構成の為、
ここではＩＣ７３１ｐのみ示す。）。

【００４５】同図において、電流−電圧変換アンプ７３
１ａｐ，７３１ｂｐは投光素子７７ｐにより位置検出素
子７８ｐ（抵抗Ｒ₁ ，Ｒ₂ より成る）に生じる光電流７
８_i1p ，７８_i2p を電圧に変換している。差動アンプ７
３１ｃｐは各電流−電圧変換アンプ７３１ａｐ，７３１
ｂｐの差出力を求め増幅している。

【００４６】投光素子７７ｐ，７７ｙからの射出光は前
述したとおりスリット７５ａｐ，７５ａｙを経由して位
置検出素子７８ｐ，７８ｙ上に入射する。支持枠７５が
光軸と垂直な平面内で移動すると位置検出素子７８ｐ，
７８ｙへの入射位置が変化する。位置検出素子７８ｐは
矢印７８ａｐ方向に感度を持っており、又スリット７５
ａｐは矢印７８ａｐとは直交する方向（７８ａｙ方向）
に光束が拡がり、矢印７８ａｐ方向には光束が絞られる
形状をしている。

【００４７】この為支持枠７５が矢印７１３ｐ方向に動
いたときのみ位置検出素子７８ｐの光電流７８_i1p ，７
８_i2p のバランスは変化し、差動アンプ７３１ｃｐは支
持枠７５の矢印７１３ｐ方向に応じた出力をする。位置
検出素子７８ｙは矢印７８ａｙ方向に検出感度を持ち、
スリット７５ａｙは矢印７８ａｙとは直交する方向（７
８ａｐ方向）に延出する形状の為に支持枠７５が矢印７
１３ｙ方向に動いたときのみ位置検出素子７８ｙは出力
を変化させる。

【００４８】加算アンプ７３１ｄｐは電流−電圧変換ア
ンプ７３１ａｐ，７３１ｂｐの出力の和（位置検出素子
７８ｐの受光量総和）を求め、この信号を受ける駆動ア
ンプ７３１ａｐはこれに従って投光素子７７ｐを駆動す
る。

【００４９】上記の投光素子７６ｐは温度等に極めて不
安定にその投光量が変化する為、それに伴い位置検出素
子７８ｐ，７８ｙの光電流７８_i1p ，７８_i2p の絶対量
７８_i1p ＋７８_i2p が変化する。その為支持枠７５の位
置を示す７８_i1p −７８_i2pである差動アンプ７３１ｃ
ｐの出力も変化してしまう。

【００５０】この為、上記の様に受光量総和一定となる
様に前述の駆動回路によって投光素子７７ｐを制御して
差動アンプ７３１ｃｐの出力変化がなくなる様にしてい
る。

【００５１】図１のコイル７６ｐ，７６ｙは永久磁石７
３、第１のヨーク７１２、第２のヨーク７２で形成され
る閉磁路内に位置し、コイル７６ｐに電流を流すことで
支持枠７５は矢印７１３ｐ方向に駆動し、（公知のフレ
ミングの左手の法則）コイル７６ｙに電流を流すことで
支持枠７５は矢印７１３ｙ方向に駆動している。

【００５２】一般に位置検出素子７８ｐ，７８ｙの出力
をＩＣ７３１ｐ，７３１ｙで増幅し、その出力でコイル
７６ｐ，７６ｙを駆動すると支持枠７５が駆動されて位
置検出素子７８ｐ，７８ｙの出力が変化する構成とな
る。ここでコイル７６ｐ，７６ｙの駆動方向（極性）を
位置検出素子７８ｐ，７８ｙの出力が小さくなる方向に
設定すると（負帰還）コイル７６ｐ，７６ｙの駆動力に
より位置検出素子７８ｐ，７８ｙの出力が略零になる位
置で支持枠７５は安定する。

【００５３】この様に位置検出素子７８ｐ，７８ｙから
の出力を負帰還して駆動を行う手法（ここでは位置制御
手法という。）で、例えば外部から目標値（例えば手振
れ角度信号）をＩＣ７３１ｐ，７３１ｙに混合させる
と、支持枠７５は目標値に従って極めて忠実に駆動す
る。

【００５４】実際には差動アンプ７３１ｃｐ，７３１ｃ
ｙの出力はフレキシブル基板７１６を経由して不図示の
メイン基板に送られ、そこでアナログ−デジタル変換
（Ａ／Ｄ変換）が行われ、マイコンに取り込まれる。マ
イコン内では適宜目標値（手振れ角度信号）と比較増幅
され、デジタルフィルタ手法による位相進み補償（位置
制御をより安定させる為）が行われた後、再びフレキシ
ブル基板７１６を通りＩＣ７３２（コイル７６ｐ，７６
ｙ駆動用）に入力する。

【００５５】ＩＣ７３２は入力される信号を基にコイル
７６ｐ，７６ｙをＰＷＭ（パルス幅変調）駆動を行い、
支持枠７５を駆動する。支持枠７５は矢印７１３ｐ，７
１３ｙ方向に摺動可能であり、上述した位置制御手法に
より位置を安定させている。尚カメラ等の民生用光学機
器においては電源消耗防止の観点からも常に支持枠７５
を制御している訳ではない。支持枠７５は非制御状態時
には光軸と直交する平面内にて自由に動き回ることがで
きる様になる為、そのときのストローク端での衝突の音
発生や損傷に対して以下の様に対策している。

【００５６】図６乃至図１０に示す様に支持枠７５の背
面には３ヶ所の放射状に突出した突起７５ｆを設けてあ
り、図７或いは図９に示す様に突起７５ｆの先端がメカ
ロックリング７１９の内周面７１９ｇに嵌合している。
これにより支持枠７５が地板７１に対して総ての方向に
拘束される様にしている。

【００５７】図１３はメカロックリング駆動のタイミン
グチャートであり、矢印７１９ｉでコイル７２０に通電
（７２０ｂに示すＰＷＭ駆動）すると同時に吸着マグネ
ット７３０にも通電（７３０ａ）する。その為吸着ヨー
ク７２９にアーマチュア７２４が当接し、イコライズさ
れた時点でアーマチュア７２４は吸着ヨークに吸着され
る。

【００５８】次に７２０ｃに示す時点でコイル７２０へ
の通電を止めるとロックリング７１９はロックバネ７２
８の力で時計回りに回転しようとするが、上述した様に
アーマチュア７２４が吸着ヨーク７２９に吸着されてい
る為回転は規制される。このとき支持枠７５の突起７５
ｆはカム７１９ｆと対向する位置にある（カム７１９ｆ
が回転してくる）為、支持枠は突起７５ｆとカム７１９
ｆの間のクリアランス分だけ動ける様になる。

【００５９】この為、重力Ｇの方向に支持枠７５が落下
することになるが、図１３の矢印７１９ｉの時点で支持
枠７５も制御状態にする為、落下することはない。支持
枠７５は非制御時はロックリング７１９の内周で拘束さ
れているが、実際には突起７５ｆと内周壁７１９ｇの嵌
合ガタ分だけガタを有する。即ち、このガタ分だけ支持
枠７５は重力方向下方に落ちており、支持枠７５の中心
と地板７１の中心がずれていることになる。その為矢印
７１９ｉの時点から、例えば１秒費やしてゆっくり地板
の中心（光軸の中心）に移動させる制御をしている。

【００６０】これは急激に中心に移動させるとレンズ７
４を通して像の揺れを撮影者が感じて不快である為であ
り、この間に露光が行われても支持枠７５の移動による
像劣化が生じない様にする為である（例えば１／８秒で
支持枠を５μｍ移動させる）。詳しくは矢印７１９ｉ時
点での位置検出素子７８ｐ，７８ｙの出力を記憶し、そ
の値を目標値として支持枠７５の制御を始め、その後１
秒間費やして予め設定した光軸中心のときの目標値に移
動してゆく（７５ｇ）。ロックリング７１９が回転され
（アンロック状態）た後、振動検出手段からの目標値も
基にして（前述した支持枠の中心位置移動動作に重なっ
て）支持枠７５が駆動され防振が始まることになる。

【００６１】ここで防振を終る為に矢印７１９ｊの時点
で防振オフにすると振動検出手段からの目標値が本装置
に入力されなくなり、支持枠７５は中心位置に制御され
て止まる。このときに吸着コイル７３０への通電を止め
る（７３０ｂ）。すると吸着ヨーク７２９のアーマチュ
ア７２４の吸着力が無くなり、ロックリング７１９はロ
ックバネ７２８により時計回りに回転され、図９の状態
に戻る。このときロックリング７１９はストッパピン７
２６に当接して回転規制される。その後（例えば２０ms
ec後）本装置への制御を断ち、図１３のタイミングチャ
ートは終了する。

【００６２】図１４は防振システムの概要を示すブロッ
ク図である。図１４において、９１は振動検出手段であ
り、振動ジャイロ等の角速度を検出する振れ検出センサ
と該振れ検出センサ出力のＤＣ成分をカットした後に積
分して角変位を得るセンサ出力演算手段より構成され
る。

【００６３】振動検出手段９１からの角変位信号は、目
標値設定手段９２に入力される。この目標値設定手段９
２は可変差動増幅器９２ａとサンプルホールド回路９２
ｂより構成されており、サンプルホールド回路９２ｂは
常にサンプル中の為に可変差動増幅器９２ａに入力され
る両信号は常に等しく、その出力はゼロである。しか
し、後述する遅延手段９３からの出力で前記サンプルホ
ールド回路９２ｂがホールド状態になると、可変差動増
幅器９２ａはその時点をゼロとして連続的に出力を始め
る。

【００６４】可動差動増幅器９２ａの増幅率は、防振敏
感度設定手段９４の出力により可変になっている。何故
ならば、目標値設定手段９２の目標値信号は補正手段を
追従させる目標値（指令信号）であるが、補正手段の駆
動量に対する像面の補正量（防振敏感度）はズーム，フ
ォーカス等の焦点変化に基づく光学特性により変化する
為、その防振敏感度変化を補う為である。故に防振敏感
度設定手段９４は、ズーム情報出力手段９５からのズー
ム（焦点距離）情報と露光準備手段９６の測距情報に基
づくフォーカス（距離）情報が入力され、その情報を基
に防振敏感度を演算あるいはその情報を基に予め設定し
た防振敏感度情報を引き出して、目標値設定手段９２の
可変差動増幅器９２ａの増幅率を変更させる。

【００６５】補正駆動手段９７はハード基板７１５上に
実装されたＩＣ７３１ｐ，７３１ｙ７３２等であり、目
標値設定手段９２からの目標値が指令信号として入力さ
れる。補正起動手段９８はハード基板７１５上のＩＣ７
３２とコイル７６ｐ，７６ｙの接続を制御するスイッチ
であり、通常時はスイッチ９８ａを端子９８ｃに接続さ
せておくことでコイル７６ｐ，７６ｙの各々の両端を短
絡しておき、論理積手段９９の信号が入力されると、ス
イッチ９８ａを端子９８ｂに接続し、補正手段９１０を
制御状態（未だ振れ補正は行わないが、コイル７６ｐ，
７６ｙに電力を供給し、位置検出素子７８ｐ，７８ｙの
信号が略ゼロになる位置に補正手段９１０を安定させて
おく）にする。

【００６６】又、このとき同時に論理積手段９９の出力
信号は係止手段９１４にも入力し、これにより係止手段
は補正手段９１０を係止解除する。尚補正手段９１０は
その位置検出素子７８ｐ，７８ｙの位置信号を補正駆動
手段９７に入力し、前述した様に位置制御を行ってい
る。論理積手段９９は、レリーズ手段９１１のレリーズ
半押しＳＷ１信号と防振切換手段９１２の出力信号の両
信号が入力されたときに、その構成要素であるアンドゲ
ート９９ａが信号を出力する。つまり、防振切換手段９
１２の防振スイッチを撮影者が操作し、かつレリーズ手
段９１１でレリーズ半押しを行ったときに補正手段９１
０は係止解除され、制御状態になる。

【００６７】レリーズ手段９１１のＳＷ１信号は露光準
備手段９６に入力され、測光，測距，レンズ合焦駆動を
行うと共に、前述した様に防振敏感度設定手段９４にフ
ォーカス情報を出力する。遅延手段９３は論理積手段９
９の出力信号を受けて、例えば１秒後に出力して前述し
た様に目標値設定手段９２より目標値信号を出力させ
る。

【００６８】図示していないが、レリーズ手段９１１の
ＳＷ１信号に同期して振動検出手段９１も起動を始め
る。そして前述した様に積分器等、大時定回路を含むセ
ンサ出力演算は起動から出力が安定するまでに、ある程
度の時間を要する。遅延手段９３は、振動検出手段９１
の出力が安定するまで待機した後に、補正手段９１０へ
目標値信号を出力する役割を演じ、振動検出手段９１の
出力が安定してから防振を始める構成にしている。

【００６９】露光手段９１３はレリーズ手段９１１のレ
リーズ押切りＳＷ２信号入力によりミラーアップを行
い、露光準備手段９６の測光値を元に求められたシャッ
タスピードでシャッタを開閉して露光を行い、ミラーダ
ウンして撮影を終了する。撮影終了後、撮影者がレリー
ズ手段９１１から手を離し、ＳＷ１信号をオフにすると
論理積手段９９は出力を止め、目標値設定手段９２のサ
ンプルホールド回路９２ｂはサンプリング状態になり、
可変差動増幅器９２ａの出力はゼロになる。従って補正
手段９１０は補正駆動を止めた制御状態に戻る。

【００７０】論理積手段９９の出力がオフになったこと
により係止手段９１４は補正手段９１０を係止し、その
後に補正起動手段９８のスイッチ９８ａは端子９８ｃに
接続され、補正手段９１０は制御されなくなる。振動検
出手段９１は不図示のタイマにより、レリーズ手段９１
１の操作が停止された後も一定時間（例えば５秒）は動
作を継続し、その後に停止する。これは、撮影者がレリ
ーズ操作を停止した後に引き続きレリーズ操作を行うこ
とは頻繁にあるわけで、その様な時に毎回振動検出手段
９１を起動するのを防ぎ、その出力安定までの待機時間
を短くする為であり、振動検出手段９１が既に起動して
いるときには該振動検出手段９１は起動既信号を遅延手
段９３に送り、その遅延時間を短くしている。

【００７１】以上の様に参考例１では係止手段の係止部
（ロックリング７１９）を地板部（支持手段）の地板７
１とバヨネット結合させること及び係止部（ロックリン
グ７１９）を係止方向（ロック方向）に回して地板７１
に装入し、係止解除方向（アンロック方向）に回転して
バヨネット結合し、弾性手段（ロックゴム７２６）によ
りバヨネット抜け止めすることにより組立性が良く、作
動音が小さい安定した係止装置を得ている。

【００７２】又係止部（ロックリング７１９）の質量が
集中しているところ（係止部駆動用の電磁駆動手段：コ
イル７２０）を制限部材（ロックゴム７２６）で受ける
ことにより作動時の発生音質の劣化を防ぐと共に係止部
（ロックリング７１９）の作動時変形を防ぎ、安定な係
止装置を得ている。又制限手段（ロックゴム７２６）が
固定部（支持手段：第２ヨーク７２）と係止部駆動用の
電磁駆動手段（ヨーク７２７）に挟まれて固定される構
成にした為、組立作業性の良い係止装置を得ている。

【００７３】又係止部（ロックリング７１９）の係止方
向（ロック方向）と非係止方向（アンロック方向）の両
方向の駆動範囲の制限を行うことで確実な係止及び係止
解除動作を実現させることができ、特に係止部（ロック
リング７１９）を非係止状態（アンロック状態）に保持
する保持部（アーマチュア７２４（鉄片），吸着ヨーク
７２９（電磁石），吸着コイル７３０，で構成）の鉄片
と電磁石の互いの当接位置を調整するイコライズ手段
（アーマチュア軸７２１，アーマチュアゴム７２２，ア
ーマチュアバネ７２３）を動作させる為の係止部（ロッ
クリング７１９）の駆動余裕量を少なくする方向に係止
部の駆動範囲を弾性部（ロックゴム７２６）で弾性的に
規制して良好なる係止装置を得ている。

【００７４】又前述したレンズ鏡筒を含んだ光学機器を
用いて所定面（感光面）上に物体像（画像）を形成する
様にしている。

【００７５】次に参考例１の構成上の特徴について順次
説明する。図１５は図１のロックヨーク（電磁駆動手
段）７２７の拡大説明図である。図１５においてロック
ヨーク（磁路板）７２７にはエンボス部７２７ｃが複数
箇所に設けられている。ここでエンボス（半抜き）とは
プレスエ程において孔を打ち抜く際に完全に孔を打ち抜
かずに板厚の途中で打ち抜くのを止めることで生ずる板
厚方向のズレ部であり、表面は凸形状となり裏面は同径
の凹形状となっている。即ちエンボス部７２７ｃは孔７
２７ａ，７２７ｂと同じ工程で形成している。

【００７６】図１６は図１５のロックヨーク（磁路板）
７２７に永久磁石７１８が磁気結合しているときの要部
斜視図である。図１７は図１６を紙面左から右方に見た
ときの要部概略図である。図１７に示す様に永久磁石７
１８はロックヨーク７２７上に複数のエンボス部７２７
ｃに囲まれて位置規制されて保持している。

【００７７】ロックヨーク７２７上に設けた永久磁石７
１８はロックヨーク７２７及び地板７１上の永久磁石７
１８、そして第２ヨーク７２（図１）と組み合わされて
全体として閉磁路を形成している。ロックヨーク７２７
上の永久磁石７１８と地板７１上の永久磁石７１８の対
向ギャップ間の磁界中に配置されるコイル７２０（図２
参照）に電流が流されることでコイル７２０に推力を発
生させロックリング７１９を駆動している。この時の反
作用を永久磁石７１８はロックヨーク７１８側も地板７
１側も受ける。

【００７８】しかしロックヨーク７２７に設けたエンボ
ス部７２７ｃにより永久磁石７１８を位置規制している
為にこの反作用で永久磁石が動くことが無い様にしてい
る（地板７１側の永久磁石７１８は地板７１の永久磁石
貫通孔７１ｉにより位置規制している）。

【００７９】次に参考例１において永久磁石７１８の位
置規制をエンボス部７２７ｃで行ったことの長所を説明
する。地板７１側の永久磁石７１８は第２ヨーク７２と
磁気結合しており永久磁石貫通孔７１ｉにより位置規制
されている。ロックヨーク７２７側の永久磁石７１８も
同様に位置規制しようとすると専用の位置規制部材が必
要となり部品点数が多く組立も煩雑となる。

【００８０】参考例１ではロックヨーク７２７上に直接
に位置規制部材としてのエンボス部７２７ｃを一体に設
けることにより組立作業性を向上させている。ロックヨ
ーク７２７上の永久磁石の位置規制方法としては上述し
たエンボス加工による方法の他に図１８に示す様なロッ
クヨーク７２７の端部を折り曲げて位置規制する方法も
ある。

【００８１】図１８においては永久磁石７１８の長手方
向の辺の位置規制部７２７ｄをロックヨーク７２７の端
部を紙面直角方向上向きに折り曲げて形成している。こ
のとき折り曲げ部７２７ｄの板厚ｔ（ロックヨーク７２
７の肉厚）分だけロックヨーク７２７の平面が大型化し
てしまい、これにより光学保持手段をレンズ鏡筒内に組
み込めなくなってしまう場合が生じてくる。

【００８２】図１９は図１７の一点鎖線１１で切った断
面概略図である。図２０は図１８の一点鎖線１２で切っ
た断面概略図である。図１９ではエンボス部７２７ｃの
コーナー７２７ｅは略直角に立ち上がらせることが出来
るが図２０では折り曲げ部７２７ｄのコーナー７２７ｆ
は隅Ｒが残ってしまう。この隅Ｒを逃げる為に永久磁石
７１８と折り曲げ部７２７ｄの間隔δを広く設ける必要
があり、この分だけロックヨーク７２７が大型化すると
共に位置規制のガタが大きくなってくる。又この隅Ｒに
永久磁石７１８が乗り上げてしまい永久磁石７１８がロ
ックヨーク７２７に対して傾いて取り付いてしまう恐れ
も生ずる。

【００８３】前述した様に参考例１ではエンボス部７２
７ｃの隅Ｒは殆ど無い為に上述の位置規制ガタを小さく
抑えることが出来ると共にロックヨーク７２７も小型化
することが出来、更に永久磁石７１８をロックヨーク７
２７に傾いて取り付いてしまうことを防止している。

【００８４】図１５〜図１７の参考例１においてはエン
ボス部７２７ｃはロックヨーク７２７の板厚の約半分位
打ち抜いている。このとき永久磁石７１８の磁化方向の
厚みがロックヨーク７２７の板厚に対して相対的に薄い
場合には図２１に示す様な問題が生ずる。

【００８５】図２１においてエンボス部７２７ｃの高さ
ｔ₁ はロックヨーク７２７の板厚の約半分であるがこの
高さが永久磁石７１８の磁化方向７１８ｂの厚さと略等
しくなっている。この場合永久磁石７１８の磁束は破線
７１８ａの様にエンボス部７２７ｃに向って流れてしま
い、更に永久磁石７１８の側面７１８ｃにおいてその厚
み方向の総てに渡ってエンボス部７２７ｃが隣接してい
る為にこの部分で磁束がショートしてしまい、永久磁石
７１８の有効利用ができなくなってしまう。

【００８６】そこで参考例１では図２２の様にエンボス
部７２７ｃの高さｔ_１を永久磁石７１８の厚みｔ_２より
も低くして上述磁束のロスを防ぎ、永久磁石の有効利用
を行っている。

【００８７】図２３，図２４は参考例２の一部分の要部
概略図である。参考例２は図１５に示す参考例１に比べ
てエンボス部７２７ｃの形状が異なっている。図２４は
図２３において永久磁石７１８を装着した場合を示して
いる。図２３，図２４においてはロックヨーク７２７に
設けた永久磁石７１８の当接面の形状に沿ってエンボス
部７２７ｃが設けられている。

【００８８】この場合エンボス部７２７の周囲のロック
ヨーク７２７部がエンボス部７２７ｃに比べて高くなっ
ており、永久磁石７１８の収まる範囲だけエンボスで凹
加工したことになり、図１７の様に永久磁石７１８の周
囲にエンボス加工で凸部を設けた構成と逆になってい
る。

【００８９】永久磁石７１８はロックヨーク７２７に単
に磁気結合しているだけであるが、信頼性を上げる為に
接着を行う時、凹部７２７ｃに粘度の低い接着剤を注入
しても接着剤は他の部分に漏れて流れてゆくことが無い
為に接着作業を容易に行うことが出来る。

【００９０】図２５は本発明の実施形態１の一部分の要
部斜視図である。本実施形態１は図１に示す第２ヨーク
７２（磁路板）に対する永久磁石７３の位置規制方法を
示している。図２５において第２ヨーク７２上に斜線２
１で示した部分は永久磁石７３が磁気結合する範囲であ
る。図２５において辺２１ａは図５の地板７１の辺７１
ｒに沿っており、同様にして辺２１ｂは地板７１の辺７
１ｓ，辺２１ｄは地板７１の辺７１ｑ，辺２１ｅは地板
７１の辺７１ｔに沿っている。

【００９１】これによって永久磁石７３が地板７１の辺
７１ｒ，７１ｓ，７１ｑ，７１ｔに囲まれる様にしてい
る。又辺２１ｆの近傍には第２ヨーク７２上のエンボス
部７２ｄを設けており、これによって永久磁石７３をエ
ンボス部７２ｄからも位置規制している。第２ヨーク７
２の辺２１ｃに接して孔７２ｂ，７２ｃが設けられてお
り、図５の突出部７１ｎが孔７２ｂ，７２ｃを貫通し、
第２ヨーク７２よりも突出している。これによって突出
部７１ｎで永久磁石７３の位置規制を行っている。

【００９２】図２６は図２５の一点鎖線２２で第２ヨー
ク７２及び永久磁石７３を切った断面図である。対の永
久磁石７３はその磁化方向７３ａが逆の為に互いに吸収
される方向に力を受ける。しかし突出部７１ｎが位置規
制している為に永久磁石７３の位置は不動となる。

【００９３】従来、永久磁石の位置規制の方法として図
１の第２ヨーク７２上に磁気結合される永久磁石７１８
の様に地板７１の永久磁石貫通孔７１ｉにより位置規制
している。このとき第２ヨーク７２に対し永久磁石７１
８と地板７２は同じ面に配置されている為、地板７１が
永久磁石７１８の位置規制を兼ねることが出来ている。

【００９４】しかし第２ヨーク７２と永久磁石７３、地
板７１の関係の様に地板７１が第２ヨーク７１２を挟ん
で永久磁石７３の反対面にある場合においては、例えば
図２７に示される様に対の永久磁石７３間の位置規制の
為に専用の位置規制部材２３を設けていた。しかしこの
様に位置規制部材２３を設けるとその取り付け作業が煩
わしくなる。即ち永久磁石７３は第２ヨーク７２に磁気
結合する為第２ヨーク７２上に配置するだけで接着等の
作業は必要としないが位置規制部材を第２ヨーク７２に
取り付けるときは接着やネジ固定等の作業が必要になっ
てくる。

【００９５】そこで本実施形態では図２６に示す様にこ
の位置規制部材２３の代わりに地板７１からの突出部７
１ｎを第２ヨーク７２を貫通させて永久磁石７３側に突
出させることで設計上の制約から地板７１が永久磁石７
３の反対面にあっても地板７１で永久磁石７３の位置規
制が行える様にしている。尚第２ヨーク７２の地板７１
の突出部７１ｎの貫通孔７２ｂ，７２ｃは円形或いは半
円形であり、対の永久磁石７３の長辺側に沿って長く設
けられてはいない。

【００９６】これは対の永久磁石７３の磁束７３ｂは図
２７に示す様に第２ヨーク７２で結ばれているが、図２
６の様に貫通孔７２ｂが開けられているとこの磁路が無
くなってしまう。

【００９７】しかし図２５の様に磁束７３ｂは貫通孔７
２ｂを避けて対の永久磁石７３の磁束を連絡している。
もしも貫通孔７２ｂを永久磁石７３の長手方向全域に渡
って設けると、この磁束の回避路が無くなってしまい良
好な磁気回路でなくなる為に貫通孔７２ｂは磁束の流れ
る方向の巾を狭くしている。

【００９８】以上の様に第２ヨーク７２（磁路板）を貫
通する地板７１の突出部７１ｎにより永久磁石７３の位
置規制を行うことで設計の自由度（地板を永久磁石の反
対面に設置できる）を増し、永久磁石の取り付け作業性
も簡単にしている。

【００９９】図２８は参考例３の一部分の要部斜視図で
ある。参考例３は図１で示した光学保持手段の第１ヨー
ク７１２（図２９に拡大図を示す）に対して孔７１２ｄ
が貫通している点が異なっている。

【０１００】図２９におけるこの第１ヨーク（第１磁路
板）７１２を一点鎖線３１で切った断面を図３０に示
す。図３０において永久磁石７３及び永久磁石７３に対
向する第１ヨーク７１２の磁束の流れは矢印７３ｄ，７
３ｅの様になっており、コイル７６ｐ，７６ｙが配置さ
れるギャップｇ間の磁束７３ｅは斜めになっている。

【０１０１】これは第１ヨーク７１２が対の永久磁石７
３との対向部において平板（対の永久磁石７３と対向す
る面５２と、その境界部と対向する面５１が同一平面）
の為に対の永久磁石７３からの磁束７３ｅが互いに引き
寄せられる為である。そしてこの様に磁束７３ｅがコイ
ル７６ｐ，７６ｙに対して斜めになっていると駆動方向
５３に有効な推力が発生できなくなる。

【０１０２】図３２は図２８の参考例３の第１ヨーク７
１２を一点鎖線３１で切った断面図である。同図に示す
様に孔７１２ｄが設けられている為にこの間に磁束が通
らずその為に対の永久磁石７３の磁束７３ｅが互いに引
き寄せられることは無く磁束７３ｅはコイル７６ｐ，７
６ｙに対して直角に貫くことができる。

【０１０３】このとき第１ヨーク７１２内の磁束７３ｄ
は孔７１２ｄにより流れを妨げられ、図２８に示す様に
孔７１２ｄの周辺を迂回してゆく。その為第１ヨーク７
１２上の巾Ｌ１，Ｌ２（第１ヨーク７１２内で磁束７１
２ｄが最も絞られる部分）を十分広くとり、この部分で
磁束の飽和が生じない様にしている。

【０１０４】図３０の様な磁束の傾きを無くす為には第
１ヨーク７１２の永久磁石７３対向面５２を境界部の対
向面５１に段差を設ける（図３１）ことで可能となる。

【０１０５】しかしながらこの様に凹部７１２ｅを形成
することは第１ヨーク７１２に切削加工を行う必要があ
り、加工コストが高くなってしまう。それに比べて図３
２の様に孔７１２ｄはプレス加工で設けられる為に加工
コストが安く量産向きになっている。尚図３２は孔７１
２ｄを貫通しているが、図３３に示す様にエンボス（半
抜き）でも磁束７３ｅを整流することが出来、この場合
には第１ヨーク７１２内に図示の磁束７３ｄを流すこと
が出来、図２８で示した巾Ｌ１，Ｌ２を小さくして全体
をコンパクトにすることが出来る。

【０１０６】

【発明の効果】本発明によれば以上の様に、光学機器に
用いるレンズ鏡筒において駆動用のレンズ群を保持して
いる光学保持手段を電磁駆動させる為の電磁駆動手段を
構成する要素、例えば磁路板と永久磁石等をプレス加工
技術を利用して適切に構成することにより組立容易で、
かつ磁束の流れを良好に整流し、安定動作させることが
できるレンズ鏡筒及びそれを有する光学機器を達成する
ことが出来る。

【０１０７】この他本発明によれば、磁路板（ロックヨ
ーク７２７，第２ヨーク７２）にエンボス部（半抜き部
７２７ｃ，７２ｄ）を設け、このエンボス部を永久磁石
７３，７１８の取り付け位置規制に用いることにより、
或いは磁路板（第２ヨーク７２）を貫通する地板７１か
らの突出部７１ｎにより永久磁石の取り付け位置規制を
行うことにより位置規制部材としての専用の部品（位置
規制部材２３）を用いること無く永久磁石を磁路板に簡
単に取り付けることが出来る。

【０１０８】又エンボス部（７２７ｃ，７２ｄ）の高さ
を永久磁石７３，７１８の磁化方向（７３ａ，７１８
ｂ）の厚みより低くすることにより、又一対の永久磁石
７３と対向する磁路板（第１ヨーク７１２）の一対の永
久磁石の隣り合う境界部と対向する領域５１を孔（７１
２ｄ）にすることにより又はエンボス（７１２ｅ）とす
ることにより磁束の流れを整流し、コイル７６ｐ，７６
ｙで有効な推力を得ている。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の参考例１の一部分の要部斜視図

【図２】図１の一部分の要部断面図

【図３】図２の一部分の説明図

【図４】図３の矢印７９ｃ方向から見たときの要部平面
図

【図５】図１の一部分の要部斜視図

【図６】図１の一部分の要部斜視図

【図７】図１の一部分の要部平面図

【図８】図１の一部分の要部斜視図

【図９】図１の一部分の要部平面図

【図１０】図１の一部分の要部平面図

【図１１】図１の一部分の要部断面図

【図１２】本発明の参考例１の説明図

【図１３】本発明の参考例１の説明図

【図１４】本発明の参考例１の要部ブロック図

【図１５】図１の一部分の拡大説明図

【図１６】図１の一部分の拡大説明図

【図１７】図１の一部分の拡大説明図

【図１８】図１の一部分を比較したときの説明図

【図１９】図１７の一点鎖線１１の断面図

【図２０】図１９の一部分を比較したときの説明図

【図２１】図１の一部分の説明図

【図２２】図１の一部分の説明図

【図２３】本発明の参考例２の一部分の要部概略図

【図２４】本発明の参考例２の一部分の要部概略図

【図２５】本発明の実施形態１の一部分の要部概略図

【図２６】図２５の一部分の説明図

【図２７】図２５の一部分の説明図

【図２８】本発明の参考例３の一部分の要部概略図

【図２９】図１の一部分の拡大説明図

【図３０】図２９の一点鎖線３１の断面図

【図３１】図３０の一部分の説明図

【図３２】図２８の一点鎖線３１の断面図

【図３３】図３２の一部を変更したときの説明図

【符号の説明】

７１ 地板（支持手段） ７２ 第２ヨーク（第２磁路板） ７３，７１８ 永久磁石 ７１２ 第１ヨーク（第１磁路板） ７１９ ロックリング（係止部） ７２７ ヨーク（ロックヨーク） ７５ 支持枠（光学保持手段） ７２６ 弾性手段（制限部材） ７２７ｃ，７２ｄ エンボス部 ７１２ｄ 孔 ５１ 境界部 ７１ｎ 突出部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G02B 7/04 G02B 7/02 G02B 7/08 G03B 5/00

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光学要素を保持して光軸と直交方向に駆動
   する光学保持手段、該光学保持手段を駆動させる為の永
   久磁石磁気回路、そして該永久磁石磁気回路を固定保持
   する為の地板とを有したレンズ鏡筒において、該永久磁
   石磁気回路は磁路板と永久磁石とを有し、該磁路板の一
   方の面に該永久磁石を配置させ、他方の面は該地板と結
   合しており、該地板に設けた突出部により該磁路板を貫
   通して該永久磁石の位置決めを行っていることを特徴と
   するレンズ鏡筒。
2. 【請求項２】 請求項１記載のレンズ鏡筒を用いて所定
   面上に画像を形成していることを特徴とする光学機器。