JP2001100002A - 反射防止膜及びそれを用いた光学部材 - Google Patents
反射防止膜及びそれを用いた光学部材Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】光学部品に施される可視域（およそ波長４００
〜７００ｎｍ）用の多層膜を用いた反射防止膜及びそれ
を用いた光学部材を得ること。 【解決手段】透明な基板上に該基板側から空気側へ順に
第１層，第２層，〜第１０層の誘電体より成る１０層の
薄膜を施した反射防止膜であって、該第２，第４，第
６，第９層の材質の波長５５０ｎｍでの屈折率Ｎh、該
第１，第８層の材質の波長５５０ｎｍでの屈折率Ｎm、
該第３，第５，第７，第１０層の材質の波長５５０ｎｍ
での屈折率ＮLを各々適切に設定したこと。
〜７００ｎｍ）用の多層膜を用いた反射防止膜及びそれ
を用いた光学部材を得ること。 【解決手段】透明な基板上に該基板側から空気側へ順に
第１層，第２層，〜第１０層の誘電体より成る１０層の
薄膜を施した反射防止膜であって、該第２，第４，第
６，第９層の材質の波長５５０ｎｍでの屈折率Ｎh、該
第１，第８層の材質の波長５５０ｎｍでの屈折率Ｎm、
該第３，第５，第７，第１０層の材質の波長５５０ｎｍ
での屈折率ＮLを各々適切に設定したこと。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は反射防止膜及びそれ
を用いた光学部材に関し、たとえば可視域（波長４００
〜７００ｎｍ）における所定の波長帯に対して反射防止
効果を有したテレビカメラ，ビデオカメラ，デジタルカ
メラ等の光学系において用いられるレンズ，プリズム等
の光学部材に適用するときに好適なものである。
を用いた光学部材に関し、たとえば可視域（波長４００
〜７００ｎｍ）における所定の波長帯に対して反射防止
効果を有したテレビカメラ，ビデオカメラ，デジタルカ
メラ等の光学系において用いられるレンズ，プリズム等
の光学部材に適用するときに好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】写真用カメラや放送用カメラ等の光学機
器の用途に用いられる高変倍のズームレンズは、多数の
レンズからなっている。
器の用途に用いられる高変倍のズームレンズは、多数の
レンズからなっている。
【０００３】一般的に、このようなズームレンズは少な
い場合でレンズ枚数が１０枚程度、多い場合で４０枚ほ
どのレンズで構成されている。
い場合でレンズ枚数が１０枚程度、多い場合で４０枚ほ
どのレンズで構成されている。
【０００４】このようなレンズ枚数の多いズームレンズ
では各レンズの表面から生ずる反射光の総量が多くなる
為、各レンズ面には適切なる構成の反射防止膜を施して
いる。
では各レンズの表面から生ずる反射光の総量が多くなる
為、各レンズ面には適切なる構成の反射防止膜を施して
いる。
【０００５】そして、これらレンズやプリズム等の光学
部材のほとんど全てがその表面に基板の屈折率と異る
大，小の屈折率をもった誘電体と、その他の物質を組み
合わせた、単層，２層，３層等の膜構成を施している。
このときの膜厚は中心波長に対して、１／２λ、１／４
λで組み合わせることにより成る反射防止膜が施された
り、また、光の干渉を利用した反射防止法がとられてい
る。
部材のほとんど全てがその表面に基板の屈折率と異る
大，小の屈折率をもった誘電体と、その他の物質を組み
合わせた、単層，２層，３層等の膜構成を施している。
このときの膜厚は中心波長に対して、１／２λ、１／４
λで組み合わせることにより成る反射防止膜が施された
り、また、光の干渉を利用した反射防止法がとられてい
る。
【０００６】このうち多層膜より成る反射防止膜として
例えば特開平１０−２０１０２号公報では全体として７
層の多層構造より成る可視域において反射防止効果を有
した反射防止膜を提案している。
例えば特開平１０−２０１０２号公報では全体として７
層の多層構造より成る可視域において反射防止効果を有
した反射防止膜を提案している。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】一般的な反射防止膜を
多数のレンズより成るズームレンズに施した場合、例え
ば反射防止膜を施した１つのレンズ面の反射率が０．５
％で、そのズームレンズにおけるレンズ枚数が３０枚
（レンズの面数は６０面）であったとすると、透過率は
計算上７４％となり、途中２６％分もの光が反射しロス
してしまう結果となる。
多数のレンズより成るズームレンズに施した場合、例え
ば反射防止膜を施した１つのレンズ面の反射率が０．５
％で、そのズームレンズにおけるレンズ枚数が３０枚
（レンズの面数は６０面）であったとすると、透過率は
計算上７４％となり、途中２６％分もの光が反射しロス
してしまう結果となる。
【０００８】しかも、その反射光が、多重反射を繰り返
しながら、フレアー，ゴーストの原因となってくる。ま
た、反射防止膜を施すレンズ表面の多くは曲率を持って
いる為、通常の成膜加工方法では膜厚ムラが起こり、そ
の膜厚ムラは分光反射特性を図３の様にシフトさせてし
まう。
しながら、フレアー，ゴーストの原因となってくる。ま
た、反射防止膜を施すレンズ表面の多くは曲率を持って
いる為、通常の成膜加工方法では膜厚ムラが起こり、そ
の膜厚ムラは分光反射特性を図３の様にシフトさせてし
まう。
【０００９】この結果として、例えば図２のような反射
率の分光反射特性の形がＷ型である場合は、中心波長付
近の波長の光が、また、反射防止波長帯域が狭い反射防
止膜については、短、長波長域の波長の光の反射率のみ
高くなり、レンズの場所によって違う波長の光（色）が
反射する現象が起き、レンズ前面のカラーバランスがバ
ラついてしまうといった問題が生じてくる。
率の分光反射特性の形がＷ型である場合は、中心波長付
近の波長の光が、また、反射防止波長帯域が狭い反射防
止膜については、短、長波長域の波長の光の反射率のみ
高くなり、レンズの場所によって違う波長の光（色）が
反射する現象が起き、レンズ前面のカラーバランスがバ
ラついてしまうといった問題が生じてくる。
【００１０】本発明は、できるだけ可視域の広い範囲に
渡り、分光反射率特性をフラット（平坦）な形にし、成
膜製造時の実特性を反射率で０．２％以内に抑え、製造
誤差を加味した設計上の同特性を０．１％以内に抑えた
反射防止膜及びそれを用いた光学部材の提供を目的とす
る。
渡り、分光反射率特性をフラット（平坦）な形にし、成
膜製造時の実特性を反射率で０．２％以内に抑え、製造
誤差を加味した設計上の同特性を０．１％以内に抑えた
反射防止膜及びそれを用いた光学部材の提供を目的とす
る。
【００１１】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明の反射防
止膜は、透明な基板上に該基板側から空気側へ順に第１
層，第２層，〜第１０層の誘電体より成る１０層の薄膜
を施した反射防止膜であって、該第２，第４，第６，第
９層の材質の波長５５０ｎｍでの屈折率をＮh、該第
１，第８層の材質の波長５５０ｎｍでの屈折率をＮm、
該第３，第５，第７，第１０層の材質の波長５５０ｎｍ
での屈折率をＮLとしたとき、 ２．０≦Ｎh １．５≦Ｎm≦１．８ ＮL≦１．４６ を満足することを特徴としている。
止膜は、透明な基板上に該基板側から空気側へ順に第１
層，第２層，〜第１０層の誘電体より成る１０層の薄膜
を施した反射防止膜であって、該第２，第４，第６，第
９層の材質の波長５５０ｎｍでの屈折率をＮh、該第
１，第８層の材質の波長５５０ｎｍでの屈折率をＮm、
該第３，第５，第７，第１０層の材質の波長５５０ｎｍ
での屈折率をＮLとしたとき、 ２．０≦Ｎh １．５≦Ｎm≦１．８ ＮL≦１．４６ を満足することを特徴としている。
【００１２】請求項２の発明は請求項１の発明におい
て、前記第ｉ層の光学的膜厚をｎｄｉ、基準波長をλ0
とし、λ0＝５５０ｎｍとおいたとき、 ０．０２λ0≦ｎｄ1≦０．２５λ0 ０．０２λ0≦ｎｄ2≦０．５５λ0 ０．０１λ0≦ｎｄ3≦０．１０λ0 ０．３２λ0≦ｎｄ4≦０．５５λ0 ０．０３λ0≦ｎｄ5≦０．１５λ0 ０．０１λ0≦ｎｄ6≦０．０７λ0 ０．２０λ0≦ｎｄ7≦０．３０λ0 ０．０８λ0≦ｎｄ8≦０．２０λ0 ０．３７λ0≦ｎｄ9≦０．４５λ0 ０．２０λ0≦ｎｄ10≦０．２５λ0 を満たすことを特徴としている。
て、前記第ｉ層の光学的膜厚をｎｄｉ、基準波長をλ0
とし、λ0＝５５０ｎｍとおいたとき、 ０．０２λ0≦ｎｄ1≦０．２５λ0 ０．０２λ0≦ｎｄ2≦０．５５λ0 ０．０１λ0≦ｎｄ3≦０．１０λ0 ０．３２λ0≦ｎｄ4≦０．５５λ0 ０．０３λ0≦ｎｄ5≦０．１５λ0 ０．０１λ0≦ｎｄ6≦０．０７λ0 ０．２０λ0≦ｎｄ7≦０．３０λ0 ０．０８λ0≦ｎｄ8≦０．２０λ0 ０．３７λ0≦ｎｄ9≦０．４５λ0 ０．２０λ0≦ｎｄ10≦０．２５λ0 を満たすことを特徴としている。
【００１３】請求項３の発明は請求項２の発明におい
て、前記第１層の材質はＡｌ2Ｏ3，第１０層の材質はＭ
ｇＦ2であることを特徴としている。
て、前記第１層の材質はＡｌ2Ｏ3，第１０層の材質はＭ
ｇＦ2であることを特徴としている。
【００１４】請求項４の発明は請求項２又は３の発明に
おいて、前記基板の材質の屈折率をＮgとしたとき １．４≦Ｎg≦１．９ を満たすことを特徴としている。
おいて、前記基板の材質の屈折率をＮgとしたとき １．４≦Ｎg≦１．９ を満たすことを特徴としている。
【００１５】請求項５の発明は請求項１から４のいずれ
か１項の発明において、前記反射防止膜は可視域で波長
帯２７０ｎｍの光に対して反射率が０．１％以下の反射
防止効果があることを特徴としている。
か１項の発明において、前記反射防止膜は可視域で波長
帯２７０ｎｍの光に対して反射率が０．１％以下の反射
防止効果があることを特徴としている。
【００１６】請求項６の発明の光学部材は請求項１から
５のいずれか１項の反射防止膜を施したことを特徴とし
ている。
５のいずれか１項の反射防止膜を施したことを特徴とし
ている。
【００１７】
【発明の実施の形態】図１は本発明の反射防止膜の実施
形態の要部断面概略図である。本実施形態の反射防止膜
はガラスや結晶等の透明な基板１１２面上に所定の屈折
率と光学的膜厚より成る誘電体を全体として１０層施し
ている。
形態の要部断面概略図である。本実施形態の反射防止膜
はガラスや結晶等の透明な基板１１２面上に所定の屈折
率と光学的膜厚より成る誘電体を全体として１０層施し
ている。
【００１８】図１において、１０１は成膜される第１層
であるＡｌ2Ｏ3、１０２は第２層のＺｒＯ2：ＴｉＯ2＝
６：１の混合物、１０３は第３層のＳｉＯ2、１０４は
第４層のＺｒＯ2：ＴｉＯ2＝６：１の混合物、１０５は
第５層のＳｉＯ2、１０６は第６層のＺｒＯ2：ＴｉＯ2
＝６：１の混合物、１０７は第７層のＳｉＯ2、１０８
は第８層のＡｌ2Ｏ3、１０９は第９層のＺｒＯ2：Ｔｉ
Ｏ2＝６：１の混合物、１１０は第１０層のＭｇＦ2、１
１１はＡｉｒ、１１２は基板の光学用基板である。
であるＡｌ2Ｏ3、１０２は第２層のＺｒＯ2：ＴｉＯ2＝
６：１の混合物、１０３は第３層のＳｉＯ2、１０４は
第４層のＺｒＯ2：ＴｉＯ2＝６：１の混合物、１０５は
第５層のＳｉＯ2、１０６は第６層のＺｒＯ2：ＴｉＯ2
＝６：１の混合物、１０７は第７層のＳｉＯ2、１０８
は第８層のＡｌ2Ｏ3、１０９は第９層のＺｒＯ2：Ｔｉ
Ｏ2＝６：１の混合物、１１０は第１０層のＭｇＦ2、１
１１はＡｉｒ、１１２は基板の光学用基板である。
【００１９】本実施形態に係わる反射防止膜は、基板１
１２上に高屈折率層（屈折率Ｎh）の第２，第４，第
６，第９層、中間屈折率層（屈折率Ｎm）の第１，第８
層、そして低屈折率層（屈折率ＮL）の第３，第５，第
７，第１０層の１０層より構成している。
１２上に高屈折率層（屈折率Ｎh）の第２，第４，第
６，第９層、中間屈折率層（屈折率Ｎm）の第１，第８
層、そして低屈折率層（屈折率ＮL）の第３，第５，第
７，第１０層の１０層より構成している。
【００２０】本発明に係わる反射防止膜は、一般の光学
用基板に対して、可視光領域において十分な反射防止効
果を得ることができる高屈折率層の成膜材料として、酸
化ジルコニウム（ＺｒＯ2）、酸化チタン（ＴｉＯ2）、
酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）、酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）、
酸化ハフニウム（ＨｆＯ2）、酸化セリウム（ＣｅＯ2）
及び、それらの混合物ならびに化合物等が挙げられる。
用基板に対して、可視光領域において十分な反射防止効
果を得ることができる高屈折率層の成膜材料として、酸
化ジルコニウム（ＺｒＯ2）、酸化チタン（ＴｉＯ2）、
酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）、酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）、
酸化ハフニウム（ＨｆＯ2）、酸化セリウム（ＣｅＯ2）
及び、それらの混合物ならびに化合物等が挙げられる。
【００２１】中間屈折率層の成膜材料として、酸化アル
ミニウム（Ａｌ2Ｏ3）、酸化ゲルマニウム（Ｇｅ
Ｏ2）、酸化イットリウム（Ｙ2Ｏ3）及び、それらの混
合物ならびに化合物等が挙げられる。
ミニウム（Ａｌ2Ｏ3）、酸化ゲルマニウム（Ｇｅ
Ｏ2）、酸化イットリウム（Ｙ2Ｏ3）及び、それらの混
合物ならびに化合物等が挙げられる。
【００２２】低屈折率層の成膜材料として、酸化シリコ
ン（ＳｉＯ2）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）、フッ
化アルミニウム（ＡｌＦ3）及び、それらの混合物なら
びに化合物等が挙げられる。
ン（ＳｉＯ2）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）、フッ
化アルミニウム（ＡｌＦ3）及び、それらの混合物なら
びに化合物等が挙げられる。
【００２３】本発明の反射防止膜は、光学用基板の屈折
率Ｎgが１．４≦Ｎg≦１．９を満たす場合において、そ
の基板に成膜される薄膜の屈折率が、基板側から空気側
に向けて高屈折率層の第２，第４，第６，第９層が２．
００≦Ｎhの条件を満たし、同じく中屈折率層の第１，
第８層が１．５０≦Ｎm≦１．８０の条件を満たし、同
じく低屈折率層の第３，第５，第７，第１０層がＮL≦
１．４６を満たしている。
率Ｎgが１．４≦Ｎg≦１．９を満たす場合において、そ
の基板に成膜される薄膜の屈折率が、基板側から空気側
に向けて高屈折率層の第２，第４，第６，第９層が２．
００≦Ｎhの条件を満たし、同じく中屈折率層の第１，
第８層が１．５０≦Ｎm≦１．８０の条件を満たし、同
じく低屈折率層の第３，第５，第７，第１０層がＮL≦
１．４６を満たしている。
【００２４】後述する実施例では第１層目は酸化アルミ
ニウム（Ａｌ2Ｏ3）、１０層目はフッ化マグネシウム
（ＭｇＦ2）を用いている。
ニウム（Ａｌ2Ｏ3）、１０層目はフッ化マグネシウム
（ＭｇＦ2）を用いている。
【００２５】本実施形態においては基準波長λ0をλ0＝
５５０ｎｍとし、基板１１２側から空気１１１側に向け
て第１〜１０層の光学的膜厚（屈折率ｎ×厚さｄ）を夫
々ｎｄ1，ｎｄ2，ｎｄ3，ｎｄ4，ｎｄ5，ｎｄ6，ｎ
ｄ7、ｎｄ8，ｎｄ9，ｎｄ10とする時、 ０．０２λ0≦ｎｄ1≦０．２５λ0， ０．０２λ0≦ｎｄ2≦０．５５λ0， ０．０１λ0≦ｎｄ3≦０．１０λ0， ０．３２λ0≦ｎｄ4≦０．５５λ0， ０．０３λ0≦ｎｄ5≦０．１５λ0， ０．０１λ0≦ｎｄ6≦０．０７λ0， ０．２０λ0≦ｎｄ7≦０．３０λ0， ０．０８λ0≦ｎｄ8≦０．２０λ0， ０．３７λ0≦ｎｄ9≦０．４５λ0， ０．２０λ0≦ｎｄ10≦０．２５λ0 を満たすようにしている。
５５０ｎｍとし、基板１１２側から空気１１１側に向け
て第１〜１０層の光学的膜厚（屈折率ｎ×厚さｄ）を夫
々ｎｄ1，ｎｄ2，ｎｄ3，ｎｄ4，ｎｄ5，ｎｄ6，ｎ
ｄ7、ｎｄ8，ｎｄ9，ｎｄ10とする時、 ０．０２λ0≦ｎｄ1≦０．２５λ0， ０．０２λ0≦ｎｄ2≦０．５５λ0， ０．０１λ0≦ｎｄ3≦０．１０λ0， ０．３２λ0≦ｎｄ4≦０．５５λ0， ０．０３λ0≦ｎｄ5≦０．１５λ0， ０．０１λ0≦ｎｄ6≦０．０７λ0， ０．２０λ0≦ｎｄ7≦０．３０λ0， ０．０８λ0≦ｎｄ8≦０．２０λ0， ０．３７λ0≦ｎｄ9≦０．４５λ0， ０．２０λ0≦ｎｄ10≦０．２５λ0 を満たすようにしている。
【００２６】これによって可視域の広範囲にわたって良
好なる反射防止効果を得ている。このように本実施形態
では、一般光学用の硝材上に、基板側から空気側にかけ
て順に第１層〜第１０層の１０層構成の誘電体薄膜を施
し、入射光角度が０〜１０°の場合で、可視域広波長帯
域（約２７０ｎｍ）に於いて、設計上反射率が０．１％
以下になるようにしている。
好なる反射防止効果を得ている。このように本実施形態
では、一般光学用の硝材上に、基板側から空気側にかけ
て順に第１層〜第１０層の１０層構成の誘電体薄膜を施
し、入射光角度が０〜１０°の場合で、可視域広波長帯
域（約２７０ｎｍ）に於いて、設計上反射率が０．１％
以下になるようにしている。
【００２７】本発明のレンズ，プリズム，透明基板等の
光学部材は、前述した膜構成の反射防止膜を施してい
る。
光学部材は、前述した膜構成の反射防止膜を施してい
る。
【００２８】本発明の反射防止膜を施したレンズを用い
ればテレビカメラのようなレンズ枚数の多いズームレン
ズであっても、反射率の少ない可視域全体にわたり高い
透過率を有したズームレンズを得ることができる。
ればテレビカメラのようなレンズ枚数の多いズームレン
ズであっても、反射率の少ない可視域全体にわたり高い
透過率を有したズームレンズを得ることができる。
【００２９】以下、本発明の反射防止膜の各実施例につ
いて説明する。
いて説明する。
【００３０】表１及び表２に本発明の実施例１の成膜構
成を示す。この実施例は、図１の膜種構成時の場合であ
る。
成を示す。この実施例は、図１の膜種構成時の場合であ
る。
【００３１】表１と表２の違いは、成膜される基板（屈
折率）の種類が違うのと、それに伴い、各層の光学的膜
厚がそれぞれ違うことであり、膜種及び膜構成はどちら
も同じである。また、それぞれの膜種、膜構成時の反射
率特性図は表１の場合を図４、表２の場合を図５に示
す。
折率）の種類が違うのと、それに伴い、各層の光学的膜
厚がそれぞれ違うことであり、膜種及び膜構成はどちら
も同じである。また、それぞれの膜種、膜構成時の反射
率特性図は表１の場合を図４、表２の場合を図５に示
す。
【００３２】この構成時の波長４３０ｎｍ〜６８０ｎｍ
の範囲の平均反射率は設計上０．０６〜０．０７％であ
り、実成膜時の特性は製造時の成膜バラツキを加味して
も０．２％以下であった。
の範囲の平均反射率は設計上０．０６〜０．０７％であ
り、実成膜時の特性は製造時の成膜バラツキを加味して
も０．２％以下であった。
【００３３】また、前記反射率の低い波長領域が広範囲
のため、膜厚ムラの起き易い曲率を持ったレンズ基板上
においても、その全面にわたって、低反射率が得られ易
い。
のため、膜厚ムラの起き易い曲率を持ったレンズ基板上
においても、その全面にわたって、低反射率が得られ易
い。
【００３４】
【表１】
【００３５】
【表２】
【００３６】表３に本発明の実施例２の成膜構成を示
す。そして、その反射率特性図を図６に示す。
す。そして、その反射率特性図を図６に示す。
【００３７】この実施例２は、実施例１の膜構成のう
ち、高屈折率材料として、Ｔａ2Ｏ5を用いた場合の例で
ある。この膜構成に於いても、基板の屈折率が１．４≦
Ｎg≦１．９の範囲内であれば、実施例１と同様に、各
層の膜厚を変化させることにより、同様の反射率特性が
得られる反射防止膜である。
ち、高屈折率材料として、Ｔａ2Ｏ5を用いた場合の例で
ある。この膜構成に於いても、基板の屈折率が１．４≦
Ｎg≦１．９の範囲内であれば、実施例１と同様に、各
層の膜厚を変化させることにより、同様の反射率特性が
得られる反射防止膜である。
【００３８】
【表３】
【００３９】表４に本発明の実施例３の成膜構成を示
す。そして、その反射率特性図を図７に示す。
す。そして、その反射率特性図を図７に示す。
【００４０】この実施例３は、実施例１の膜構成のう
ち、１層目を除く８層目の中屈折率材料として、Ｙ2Ｏ3
を用いた場合の例である。
ち、１層目を除く８層目の中屈折率材料として、Ｙ2Ｏ3
を用いた場合の例である。
【００４１】この膜構成に於いても、基板の屈折率が
１．４≦Ｎg≦１．９の範囲内では、実施例１と同様に
各層の膜厚を変化させることにより、同様の反射率特性
が得られる反射防止膜である。
１．４≦Ｎg≦１．９の範囲内では、実施例１と同様に
各層の膜厚を変化させることにより、同様の反射率特性
が得られる反射防止膜である。
【００４２】
【表４】
【００４３】表５に本発明の実施例４の成膜構成を示
す。そして、その反射率特性図を図８に示す。
す。そして、その反射率特性図を図８に示す。
【００４４】この実施例４は、実施例１の膜構成のう
ち、低屈折率材料として、ＭｇＦ2を用いた場合の例で
ある。
ち、低屈折率材料として、ＭｇＦ2を用いた場合の例で
ある。
【００４５】この膜構成に於いても、基板の屈折率が
１．４≦Ｎg≦１．９の範囲内であれば、実施例１と同
様に各層の膜厚を変化させることにより、同様の反射率
特性が得られる反射防止膜である。
１．４≦Ｎg≦１．９の範囲内であれば、実施例１と同
様に各層の膜厚を変化させることにより、同様の反射率
特性が得られる反射防止膜である。
【００４６】
【表５】
【００４７】
【発明の効果】本発明によれば前述の如く多層膜を構成
することにより、できるだけ可視域の広い範囲に渡り、
分光反射率特性をフラット（平坦）な形にし、成膜製造
時の実特性を反射率で０．２％以内に抑え、製造誤差を
加味した設計上の同特性を０．１％以内に抑えた反射防
止膜及びそれを用いた光学部材を達成することができ
る。
することにより、できるだけ可視域の広い範囲に渡り、
分光反射率特性をフラット（平坦）な形にし、成膜製造
時の実特性を反射率で０．２％以内に抑え、製造誤差を
加味した設計上の同特性を０．１％以内に抑えた反射防
止膜及びそれを用いた光学部材を達成することができ
る。
【００４８】この他、本発明に係わる反射防止膜は、可
視域全域で極めて高い反射防止効果を奏する。
視域全域で極めて高い反射防止効果を奏する。
【００４９】特に本発明では、広い領域の波長域に於い
て、設計上０．１％以下の反射率を得ることができるた
め、実際の反射率特性に於いては、製造誤差を加味して
も、反射率特性０．２％以下が確保できるため、光学系
に用いたときでも極めて高い透過率特性と、ゴースト，
フレアーを少なくすることができる。
て、設計上０．１％以下の反射率を得ることができるた
め、実際の反射率特性に於いては、製造誤差を加味して
も、反射率特性０．２％以下が確保できるため、光学系
に用いたときでも極めて高い透過率特性と、ゴースト，
フレアーを少なくすることができる。
【図１】本発明に係わる反射防止膜の断面図
【図２】従来のＷ型の広帯域反射防止膜反射率特性
【図３】反射防止膜を施したレンズの位置の違いによる
特性シフト図
特性シフト図
【図４】実施例１の表１の反射率特性図
【図５】実施例１の表２の反射率特性図
【図６】実施例２の表３の反射率特性図
【図７】実施例３の表４の反射率特性図
【図８】実施例４の表５の反射率特性図
【符号の説明】 １０１ 成膜される第１層であるＡｌ2Ｏ3 １０２ 成膜される第２層であるＺｒＯ2：ＴｉＯ2＝
６：１の混合物 １０３ 成膜される第３層であるＳｉＯ2 １０４ 成膜される第４層であるＺｒＯ2：ＴｉＯ2＝
６：１の混合物 １０５ 成膜される第５層であるＳｉＯ2 １０６ 成膜される第６層であるＺｒＯ2：ＴｉＯ2＝
６：１の混合物 １０７ 成膜される第７層であるＳｉＯ2 １０８ 成膜される第８層であるＡｌ2Ｏ3 １０９ 成膜される第９層であるＺｒＯ2：ＴｉＯ2＝
６：１の混合物 １１０ 成膜される第１０層であるＭｇＦ2 １１１ Ａｉｒ ｌ１２ 光学用基板（ＢＫ７他）
６：１の混合物 １０３ 成膜される第３層であるＳｉＯ2 １０４ 成膜される第４層であるＺｒＯ2：ＴｉＯ2＝
６：１の混合物 １０５ 成膜される第５層であるＳｉＯ2 １０６ 成膜される第６層であるＺｒＯ2：ＴｉＯ2＝
６：１の混合物 １０７ 成膜される第７層であるＳｉＯ2 １０８ 成膜される第８層であるＡｌ2Ｏ3 １０９ 成膜される第９層であるＺｒＯ2：ＴｉＯ2＝
６：１の混合物 １１０ 成膜される第１０層であるＭｇＦ2 １１１ Ａｉｒ ｌ１２ 光学用基板（ＢＫ７他）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2K009 AA09 BB02 CC03 CC06 4F100 AA00D AA00E AA06C AA19B AA20D AA21E AA27E AT00A BA07 BA11 BA13 BA26 GB41 GB90 JM02B JM02C JM02D JM02E JN01A JN06 JN18B JN18C JN18D JN18E YY00B YY00C YY00D YY00E
Claims (6)
- 【請求項１】 透明な基板上に該基板側から空気側へ順
に第１層，第２層，〜第１０層の誘電体より成る１０層
の薄膜を施した反射防止膜であって、該第２，第４，第
６，第９層の材質の波長５５０ｎｍでの屈折率をＮh、
該第１，第８層の材質の波長５５０ｎｍでの屈折率をＮ
m、該第３，第５，第７，第１０層の材質の波長５５０
ｎｍでの屈折率をＮLとしたとき、 ２．０≦Ｎh １．５≦Ｎm≦１．８ ＮL≦１．４６ を満足することを特徴とする反射防止膜。 - 【請求項２】 前記第ｉ層の光学的膜厚をｎｄｉ、基準
波長をλ0とし、λ0＝５５０ｎｍとおいたとき、 ０．０２λ0≦ｎｄ1≦０．２５λ0 ０．０２λ0≦ｎｄ2≦０．５５λ0 ０．０１λ0≦ｎｄ3≦０．１０λ0 ０．３２λ0≦ｎｄ4≦０．５５λ0 ０．０３λ0≦ｎｄ5≦０．１５λ0 ０．０１λ0≦ｎｄ6≦０．０７λ0 ０．２０λ0≦ｎｄ7≦０．３０λ0 ０．０８λ0≦ｎｄ8≦０．２０λ0 ０．３７λ0≦ｎｄ9≦０．４５λ0 ０．２０λ0≦ｎｄ10≦０．２５λ0 を満たすことを特徴とする請求項１の反射防止膜。 - 【請求項３】 前記第１層の材質はＡｌ2Ｏ3，第１０層
の材質はＭｇＦ2であることを特徴とする請求項２の反
射防止膜。 - 【請求項４】 前記基板の材質の屈折率をＮgとしたと
き １．４≦Ｎg≦１．９ を満たすことを特徴とする請求項２又は３の反射防止
膜。 - 【請求項５】 前記反射防止膜は可視域で波長帯２７０
ｎｍの光に対して反射率が０．１％以下の反射防止効果
があることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項
の反射防止膜。 - 【請求項６】 請求項１から５のいずれか１項の反射防
止膜を施したことを特徴とする光学部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27620399A JP2001100002A (ja) | 1999-09-29 | 1999-09-29 | 反射防止膜及びそれを用いた光学部材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27620399A JP2001100002A (ja) | 1999-09-29 | 1999-09-29 | 反射防止膜及びそれを用いた光学部材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001100002A true JP2001100002A (ja) | 2001-04-13 |
Family
ID=17566132
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27620399A Pending JP2001100002A (ja) | 1999-09-29 | 1999-09-29 | 反射防止膜及びそれを用いた光学部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001100002A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7773301B2 (en) | 2006-01-12 | 2010-08-10 | Fujinon Corporation | Antireflection film |
| EP2128658A3 (en) * | 2008-05-22 | 2011-05-11 | Fujinon Corporation | Reflection reducing film, optical member and optical system |
| JP2011257677A (ja) * | 2010-06-11 | 2011-12-22 | Konica Minolta Opto Inc | 光学素子とその製造方法 |
| US8125714B2 (en) | 2008-02-28 | 2012-02-28 | Pentax Ricoh Imaging Company, Ltd. | Anti-reflection coating, optical member, exchange lens unit and imaging device |
| US8199404B2 (en) | 2007-12-27 | 2012-06-12 | Pentax Ricoh Imaging Company, Ltd. | Anti-reflection coating, optical member, exchange lens unit and imaging device |
| CN103553361A (zh) * | 2013-11-21 | 2014-02-05 | 南通博凯新能源科技有限公司 | 一种Al2O3-SiO2-TiO2无机增透膜的制备方法 |
| EP2708922A2 (en) | 2012-09-14 | 2014-03-19 | Ricoh Imaging Company, Ltd. | Anti-reflection coating, optical member having it, and optical equipment comprising such optical member |
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| JP2017095734A (ja) * | 2015-11-13 | 2017-06-01 | 東洋紡株式会社 | 積層ポリエステルフィルム |
-
1999
- 1999-09-29 JP JP27620399A patent/JP2001100002A/ja active Pending
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| US9201172B2 (en) | 2012-09-14 | 2015-12-01 | Ricoh Imaging Company, Ltd. | Anti-reflection coating, optical member having it, and optical equipment comprising such optical member |
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