JP2988504B2 - Plate making method for photocurable resin - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は紫外線等のエネルギー線
の照射により不溶化する光硬化性樹脂を用いて印刷版を
製造する方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a printing plate using a photocurable resin which is insolubilized by irradiation with energy rays such as ultraviolet rays.

【０００２】[0002]

【従来の技術】紙器、段ボール、紙袋印刷等の印刷用凸
版材として、近年光硬化性樹脂が一般に使われている。
これらの分野で使われている版材は、印刷機の機構上、
版の厚みは３〜９ｍｍと厚いものが必要とされ、印刷版
のレリーフの彫りの深さも大きなものが要求されてい
る。又、印刷版取り扱い時の作業性の点から、印刷版と
して不要な部分の排除による印刷版重量の軽量化の要請
もある。さらに、該分野で使われる印刷版は版の厚みが
厚いこともあって、版材の価格が高くなるため印刷版と
しての十分な耐久性も必要とされている。2. Description of the Related Art In recent years, photocurable resins have been generally used as relief printing materials for printing on paper containers, cardboards, paper bags, and the like.
The plate material used in these fields is
The thickness of the plate is required to be as thick as 3 to 9 mm, and the relief of the printing plate is also required to have a large engraving depth. In addition, from the viewpoint of workability when handling the printing plate, there is a demand for reducing the weight of the printing plate by eliminating unnecessary portions as the printing plate. Further, the printing plate used in this field has a high plate thickness, so that the price of the plate material is high, so that the printing plate is required to have sufficient durability.

【０００３】一方、光硬化性樹脂の不溶化反応はエネル
ギー線の照射された表面から進行するため、樹脂の厚み
・レリーフ画像の大小・レリーフの深さなどが異なるこ
とによって、露光が不足すれば下部の反応が十分に行わ
れずに、その画像はアンダーカットあるいはサイドエッ
ジの状態になる。この問題を解決する方法としてのマス
クを用いた製版方法が特開昭５２−５６６０６号公報に
開示されている。しかしこの方法では、印刷版としての
レリーフ画像の再現性は満足できるものの支持体上にサ
ブレリーフが浮島状に形成するため、支持体上の接着剤
と樹脂の界面に印刷インキや版洗剤のアタックを受けた
とき、印刷のストレスによりその界面の剥がれが生じや
すいという問題がある。[0003] On the other hand, the insolubilization reaction of the photocurable resin proceeds from the surface irradiated with the energy rays. Therefore, if the thickness of the resin, the size of the relief image, the depth of the relief, and the like are different, if the exposure is insufficient, the lower part is exposed. Is not sufficiently performed, and the image is undercut or side edged. A plate making method using a mask as a method for solving this problem is disclosed in JP-A-52-56606. However, in this method, the reproducibility of the relief image as a printing plate is satisfactory, but the sub-relief is formed in a floating island shape on the support, so that the printing ink or plate detergent attack on the interface between the adhesive and the resin on the support. There is a problem that the interface is apt to peel off due to printing stress when receiving.

【０００４】又、特開昭６１−１７２１４８号公報では
半遮断性と遮断性を有するものを組合せたマスキングフ
ィルムを使用することにより、サブレリーフの支持体上
の浮島状に形成した周囲に薄い樹脂硬化層を設け、支持
体と硬化樹脂層の界面剥がれの改良が図られている。Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 61-172148 discloses a method of using a masking film in which a film having a semi-blocking property and a blocking property is combined to form a thin resin around a sub-relief support formed in a floating island shape. the hardened layer is provided, is achieved improvements in peeling field face of the support and the cured resin layer.

【０００５】しかし、このマスキングフィルムは機能的
である半面、複雑な構成からなるためコストは高く、半
遮断性特性も固定化されるため感度特性が異なった光硬
化性樹脂を使用する場合は使用する樹脂に合せた半遮断
特性を有するマスキングフィルムを準備する必要があり
不利である。[0005] However, this masking film is functional, but on the other hand, it has a complicated structure, so the cost is high, and the semi-blocking property is also fixed. This is disadvantageous because it is necessary to prepare a masking film having a semi-blocking characteristic according to the resin to be formed.

【０００６】さらに特開昭６１−１７２１４９号公報は
半遮断性を有するマスキングフィルムを用いた方法が開
示されているが、サブレリーフの支持体上の浮島状に形
成した周囲に薄い樹脂硬化層を設けることができるもの
の、薄い硬化層は版の全面に形成されるため印刷版の軽
量化はもちろん液体光硬化性樹脂の場合はこの部分の未
硬化樹脂は再利用できることからコスト上も不利であ
る。Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 61-172149 discloses a method using a masking film having a semi-blocking property. However, a thin resin cured layer is formed around floating supports on a sub-relief support. Although it can be provided, the thin cured layer is formed on the entire surface of the plate, so the printing plate is not only lightweight, but in the case of liquid photo-curable resin, the uncured resin in this part can be reused, which is disadvantageous in cost. .

【０００７】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は複雑なマスキ
ングフィルムを使うことなく、通常該製版分野で一般に
使われているマスキングフィルム等を少なくとも２枚使
用する方法で、種々の感度特性の光硬化性樹脂に適応で
きる簡便且つ安価な製版方法を提供することを目的とす
るものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a photocuring method having various sensitivity characteristics by using at least two masking films or the like generally used in the plate making field without using a complicated masking film. It is an object of the present invention to provide a simple and inexpensive plate-making method applicable to a hydrophilic resin.

【０００８】[0008]

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明はネガ
フィルムの画像よりも大きいエネルギー線透過パターン
を有するマスキングフィルムを光硬化性樹脂を介してネ
ガフィルムと反対側に設け、該マスキングフィルム側か
ら露光した後、該マスキングフィルムを取り除き、さら
に上記のマスキングフィルムのエネルギー線透過パター
ンよりも大きいエネルギー線透過パターンを有するマス
キングフィルムをネガフィルム側と反対側に設けて、該
マスキングフィルム側から露光することを特徴とする光
硬化性樹脂の製版方法を提供するものである。そして、
より詳しくは、１）ネガフィルムを密着させたカバーフ
ィルム上に、光硬化性樹脂を設けた後、該樹脂上にベー
スフィルムを重ね合わせる工程、２）ネガフィルムの画
像よりも大きいエネルギー線透過パターンを有する第一
のマスキングフィルムを該ベースフィルム上に設けて、
該ベースフィルム側から露光、次いで、ネガフィルム側
から露光する工程、３）さらに、第一のマスキングフィ
ルムを取り除き、第一のマスキングフィルムのエネルギ
ー線透過パターンよりも大きいエネルギー線透過パター
ンを有する第二のマスキングフィルムを該ベースフィル
ム上に設けて、該ベースフィルム側から露光する工程、
及び、４）未露光樹脂を洗い流し、乾燥する工程を一連
に実施することを特徴とする光硬化性樹脂の製版方法を
提供するものである。That is, the present invention provides a negative
The masking film having a large energy ray transmission pattern than the image of the film via a photocurable resin Ne
Provided on the opposite side of the masking film, after exposing from the masking film side, removing the masking film, and further the masking film having an energy ray transmission pattern larger than the energy ray transmission pattern of the masking film on the side opposite to the negative film side And a method for making a plate of a photocurable resin, wherein the exposure is performed from the masking film side. And
More specifically, 1) a step of providing a photocurable resin on a cover film to which a negative film is adhered, and then superposing a base film on the resin; 2) an energy ray transmission pattern larger than an image of the negative film. Providing a first masking film having on the base film,
Exposing from the base film side, and then exposing from the negative film side; 3) removing the first masking film, and having a second energy ray transmission pattern larger than the energy ray transmission pattern of the first masking film. Providing a masking film on the base film, and exposing from the base film side,
And 4) a method for making a plate of a photocurable resin, which comprises performing a series of steps of washing off and drying an unexposed resin.

【０００９】本発明の製版方法によって得られる印刷版
の構造を図１に示す。この印刷版は図６〜図９に示す工
程を経て得ることができる。一例として、図５に示す印
刷用のキャリアーシート上に配置された、液体感光性樹
脂版での「ＡＢ」の標章を段ボールシートに印刷するた
めの刷版を製造する方法について説明する。FIG. 1 shows the structure of a printing plate obtained by the plate making method of the present invention. This printing plate can be obtained through the steps shown in FIGS. As an example, a method of manufacturing a printing plate for printing the mark “AB” on the liquid photosensitive resin plate on a cardboard sheet, which is disposed on a carrier sheet for printing shown in FIG. 5, will be described.

【００１０】まず「ＡＢ」の標章を有するネガフィルム
図４ｃをライトテーブル上に置き、市販のマスキングフ
ィルム（商品名グリーントップ／ボクスイ（株））の剥
離可能部８２を上にして重ね、該ネガフィルムの画像
「ＡＢ」の外周部より約６ｍｍ大き目に該マスキングフ
ィルムの表面にカッターで切り込みを与え、画像部分に
対応する部分８１を剥がし取りマスキングフィルム図
４ｂを作製する。[0010] First, a negative film having the mark "AB" is placed on a light table with a peelable portion 82 of a commercially available masking film (trade name: Green Top / Bokusui Co., Ltd.) facing up. A cut is made on the surface of the masking film about 6 mm larger than the outer peripheral portion of the image “AB” of the negative film with a cutter, and the portion 81 corresponding to the image portion is peeled off to produce a masking film FIG. 4b.

【００１１】次いでマスキングフィルム上に新たなマ
スキングフィルムを重ね、の透過部より更に約１０ｍ
ｍ程大き目に同様な方法で切り込みを入れ、その部分９
１を剥がしマスキングフィルム図４ａを作製する。出
来上がった該マスキングフィルムのパターン部分８１、
９１はエネルギー線を良く透過するのに対し、パターン
部以外部分８２、９２のエネルギー線透過は０である。
マスキングフィルム及びの抜き部の大きさ８１、９
１は、必要以上に大きくすると製版作業上は容易になる
ものの、仕上がり版の重量は重くなり未硬化樹脂の回収
量が少なくなるため、目的とする硬化を十分に得ること
ができなくなる。Then, a new masking film is superimposed on the masking film, and about 10 m from the transmission part of the masking film.
Make a notch in the same way as in the case of m
1 is peeled off to produce a masking film FIG. 4a. A pattern portion 81 of the completed masking film,
Reference numeral 91 indicates that the energy rays are well transmitted, whereas energy ray transmission of the portions 82 and 92 other than the pattern portion is zero.
Size of masking film and cutout 81, 9
In the case of No. 1, if it is larger than necessary, the plate making operation becomes easy, but the weight of the finished plate becomes heavy and the amount of uncured resin recovered becomes small, so that the desired curing cannot be sufficiently obtained.

【００１２】図６に示すようなエネルギー線に透明なガ
ラス板２上にネガフィルム３を置き、該ネガフィルム３
の上に光硬化性樹脂４に対し剥離可能な保護用の透明フ
ィルム５を被せる。透明フィルムの外周部に光硬化性樹
脂４に対し堰となるように枠体６を配設して、光硬化性
樹脂４を枠体内の透明フィルム上に流し込む。光硬化性
樹脂層４の液面に接着剤が塗布された透明支持体７の接
着剤面側を載せ、該透明支持体７上にマスキングフィル
ム８をネガフィルムの画像部分に対応するように載せ
る。A negative film 3 is placed on a glass plate 2 transparent to energy rays as shown in FIG.
A transparent film 5 for protection that can be peeled off from the photocurable resin 4 is put on the photocurable resin 4. A frame 6 is provided on the outer periphery of the transparent film so as to act as a weir for the photocurable resin 4, and the photocurable resin 4 is poured onto the transparent film in the frame. The adhesive side of the transparent support 7 on which the adhesive is applied is placed on the liquid surface of the photocurable resin layer 4, and the masking film 8 is placed on the transparent support 7 so as to correspond to the image portion of the negative film. .

【００１３】図７のようにマスキングフィルム８及び
透明ガラス板２の外側から紫外線ランプ等のエネルギー
線５１，５２を照射して光硬化性樹脂層を露光する。マ
スキングフィルム８及びネガフィルム３のそれぞれの
パターン３１、８１に対応して露光部分は硬化を始める
が、未露光部分は液体のままで残りネガフィルム３側の
樹脂硬化部は前記評章「ＡＢ」に一致するレリーフ部４
１となりマスキングフィルム８側の樹脂硬化部は該レ
リーフ部４１に太く繋がって補強となるサブレリーフ部
４２になる。As shown in FIG. 7, the photocurable resin layer is exposed by irradiating energy rays 51 and 52 such as an ultraviolet lamp from outside the masking film 8 and the transparent glass plate 2. The exposed portion starts to cure corresponding to the respective patterns 31 and 81 of the masking film 8 and the negative film 3, but the unexposed portion remains liquid and the resin cured portion on the negative film 3 side has the rating "AB". Relief part 4 that matches
It becomes 1 and the cured resin portion on the masking film 8 side becomes a sub-relief portion 42 which is thickly connected to the relief portion 41 and serves as reinforcement.

【００１４】次いで該マスキングフィルム８を取り除
き、図８に示すように予め準備したマスギングフィルム
９をと同様にネガフィルムの画像部分に対応する様
に透明支持体７上に載せ、紫外線ランプ等のエネルギー
線５１を短時間露光する。この露光によって、支持体と
サブレリーフ４２の接合部の周囲に樹脂硬化層４３が形
成され、より強固に支持体と接合された図１のレリーフ
画像を有する印刷用の版が出来上る。Next, the masking film 8 is removed, and as shown in FIG. 8, a masking film 9 prepared in advance is placed on a transparent support 7 so as to correspond to an image portion of a negative film as in the case of FIG. The energy beam 51 is exposed for a short time. By this exposure, a cured resin layer 43 is formed around the joint between the support and the sub-relief 42, and a printing plate having the relief image of FIG. 1 more firmly joined to the support is completed.

【００１５】マスキングフィルム９での露光を使用し
ないで図７の露光のみで製版した場合には、図２のよう
な支持体上に直接サブレリーフ部が形成された構造にな
り、支持体上のサブレリーフの形状はサイドエッチ気味
になるため、支持体とサブレリーフの付け根は印刷時や
印刷後の版の洗浄などのストレスを直接受け易く、接着
剤と樹脂の界面での剥離の原因を生じやすいという問題
がある。When plate making is performed only by the exposure shown in FIG. 7 without using the exposure on the masking film 9, a structure in which the sub-relief portion is formed directly on the support as shown in FIG. Since the shape of the sub-relief tends to be side-etched, the base of the support and the sub-relief are easily subjected to stress such as washing of the plate during printing or after printing, which may cause peeling at the interface between the adhesive and the resin. There is a problem that it is easy.

【００１６】一方、図７に示す露光を行なった後、マス
キングフィルム９を使わないで透明支持体７の全面に
図９の様に露光を与えた場合には、図３に示すようにサ
ブレリーフの周囲には勿論支持体上の全面に樹脂硬化層
が形成される。この場合、サブレリーフ部と支持体接着
剤界面の剥離に対しては図１と同様な効果が得られるも
のの、印刷版として不要な硬化部分が図１と較べ多く、
仕上がった印刷版の重量が軽くできない問題がある。On the other hand, when the entire surface of the transparent support 7 is exposed as shown in FIG. 9 without using the masking film 9 after the exposure shown in FIG. Of course, a resin cured layer is formed on the entire surface of the support around the substrate. In this case, although the same effect as in FIG. 1 can be obtained with respect to the separation between the sub-relief portion and the interface of the support adhesive, the cured portion unnecessary as a printing plate is more than that in FIG.
There is a problem that the weight of the finished printing plate cannot be reduced.

【００１７】さらに、液体光硬化性樹脂の場合には硬化
していない樹脂は回収して再利用できるため、印刷版の
コストを安くする点に於ても不利である。本発明の上記
マスキングフィルム、を使って露光をする場合、そ
の順番はいずれが先であっても得られる印刷版の構造は
図１に示すものを得ることができる。Furthermore, in the case of a liquid photocurable resin, the uncured resin can be recovered and reused, which is disadvantageous in reducing the cost of the printing plate. When exposure is performed using the masking film of the present invention, the structure of the printing plate obtained as shown in FIG. 1 can be obtained regardless of the order of the exposure.

【００１８】また該マスキングフィルムのエネルギー線
不透過部は、エネルギー線透過部に対し実用上不透明で
あれば本発明のマスキングフィルムとして使用すること
ができ、一般に使われている銀塩フィルム・マスキング
フィルムはもちろん紙・合成紙・プラスチックフィルム
・金属箔等を切り抜いたようなものでもその目的に使用
することができる。If the energy-ray opaque portion of the masking film is practically opaque to the energy-ray permeable portion, it can be used as the masking film of the present invention. Needless to say, paper, synthetic paper, plastic film, metal foil, and the like can be used for the purpose.

【００１９】また、マスキングフィルムを夫々のレリー
フ基部を作るため２枚使用することから、感度特性の異
なった光硬化性樹脂を使わなければならない場合に対し
ても、夫々の光硬化性樹脂に見合った露光量を夫々のマ
スキングフィルムで与えることができ、その利便性にお
いても優れた特徴をもつものである。Further, since two masking films are used to form the respective relief bases, even if photo-curable resins having different sensitivity characteristics must be used, the masking films are suitable for each photo-curable resin. The amount of exposure can be given by each masking film, and the convenience is excellent.

【００２０】[0020]

【実施例】以下に本発明の実施例を示す。Examples of the present invention will be described below.

【００２１】実施例１ 前述の標章「ＡＢ」を段ボール印刷するための印刷版の
製版を以下の通り行なった。 （１）マスキングフィルムの作製 製版用のネガフィルム図４をライトテーブル上に膜面を
上に置き、グリーントップ（マスキングフィルム／ボク
スイ（株）製）を剥離面を上にして重ね合わせる。次い
で、該ネガフィルムの画像「ＡＢ」の外周部より約６ｍ
ｍ大き目に該マスキングフィルムの表面にカッターで切
り込みを与え、「ＡＢ」画像部分に対応するところを剥
がし取りマスキングフィルム図４ｂを作製した。次
に、マスキングフィルムの上に新たなマスキングフィ
ルムを剥離面を上にして重ね、マスキングフィルムの
抜き部より更に約１０ｍｍ大き目にカッターで切り込み
を入れ、画像部分に対応する部分の剥離を行ないマスキ
ングフィルム図４ａを作製した。Example 1 A printing plate for cardboard printing of the above-mentioned mark "AB" was made as follows. (1) Preparation of masking film A negative film for plate making FIG. 4 is placed on a light table with the film surface facing up, and a green top (Masking Film / Bokusui Co., Ltd.) is laminated with the peeling surface facing up. Next, about 6 m from the outer periphery of the image “AB” of the negative film
An incision was made on the surface of the masking film with a cutter to a size of m, and a portion corresponding to the “AB” image portion was peeled off to produce a masking film FIG. 4b. Next, a new masking film is layered on the masking film with the peeling surface facing up, and a cut is made with a cutter to a size approximately 10 mm larger than the cutout portion of the masking film, and the portion corresponding to the image portion is peeled off. FIG. 4a was made.

【００２２】（２）印刷版の製版 ＡＰＲ（登録商標、以下同じ）／ＡＷＦ製版装置（旭化
成製）の下ガラス上に該画像のネガフィルム「ＡＢ」を
膜面を上に置き、カバーフィルムＣＦ−４７（マットＰ
Ｐフィルム／旭化成製）でネガフィルム全体を覆い真空
下カバーフィルムとネガフィルムを密着させる。次い
で、粘着材付きの５ｍｍ厚みのスポンジテープを該ネガ
フィルムの外周に貼り付け、そのスポンジ枠の内側にＡ
ＰＲ樹脂Ｆ−４７（光硬化性樹脂／旭化成製）を流し込
みながらベースフィルムＢＦ−３０４（接着材付きＰＥ
Ｔフィルム／旭化成製）を接着剤側を樹脂に接するよう
に重ね合わせた。(2) Plate making of printing plate APR (registered trademark, the same applies hereinafter) / AWF plate making apparatus (manufactured by Asahi Kasei Corporation) A negative film "AB" of the image is placed on the lower glass and the cover film CF -47 (mat P
(P film / Asahi Kasei) covers the entire negative film, and adheres the cover film and the negative film under vacuum. Then, a sponge tape having a thickness of 5 mm with an adhesive material was attached to the outer periphery of the negative film, and A was attached inside the sponge frame.
While pouring PR resin F-47 (photo-curable resin / Asahi Kasei), base film BF-304 (PE with adhesive)
T film / made by Asahi Kasei) so that the adhesive side was in contact with the resin.

【００２３】次にマスキングフィルムを該ベースフィ
ルムの上にネガフィルム「ＡＢ」の画像に一致するよう
に合わせた。製版装置の上蓋を閉じベースフィルム側か
ら紫外線を１２０秒間、次いでネガフィルム側から１３
０秒間露光を行なった。その後、製版装置の上蓋を上げ
マスキングフィルムを取り除きマスキングフィルム
をの時と同様な操作で置き、再び製版装置の上蓋を閉
じた後ベースフィルム側から２２秒間露光した。Next, a masking film was placed over the base film so as to match the image of the negative film "AB". Close the top lid of the plate making apparatus and apply ultraviolet light for 120 seconds from the base film side, and then 13 seconds from the negative film side.
Exposure was performed for 0 seconds. Thereafter, the upper lid of the plate making apparatus was lifted, the masking film was removed, and the masking film was placed in the same operation as described above. After closing the upper lid of the plate making apparatus again, exposure was performed from the base film side for 22 seconds.

【００２４】露光が終わった版の未硬化樹脂の回収を行
ない洗浄装置で版上に残った未硬化樹脂を洗い流した
後、水中後露光装置で表面のベタツキ除去を行ない次い
で乾燥を行なった。得られた版は全厚７．０ｍｍ、レリ
ーフ深さ２．０ｍｍでサブレリーフのベースフィルム界
面の周囲に約１０ｍｍの幅でバック折出厚み１．０ｍｍ
を有する図１の版構造のものであった。The uncured resin of the plate after the exposure was recovered, and the uncured resin remaining on the plate was washed away by a washing device. Then, the surface was tack-removed by an underwater post-exposure device, and then dried. The obtained plate had a total thickness of 7.0 mm, a relief depth of 2.0 mm, a width of about 10 mm around the interface of the base film of the sub-relief, and a back protrusion thickness of 1.0 mm.
1 having the plate structure of FIG.

【００２５】（３）印刷版の耐久性試験 この版は、ベースフィルム上のサブレリーフを剥がそう
としても周囲の薄く形成された樹脂層（バック折出層）
がベースフィルムに良く密着しているため剥離すること
ができなかった。また、この版をキャリアーシートに貼
り付け段ボール印刷機械で印刷したところ異常なく印刷
でき、版洗浄後の版のレリーフとベースフィルムの界面
も全く異常は認められなかった。(3) Durability test of printing plate This plate has a thin resin layer (back-spreading layer) formed around it even if the sub-relief on the base film is peeled off.
Could not be peeled off because of good adhesion to the base film. Further, when this plate was affixed to a carrier sheet and printed by a corrugated cardboard printing machine, printing could be performed without any abnormality, and no abnormality was recognized at all at the interface between the relief of the plate after the plate cleaning and the base film.

【００２６】実施例２ 実施例１と同じネガフィルム、マスキングフィルム及
びを用い、ＡＰＲ樹脂Ｆ−４６（光硬化性樹脂／旭化
成製）とベースフィルムＢＦ−８０７（接着剤付きＰＥ
Ｔフィルム／旭化成製）を変えた以外全く同じ方法で製
版を行なった。この時、マスキングフィルムの露光時
間は１５０秒間、ネガフィルム側からの露光は１５０秒
間、マスキングフィルムでは２８秒間の露光を与え
た。得られた版は、全厚７．０ｍｍ、レリーフ深さ２．
０ｍｍ、サブレリーフの周囲には実施例１と同様約１０
ｍｍの幅で１．０ｍｍ厚みのバック折出層を有する図１
の版構造のものであった。Example 2 Using the same negative film and masking film as in Example 1, an APR resin F-46 (photo-curable resin / manufactured by Asahi Kasei) and a base film BF-807 (PE with adhesive)
Plate making was carried out in exactly the same manner except that T film / Asahi Kasei was changed. At this time, the exposure time of the masking film was 150 seconds, the exposure from the negative film side was 150 seconds, and the exposure of the masking film was 28 seconds. The obtained plate had a total thickness of 7.0 mm and a relief depth of 2.
0 mm, about 10 mm around the sub-relief as in Example 1.
FIG. 1 with a 1.0 mm thick back-spreading layer of 1.0 mm thickness
It had a plate structure.

【００２７】実施例３ 実施例１のグリーントップ（マスキングフィルム）の代
わりに、坪量８５キロの上質紙をくり貫いてマスキング
紙、を夫々作製した。このマスキング紙を使い実施
例１のマスキングフィルム、をこのマスキング紙
、と替えた以外は同じ手順方法で製版を行なった。
この時の露光時間は、マスキング紙側から１００秒
間、ネガフィルム側は１３０秒間、マスキング紙から
は１８秒間であった。得られた版は、実施例１で得られ
たと同様の図１の版構造を有しベースフィルム上のサブ
レリーフは良く密着し強く引っ張っても剥離することは
できなかった。Example 3 In place of the green top (masking film) of Example 1, masking paper was produced by cutting through high-quality paper having a basis weight of 85 kg. Plate making was performed by the same procedure except that the masking paper was replaced with the masking film of Example 1 using this masking paper.
The exposure time at this time was 100 seconds from the masking paper side, 130 seconds from the negative film side, and 18 seconds from the masking paper. The obtained plate had the same plate structure as that obtained in Example 1 in FIG. 1, and the sub-relief on the base film was in good contact with the plate and could not be peeled off even when pulled strongly.

【００２８】比較例１ 実施例１で、マスキングフィルム及びネガフィルムか
らの露光だけでマスキングフィルムによる露光を行な
わなかったものを、実施例１と同じ方法で未硬化樹脂の
回収・洗浄・水中後露光・乾燥を行なった。得られた版
は、図２の版構造を有しベースフィルム上のサブレリー
フを強く引っ張ったところ、サブレリーフの付け根の所
から剥離を生じた。COMPARATIVE EXAMPLE 1 The same method as in Example 1 except that the exposure from the masking film and the negative film but not the exposure with the masking film was carried out in the same manner as in Example 1 was carried out. -Drying was performed. The obtained plate had the plate structure shown in FIG. 2 and peeled off from the base of the sub-relief when the sub-relief on the base film was strongly pulled.

【００２９】比較例２ 実施例１でマスキングフィルム及びネガフィルムの露
光が終わった後、マスキングフィルムを取り除き製版
装置の上蓋を閉じベースフィルム全面に１８秒間露光を
行なった。その後、実施例１と同じ方法で未硬化樹脂の
回収・洗浄・水中後露光・乾燥を行なった。得られた版
は、図３の版構造を有しベースフィルム上のサブレリー
フとベースフィルムとの剥離は起こらないものの、印刷
版の重量は実施例１、２及び比較例１と較べ重くその分
未硬化樹脂の回収量は少なく、版製造コスト（樹脂分コ
スト）は高いものとなった。Comparative Example 2 After exposing the masking film and the negative film in Example 1, the masking film was removed, the top cover of the plate making apparatus was closed, and the entire surface of the base film was exposed for 18 seconds. Thereafter, the uncured resin was recovered, washed, post-exposed in water and dried in the same manner as in Example 1. Although the obtained plate had the plate structure shown in FIG. 3 and did not cause separation between the sub-relief on the base film and the base film, the weight of the printing plate was heavier than that of Examples 1, 2 and Comparative Example 1. The recovered amount of the uncured resin was small, and the plate manufacturing cost (resin cost) was high.

【００３０】[0030]

【発明の効果】本願発明の製版方法によれば、通常製版
分野で用いられている簡便で安価なマスキングフィルム
の利用により、サブレリーフ部と支持体接着剤界面の剥
離が起こり難く、余分な樹脂を含まない軽量で安価な製
版が得られる。According to the plate making method of the present invention, the use of a simple and inexpensive masking film which is usually used in the plate making field makes it difficult for the sub-relief portion and the support adhesive interface to peel off from each other. And a light-weight and inexpensive plate-making can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】本発明方法で製版した刷版のレリーフ構造を示
す断面図。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a relief structure of a printing plate made by the method of the present invention.

【図２】比較例１の刷版のレリーフ構造を示す断面図。FIG. 2 is a sectional view showing a relief structure of a printing plate of Comparative Example 1.

【図３】比較例２の刷版のレリーフ構造を示す断面図。FIG. 3 is a sectional view showing a relief structure of a printing plate of Comparative Example 2.

【図４】ネガフィルム及びマスキングフィルム，の
斜視図。FIG. 4 is a perspective view of a negative film and a masking film.

【図５】段ボール印刷機に取り付けるためのキャリアー
シート上に配置された刷版の斜視図。FIG. 5 is a perspective view of a printing plate arranged on a carrier sheet for mounting on a cardboard printing machine.

【図６】本発明の刷版製造工程の一部を示す断面図。FIG. 6 is a cross-sectional view showing a part of the printing plate manufacturing process of the present invention.

【図７】本発明の刷版製造工程の一部を示す断面図。FIG. 7 is a sectional view showing a part of the printing plate manufacturing process of the present invention.

【図８】本発明の刷版製造工程の一部を示す断面図。FIG. 8 is a cross-sectional view showing a part of the printing plate manufacturing process of the present invention.

【図９】比較例２（マスキングフィルムを使用しな
い）の刷版製造工程の一部を示す断面図。FIG. 9 is a cross-sectional view showing a part of a printing plate manufacturing process of Comparative Example 2 (without using a masking film).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

２ ガラス板 ３ ネガフィルム ４ 光硬化性樹脂 ５ 保護用透明フィルム ６ 枠体 ７ 支持体 ８ マスキングフィルム ９ マスキングフィルム ３１ ネガフィルムのパターン部 ４１ レリーフ部 ４２ サブレリーフ部 ４３ バック析出層部 ５１ 紫外線ランプ等のエネルギー線 ５２ 紫外線ランプ等のエネルギー線 ８１ マスキングフィルムのパターン部 ８２ マスキングフィルムのパターン部以外の部分 ９１ マスキングフィルムのパターン部 ９２ マスキングフィルムのパターン部以外の部分 2 Glass plate 3 Negative film 4 Photocurable resin 5 Protective transparent film 6 Frame 7 Support 8 Masking film 9 Masking film 31 Negative film pattern portion 41 Relief portion 42 Sub-relief portion 43 Back deposition layer portion 51 UV lamp, etc. Energy beam 52 Energy beam of ultraviolet lamp etc. 81 Pattern part of masking film 82 Part other than pattern part of masking film 91 Pattern part of masking film 92 Part other than pattern part of masking film

フロントページの続き (72)発明者 松村 善三 大阪府守口市東郷通３丁目９番地 大阪 製版センター協業組合内 (56)参考文献 特開 昭61−172148（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−32058（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G03F 7/00 Continuation of the front page (72) Inventor Zenzo Matsumura 3-9-9 Togo-dori, Moriguchi-shi, Osaka Inside the Osaka Plate Making Center Cooperative Association (56) References JP-A-61-172148 (JP, A) JP-A-61-32058 (JP, A) (58) Field surveyed (Int. Cl. ⁶ , DB name) G03F 7/00

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項１】 ネガフィルムの画像よりも大きいエネル
ギー線透過パターンを有するマスキングフィルムを光硬
化性樹脂を介してネガフィルムと反対側に設け、該マス
キングフィルム側から露光した後、該マスキングフィル
ムを取り除き、さらに上記のマスキングフィルムのエネ
ルギー線透過パターンよりも大きいエネルギー線透過パ
ターンを有するマスキングフィルムをネガフィルム側と
反対側に設けて、該マスキングフィルム側から露光する
ことを特徴とする光硬化性樹脂の製版方法。1. A provided on the opposite side of the negative film via a photocurable resin masking film having a large energy ray transmission pattern than the image of the negative film, was exposed from the masking film side, removing the masking film Further, a masking film having an energy ray transmission pattern larger than the energy ray transmission pattern of the masking film is provided on the side opposite to the negative film side, and the photocurable resin is characterized by being exposed from the masking film side. Plate making method. 【請求項２】 １）ネガフィルムを密着させたカバーフ
ィルム上に、光硬化性樹脂を設けた後、該樹脂上にベー
スフィルムを重ね合わせる工程、 ２）ネガフィルムの画像よりも大きいエネルギー線透過
パターンを有する第一のマスキングフィルムを該ベース
フィルム上に設けて、該ベースフィルム側から露光、次
いで、ネガフィルム側から露光する工程、 ３）さらに、第一のマスキングフィルムを取り除き、第
一のマスキングフィルムのエネルギー線透過パターンよ
りも大きいエネルギー線透過パターンを有する第二のマ
スキングフィルムを該ベースフィルム上に設けて、該ベ
ースフィルム側から露光する工程、及び、 ４）未露光樹脂を洗い流し、乾燥する工程、 を一連に実施することを特徴とする光硬化性樹脂の製版
方法。2. A method comprising: 1) providing a photocurable resin on a cover film to which a negative film is adhered, and then superposing a base film on the resin; 2) transmitting an energy ray larger than an image of the negative film. Providing a first masking film having a pattern on the base film, exposing from the base film side, and then exposing from the negative film side; 3) removing the first masking film and performing first masking Providing a second masking film having an energy ray transmission pattern larger than the energy ray transmission pattern of the film on the base film and exposing from the base film side; and 4) washing away the unexposed resin and drying. A plate-making method for a photocurable resin, comprising: performing a series of steps.