JP2835535B2 - 光学部品の反射防止膜 - Google Patents
光学部品の反射防止膜Info
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、媒質から45゜の角度で入射する様な光に対
して有利に使用される光学部品に施される反射防止膜に
関するものである。
して有利に使用される光学部品に施される反射防止膜に
関するものである。
［従来技術］ レンズ、反射鏡などの光学用品の表面には反射防止膜
が備えられていることが多いが、そのような反射防止膜
を必要とする理由としては、主として次の二つの理由が
挙げられる。一つの理由は、構成される光学部品が多く
なると、その為に生じる表面の反射損失により、得られ
る透過光が減少する傾向があり、その透過光の減少を防
止するためである。他の主な理由は、構成される光学部
品からの反射像が他の部品に悪影響を及ぼす場合があ
り、その反射像の形成を防止する為である。
が備えられていることが多いが、そのような反射防止膜
を必要とする理由としては、主として次の二つの理由が
挙げられる。一つの理由は、構成される光学部品が多く
なると、その為に生じる表面の反射損失により、得られ
る透過光が減少する傾向があり、その透過光の減少を防
止するためである。他の主な理由は、構成される光学部
品からの反射像が他の部品に悪影響を及ぼす場合があ
り、その反射像の形成を防止する為である。
上記のような理由により、光学部品には従来より、単
層あるいは多層の反射防止膜をコートすることが知られ
ている。ただし、実際には単層反射防止膜は低反射波長
域が狭く、残留反射率が大きいという欠点がある。これ
に対して、多層反射防止膜は、膜の材料の選択、膜厚の
調整などの手段により、例えば可視領域（400nm〜700n
m）の広い範囲にわたって反射防止効果を持たせたもの
などが得られるため、今日では一般的に利用されてい
る。そして、多層反射防止膜としては、800nm、さらに
は900nmの近赤外領域まで反射防止効果を持たせたもの
などが開発され、さらに広帯域化が進められている。
層あるいは多層の反射防止膜をコートすることが知られ
ている。ただし、実際には単層反射防止膜は低反射波長
域が狭く、残留反射率が大きいという欠点がある。これ
に対して、多層反射防止膜は、膜の材料の選択、膜厚の
調整などの手段により、例えば可視領域（400nm〜700n
m）の広い範囲にわたって反射防止効果を持たせたもの
などが得られるため、今日では一般的に利用されてい
る。そして、多層反射防止膜としては、800nm、さらに
は900nmの近赤外領域まで反射防止効果を持たせたもの
などが開発され、さらに広帯域化が進められている。
ところで、従来のレンズ、反射鏡などの光学用品の大
多数では、光が、その表面に垂直もしくは略垂直に入射
するため、それらの光学用品に設けられる多層反射膜
は、表面に垂直に入射する光に対して良好な反射防止効
果を示すように調製されていた。
多数では、光が、その表面に垂直もしくは略垂直に入射
するため、それらの光学用品に設けられる多層反射膜
は、表面に垂直に入射する光に対して良好な反射防止効
果を示すように調製されていた。
一方、入射光が光学部品に対して垂直ではなく、例え
ば媒質から45゜の角度で入射する光学系も利用されてお
り、そのような光学系の光学部品（反射ミラー等）に
は、ガラス基板上にビームスプリッター膜またはダイク
ロイック膜と、その反対側に多層反射防止膜が設けられ
たものが知られている。最近、これらの斜入射を利用す
る光学系の光学部品が、たとえば液晶ビジョンと呼ばれ
る投射型ディスプレイに採用されてきており、その際用
いられる多層反射防止膜に対しても、反射防止効果の広
帯域化が望まれている。
ば媒質から45゜の角度で入射する光学系も利用されてお
り、そのような光学系の光学部品（反射ミラー等）に
は、ガラス基板上にビームスプリッター膜またはダイク
ロイック膜と、その反対側に多層反射防止膜が設けられ
たものが知られている。最近、これらの斜入射を利用す
る光学系の光学部品が、たとえば液晶ビジョンと呼ばれ
る投射型ディスプレイに採用されてきており、その際用
いられる多層反射防止膜に対しても、反射防止効果の広
帯域化が望まれている。
［発明が解決しようとする問題点］ これまでに提案されている反射防止膜は、空気などの
媒質から垂直に入謝する光に対する光反射特性を考慮し
て設計されており、斜入射、特に媒質から45゜の角度で
入射する様な光に対して広い波長領域にわたって平坦で
低反射率である反射防止膜は知られていない。しかし、
斜入射での基板表面の反射損失は垂直入射のそれと比べ
大きくなり、光学部品を多数使用する場合には特に、透
過光がより多く減少するとの問題がある。
媒質から垂直に入謝する光に対する光反射特性を考慮し
て設計されており、斜入射、特に媒質から45゜の角度で
入射する様な光に対して広い波長領域にわたって平坦で
低反射率である反射防止膜は知られていない。しかし、
斜入射での基板表面の反射損失は垂直入射のそれと比べ
大きくなり、光学部品を多数使用する場合には特に、透
過光がより多く減少するとの問題がある。
そこで本発明の目的は、入射光に対して斜め、特に45
゜の角度で使用される光学部品に悪影響を及ぼすフレア
や光の純度の低下、さらには光学部品の表面での反射損
失による透過光の減少という問題点を、広い波長領域に
わたって防止することが可能となる光学部品の反射防止
膜を提供する事である。
゜の角度で使用される光学部品に悪影響を及ぼすフレア
や光の純度の低下、さらには光学部品の表面での反射損
失による透過光の減少という問題点を、広い波長領域に
わたって防止することが可能となる光学部品の反射防止
膜を提供する事である。
［問題を解決する手段］ 本発明が提供する上記問題点を解決する反射防止膜
は、下記のような、７層膜、９層膜、あるいは11層膜か
らなる多層膜である。
は、下記のような、７層膜、９層膜、あるいは11層膜か
らなる多層膜である。
（１）７層膜型 ｄ線に対する屈折率（nd）が1.50〜1.54の範囲にある
光学ガラス基板上に形成され、媒質側から45゜の角度で
入射する光に対して反射防止効果を示す多層膜からなる
反射防止膜であって、 その多層膜が、媒質側から基板側に向って、順に、第
１層、第２層、第３層、第４層、第５層、第６層、第７
層と名付ける７層膜からなり、 偶数層が、基板の屈折率より高くかつ2.20〜2.45の範
囲にある屈折率を有する高屈折率物質からなり、 奇数層が、基板の屈折率より低くかつ1.40〜1.48の範
囲にある屈折率を有する低屈折率物質からなり、そして 第ｉ層の屈折率をni、そして第ｉ層の光学的膜厚をni
nd（ｉは１〜７の整数）とする時、各層の光学的膜厚
が以下の条件： 0.29012λ０＜n1d1＜0.30806λ０ 0.16820λ０＜n2d2＜0.18590λ０ 0.01805λ０＜n3d3＜0.02441λ０ 0.32446λ０＜n4d4＜0.35150λ０ 0.10049λ０＜n5d5＜0.10887λ０ 0.06516λ０＜n6d6＜0.07496λ０ 0.57885λ０＜n7d7＜0.66599λ０ 但し、λ0;設計主波長 を満足する反射防止膜。
光学ガラス基板上に形成され、媒質側から45゜の角度で
入射する光に対して反射防止効果を示す多層膜からなる
反射防止膜であって、 その多層膜が、媒質側から基板側に向って、順に、第
１層、第２層、第３層、第４層、第５層、第６層、第７
層と名付ける７層膜からなり、 偶数層が、基板の屈折率より高くかつ2.20〜2.45の範
囲にある屈折率を有する高屈折率物質からなり、 奇数層が、基板の屈折率より低くかつ1.40〜1.48の範
囲にある屈折率を有する低屈折率物質からなり、そして 第ｉ層の屈折率をni、そして第ｉ層の光学的膜厚をni
nd（ｉは１〜７の整数）とする時、各層の光学的膜厚
が以下の条件： 0.29012λ０＜n1d1＜0.30806λ０ 0.16820λ０＜n2d2＜0.18590λ０ 0.01805λ０＜n3d3＜0.02441λ０ 0.32446λ０＜n4d4＜0.35150λ０ 0.10049λ０＜n5d5＜0.10887λ０ 0.06516λ０＜n6d6＜0.07496λ０ 0.57885λ０＜n7d7＜0.66599λ０ 但し、λ0;設計主波長 を満足する反射防止膜。
（２）９層膜型 ｄ線に対する屈折率（nd）が1.50〜1.54の範囲にある
光学ガラス基板上に形成され、媒質側から45゜の角度で
入射する光に対して反射防止効果を示す多層膜からなる
反射防止膜であって、 その多層膜が、媒質側から基板側に向って、順に、第
１層、第２層、第３層、第４層、第５層、第６層、第７
層、第８層、第９層と名付ける９層膜からなり、 偶数層が、基板の屈折率より高くかつ2.20〜2.45の範
囲にある屈折率を有する高屈折率物質からなり、 奇数層が、基板の屈折率より低くかつ1.40〜1.48の範
囲にある屈折率を有する低屈折率物質からなり、そして 第ｉ層の屈折率をni、そして第ｉ層の光学的膜厚をni
nd（ｉは１〜９の整数）とする時、各層の光学的膜厚
が以下の条件： 0.29600λ０＜n1d1＜0.30800λ０ 0.16100λ０＜n2d2＜0.17700λ０ 0.02050λ０＜n3d3＜0.02770λ０ 0.33300λ０＜n4d4＜0.36100λ０ 0.10200λ０＜n5d5＜0.11000λ０ 0.07440λ０＜n6d6＜0.08060λ０ 0.26200λ０＜n7d7＜0.29600λ０ 0.00674λ０＜n8d8＜0.01250λ０ 0.20600λ０＜n9d9＜0.03100λ０ 但し、λ0;設計主波長 を満足する反射防止膜。
光学ガラス基板上に形成され、媒質側から45゜の角度で
入射する光に対して反射防止効果を示す多層膜からなる
反射防止膜であって、 その多層膜が、媒質側から基板側に向って、順に、第
１層、第２層、第３層、第４層、第５層、第６層、第７
層、第８層、第９層と名付ける９層膜からなり、 偶数層が、基板の屈折率より高くかつ2.20〜2.45の範
囲にある屈折率を有する高屈折率物質からなり、 奇数層が、基板の屈折率より低くかつ1.40〜1.48の範
囲にある屈折率を有する低屈折率物質からなり、そして 第ｉ層の屈折率をni、そして第ｉ層の光学的膜厚をni
nd（ｉは１〜９の整数）とする時、各層の光学的膜厚
が以下の条件： 0.29600λ０＜n1d1＜0.30800λ０ 0.16100λ０＜n2d2＜0.17700λ０ 0.02050λ０＜n3d3＜0.02770λ０ 0.33300λ０＜n4d4＜0.36100λ０ 0.10200λ０＜n5d5＜0.11000λ０ 0.07440λ０＜n6d6＜0.08060λ０ 0.26200λ０＜n7d7＜0.29600λ０ 0.00674λ０＜n8d8＜0.01250λ０ 0.20600λ０＜n9d9＜0.03100λ０ 但し、λ0;設計主波長 を満足する反射防止膜。
（３）11層膜型 ｄ線に対する屈折率（nd）が1.50〜1.54の範囲にある
光学ガラス基板上に形成され、媒質側から45゜の角度で
入射する光に対して反射防止効果を示す多層膜からなる
反射防止膜であって、 その多層膜が、媒質側から基板側に向って、順に、第
１層、第２層、第３層、第４層、第５層、第６層、第７
層、第８層、第９層、第10層、第11層と名付ける11層膜
からなり、 偶数層が、基板の屈折率より高くかつ2.20〜2.45の範
囲にある屈折率を有する高屈折率物質からなり、 奇数層が、基板の屈折率より低くかつ1.40〜1.48の範
囲にある屈折率を有する低屈折率物質からなり、そして 第ｉ層の屈折率をni、そして第ｉ層の光学的膜厚をni
nd（ｉは１〜11の整数）とする時、各層の光学的膜厚
が以下の条件： 0.2940λ０＜n1 d1 ＜0.3060λ０ 0.1540λ０＜n2 d2 ＜0.1700λ０ 0.0166λ０＜n3 d3 ＜0.0248λ０ 0.3540λ０＜n4 d4 ＜0.3920λ０ 0.0923λ０＜n5 d5 ＜0.1020λ０ 0.0864λ０＜n6 d6 ＜0.0954λ０ 0.1490λ０＜n7 d7 ＜0.1830λ０ 0.0107λ０＜n8 d8 ＜0.0161λ０ 0.0242λ０＜n9 d9 ＜0.0725λ０ 0.0100λ０＜n10d10＜0.0186λ０ 0.0279λ０＜n11d11＜0.0836λ０ 但し、λ0;設計主波長 を満足する反射防止膜。
光学ガラス基板上に形成され、媒質側から45゜の角度で
入射する光に対して反射防止効果を示す多層膜からなる
反射防止膜であって、 その多層膜が、媒質側から基板側に向って、順に、第
１層、第２層、第３層、第４層、第５層、第６層、第７
層、第８層、第９層、第10層、第11層と名付ける11層膜
からなり、 偶数層が、基板の屈折率より高くかつ2.20〜2.45の範
囲にある屈折率を有する高屈折率物質からなり、 奇数層が、基板の屈折率より低くかつ1.40〜1.48の範
囲にある屈折率を有する低屈折率物質からなり、そして 第ｉ層の屈折率をni、そして第ｉ層の光学的膜厚をni
nd（ｉは１〜11の整数）とする時、各層の光学的膜厚
が以下の条件： 0.2940λ０＜n1 d1 ＜0.3060λ０ 0.1540λ０＜n2 d2 ＜0.1700λ０ 0.0166λ０＜n3 d3 ＜0.0248λ０ 0.3540λ０＜n4 d4 ＜0.3920λ０ 0.0923λ０＜n5 d5 ＜0.1020λ０ 0.0864λ０＜n6 d6 ＜0.0954λ０ 0.1490λ０＜n7 d7 ＜0.1830λ０ 0.0107λ０＜n8 d8 ＜0.0161λ０ 0.0242λ０＜n9 d9 ＜0.0725λ０ 0.0100λ０＜n10d10＜0.0186λ０ 0.0279λ０＜n11d11＜0.0836λ０ 但し、λ0;設計主波長 を満足する反射防止膜。
なお、上記の奇数層を構成する屈折率1.40〜1.48の範
囲にある低屈折率物質の例としては、SiO2、およびSiO2
を主成分とし上記範囲の屈折率を示す物質を挙げること
ができる。また、上記の偶数層を構成する屈折率2.20〜
2.45の範囲にある高屈折率物質の例としては、TiO2、お
よびTiO2を主成分とし上記範囲の屈折率を示す物質を挙
げることができる。
囲にある低屈折率物質の例としては、SiO2、およびSiO2
を主成分とし上記範囲の屈折率を示す物質を挙げること
ができる。また、上記の偶数層を構成する屈折率2.20〜
2.45の範囲にある高屈折率物質の例としては、TiO2、お
よびTiO2を主成分とし上記範囲の屈折率を示す物質を挙
げることができる。
本発明の反射防止膜は、上記の高屈折率物質と低屈折
率物質とを、たとえば、真空蒸着法のような公知の薄膜
形成技術を利用して、それぞれの光学的膜厚が上記の範
囲を満足するように、交互に基板の上に蒸着積層するこ
とにより形成することができる。基板としては、通常、
ガラスが利用される。
率物質とを、たとえば、真空蒸着法のような公知の薄膜
形成技術を利用して、それぞれの光学的膜厚が上記の範
囲を満足するように、交互に基板の上に蒸着積層するこ
とにより形成することができる。基板としては、通常、
ガラスが利用される。
本発明の反射防止膜の使用形態および作用効果の例を
第１図により説明する。
第１図により説明する。
第１図は、基板１、ビームスプリッター膜または赤反
射ダイクロイック膜２および本発明に従う反射防止膜７
とからなる光学部品の例を示す。入射光３は、基板１に
45゜の角度にて斜めに入射する。この入射光３は、ビー
ムスプリッター膜２により、反射光（表面反射光）４と
透過光５とに分離される。この透過光５の一部は、基板
１の裏面で反射され、裏面反射光６として、裏側から再
度ビームスプリッター膜２を通過し、表面反射光４と一
緒に（すなわち、合成されて）出てゆく。この結果、得
られる反射光は、フレヤや二重像を形成しやすくなる。
このようなフレヤや二重像を形成に起因する反射光の純
度の低下を防止するため基板１の裏面に反射防止膜７が
設けられる。
射ダイクロイック膜２および本発明に従う反射防止膜７
とからなる光学部品の例を示す。入射光３は、基板１に
45゜の角度にて斜めに入射する。この入射光３は、ビー
ムスプリッター膜２により、反射光（表面反射光）４と
透過光５とに分離される。この透過光５の一部は、基板
１の裏面で反射され、裏面反射光６として、裏側から再
度ビームスプリッター膜２を通過し、表面反射光４と一
緒に（すなわち、合成されて）出てゆく。この結果、得
られる反射光は、フレヤや二重像を形成しやすくなる。
このようなフレヤや二重像を形成に起因する反射光の純
度の低下を防止するため基板１の裏面に反射防止膜７が
設けられる。
また、第１図で、２が赤反射ダイクロイック膜である
場合には、基板１に斜メに入射した光３は、赤反射ダイ
クロイック膜２により、赤色を示す反射光（表面反射
光）４と、シアンの透過光５に分離される。この透過光
５の一部は、基板１の裏面で反射され、裏面反射光６と
して、裏側から再度赤反射ダイクロイック膜２を通過
し、表面反射光４と一緒に合成されて出てゆく。この結
果、赤色の表面反射光４の純度の低下が発生する。この
ような反射光の純度の低下を防止するため基板１の裏面
に反射防止膜７が設けられる。
場合には、基板１に斜メに入射した光３は、赤反射ダイ
クロイック膜２により、赤色を示す反射光（表面反射
光）４と、シアンの透過光５に分離される。この透過光
５の一部は、基板１の裏面で反射され、裏面反射光６と
して、裏側から再度赤反射ダイクロイック膜２を通過
し、表面反射光４と一緒に合成されて出てゆく。この結
果、赤色の表面反射光４の純度の低下が発生する。この
ような反射光の純度の低下を防止するため基板１の裏面
に反射防止膜７が設けられる。
なお、本発明の反射防止膜は、一般に上記のように基
板の裏側のみに設けられる。また、ビームスプリッター
膜または赤反射ダイクロイックを設けず、基板表裏の両
面に設けてもよい。このような基板両面に設けた光学系
部品としてはコンペンセーターを挙げることができる。
さらに、本発明の反射防止膜はレンズ用に使用すること
もできる。
板の裏側のみに設けられる。また、ビームスプリッター
膜または赤反射ダイクロイックを設けず、基板表裏の両
面に設けてもよい。このような基板両面に設けた光学系
部品としてはコンペンセーターを挙げることができる。
さらに、本発明の反射防止膜はレンズ用に使用すること
もできる。
［発明の作用効果］ 本発明に従う反射防止膜は、後述の実施例から明らか
なように、特に基板に45゜の角度にて斜めに入射する光
に対して、広い波長帯域にて優れた反射防止効果を示
す。本発明の反射防止膜を備えた光学製品は、従来のよ
うに、膜表面に垂直に光が入射する場合に光反射防止膜
としても有効であるが、特に、本発明の反射防止膜を、
基板に対して45゜の角度にて斜めに入射する光を利用す
る光学部品の表面に付設した場合には、従来より知られ
ている各種の多層反射防止膜に比較して、広い波長帯域
において顕著に優れた反射防止効果を示し、この結果、
基板の裏面にて反射する裏面反射光によるフレアの発
生、二重像の形成、色の濁り、などの好ましくない現象
の顕著な減少が実現する。
なように、特に基板に45゜の角度にて斜めに入射する光
に対して、広い波長帯域にて優れた反射防止効果を示
す。本発明の反射防止膜を備えた光学製品は、従来のよ
うに、膜表面に垂直に光が入射する場合に光反射防止膜
としても有効であるが、特に、本発明の反射防止膜を、
基板に対して45゜の角度にて斜めに入射する光を利用す
る光学部品の表面に付設した場合には、従来より知られ
ている各種の多層反射防止膜に比較して、広い波長帯域
において顕著に優れた反射防止効果を示し、この結果、
基板の裏面にて反射する裏面反射光によるフレアの発
生、二重像の形成、色の濁り、などの好ましくない現象
の顕著な減少が実現する。
［実施例］ （１）７層膜型 光学ガラス基板に、奇数層にSiO2を用い、偶数層にTi
O2を用いた多層反射防止膜を、第２図に模式的に示すよ
うな７層構成にて、そしてそれぞれが第１表記載の光学
的膜厚となるように真空蒸着により形成する。
O2を用いた多層反射防止膜を、第２図に模式的に示すよ
うな７層構成にて、そしてそれぞれが第１表記載の光学
的膜厚となるように真空蒸着により形成する。
第３図は、上記の７層型の多層反射防止膜の、入射角
45゜での分光反射率特性を示すスペクトルである。この
スペクトルから、上記７層型の多層反射防止膜は、入射
角45゜の入射光に対して400nmから700nmまで広帯域で、
非常に平坦な反射防止効果を示す事がわかる。
45゜での分光反射率特性を示すスペクトルである。この
スペクトルから、上記７層型の多層反射防止膜は、入射
角45゜の入射光に対して400nmから700nmまで広帯域で、
非常に平坦な反射防止効果を示す事がわかる。
（２）９層膜型 光学ガラス基板に、奇数層にSiO2を用い、偶数層にTi
O2を用いた多層反射防止膜を、第４図に模式的に示すよ
うな９層構成にて、そしてそれぞれが第２表記載の光学
的膜厚となるように真空蒸着により形成する。
O2を用いた多層反射防止膜を、第４図に模式的に示すよ
うな９層構成にて、そしてそれぞれが第２表記載の光学
的膜厚となるように真空蒸着により形成する。
第５図は、上記の９層型の多層反射防止膜の、入射角
45゜での分光反射率特性を示すスペクトルである。この
スペクトルから、上記９層型の多層反射防止膜は、入射
角45゜の入射光に対して400nmから700nmまで広帯域で、
非常に平坦な反射防止効果を示す事がわかる。
45゜での分光反射率特性を示すスペクトルである。この
スペクトルから、上記９層型の多層反射防止膜は、入射
角45゜の入射光に対して400nmから700nmまで広帯域で、
非常に平坦な反射防止効果を示す事がわかる。
（３）11層膜型 光学ガラス基板に、奇数層にSiO2を用い、偶数層にTi
O2を用いた多層反射防止膜を、第６図に模式的に示すよ
うな11層構成にて、そしてそれぞれが第３表記載の光学
的膜厚となるように真空蒸着により形成する。
O2を用いた多層反射防止膜を、第６図に模式的に示すよ
うな11層構成にて、そしてそれぞれが第３表記載の光学
的膜厚となるように真空蒸着により形成する。
第７図は、上記の11層型の多層反射防止膜の、入射角
45゜での分光反射率特性を示すスペクトルである。この
スペクトルから、上記11層型の多層反射防止膜は、入射
角45゜の入射光に対して400nmから700nmまで広帯域で、
非常に平坦な反射防止効果を示す事がわかる。
45゜での分光反射率特性を示すスペクトルである。この
スペクトルから、上記11層型の多層反射防止膜は、入射
角45゜の入射光に対して400nmから700nmまで広帯域で、
非常に平坦な反射防止効果を示す事がわかる。
第１図は、本発明の反射防止膜の使用の態様および作用
を示す模式図である。 第２図は、本発明の７層型の反射防止膜の構成図であ
り、第３図はその反射防止膜の代表的な分光反射率特性
を示すスペクトルである。 第４図は、本発明の９層型の反射防止膜の構成図であ
り、第５図はその反射防止膜の代表的な分光反射率特性
を示すスペクトルである。 第６図は、本発明の11層型の反射防止膜の構成図であ
り、第７図はその反射防止膜の代表的な分光反射率特性
を示すスペクトルである。 1:基板 2:ビームスプリッター膜または赤反射ダイクロイック膜 3:入射光 4:反射光（表面反射光） 5:透過光 6:裏面反射光 7:反射防止膜
を示す模式図である。 第２図は、本発明の７層型の反射防止膜の構成図であ
り、第３図はその反射防止膜の代表的な分光反射率特性
を示すスペクトルである。 第４図は、本発明の９層型の反射防止膜の構成図であ
り、第５図はその反射防止膜の代表的な分光反射率特性
を示すスペクトルである。 第６図は、本発明の11層型の反射防止膜の構成図であ
り、第７図はその反射防止膜の代表的な分光反射率特性
を示すスペクトルである。 1:基板 2:ビームスプリッター膜または赤反射ダイクロイック膜 3:入射光 4:反射光（表面反射光） 5:透過光 6:裏面反射光 7:反射防止膜
Claims (3)
- 【請求項１】ｄ線に対する屈折率（nd）が1.50〜1.54の
範囲にある光学ガラス基板上に形成され、媒質側から45
゜の角度で入射する光に対して反射防止効果を示す多層
膜からなる反射防止膜であって、 その多層膜が、媒質側から基板側に向って、順に、第１
層、第２層、第３層、第４層、第５層、第６層、第７層
と名付ける７層膜からなり、 偶数層が、基板の屈折率より高くかつ2.20〜2.45の範囲
にある屈折率を有する高屈折率物質からなり、 奇数層が、基板の屈折率より低くかつ1.40〜1.48の範囲
にある屈折率を有する低屈折率物質からなり、そして 第ｉ層の屈折率をni、そして第ｉ層の光学的膜厚をni n
d（ｉは１〜７の整数）とする時、各層の光学的膜厚が
以下の条件： 0.29012λ０＜n1d1＜0.30806λ０ 0.16820λ０＜n2d2＜0.18590λ０ 0.01805λ０＜n3d3＜0.02441λ０ 0.32446λ０＜n4d4＜0.35150λ０ 0.10049λ０＜n5d5＜0.10887λ０ 0.06516λ０＜n6d6＜0.07496λ０ 0.57885λ０＜n7d7＜0.66599λ０ 但し、λ0;設計主波長 を満足する反射防止膜。 - 【請求項２】ｄ線に対する屈折率（nd）が1.50〜1.54の
範囲にある光学ガラス基板上に形成され、媒質側から45
゜の角度で入射する光に対して反射防止効果を示す多層
膜からなる反射防止膜であって、 その多層膜が、媒質側から基板側に向って、順に、第１
層、第２層、第３層、第４層、第５層、第６層、第７
層、第８層、第９層と名付ける９層膜からなり、 偶数層が、基板の屈折率より高くかつ2.20〜2.45の範囲
にある屈折率を有する高屈折率物質からなり、 奇数層が、基板の屈折率より低くかつ1.40〜1.48の範囲
にある屈折率を有する低屈折率物質からなり、そして 第ｉ層の屈折率をni、そして第ｉ層の光学的膜厚をni
di（ｉは１〜９の整数）とする時、各層の光学的膜厚が
以下の条件： 0.29600λ０＜n1d1＜0.30800λ０ 0.16100λ０＜n2d2＜0.17700λ０ 0.02050λ０＜n3d3＜0.02770λ０ 0.33300λ０＜n4d4＜0.36100λ０ 0.10200λ０＜n5d5＜0.11000λ０ 0.07440λ０＜n6d6＜0.08060λ０ 0.26200λ０＜n7d7＜0.29600λ０ 0.00674λ０＜n8d8＜0.01250λ０ 0.20600λ０＜n9d9＜0.03100λ０ 但し、λ0;設計主波長 を満足する反射防止膜。 - 【請求項３】ｄ線に対する屈折率（nd）が1.50〜1.54の
範囲にある光学ガラス基板上に形成され、媒質側から45
゜の角度で入射する光に対して反射防止効果を示す多層
膜からなる反射防止膜であって、 その多層膜が、媒質側から基板側に向って、順に、第１
層、第２層、第３層、第４層、第５層、第６層、第７
層、第８層、第９層、第10層、第11層と名付ける11層膜
からなり、 偶数層が、基板の屈折率より高くかつ2.20〜2.45の範囲
にある屈折率を有する高屈折率物質からなり、 奇数層が、基板の屈折率より低くかつ1.40〜1.48の範囲
にある屈折率を有する低屈折率物質からなり、そして 第ｉ層の屈折率をni、そして第ｉ層の光学的膜厚をni
di（ｉは１〜11の整数）とする時、各層の光学的膜厚が
以下の条件： 0.2940λ０＜n1 d1 ＜0.3060λ０ 0.1540λ０＜n2 d2 ＜0.1700λ０ 0.0166λ０＜n3 d3 ＜0.0248λ０ 0.3540λ０＜n4 d4 ＜0.3920λ０ 0.0923λ０＜n5 d5 ＜0.1020λ０ 0.0864λ０＜n6 d6 ＜0.0954λ０ 0.1490λ０＜n7 d7 ＜0.1830λ０ 0.0107λ０＜n8 d8 ＜0.0161λ０ 0.0242λ０＜n9 d9 ＜0.0725λ０ 0.0100λ０＜n10d10＜0.0186λ０ 0.0279λ０＜n11d11＜0.0836λ０ 但し、λ0;設計主波長 を満足する反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2160484A JP2835535B2 (ja) | 1990-06-18 | 1990-06-18 | 光学部品の反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2160484A JP2835535B2 (ja) | 1990-06-18 | 1990-06-18 | 光学部品の反射防止膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0451001A JPH0451001A (ja) | 1992-02-19 |
| JP2835535B2 true JP2835535B2 (ja) | 1998-12-14 |
Family
ID=15715944
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2160484A Expired - Lifetime JP2835535B2 (ja) | 1990-06-18 | 1990-06-18 | 光学部品の反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2835535B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4780845B2 (ja) * | 2001-03-12 | 2011-09-28 | オリンパス株式会社 | 反射防止膜及び光学部品 |
| JP2011008280A (ja) * | 2010-08-17 | 2011-01-13 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 反射防止膜 |
| CN105268110B (zh) * | 2014-06-19 | 2018-03-13 | 昆山科技大学 | 黄疸光疗装置 |
| CN106946470B (zh) * | 2017-04-26 | 2023-08-01 | 福建福光光电科技有限公司 | 一种耐腐蚀高增透的日夜两视光学玻璃薄膜 |
| JP7405605B2 (ja) * | 2019-12-26 | 2023-12-26 | 株式会社キーエンス | レーザ加工装置 |
-
1990
- 1990-06-18 JP JP2160484A patent/JP2835535B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0451001A (ja) | 1992-02-19 |
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