JP2826400B2 - 半導体装置の検査方法 - Google Patents
半導体装置の検査方法Info
- Publication number
- JP2826400B2 JP2826400B2 JP3260199A JP26019991A JP2826400B2 JP 2826400 B2 JP2826400 B2 JP 2826400B2 JP 3260199 A JP3260199 A JP 3260199A JP 26019991 A JP26019991 A JP 26019991A JP 2826400 B2 JP2826400 B2 JP 2826400B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor device
- semiconductor
- probe
- inspection method
- aluminum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置の検査方法
に関し、特に組立前におけるペレット状の半導体素子の
検査する方法に関する。
に関し、特に組立前におけるペレット状の半導体素子の
検査する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】通常、半導体装置の電気特性測定に関し
ては、組立前のペレット状の半導体素子の状態で測定が
行なわれていた。これらの半導体素子は、一枚の半導体
ウェーハは縦横並べて形成され、組立前に一つずつプロ
ービング装置で検査され、そして検査後、この半導体素
子は半導体ウェーハより分割分離され、ペレット状の個
片として形成されていた。
ては、組立前のペレット状の半導体素子の状態で測定が
行なわれていた。これらの半導体素子は、一枚の半導体
ウェーハは縦横並べて形成され、組立前に一つずつプロ
ービング装置で検査され、そして検査後、この半導体素
子は半導体ウェーハより分割分離され、ペレット状の個
片として形成されていた。
【0003】このような半導体素子の特性検査には、プ
ロービング装置が使用され、半導体ウェーハ上の半導体
素子の電極パッドに単身と接触させ行われていた。ま
た、一つの半導体素子の電極パットと探針との接触回数
は数十回あり、一枚の半導体ウェーハにある半導体素子
の全てを検査するには、探針の接触回数が数万回に及ぶ
ことがあった。
ロービング装置が使用され、半導体ウェーハ上の半導体
素子の電極パッドに単身と接触させ行われていた。ま
た、一つの半導体素子の電極パットと探針との接触回数
は数十回あり、一枚の半導体ウェーハにある半導体素子
の全てを検査するには、探針の接触回数が数万回に及ぶ
ことがあった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述のように同一の針
で何度もアルミ配線及びバッド等に接触あるいは探針を
立てていると、探針の針先にアルミ等の削りくずが付着
して針先が丸くなってしまい狙った場所に針を立て難く
なったりまたはその都度新しい針に交換しなければなら
ないという手間がかかっていた。
で何度もアルミ配線及びバッド等に接触あるいは探針を
立てていると、探針の針先にアルミ等の削りくずが付着
して針先が丸くなってしまい狙った場所に針を立て難く
なったりまたはその都度新しい針に交換しなければなら
ないという手間がかかっていた。
【0005】本発明の目的は、かかる問題を解消すべ
く、測定用探針の針先を更新させる半導体装置の検査方
法を提供することである。
く、測定用探針の針先を更新させる半導体装置の検査方
法を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、半導体
基板上に複数個が縦横に並べて形成される半導体素子を
もつ半導体装置の前記半導体素子を検査する半導体装置
の検査方法において、前記半導体基板上に並んで形成さ
れているとともに一方向に対し斜めに伸びかつ窒化膜で
覆われる複数の短冊状の凸起物に測定用探針を接触させ
前記一方向に移動する工程を含む半導体装置の検査方法
である。
基板上に複数個が縦横に並べて形成される半導体素子を
もつ半導体装置の前記半導体素子を検査する半導体装置
の検査方法において、前記半導体基板上に並んで形成さ
れているとともに一方向に対し斜めに伸びかつ窒化膜で
覆われる複数の短冊状の凸起物に測定用探針を接触させ
前記一方向に移動する工程を含む半導体装置の検査方法
である。
【0007】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【0008】図1(a)および(b)は本発明の半導体
装置の検査方法の一実施例を説明するための半導体基板
の一部分を示す平面図及び断面図である。である。本発
明は、半導体素子の回路素子が形成される機能面を保護
する絶縁膜が窒化膜である場合は、その窒化膜の硬度が
アルミニュウムのパッドや配線に比べはるかに大きいこ
とに着目して図1に示すように、絶縁膜3に凹凸パター
ン1を形成したことである。
装置の検査方法の一実施例を説明するための半導体基板
の一部分を示す平面図及び断面図である。である。本発
明は、半導体素子の回路素子が形成される機能面を保護
する絶縁膜が窒化膜である場合は、その窒化膜の硬度が
アルミニュウムのパッドや配線に比べはるかに大きいこ
とに着目して図1に示すように、絶縁膜3に凹凸パター
ン1を形成したことである。
【0009】図2(a)及び(b)は図1の半導体装置
の作用を説明するための半導体素子の一部分を示す斜視
図である。上述した凹凸パター1を例えば、短棚状に形
成し、その向きを、図2に示すように探針5の走行方向
に対して斜めに配置すれば、測定時に探針5の移動によ
り、針先に付着するアルミ削りくず4は、凹凸パターン
1aと接触し、図2(b)に示すように、それぞれの凹
凸パターン1にアルミ削りくず4a,4b,4c及び4
dとして分割され、探針5に付着されたアルミ削りくず
4は除去られる。
の作用を説明するための半導体素子の一部分を示す斜視
図である。上述した凹凸パター1を例えば、短棚状に形
成し、その向きを、図2に示すように探針5の走行方向
に対して斜めに配置すれば、測定時に探針5の移動によ
り、針先に付着するアルミ削りくず4は、凹凸パターン
1aと接触し、図2(b)に示すように、それぞれの凹
凸パターン1にアルミ削りくず4a,4b,4c及び4
dとして分割され、探針5に付着されたアルミ削りくず
4は除去られる。
【0010】このように表面に凹凸パターンを形成する
には、公知のリソグラフィ技術で容易に実現できるもの
である。
には、公知のリソグラフィ技術で容易に実現できるもの
である。
【0011】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、半導体素
子面上にアルミ等の金属よりも硬度の高い絶縁膜に凹凸
状のパターンを形成し、針先に付着してしまったアルミ
等の削りくずを凹凸状のパターン上に探針を走行させる
ことによってそぎ取ることができる。従って、本発明に
よれば、信頼性の高い検査ができるという効果がある。
子面上にアルミ等の金属よりも硬度の高い絶縁膜に凹凸
状のパターンを形成し、針先に付着してしまったアルミ
等の削りくずを凹凸状のパターン上に探針を走行させる
ことによってそぎ取ることができる。従って、本発明に
よれば、信頼性の高い検査ができるという効果がある。
【図1】本発明の半導体装置の検査方法の一実施例を説
明するための半導体基板の一部分を示す平面図及び断面
図である。
明するための半導体基板の一部分を示す平面図及び断面
図である。
【図2】図1の半導体装置の作用を説明するための半導
体素子の一部分を示す斜視図である。
体素子の一部分を示す斜視図である。
1 凹凸パターン 2 半導体基板 3 絶縁膜 4,4a,4b,4c,4d アルミ削りくず 5 探針
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 21/66 G01R 31/26
Claims (1)
- 【請求項1】 半導体基板上に複数個が縦横に並べて形
成される半導体素子をもつ半導体装置の前記半導体素子
を検査する半導体装置の検査方法において、前記半導体
基板上に並んで形成されているとともに一方向に対し斜
めに伸びかつ窒化膜で覆われる複数の短冊状の凸起物に
測定用探針を接触させ前記一方向に移動する工程を含む
ことを特徴とする半導体装置の検査方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3260199A JP2826400B2 (ja) | 1991-10-08 | 1991-10-08 | 半導体装置の検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3260199A JP2826400B2 (ja) | 1991-10-08 | 1991-10-08 | 半導体装置の検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05102255A JPH05102255A (ja) | 1993-04-23 |
JP2826400B2 true JP2826400B2 (ja) | 1998-11-18 |
Family
ID=17344712
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3260199A Expired - Lifetime JP2826400B2 (ja) | 1991-10-08 | 1991-10-08 | 半導体装置の検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2826400B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61256642A (ja) * | 1985-05-09 | 1986-11-14 | Nec Corp | 半導体装置 |
JP2737952B2 (ja) * | 1988-09-27 | 1998-04-08 | ソニー株式会社 | 半導体装置 |
-
1991
- 1991-10-08 JP JP3260199A patent/JP2826400B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05102255A (ja) | 1993-04-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7616015B2 (en) | Wafer type probe card, method for fabricating the same, and semiconductor test apparatus having the same | |
US6246252B1 (en) | Efficient debug package design | |
JPH06168991A (ja) | マルチプロービング半導体検査方法 | |
US5508629A (en) | Method and apparatus for inspecting integrated circuit probe cards | |
JP2826400B2 (ja) | 半導体装置の検査方法 | |
JPH10206464A (ja) | プローブ装置 | |
JP3204102B2 (ja) | コンタクトプローブ | |
JP2000074991A (ja) | 半導体チップ用パッケージの良否検査方法及びその装置とこれに用いるプローブピン構造 | |
JP2000171483A (ja) | 半導体検査装置の製造方法 | |
JP2657315B2 (ja) | プローブカード | |
JP3204146B2 (ja) | コンタクトプローブおよびその製造方法、並びにコンタクトプローブを備えたプローブ装置 | |
JP2000055936A (ja) | コンタクタ | |
JPH05206383A (ja) | 半導体ウエハー及びその検査方法 | |
JP3374890B2 (ja) | 半導体チップ検査用プローブの製法 | |
JPH0823013A (ja) | ウエハー用プローバ | |
JP3047361B2 (ja) | プローブニードルの位置検出方法 | |
JP3446636B2 (ja) | コンタクトプローブ及びプローブ装置 | |
JP2003121470A (ja) | プローブの製造方法及びプローブ | |
JPS5918864B2 (ja) | 半導体ウエハ−検査装置 | |
JP3167596B2 (ja) | 半導体素子評価試験用模擬配線パターン及びそれを用いた評価試験方法 | |
JP3853989B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPH0725725Y2 (ja) | 高密度マイクロパッド | |
JPS58100439A (ja) | プロ−バ | |
JPH04152634A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
JPH0252257A (ja) | プローブ装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19980818 |