JP3120882B2 - 表面高反射鏡 - Google Patents
表面高反射鏡Info
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- JP3120882B2 JP3120882B2 JP03349304A JP34930491A JP3120882B2 JP 3120882 B2 JP3120882 B2 JP 3120882B2 JP 03349304 A JP03349304 A JP 03349304A JP 34930491 A JP34930491 A JP 34930491A JP 3120882 B2 JP3120882 B2 JP 3120882B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、カメラ、望遠鏡、顕微
鏡等の光学製品に使用される表面反射多層膜を有する表
面高反射鏡に関する。
鏡等の光学製品に使用される表面反射多層膜を有する表
面高反射鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】光学製品に使用される表面高反射鏡の反
射材料としては、一般的には、可視から近赤外の範囲に
わたって反射率が高い銀が使用されている。しかしなが
ら、銀を使用する場合、単層膜では膜付着性、耐湿性、
耐硫化性等の点で劣るという問題がある。このため銀の
単層膜に下地層と、保護層とを形成した多層膜構成と
し、膜付着性、耐湿性、耐硫化性等を付与している。こ
のような多層膜構成の表面高反射鏡として、本発明者は
特願平２−３１７０９９号明細書において、図２に示す
ような基板１ｂ上に硫化クロムからなる下地層３ｂと、
銀からなる反射層４ｂと、硫化クロムからなる保護層５
ｂと、二酸化ケイ素からなる保護層６ｂと、酸化アルミ
ニウムからなる保護層７ｂと、二酸化ケイ素からなる保
護層８ｂとを順次形成してなる表面高反射鏡を提案して
いる。
射材料としては、一般的には、可視から近赤外の範囲に
わたって反射率が高い銀が使用されている。しかしなが
ら、銀を使用する場合、単層膜では膜付着性、耐湿性、
耐硫化性等の点で劣るという問題がある。このため銀の
単層膜に下地層と、保護層とを形成した多層膜構成と
し、膜付着性、耐湿性、耐硫化性等を付与している。こ
のような多層膜構成の表面高反射鏡として、本発明者は
特願平２−３１７０９９号明細書において、図２に示す
ような基板１ｂ上に硫化クロムからなる下地層３ｂと、
銀からなる反射層４ｂと、硫化クロムからなる保護層５
ｂと、二酸化ケイ素からなる保護層６ｂと、酸化アルミ
ニウムからなる保護層７ｂと、二酸化ケイ素からなる保
護層８ｂとを順次形成してなる表面高反射鏡を提案して
いる。
【０００３】このような表面高反射鏡の耐久性は、４０
℃〜６０℃における加速耐湿テストにより評価されてい
る。前記のような構成の表面高反射鏡を、６０℃、９０
％ＲＨ、２４時間の耐湿テストにより評価したところ樹
脂基板と積層膜とが剥離し、点状欠陥が生じる場合のあ
ることが見い出された。点状欠陥の発生要因としては、
樹脂の熱膨張や、樹脂の吸湿による膨潤の影響が考えら
れる。たとえば、図３のような平板形状の樹脂基材１ｃ
に表面反射膜２ｃを形成した試料を加熱すると、樹脂基
材１ｃの熱膨張率が表面反射膜２ｃの熱膨張率よりも大
きいため、表面反射膜２ｃが引張応力を発生し、図４に
示すように試料全体が表面反射膜２ｃの方へ歪曲してし
まう。この結果、膜密着性が低下し、樹脂基材と表面反
射膜とが剥離して、点状欠陥が発生し、反射率等の光学
特性や表面反射膜の耐腐蝕性等が劣化してしまう。この
点状欠陥は通常雰囲気に戻すと徐々に消滅するが、膜付
着性が悪くなる原因となりやすく、反射膜の耐久性が低
下してしまう。近年、超精密金型加工機の出現と射出成
形技術の向上により、樹脂が光学部材として利用される
ようになってきている。特にポリカーボネート樹脂、ポ
リアセタール樹脂などのエンジニアリングプラスチック
は耐熱性に優れ、高温での使用が可能であるが、上記の
ような点状欠陥の発生に起因する問題点はいまだ解決さ
れていなかった。
℃〜６０℃における加速耐湿テストにより評価されてい
る。前記のような構成の表面高反射鏡を、６０℃、９０
％ＲＨ、２４時間の耐湿テストにより評価したところ樹
脂基板と積層膜とが剥離し、点状欠陥が生じる場合のあ
ることが見い出された。点状欠陥の発生要因としては、
樹脂の熱膨張や、樹脂の吸湿による膨潤の影響が考えら
れる。たとえば、図３のような平板形状の樹脂基材１ｃ
に表面反射膜２ｃを形成した試料を加熱すると、樹脂基
材１ｃの熱膨張率が表面反射膜２ｃの熱膨張率よりも大
きいため、表面反射膜２ｃが引張応力を発生し、図４に
示すように試料全体が表面反射膜２ｃの方へ歪曲してし
まう。この結果、膜密着性が低下し、樹脂基材と表面反
射膜とが剥離して、点状欠陥が発生し、反射率等の光学
特性や表面反射膜の耐腐蝕性等が劣化してしまう。この
点状欠陥は通常雰囲気に戻すと徐々に消滅するが、膜付
着性が悪くなる原因となりやすく、反射膜の耐久性が低
下してしまう。近年、超精密金型加工機の出現と射出成
形技術の向上により、樹脂が光学部材として利用される
ようになってきている。特にポリカーボネート樹脂、ポ
リアセタール樹脂などのエンジニアリングプラスチック
は耐熱性に優れ、高温での使用が可能であるが、上記の
ような点状欠陥の発生に起因する問題点はいまだ解決さ
れていなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記のような
問題点を解決するためになされたものであって、点状欠
陥の発生を防止し、膜付着性、耐腐蝕性、耐久性、光学
特性に優れた表面高反射鏡を提供することを目的として
いる。
問題点を解決するためになされたものであって、点状欠
陥の発生を防止し、膜付着性、耐腐蝕性、耐久性、光学
特性に優れた表面高反射鏡を提供することを目的として
いる。
【０００５】
【問題点を解決するための手段】上記目的に鑑み鋭意研
究の結果、本発明者は樹脂基板と表面反射鏡との間に内
部応力が圧縮応力を示す二酸化ケイ素からなる第１の下
地層を形成することにより、高温高湿下において樹脂基
板に働く表面反射膜の引張応力を緩和でき、ひいては点
状欠陥の発生を防止することができるとの知見を得て本
発明を完成するに至った。すなわち、本発明の表面高反
射鏡は、樹脂基板表面上に形成された二酸化ケイ素から
なる第1の下地層と、前記第1の下地層上に形成された硫
化クロムからなる第２の下地層と、前記第２の下地層上
に形成された銀からなる反射層と、前記反射層上に形成
された保護層とを有し、前記第１の下地層の膜厚が２５
〜１００ｎｍであることを特徴とする。
究の結果、本発明者は樹脂基板と表面反射鏡との間に内
部応力が圧縮応力を示す二酸化ケイ素からなる第１の下
地層を形成することにより、高温高湿下において樹脂基
板に働く表面反射膜の引張応力を緩和でき、ひいては点
状欠陥の発生を防止することができるとの知見を得て本
発明を完成するに至った。すなわち、本発明の表面高反
射鏡は、樹脂基板表面上に形成された二酸化ケイ素から
なる第1の下地層と、前記第1の下地層上に形成された硫
化クロムからなる第２の下地層と、前記第２の下地層上
に形成された銀からなる反射層と、前記反射層上に形成
された保護層とを有し、前記第１の下地層の膜厚が２５
〜１００ｎｍであることを特徴とする。
【０００６】
【実施例】図１は本発明の層構成を有する表面高反射鏡
を概略的に示す。本発明に係る表面高反射鏡は７層構造
であり、各層は真空蒸着法、スパッタリング法等により
形成されている。本発明に係る表面高反射鏡は、図１に
示されるように、基板１ａ上に二酸化ケイ素からなる第
１の下地層２ａが形成され、第１の下地層２ａ上に硫化
クロムからなる第２の下地層３ａが形成され、第２の下
地層３ａ上に銀からなる反射層４ａが形成され、反射層
４ａ上に硫化クロムからなる第１の保護層５ａが形成さ
れ、第１の保護層５ａ上に二酸化ケイ素からなる第２の
保護層６ａが形成され、第２の保護層６ａ上に酸化アル
ミニウムからなる第３の保護層７ａが形成され、第３の
保護層７ａ上に二酸化ケイ素からなる第４の保護層８ａ
が形成されている。
を概略的に示す。本発明に係る表面高反射鏡は７層構造
であり、各層は真空蒸着法、スパッタリング法等により
形成されている。本発明に係る表面高反射鏡は、図１に
示されるように、基板１ａ上に二酸化ケイ素からなる第
１の下地層２ａが形成され、第１の下地層２ａ上に硫化
クロムからなる第２の下地層３ａが形成され、第２の下
地層３ａ上に銀からなる反射層４ａが形成され、反射層
４ａ上に硫化クロムからなる第１の保護層５ａが形成さ
れ、第１の保護層５ａ上に二酸化ケイ素からなる第２の
保護層６ａが形成され、第２の保護層６ａ上に酸化アル
ミニウムからなる第３の保護層７ａが形成され、第３の
保護層７ａ上に二酸化ケイ素からなる第４の保護層８ａ
が形成されている。
【０００７】基板１ａとしては、ポリカーボネート樹
脂、ポリアセタール樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン
樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹
脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ＡＢＳ樹脂等の
樹脂材料が特に制限されることなく用いられる。第１の
下地層２ａは二酸化ケイ素からなり、その膜厚は好まし
くは２５〜１００ｎｍであり、特に好ましくは５０〜７
５ｎｍである。この第１の下地層２ａの内部応力は圧縮
応力である。第１の下地層２ａは前記樹脂基板１ａと後
述する表面反射膜３ａ〜８ａとの熱膨張差や水分吸収に
よる膨張差を緩和する目的で挿入されている。樹脂基板
１ａの熱膨張率は表面反射膜３ａ〜８ａの熱膨張率より
も大きいため、樹脂基板１ａと表面反射膜３ａ〜８ａと
の積層体を加熱すると表面反射膜３ａ〜８ａが引張応力
を発現し、積層体全体が表面反射膜３ａ〜８ａの方へ歪
曲する（図５参照）。そこで、前記のような内部応力が
圧縮応力である第１の下地層２ａを樹脂基板１ａと表面
反射膜３ａ〜８ａとの間に挿入することにより、高温高
湿下で発生する表面反射膜３ａ〜８ａの引張応力が緩和
されるため、積層体の歪曲を防止することができる。
脂、ポリアセタール樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン
樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹
脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ＡＢＳ樹脂等の
樹脂材料が特に制限されることなく用いられる。第１の
下地層２ａは二酸化ケイ素からなり、その膜厚は好まし
くは２５〜１００ｎｍであり、特に好ましくは５０〜７
５ｎｍである。この第１の下地層２ａの内部応力は圧縮
応力である。第１の下地層２ａは前記樹脂基板１ａと後
述する表面反射膜３ａ〜８ａとの熱膨張差や水分吸収に
よる膨張差を緩和する目的で挿入されている。樹脂基板
１ａの熱膨張率は表面反射膜３ａ〜８ａの熱膨張率より
も大きいため、樹脂基板１ａと表面反射膜３ａ〜８ａと
の積層体を加熱すると表面反射膜３ａ〜８ａが引張応力
を発現し、積層体全体が表面反射膜３ａ〜８ａの方へ歪
曲する（図５参照）。そこで、前記のような内部応力が
圧縮応力である第１の下地層２ａを樹脂基板１ａと表面
反射膜３ａ〜８ａとの間に挿入することにより、高温高
湿下で発生する表面反射膜３ａ〜８ａの引張応力が緩和
されるため、積層体の歪曲を防止することができる。
【０００８】引張応力は表面反射膜３ａ〜８ａが樹脂基
板１ａを表面反射膜３ａ〜８ａの方へ曲げようとする応
力であり（図５参照）、圧縮応力は第１の下地層２ａが
基板１ａを基板１ａの方へ曲げようとする応力である。
（図６参照）。したがって、圧縮応力を発現する二酸化
ケイ素層を第１の下地層２ａとして樹脂基板１ａと表面
反射膜３ａ〜８ａとの間に形成することにより、樹脂基
板１ａと表面反射膜３ａ〜８ａとの熱膨張差に起因する
歪曲を緩和できる。第２の下地層３ａより表面側は耐擦
傷性、耐腐蝕性、膜付着性、光学特性の維持のため、二
酸化ケイ素層を増加することができないので、樹脂基板
１ａと第２い表面高反射鏡が得られる。第２の下地層３
ａは硫化クロムからなり、その膜厚は１〜３５ｎｍとす
ることが好ましく、特に３〜１１ｎｍとすることが好ま
しい。第２の下地層３ａを形成することにより、所望の
膜厚の反射層４ａを容易に形成できるようになる。
板１ａを表面反射膜３ａ〜８ａの方へ曲げようとする応
力であり（図５参照）、圧縮応力は第１の下地層２ａが
基板１ａを基板１ａの方へ曲げようとする応力である。
（図６参照）。したがって、圧縮応力を発現する二酸化
ケイ素層を第１の下地層２ａとして樹脂基板１ａと表面
反射膜３ａ〜８ａとの間に形成することにより、樹脂基
板１ａと表面反射膜３ａ〜８ａとの熱膨張差に起因する
歪曲を緩和できる。第２の下地層３ａより表面側は耐擦
傷性、耐腐蝕性、膜付着性、光学特性の維持のため、二
酸化ケイ素層を増加することができないので、樹脂基板
１ａと第２い表面高反射鏡が得られる。第２の下地層３
ａは硫化クロムからなり、その膜厚は１〜３５ｎｍとす
ることが好ましく、特に３〜１１ｎｍとすることが好ま
しい。第２の下地層３ａを形成することにより、所望の
膜厚の反射層４ａを容易に形成できるようになる。
【０００９】第２の下地層３ａ上に形成された銀からな
る反射層４ａは、５０〜２５０ｎｍの膜厚を有するのが
好ましく、特に８５〜２１５ｎｍとすることが好まし
い。膜厚が５０ｎｍ未満であると、完全な反射とならず
にハーフミラー化するので好ましくなく、また膜厚が２
５０ｎｍを超えると耐久性が劣化するので好ましくな
い。銀からなる反射層４ａ上に形成された第１の保護層
５ａは、硫黄イオンが反射層４ａに侵入することを防ぐ
ために、硫化クロムにより形成する。第１の保護層５ａ
は、１〜１０ｎｍの膜厚を有するのが好ましく、特に２
〜５ｎｍの膜厚とするのが好ましい。膜厚が１０ｎｍを
超えると、硫化クロムは吸収性を有するため、可視全域
で反射率の低下を生じるため好ましくない。
る反射層４ａは、５０〜２５０ｎｍの膜厚を有するのが
好ましく、特に８５〜２１５ｎｍとすることが好まし
い。膜厚が５０ｎｍ未満であると、完全な反射とならず
にハーフミラー化するので好ましくなく、また膜厚が２
５０ｎｍを超えると耐久性が劣化するので好ましくな
い。銀からなる反射層４ａ上に形成された第１の保護層
５ａは、硫黄イオンが反射層４ａに侵入することを防ぐ
ために、硫化クロムにより形成する。第１の保護層５ａ
は、１〜１０ｎｍの膜厚を有するのが好ましく、特に２
〜５ｎｍの膜厚とするのが好ましい。膜厚が１０ｎｍを
超えると、硫化クロムは吸収性を有するため、可視全域
で反射率の低下を生じるため好ましくない。
【００１０】第１の保護層５ａ上に形成された第２の保
護層６ａは、二酸化ケイ素からなり、後述する第３の保
護層７ａとの組合せにより表面反射光の色調を調整する
ために形成されている。第２の保護層６ａは、５０〜８
０ｎｍの膜厚を有するのが好ましく、特に６５〜７５ｎ
ｍとすることが好ましい。第２の保護層６ａ上に形成さ
れた第３の保護層７ａは表面からの水分の侵入を防止
し、また表面反射光の色調を調整するために、酸化アル
ミニウムにより形成する。第３の保護層７ａは２０〜６
０ｎｍの膜厚を有するのが好ましく、特に３０〜５０ｎ
ｍとすることが好ましい。第３の保護層７ａ上の第４の
保護層８ａは、耐擦傷性等を強化するために二酸化ケイ
素により形成する。第４の保護層８ａは、７〜２３ｎｍ
の膜厚とするのが好ましく、特に２０〜６０ｎｍとする
のが好ましい。膜厚が７ｎｍ未満であると耐擦傷性等が
不十分であり、また膜厚が２３ｎｍを超えると反射光の
色調を損なうので好ましくない。
護層６ａは、二酸化ケイ素からなり、後述する第３の保
護層７ａとの組合せにより表面反射光の色調を調整する
ために形成されている。第２の保護層６ａは、５０〜８
０ｎｍの膜厚を有するのが好ましく、特に６５〜７５ｎ
ｍとすることが好ましい。第２の保護層６ａ上に形成さ
れた第３の保護層７ａは表面からの水分の侵入を防止
し、また表面反射光の色調を調整するために、酸化アル
ミニウムにより形成する。第３の保護層７ａは２０〜６
０ｎｍの膜厚を有するのが好ましく、特に３０〜５０ｎ
ｍとすることが好ましい。第３の保護層７ａ上の第４の
保護層８ａは、耐擦傷性等を強化するために二酸化ケイ
素により形成する。第４の保護層８ａは、７〜２３ｎｍ
の膜厚とするのが好ましく、特に２０〜６０ｎｍとする
のが好ましい。膜厚が７ｎｍ未満であると耐擦傷性等が
不十分であり、また膜厚が２３ｎｍを超えると反射光の
色調を損なうので好ましくない。
【００１１】実施例１ 図１に示す構成と同じ構成の表面高反射鏡を作成するた
めに、まず２ｍｍ厚のポリカーボネート樹脂からなる基
板１ａ上に、二酸化ケイ素からなる第１の下地層２ａを
真空蒸着法により膜厚０ｎｍ、２５ｎｍ、５０ｎｍ、７
５ｎｍ、１００ｎｍ、１２５ｎｍとそれぞれ条件を変え
て形成して第１の下地層２ａとし、さらに硫化クロムか
らなる第２の下地層３ａを膜厚７ｎｍ形成し、銀からな
る反射層４ａを膜厚１００ｎｍ形成し、硫化クロムから
なる第１の保護層５ａを膜厚３ｎｍ形成し、二酸化ケイ
素からなる第２の保護層６ａを膜厚７５ｎｍ形成し、酸
化アルミニウムからなる第３の保護層７ａを膜厚３８ｎ
ｍ形成し、二酸化ケイ素からなる第４の保護層８ａを膜
厚１２ｎｍ形成した。
めに、まず２ｍｍ厚のポリカーボネート樹脂からなる基
板１ａ上に、二酸化ケイ素からなる第１の下地層２ａを
真空蒸着法により膜厚０ｎｍ、２５ｎｍ、５０ｎｍ、７
５ｎｍ、１００ｎｍ、１２５ｎｍとそれぞれ条件を変え
て形成して第１の下地層２ａとし、さらに硫化クロムか
らなる第２の下地層３ａを膜厚７ｎｍ形成し、銀からな
る反射層４ａを膜厚１００ｎｍ形成し、硫化クロムから
なる第１の保護層５ａを膜厚３ｎｍ形成し、二酸化ケイ
素からなる第２の保護層６ａを膜厚７５ｎｍ形成し、酸
化アルミニウムからなる第３の保護層７ａを膜厚３８ｎ
ｍ形成し、二酸化ケイ素からなる第４の保護層８ａを膜
厚１２ｎｍ形成した。
【００１２】［膜付着性試験］上記実施例の各表面高反
射鏡を、それぞれ温度４０℃、湿度９５％ＲＨの恒温室
に放置し、２１６時間経過するまで２４時間毎にセロハ
ンテープによる剥離試験を行い、膜付着性試験を行っ
た。結果はいずれも２１６時間以上と良好であった。
射鏡を、それぞれ温度４０℃、湿度９５％ＲＨの恒温室
に放置し、２１６時間経過するまで２４時間毎にセロハ
ンテープによる剥離試験を行い、膜付着性試験を行っ
た。結果はいずれも２１６時間以上と良好であった。
【００１３】［耐腐蝕性試験］上記実施例の各表面高反
射鏡について、１０重量％の（ＮＨ４）２Ｓ水溶液の液
面から１００ｍｍ上方に、本実施例の表面高反射鏡を設
置し、４時間経過後の表面状態の変化および波長４００
ｎｍにおける反射率の変化を調べる耐腐蝕性試験を行っ
た。この結果、試験前後における表面状態の変化は認め
られず、また波長４００ｎｍにおける反射率変化も０％
であった。また、反射色調についての試験を行なったと
ころ、ほぼニュートラルな反射色調を得ることができ
た。
射鏡について、１０重量％の（ＮＨ４）２Ｓ水溶液の液
面から１００ｍｍ上方に、本実施例の表面高反射鏡を設
置し、４時間経過後の表面状態の変化および波長４００
ｎｍにおける反射率の変化を調べる耐腐蝕性試験を行っ
た。この結果、試験前後における表面状態の変化は認め
られず、また波長４００ｎｍにおける反射率変化も０％
であった。また、反射色調についての試験を行なったと
ころ、ほぼニュートラルな反射色調を得ることができ
た。
【００１４】［耐湿テスト］上記実施例の各表面高反射
鏡を、それぞれ温度６０℃、湿度９５％ＲＨの恒温室に
２４時間放置した後、表面状態を観察した。結果を表１
に示す。
鏡を、それぞれ温度６０℃、湿度９５％ＲＨの恒温室に
２４時間放置した後、表面状態を観察した。結果を表１
に示す。
【００１５】
【表１】
【００１６】表１の結果から、二酸化ケイ素からなる第
１の下地層２ａの膜厚が５０〜７５ｎｍの時に点状欠陥
が発生していないことがわかり、本発明の樹脂光学部品
の表面高反射鏡は優れた耐湿性を示すことがわかる。
尚、実施例では、反射層４ａ上に四つの保護層５ａ〜８
ａを形成した場合について説明したが、保護層の層数や
構造は実施例の構造に限定されない。
１の下地層２ａの膜厚が５０〜７５ｎｍの時に点状欠陥
が発生していないことがわかり、本発明の樹脂光学部品
の表面高反射鏡は優れた耐湿性を示すことがわかる。
尚、実施例では、反射層４ａ上に四つの保護層５ａ〜８
ａを形成した場合について説明したが、保護層の層数や
構造は実施例の構造に限定されない。
【００１７】
【発明の効果】以上詳述した様に本発明では、樹脂基板
表面上に形成された二酸化ケイ素からなる第1の下地層
と、前記第1の下地層上に形成された硫化クロムからな
る第２の下地層と、前記第２の下地層上に形成された銀
からなる反射層と、前記反射層上に形成された保護層と
を有し、前記第１の下地層の膜厚が２５〜１００ｎｍで
あるので、６０℃、９５％ＲＨ、２４時間のような厳し
い耐湿条件においても欠陥の発生しない優れた樹脂光学
部品の表面高反射鏡を得ることができる。
表面上に形成された二酸化ケイ素からなる第1の下地層
と、前記第1の下地層上に形成された硫化クロムからな
る第２の下地層と、前記第２の下地層上に形成された銀
からなる反射層と、前記反射層上に形成された保護層と
を有し、前記第１の下地層の膜厚が２５〜１００ｎｍで
あるので、６０℃、９５％ＲＨ、２４時間のような厳し
い耐湿条件においても欠陥の発生しない優れた樹脂光学
部品の表面高反射鏡を得ることができる。
【図１】本発明に係る表面高反射鏡の層構成を示す断面
図である。
図である。
【図２】従来技術に係る表面高反射鏡の層構成を示す断
面図である。
面図である。
【図３】引張応力および圧縮応力についての説明図であ
る。
る。
【図４】引張応力および圧縮応力についての説明図であ
る。
る。
【図５】引張応力および圧縮応力についての説明図であ
る。
る。
【図６】引張応力および圧縮応力についての説明図であ
る。
る。
１ａ 樹脂基板 ２ａ 第１の下地層 ３ａ 第２の下地層 ４ａ 反射層 ５ａ 第１の保護層 ６ａ 第２の保護層 ７ａ 第３の保護層 ８ａ 第４の保護層
Claims (4)
- 【請求項１】 樹脂基板表面上に形成された二酸化ケイ
素からなる第１の下地層と、 前記第1の下地層上に形成された硫化クロムからなる第
２の下地層と、 前記第２の下地層上に形成された銀からなる反射層と、 前記反射層上に形成された保護層とを有し、 前記第１の下地層の膜厚が２５〜１００ｎｍである、 ことを特徴とする表面高反射鏡。 - 【請求項２】 前記保護層は、前記反射層上に形成され
た硫化クロムからなる第１の保護層と、前記第１の保護
層上に形成された二酸化ケイ素からなる第２の保護層
と、前記第２の保護層上に形成された酸化アルミニウム
からなる第３の保護層と、前記第３の保護層上に形成さ
れた二酸化ケイ素からなる第４の保護層とで構成されて
いる請求項１記載の表面高反射鏡。 - 【請求項３】 前記第２の下地層の膜厚が１〜３５ｎｍ
であり、前記反射層の膜厚が５０〜２５０ｎｍであり、
前記第１の保護層の膜厚が１〜１０ｎｍであり、前記第
２の保護層の膜厚が５０〜８０ｎｍであり、前記第３の
保護層の膜厚が２０〜６０ｎｍであり、前記第４の保護
層の膜厚が７〜２３ｎｍである請求項２記載の表面高反
射鏡。 - 【請求項４】 前記第１の下地層の内部応力が圧縮応力
である請求項１、２又は３記載の表面高反射鏡。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03349304A JP3120882B2 (ja) | 1991-10-31 | 1991-10-31 | 表面高反射鏡 |
| GB9222448A GB2261079B (en) | 1991-10-31 | 1992-10-26 | Surface reflecting mirror |
| GB9421648A GB2281411B (en) | 1991-10-31 | 1992-10-26 | Surface reflecting mirror with three protective layers |
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