JP2896582B2 - γ位にシリル基を有する光学活性アルコール及びその製造方法 - Google Patents

γ位にシリル基を有する光学活性アルコール及びその製造方法

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JP2896582B2 JP1233258A JP23325889A JP2896582B2 JP 2896582 B2 JP2896582 B2 JP 2896582B2 JP 1233258 A JP1233258 A JP 1233258A JP 23325889 A JP23325889 A JP 23325889A JP 2896582 B2 JP2896582 B2 JP 2896582B2
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、医薬品、農薬品の中間体、例えばプロスタ
グランジンの合成中間体として有用なγ位にシリル基を
有する立体規則性の新規な光学活性アルコール及びその
製造法に関する。
従来の技術及び発明が解決しようとする課題 3級アリルアルコールはそれ自体有用な化合物であ
り、また、有用な合成中間体として従来より広く認めら
れている。特に、近年分子構造中に3級アリルアルコー
ルの骨格を含む各種生理活性化合物が広く知られるよう
になっているが、これらの化合物は、多くは光学活性体
であり、3級アリルアルコールの光学活性体の合成は工
業的に重要な課題となっている。
特に、最終目的化合物−多くは光学活性なアリルアル
コールの骨格をその分子構造中に含み、一層複雑な化合
物及びその立体異性体となっているプロスタグランジン
の合成を考えた場合、これらのものを有利に合成できる
中間体として、種々の反応操作が極めて容易に行なえる
光学活性を有する3級アリルアルコールが望まれてい
る。例えば、3級の光学活性アリルアルコールの骨格を
ω鎖部分に含む合成プロスタグランジンである下記式
〔VI〕 のアルバプロスチルは、抗潰瘍活性を有し、医薬品への
利用が期待されているが、この〔VI〕式の合成中間体と
して下記式〔VII〕 で示される光学活性な3級アリルアルコールの安価な合
成法が望まれている。
従来、光学活性なアリルアルコールの合成法として
は、下記式〔VIII〕 (但し、R,R′はそれぞれアルキル基又はフェニル基で
ある。) で示される共役エノンの不斉還元法や、下記式〔IX〕 (但し、R″はアルキル基又はフェニル基、Aはシリル
基又はスタニル基である。) で示されるアリルアルコールの不斉エポキシ化による速
度論的光学分割による方法(特開昭63−225384号、同64
−6266号)公報などが提案されている。
しかしながら、これらの方法は2級アリルアルコール
の光学活性体の合成法であり、3級アリルアルコールの
光学活性体の合成にはそのまま適用できないものであ
る。
また、3級アリルアルコールの光学活性体を得るに
は、2級アリルアルコールに比べるとあまり多くの合成
法は知られていないが、主に無水フタル酸を介在させて
アミン系分割剤で分割する方法が行なわれている。しか
し、この方法は介在物を必要とすること、分割剤との相
性が予測不能であること、高価な分割剤を必要とするこ
となど多くの問題がある。
更に、3級アリルアルコールの光学活性体の合成法と
して下記式 の3級のインオールを上記と同様の手法で光学分割した
後、三重結合部分に付加反応を行なう方法がある。しか
し、この方法は分割という点では前者と同じ問題点があ
り、付加反応ではシス,トランスの混合物が生じるとい
う欠点もある。
更にまた、下記反応式のようにセラミ体を合成し、プ
ロスタグランジン類縁化合物を合成した例も知られてい
る(J.S.Skotnicke等、J.Med.Chem.,20,p1551,1977)。
しかし、生成するプロスタグランジン類縁化合物はセ
ラミ混合物であり、単一な光学活性体を得ることは困難
であった。
本発明は上記問題点を解決するためになされたもの
で、医薬品、農薬品の中間体等として有用な光学活性を
有する3級アリルアルコール及びそれの安価で効率の良
い製造法を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段及び作用 本発明者は上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた
結果、下記一般式〔III〕 又は下記一般式〔IV〕 (但し、式中R1,R2,R3はそれぞれ同一又は異なった炭
素数1〜10のアルキル基であり、R4は炭素数1〜10のア
ルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シク
ロヘキシルメチル基、ヘキサ−4−イン−2−イル基、
ヘプタ−4−イン−2−イル基、2,6−ジメチル−ヘプ
タ−5−エン−1−イル基、ペンタ−1−エン−1−イ
ル基、ペンタ−2−エン−1−イル基、ヘキサ−1−エ
ン−2−イル基、3−エトキシ−2−メチル−プロパン
−2−イル基、エトキシエチル基、5−メトキシヘキシ
ル基、6−メトキシ−2−ヘキシル基、ハロゲン化メチ
ル基、ハロゲン化n−ブチル基、ハロゲン化n−ペンチ
ル基、ハロゲン化ノニル基、フェニル基、ベンジル基、
ハロゲン化フェニル基、n−ペンチルオキシメチル基、
1−エトキシ−2−メチル−プロパン−2−イル基、フ
ェノキシメチル基、ベンジロキシメチル基、p−クロル
−フェノキシメチル基、2−フェニルエチル基、ベンジ
ロキシエチル基、フェニルアセチレニル基、m−クロル
−フェノキシメチル基、m−トリフルオロメチル−フェ
ノキシメチル基、1−ブチル−シクロプロピル基、3−
エチル−シクロペンチル基、2−オクテニル基、ビニル
基から選ばれる基である。) で示されるγ位にシリル基を有するエポキシケトン化合
物と下記一般式〔V〕 R5MgX 〔V〕 (但し、式中R5は前記R4とは異なる炭素数1〜10のア
ルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シク
ロヘキシルメチル基、ヘキサ−4−イン−2−イル基、
ヘプタ−4−イン−2−イル基、2,6−ジメチル−ヘプ
タ−5−エン−1−イル基、ペンタ−1−エン−1−イ
ル基、ペンタ−2−エン−1−イル基、ヘキサ−1−エ
ン−2−イル基、3−エトキシ−2−メチル−プロパン
−2−イル基、エトキシエチル基、5−メトキシヘキシ
ル基、6−メトキシ−2−ヘキシル基、ハロゲン化メチ
ル基、ハロゲン化n−ブチル基、ハロゲン化n−ペンチ
ル基、ハロゲン化ノニル基、フェニル基、ベンジル基、
ハロゲン化フェニル基、n−ペンチルオキシメチル基、
1−エトキシ−2−メチル−プロパン−2−イル基、フ
ェノキシメチル基、ベンジロキシメチル基、p−クロル
−フェノキシメチル基、2−フェニルエチル基、ベンジ
ロキシエチル基、フェニルアセチレニル基、m−クロル
−フェノキシメチル基、m−トリフルオロメチル−フェ
ノキシメチル基、1−ブチル−シクロプロピル基、3−
エチル−シクロペンチル基、2−オクテニル基、ビニル
基から選ばれる基であり、Xは塩素原子、臭素原子又は
沃素原子である。) で示される有機マグネシウム試剤を反応させた後、加水
分解することにより、高価な分割剤を必要とせず、か
つ、得られる3級アリルアルコールの光学活性体の立体
構造を予測して、下記一般式〔I〕 又は下記一般式〔II〕 (但し、式中R1,R2,R3はそれぞれ同一又は異なった炭
素数1〜10のアルキル基であり、R4、R5は互いに異なっ
た炭素数1〜10のアルキル基、シクロペンチル基、シク
ロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、ヘキサ−4−
イン−2−イル基、ヘプタ−4−イン−2−イル基、2,
6−ジメチル−ヘプタ−5−エン−1−イル基、ペンタ
−1−エン−1−イル基、ペンタ−2−エン−1−イル
基、ヘキサ−1−エン−2−イル基、3−エトキシ−2
−メチル−プロパン−2−イル基、エトキシエチル基、
5−メトキシヘキシル基、6−メトキシ−2−ヘキシル
基、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化n−ブチル基、ハ
ロゲン化n−ペンチル基、ハロゲン化ノニル基、フェニ
ル基、ベンジル基、ハロゲン化フェニル基、n−ペンチ
ルオキシメチル基、1−エトキシ−2−メチル−プロパ
ン−2−イル基、フェノキシメチル基、ベンジロキシメ
チル基、p−クロル−フェノキシメチル基、2−フェニ
ルエチル基、ベンジロキシエチル基、フェニルアセチレ
ニル基、m−クロル−フェノキシメチル基、m−トリフ
ルオロメチル−フェノキシメチル基、1−ブチル−シク
ロプロピル基、3−エチル−シクロペンチル基、2−オ
クテニル基、ビニル基から選ばれる基である。) で示されるγ位にシリル基を有する光学活性アルコール
を合成でき、しかも、この光学活性アルコールは種々の
反応操作を極めて容易に行なうことが可能で、医薬品、
農薬品の中間体、例えばプロスタグランジンの合成中間
体等として有用であることを知見し、本発明をなすに至
った。
従って、本発明は上記〔I〕及び〔II〕式で示される
化合物から選ばれるγ位にシリル基を有する光学活性ア
ルコール、及び、上記〔III〕又は〔IV〕式で示される
γ位にシリル基を有するエポキシケトン化合物と上記
〔V〕式で示される有機マグネシウム試剤を反応させた
後、加水分解する上記〔I〕及び〔II〕式で示されるγ
位にシリル基を有する光学活性アルコールの製造法に提
供する。
以下、本発明につき更に詳述する。
本発明の下記一般式〔I〕,〔II〕 で示されるγ位にシリル基を有する光学活性アルコール
において、置換基R1,R2,R3はいずれも炭素数1〜10の
アルキル基であり、具体的にはメチル基、エチル基、n
−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブ
チル、t−ブチル基、アシル基、ヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、ノニル基、デシル基等を例示すること
ができる。なお、R1,R2,R3は互いに同一であっても異
なった基であってもよい。
また、置換基R4、R5の炭素数1〜10のアルキル基の具
体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、
i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル1、t−ブ
チル基、アミル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基、2−メチルヘキシル基、2−
メチル−2−ヘキシル基、2−ヘキシル基等の基を挙げ
ることができる。なお、R4,R5は互いに同一ではない基
である。
本発明の上記〔I〕,〔II〕式のγ位にシリル基を有
する光学活性アルコールは、下記一般式〔III〕 又は下記一般式〔IV〕 (但し、式中R1、R2、R3、R4は前記と同様である。) で示されるγ位にシリル基を有するエポキシケトン化合
物と下記一般式〔V〕 R5MgX …〔V〕 (但し、R5、Xは前記と同様である。) で示される有機マグネシウム試剤とを反応させることに
より合成することができる。 ここで、上記〔III〕,
〔IV〕式のγ位にシリル基を有するエポキシケトン化合
物は、例えば特開昭63−225384号公報に記載の方法によ
り得ることができる。
即ち、下記反応式のように〔X〕,〔XI〕式のエポキ
シアルコールをスワン酸化するなどの方法で〔III〕,
〔IV〕式のγ位にシリル基を有するエポキシケトン化合
物が得られる。
また、〔V〕式の有機マグネシウム試剤としては、例
えばCH3MgI,C2H5MgBr,n−C4H9MgBr, などが挙げられる。有機マグネシウム試剤の添加量は、
〔III〕,〔IV〕式のγ位にシリル基を有するエポキシ
ケトン化合物に対して0.5〜4当量、特に0.8〜1.5当量
とすることが好ましい。
この場合、〔III〕,〔IV〕式のγ位にシリル基を有
するエポキシケトン化合物と〔V〕式の有機マグネシウ
ム試剤との反応は有機溶媒中で行なうことが好適であ
り、有機溶媒として具体的には、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチルエーテル等の
エーテル類、ヘキサン、ペンタン等の炭化水素類、ジメ
チルホルムアミド(DMF)、ヘキサメチルホスホルアミ
ド(HMPA)、ジメチルスルホキシド(DMSO)等の極性溶
媒類などが用いられ、これらの単一又は混合溶媒が使用
可能である。特に、有機溶媒は反応の性質上、極力水分
を除去して用いることが望ましく、テトラヒドロフラン
やこれにHMPAを添加した溶媒がより好ましく使用され
る。
更に、本反応はアルゴン、窒素等の不活性雰囲気下で
行なうことが望ましく、また、反応条件は別に限定され
ないが、−100〜30℃、特に−78〜0℃で10分間〜15時
間、特に0.5〜5時間とすることが好適である。
本反応のカルボニル面に対する選択性は、通常、置換
基R4、R5の組合せや溶媒の種類、反応温度等の条件によ
り変化するものであるが、〔V〕式の有機マグネシウム
試剤を用いると、〔III〕,〔IV〕式のγ位にシリル基
を有するエポキシケトン化合物からそれぞれ〔I〕,
〔II〕式のγ位にシリル基を有する光学活性アルコール
が主に生成し、ほとんど単一の立体異性体を与える。な
お、本反応で立体異性体を副生する場合は、必要に応じ
てカラムクロマトグラフィー等を用いて精製することが
好ましい。
本発明の加水分解反応条件は特に制限はないが、例え
ば飽和塩化アンモニウム水溶液等で処理すること等が挙
げられる。
このようにして得られる本発明に係る〔I〕,〔II〕
式のγ位にシリル基を有する光学活性アルコールは、例
えば下記反応式のように有機スズリチウム試剤と反応さ
せるとγ−スズ置換の光学活性アリルアルコールやその
光学対掌体とすることができ、更にヨウ素と反応させる
とγ−ヨウ素置換の光学活性アリルアルコールやその光
学対掌体とすることができる。
(但し,式中R1、R2、R3、R4、R5は前記と同様である。
R6,R7,R8はそれぞれ同一又は異なった炭素数1〜10の
アルキル基である。) この場合、化合物〔I〕,〔II〕と有機スズリチウム
試剤とを反応させるに際し、有機スズリチウム試剤とし
ては、例えばトリn−ブチルスズリチウム、トリエチル
スズリチウム等が使用され、更に、有機スズリチウム試
剤は化合物〔I〕, 〔II〕に対し、0.5〜4当量、特に0.8〜2.2当量用いる
ことが好ましい。
また、反応は溶媒を用いて行なうことが望ましく、反
応に用いられる溶媒は反応を阻害しないものであればよ
く、例えばテトラヒドロフラン、ヘキサン、ペンタン、
ジエチルエーテル等が挙げられる。
なお、反応温度は通常−100℃から溶媒の沸点、好ま
しくは−40〜40℃であり、反応時間は通常5分〜50時間
である。
更に、上記反応で得られるγ−スズ置換の光学活性ア
リルアルコール〔XII〕,〔XIV〕とヨウ素とを反応させ
るに際し、ヨウ素は化合物〔XI〕,〔XIV〕に対し、0.5
〜3当量、特に0.8〜1.6当量用いることが好ましい。
また、この反応は反応を阻害しない溶媒を用いて行な
うことが望ましく、溶媒として例えばジエチルエーテ
ル、ヘキサン、ペンタン等を使用することが好適であ
る。
更にまた、この反応に炭酸水素ナトリウム水溶液を共
存させると、反応不純物を減らすことができる。炭酸水
素ナトリウム水溶液の添加は、化合物〔XI〕,〔XIV〕
に対し1当量以上の過剰量であることが好ましい。
なお、反応温度は通常−20〜40℃、好ましくは−5〜
10℃であり、反応時間は通常5〜20時間である。
次いで、得られるγ−スズ置換の光学活性アリルアル
コール、γ−ヨウ素置換の光学活性アリルアルコール及
びこれらの光学対掌体は、下記反応式のようにシリル保
護した後、Skotnicki等の方法(J.Med.Chem.,20,p1551,
1977)や本発明者が特願昭63−57019号に提案した方法
を応用することによって、光学活性なプロスタグランジ
ンを合成するのに利用することができる。
〔発明の効果〕 本発明のγ位にシリル基を有する光学活性アルコール
は、医薬品、農薬品の中間体、例えばプロスタグランジ
ンの合成中間体等として有用である。
更に、本発明の製造法によれば、高価な分割剤を必要
とせず、かつ得られるγ位にシリル基を有する光学活性
アルコールの立体構造を予測して、安価で効率良く合成
することができる。
<実施例> 以下に実施例及び参考例をあげ、本発明を詳細に説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。なお、下記式において、Meはメチル基、Etはエチ
ル基、n−Buはn−ブチル基、n−Amはn−アミル基、
Phはフェニル基を示す。
〔参考例1〕 アルゴン雰囲気下、−60℃で冷却した塩化メチレン
(46ml)にシュウ酸クロリド(2.41ml、27.6mmol)を加
えた。−60℃でジメチルスルホキシド(3.91ml、55.1mm
ol)を滴下後、10分間攪拌した。エポキシアルコール
(7)(3.97g、18.4mmol)の塩化メチレン溶液(20m
l)を加え、−60℃で20分間攪拌した後、トリエチルア
ミン(15.3ml、110.3mmol)を滴下した。反応混合物を
−60℃で30分間攪拌した後、1時間かけて室温まで昇温
した。飽和食塩水(60ml)を加えて攪拌後、ヘキサン
(60ml)を加えた。有機層を分液し、飽和食塩水(60m
l)、続いて、飽和NaHCO3水溶液(60ml)で洗浄した。
水層はヘキサン(60ml)で抽出し、得られた有機層をMg
SO4で乾燥した。過後、液の溶媒を減圧下留去し
て、粗生成物約4gを得た。シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製することにより、エポキシケトン
(2)(3.66g)が収率93%で得られた。エポキシケト
ン(2)の特性値は以下のとおりであった。1 H NMR(CCl4,PhH):δ0.22(s,9H),0.92(t,J=6.0H
z,3H),1.15−1.90(m,6H),2.10−2.45(m,3H),3.09
(d,J=3.7Hz,1H) IR(neat):2930,1705,1250,843cm-1 Rf=0.55(ヘキサン:エーテル=5:1) 〔実施例1〕 アルゴン雰囲気下、THF(65.7ml)、HMPA(21.9m
l)、ヨウ化メチルマグネシウム(6.69ml、2.55Nのエー
テル溶液、17.1mmol)を室温で混合した。これを、−78
℃に冷却し、エポキシケトン(2)(2.81g、13.13mmo
l)のTHF(10ml)溶液をゆっくり滴下した。約2時間か
けて0℃まで昇温し、飽和NH4Cl水溶液(100ml)を加え
た。ヘキサン(100ml)で抽出し、得られた有機層をMgS
O4で乾燥した。過後、液の溶媒を減圧下留去して、
得られた粗生成分(2.86g)をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製したところ、エポキシアルコー
ル(3)(2.67g)が89%の収率で得られた。なお、エ
ポキシアルコール(3)の特性値は以下のとおりであ
り、1H NMRと13C NMRを分析したところ、anti:synは>9
9:<1であった。1 H NMR(CCl4,PhH):δ0.21(s,9H),0.99(t,J=6.0H
z,3H),1.20−1.80(m,8H),1.31(s,3H),1.94,(brs,
1H),2.33(d,J=3.8Hz,1H),2.63(d,J=3.8Hz,1H)13 C NMR(CDCl3):δ69.4,61.7,48.1,39.0,32.4,26.5,
23.0,22.5,13.9,−3.7 Rf=0.25(ヘキサン:エーテル=4:1) IR(neat):3470,2960,1460,1250,840cm-1 ▲〔α〕25 D▼:+13.6(c3.18,CHCl3)(EX−1079) 〔参考例2〕 アルゴン雰囲気下、ジイソプロピルアミン(3.61mmo
l、25.7ml)のTHF(50ml)溶液に、0℃でn−BuLi(9.
19ml、2.10Nのヘキサン溶液、19.3mmol)を加え、30分
間攪拌した。続いて、0℃でエポキシアルコール(3)
(1.48g、6.43mmol)、THF(8ml)溶液を加えた。3時
間攪拌後、0℃でn−Bu3SnH(2.59ml、9.65mmol)を加
え、室温に昇温後、3時間攪拌した。飽和食塩水(80m
l)、ヘキサン(50ml)を加え、分液後、有機層をMgSO4
で乾燥した。過後、液を減圧下留去し、(4)の粗
生成物3.71gを得た。得られた粗生成物をこのまま次の
反応に用いた。
なお、化合物(4)の特性値は以下のとおりであっ
た。1 H NMR(CONHz,CCl4,N4Si):δ0.40(m,29H),1.14
(s,3H),5.88(s,with.satellite ccupling(J=75.6
Hz,and79.2Hz,2H)13 C NMR(90MHz,CDCl3):δ155.0,122.7,satellite,1
6.4ppm,17.1ppm,),74.3,42.3,32.2,28.9,satellite,0.
9ppm,27.7,27.0,(satellite,2.3ppm), 23.6,22.5,13.8,13.4,9.3(satellite,14.5ppm,15.2pp
m). IR(neat):3380,2900,1600,1450,940cm-1 ▲〔α〕25 D▼:+4.2°(c2.56,CHCl3)(EX−1100) 〔参考例3〕 前の反応で得られた(4)の粗生成物(3.71g)をエ
ーテル(30ml)に溶解した。飽和NaHCO3水溶液(30ml)
を加え、0℃に冷却した後、よく攪拌しながらヨウ素
(1.9g、7.49mmol)を15分間かけて少しずつ加えた。0
℃で20分間攪拌した後、飽和Na2S2O4水溶液(50ml)を
加え、攪拌した。ヨウ素の色が消えたら、分液し、有機
層を3N NaOH水溶液(30ml)、続いて水(30ml)で洗浄
した。水層をエーテル(50ml)で抽出し、3N NaOH(20m
l)、水(20ml)で洗浄した。得られた有機層をMaSO4
乾燥後、過して、液の溶媒を減圧下留去した。得ら
れた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し、化合物(5)(1.56g)を2段階で収率90
%で得た。化合物(5)の特性値は以下のとおりであっ
た。1 H NMR(CCl4,Me4Si):δ0.85(t,J=6.0Hz,3H),1.0
5−1.90(m,8H),1.20(s,3H),2.48,(brs,1H),6.15
(d,J=15.6Hz,1H),6.41(d,J=15.6Hz,1H) 〔参考例4〕 ヨードアルコール(5)(1.40g、5.23mmol) のDMF(10ml)溶液に0℃でイミダゾール(0.71g、10.5
mmol)及びトリエチルシリルクロリド(1.05ml、6.28mm
ol)を加え、室温に昇温後、5時間攪拌した。ヘキサン
(50ml)、飽和NaHCO3水溶液(50ml)を加え、攪拌した
後、分液した。得られた有機層をMgSO4で乾燥した後、
過し、液の溶媒を減圧下留去した。得られた粗生成
物(2.38g)をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製したところ、化合物(6)(1.82g)が収率91
%で得られた。化合物(6)の特性値は以下のとおりで
ある。1 H NMR(CCl4,PhH):δ0.66(t,J=6.6Hz,6H),0.80−
1.90(m,2H),1.32(s,3H),6.16(d,J=15.4Hz,1H),
6.47(d,J=15.4Hz,1H)13 C NMR(CDCl3):δ153.1,78.2,74.7,43.5,32.2,27.
2,23.5,22.6,14.0,6.9,6.5 ▲〔α〕25 D▼:+21.6°(c3.01,CHCl3) Rf=0.70(ヘキサン) 〔実施例2〜9〕 第1表に示すエポキシケトン化合物及び有機マグネシ
ウム試剤を用い、実施例1と同様に反応させたところ、
第1表に示すγ位にシリル基を有する光学活性アルコー
ルが得られた。
なお、実施例3〜7で得られたエポキシケトン化合物
の特性値は以下のとおりである。
実施例3のエポキシケトン化合物 13C NMR(200MHz,CDCl3):δ70.8,60.3,46.7,39.3,29.
3,25,2,23.0,13.7,7.3,−4.11 H NMR(200MHz,CDCl3):δ0.04(s,9H),0.77−1.03
(m,6H),1.18−1.68(m,8H),1.83(brs,1H),2.33
(d,J=3.8Hz,1H),2.74(d,J=3.8Hz,1H) IR(neat):3450,2920,2860,1250,860,830cm-1 実施例4,5のエポキシケトン化合物 13C NMR(200MHz,CDCl3):δ69.1,61.5,47.6,38.4,26.
1,25,2,22.9,13.6,−5.01 H NMR(200MHz,CDCl3):δ0.04(s,9H),0.87(t,J=
7.0Hz,3H),1.12−1.57(m,6H),1.26(s,3H)1.81(br
s,1H)2.38(d,J=3.7Hz,1H),2.72(d,J=3.7Hz,1H) IR(neat):3400,2940,1250,1060,840cm-1 実施例6のエポキシケトン化合物 13C NMR(200MHz,CDCl3):δ70.9,60.3,46.7,36.0,32.
5,25,3,23.1,13.8,7.4,−4.01 H NMR(200MHz,CDCl3):δ0.02(s,9H),0.84(t,J=
6.5Hz,3H),0.90(t,J=7.6Hz,3H),1.15−1.50(m,6
H),1.57(q,J=7.6Hz,2H),1.86(brs,1H)2.30(d,J
=3.7Hz,1H),2.72(d,J=3.7Hz,1H) IR(neat):3480,2920,1240,830cm-1 実施例7のエポキシケトン化合物 13C NMR(200MHz,CDCl3):δ145.1,128.2,127.0,125.
3,73.6,61.7,48.4,38.5,25.1,22.8,13.7,−4.01 H NMR(90MHz,CCl4,PhH):δ0.29(s,9H),0.80−2.0
8(m,9H),2.31(brs,1H),2.47(d,J=3.6Hz,1H),3.2
0(d,J=3.6Hz,1H),7.10−7.60(m,5H)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−225384(JP,A) J.Am.Chem,Soc.,110 [9](1988),2978−2979 Tetrahedron,44[13 ](1988),4073−4086 (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07F 7/08 C07F 7/22 CA(STN) REGISTRY(STN) WPIDS(STN)

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】下記一般式[I] 及び下記一般式[II] (但し、式中R1、R2、R3はそれぞれ同一又は異なった炭
    素数1〜10のアルキル基であり、R4、R5は互いに異なっ
    た炭素数1〜10のアルキル基、シクロペンチル基、シク
    ロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、ヘキサ−4−
    イン−2−イル基、ヘプタ−4−イン−2−イル基、2,
    6−ジメチル−ヘプタ−5−エン−1−イル基、ペンタ
    −1−エン−1−イル基、ペンタ−2−エン−1−イル
    基、ヘキサ−1−エン−2−イル基、3−エトキシ−2
    −メチル−プロパン−2−イル基、エトキシエチル基、
    5−メトキシヘキシル基、6−メトキシ−2−ヘキシル
    基、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化n−ブチル基、ハ
    ロゲン化n−ペンチル基、ハロゲン化ノニル基、フェニ
    ル基、ベンジル基、ハロゲン化フェニル基、n−ペンチ
    ルオキシメチル基、1−エトキシ−2−メチル−プロパ
    ン−2−イル基、フェノキシメチル基、ベンジロキシメ
    チル基、p−クロル−フェノキシメチル基、2−フェニ
    ルエチル基、ベンジロキシエチル基、フェニルアセチレ
    ニル基、m−クロル−フェノキシメチル基、m−トリフ
    ルオロメチル−フェノキシメチル基、1−ブチル−シク
    ロプロピル基、3−エチル−シクロペンチル基、2−オ
    クテニル基、ビニル基から選ばれる基である。) で示される化合物から選ばれるγ位にシリル基を有する
    光学活性アルコール。
  2. 【請求項2】下記一般式[III] 又は下記一般式[IV] (但し、式中R1、R2、R3はそれぞれ同一又は異なった炭
    素数1〜10のアルキル基であり、R4は炭素数1〜10のア
    ルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シク
    ロヘキシルメチル基、ヘキサ−4−イン−2−イル基、
    ヘプタ−4−イン−2−イル基、2,6−ジメチル−ヘプ
    タ−5−エン−1−イル基、ペンタ−1−エン−1−イ
    ル基、ペンタ−2−エン−1−イル基、ヘキサ−1−エ
    ン−2−イル基、3−エトキシ−2−メチル−プロパン
    −2−イル基、エトキシエチル基、5−メトキシヘキシ
    ル基、6−メトキシ−2−ヘキシル基、ハロゲン化メチ
    ル基、ハロゲン化n−ブチル基、ハロゲン化n−ペンチ
    ル基、ハロゲン化ノニル基、フェニル基、ベンジル基、
    ハロゲン化フェニル基、n−ペンチルオキシメチル基、
    1−エトキシ−2−メチル−プロパン−2−イル基、フ
    ェノキシメチル基、ベンジロキシメチル基、p−クロル
    −フェノキシメチル基、2−フェニルエチル基、ベンジ
    ロキシエチル基、フェニルアセチレニル基、m−クロル
    −フェノキシメチル基、m−トリフルオロメチル−フェ
    ノキシメチル基、1−ブチル−シクロプロピル基、3−
    エチル−シクロペンチル基、2−オクテニル基、ビニル
    基から選ばれる基である。) で示されるγ位にシリル基を有するエポキシケトン化合
    物と 下記一般式[V] R5MgX [V] (但し、式中R5は前記R4とは異なる炭素数1〜10のアル
    キル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロ
    ヘキシルメチル基、ヘキサ−4−イン−2−イル基、ヘ
    プタ−4−イン−2−イル基、2,6−ジメチル−ヘプタ
    −5−エン−1−イル基、ペンタ−1−エン−1−イル
    基、ペンタ−2−エン−1−イル基、ヘキサ−1−エン
    −2−イル基、3−エトキシ−2−メチル−プロパン−
    2−イル基、エトキシエチル基、5−メトキシヘキシル
    基、6−メトキシ−2−ヘキシル基、ハロゲン化メチル
    基、ハロゲン化n−ブチル基、ハロゲン化n−ペンチル
    基、ハロゲン化ノニル基、フェニル基、ベンジル基、ハ
    ロゲン化フェニル基、n−ペンチルオキシメチル基、1
    −エトキシ−2−メチル−プロパン−2−イル基、フェ
    ノキシメチル基、ベンジロキシメチル基、p−クロル−
    フェノキシメチル基、2−フェニルエチル基、ベンジロ
    キシエチル基、フェニルアセチレニル基、m−クロル−
    フェノキシメチル基、m−トリフルオロメチル−フェノ
    キシメチル基、1−ブチル−シクロプロピル基、3−エ
    チル−シクロペンチル基、2−オクテニル基、ビニル基
    から選ばれる基であり、Xは塩素原子、臭素原子又は沃
    素原子である。) で示される有機マグネシウム試剤を反応させた後、加水
    分解することを特徴とする)下記一般式[I] 又は下記一般式[II] (但し、式中のR1、R2、R3、R4、R5はそれぞれ前記と同
    様である。) で示されるγ位にシリル基を有する光学活性アルコール
    の製造法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Tetrahedron,44[13](1988),4073−4086

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