JP2715359B2 - フレキシブル磁気記録ディスク及びその製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、高密度磁気記録媒体に
関し、特に、高容量のデータ記録用の磁気ディスクに適
した耐久性に優れたフレキシブル磁気記録ディスクに関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録技術は、媒体の繰り返し使用が
可能であること、信号の電子化が容易であり周辺電子機
器との組み合わせによるシステムの構築が可能であるこ
と、信号の修正も簡単にできること等の他の記録方式に
はない優れた特長を有することから、ビデオ、オーディ
オ、コンピューター用途等を始めとして様々な分野で幅
広く利用されてきた。そして、機器の小型化、記録再生
信号の高品位化、記録の長時間化、記録容量の増大等の
要求に対応するために、記録媒体に対しては記録密度の
より一層の向上が常に望まれてきた。そして、塗布型の
磁気記録媒体においては、強磁性粉末の粒子サイズを小
さくしたり、その分散性を向上させたり、その磁性層中
での充填度を高めたりする方策が種々提案されているさ
らに有効な手段として、磁気特性の優れた強磁性金属粉
末や六方晶フェライトなどを用いることも行われてい
る。

【０００３】また、ＯＡ機器としてのミニコン、パソコ
ンの普及にともない外部記憶媒体としての磁気記録ディ
スクの普及が著しく、磁気記録ディスクの使用頻度が広
がって、温度湿度に関し、幅広い環境条件で使用・保存
され、また使用環境の塵埃も多い場所で使用されるよう
になってきた。特に、記録の大容量化、小型化を達成す
るために記録密度の向上が強く要望されているが、従来
のような針状強磁性粉末を用いて高密度記録に適する磁
気記録媒体を得るには、針状強磁性粉末の最大寸法を記
録波長、あるいは記録ビット長よりも十分小さくする必
要がある。現在、針状強磁性粉末として０．３μｍ程度
の寸法のものがすでに実用に供されており、最短記録波
長約１μｍ以下が可能になっている。

【０００４】今後さらに高密度の記録が可能な媒体を得
るには、針状強磁性粉末の寸法をなお一層小さくする必
要がある。しかしそのような小さな針状強磁性粉末にお
いては、太さが１００Å以下と極めて細くなり、粒子体
積としても１０^-17 ｃｍ³ 以下と極めて小さくなるた
め、熱擾乱、表面の効果によって磁気特性が低下し、又
磁性塗膜に磁界を加えても十分な配向が得られない等の
問題がある。

【０００５】高密度記録に対応する強磁性粉末として、
これまで強磁性金属粉末が検討されてきており、また近
年平板状で板面に垂直な方向に磁化容易軸を有する六方
晶系フェライト粒子を強磁性粉末として用いる磁気記録
媒体が開発された（例えば、特開昭５８−６５２５号、
同５８−６５２６号等）。これらによって、強磁性粉末
の平均粒径は０．０５μｍ以下が可能となり、高密度記
録化が可能となった。

【０００６】さらに高密度記録のため大幅な狭トラック
幅が要求されてきている。これらの要求を満たすため磁
気ディスクにおいても高出力や高記録密度が期待できる
強磁性金属粉末や強磁性六方晶系フェライト粉末の使用
が検討されており、サイズの小型化や媒体の記録密度の
向上の要求に応えるべく鋭意開発、実用化が検討されて
いる。特に高記録密度およびオーバーライト電磁変換特
性の向上として磁性層の薄層化、高出力が望まれ、薄層
化に伴い走行耐久性の大幅劣化が懸念されている。

【０００７】即ち、通常、フロッピーディスク等のコン
ピューター用途の磁気記録媒体においては、磁気波長の
異なる記録信号の重ね書き（オーバーライト）が必要で
あるが、従来は、周波数で２倍の関係にある２種類の信
号、１ｆ及び２ｆ信号のオーバーライトができれば良か
ったが、最近強く要望されている１０Ｍバイト以上の高
容量の磁気記録ディスクに対しては、記録波長が短くな
っただけではなく、ＲＬＬ信号などの周波数比３：８の
より広帯域にある複数の信号のオーバーライトが要求さ
れている。記録波長が短く、記録周波数の差が大きい信
号を使用した場合、記録波長の短い信号を記録波長が長
い信号の上に重ね書き（オーバーライト）をうまく行う
ためには、特開昭５８−１２２６２３号公報、特開昭６
１−７４１３７号公報等に開示されているように、単に
磁性層の磁気特性を向上させるだけでは限界があった。

【０００８】すなわち、今までの１．０μｍ以上の厚さ
の磁性層では、先に記録されているより長い波長の記録
信号の上により短い記録信号を重ね書きしても磁力線が
磁性層の深いところまで達しないために、先に記録され
たより長い波長の信号が消去できないのである。また、
記録密度の向上にともない記録ヘッドのギャップが狭く
なってきている。これにともない、媒体の厚味方向への
十分な記録が困難になってきている。

【０００９】そこで、上記問題を解消するために磁性層
を１μｍ以下に薄くすると磁性層は剥離し易くなり、ド
ロップアウトの発生要因となる等走行耐久性が確保でき
ず、信頼性が低下するという問題が起こった。従って、
前記の高密度記録化に対応し得る磁気記録媒体を提供す
るためには、特に再生出力の向上およびオーバーライト
特性の確保および走行耐久性が大きな問題となってき
た。

【００１０】また、磁気記録媒体の走行時の帯電は、塵
埃の付着によるドロップアウト数の増大を招き、特にデ
ータ記録用の磁気記録媒体の場合は、それによるエラー
・レートが致命的な欠陥となった。この帯電の問題を改
良するために、磁性層中に帯電を防止するための添加物
を加える方法が通常取られており、中でもカーボンブラ
ックを添加する方法が最も有効であり、広く採用されて
いる。しかしながら、前記の高密度記録用の磁気記録媒
体にあっては、カーボンブラックの添加は、磁性体充填
度を下げる出力の低下を招くので、その添加量に限界が
あり、帯電防止への充分な対処ができなかった。

【００１１】前記の帯電の防止、高出力化と耐久性の向
上を満足させるための種々提案が開示されている。（特
開昭５５−５５４３１号、特開昭５５−５５４３２号、
特開昭５５−５５４３３号、特開昭５５−５５４３４
号、特開昭６０−１６４９２６号、特開昭５５−５５４
３６号、特開昭６２−３８５２３号、特開昭６２−１５
９３３７号公報等） 即ち、磁性層と支持体の間に中間層を設けるものである
が、中間層にカーボンブラックと結合剤樹脂を塗布し、
その後その上に磁性層を形成しようとするものである。

【００１２】しかしながら、この方法をもってしても前
記の高密度記録の磁気記録媒体にあっては、優れた電磁
変換特性、すなわち高再生出力、オーバーライト特性、
更には十分な走行耐久性を確保することはできなかっ
た。高容量かつ高出力の電磁変換特性を得るために、特
に磁性層を薄層化することが提案されている。例えば、
以下の開示例を列挙できる。 １）特開昭５７−１９８５６３号公報 予め磁性層の下に粉体を含まない樹脂層を塗布した後、
極薄の磁性層を塗布して自己減磁を低減しようとする試
みを開示している。

【００１３】しかし、この方法では、磁性層の表面性が
十分でなく、また、樹脂層の厚みが厚くなると樹脂の収
縮によるカールが顕著になるという問題があった。 ２）特開昭６２−１５４２２５号公報 非磁性層厚みを磁性層厚みより厚くして磁性層厚を低減
する方法が提案されている。この磁気記録媒体では歩留
りが非常に悪く、また製造工程も複雑でその実用性に問
題があった。 ３）特開昭６３−１８７４１８号公報 下層の非磁性層と上層の磁性層を湿潤状態で同時重層塗
布することにより、２μｍ以下の磁性層を得る方法が記
載されている。この方法によれば、磁性層を１μｍ以下
にも薄くすることができ、しかも表面性も比較的優れた
磁性層を得ることができ、電磁変換特性の優れた磁気記
録媒体を得ることができる。しかしながら、この方法を
使用しても薄膜型磁気記録媒体に比較すると、まだ電磁
変換特性は不十分であり、今後の記録密度の向上の要求
に十分に応えるものではなかった。

【００１４】また、走行耐久性を改善するために研磨剤
粒子を使用する様々な手段が開示されてきている。その
例を以下に示す。 ４）特開昭６０−９３６３１号公報 研磨剤粒子の磁性層表面に存在密度を１００μｍ² 当た
り２０個以上、粒径が強磁性粉末の１．５倍以下のもの
を使用することが提案されている。しかし、このことは
ビデオテープには有効であるが、フロッピーディスク等
の磁気記録ディスクでは全く走行耐久性が付与できな
い。 ５）特開昭６１−５７０３６号公報 表面研磨剤個数が０．２５個／μｍ² 以上必要と述べて
いるが、このように多量の研磨剤を表面に存在させた場
合耐久性は向上するが、電磁変換特性は、高記録密度に
適さないものである。 ６）特開昭５８−８５９３１号公報 粒子サイズの異なる２種類の研磨剤を使用することが開
示されているが、高記録密度媒体に対し、単にサイズの
異なる研磨剤を２種用いてもフロッピーディスク等のデ
ィスク媒体では耐久性と高出力を両立することは困難で
ある。

【００１５】以上のように走行耐久性と電磁変換特性を
両立させることは困難であり、この要請に対し有効な解
決手段が望まれている。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来技
術の問題点に鑑みなされたものであって、電磁変換特性
が良好で、かつ走行耐久性の優れた高密度フレキシブル
磁気記録ディスクを提供することを目的としている。

【００１７】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、非磁性
支持体上に非磁性粉末及び結合剤樹脂を主体とする非磁
性層並びに強磁性粉末及び結合剤樹脂を主体とする磁性
層が、この順で形成されている磁気記録ディスクにおい
て、該磁性層の厚さは１．０μｍ以下であり、かつ非磁
性層の厚さの１／２以下であって、前記磁性層中に含有
される研磨剤粒子は、モース硬度が６以上であって前記
強磁性粉末の平均粒径の０．８０〜１．４０倍の平均粒
径を有する第１の研磨剤とモース硬度が６以上であって
前記強磁性粉末の平均粒径の２．０〜４．０倍の平均粒
径を有する第２の研磨剤からなり、前記強磁性粉末は、
少なくとも強磁性金属粉末及び強磁性六方晶フェライト
粉末から選択され、かつ前記磁性層上における前記研磨
剤粒子の存在密度は、０．１６〜０．２４個／μｍ ² で
あることを特徴とするフレキシブル磁気記録ディスク、
並びに前記非磁性支持体上に非磁性層用塗布液を塗布し
て形成された前記非磁性層が湿潤状態にある内に、その
上に磁性層用塗布液を塗布し、次いで乾燥を行い、さら
に表面成形処理を施す前記フレキシブル磁気記録ディス
クの製造方法、及び前記第１の研磨剤粒子を前記強磁性
粉末と共に前記結合剤樹脂溶液中で分散処理を施した後
に、前記第２の研磨剤粒子を添加することにより前記磁
性層用塗布液を形成する前記フレキシブル磁気記録ディ
スクの製造方法により達成される。

【００１８】本発明においては、前記強磁性粉末が強磁
性金属粉末であることが好ましい。本発明では磁性層厚
さを１．０μｍ以下であって、非磁性層厚さの１／２、
好ましくは１／３以下にすると共に研磨剤粒子として、
強磁性粉末の平均粒径（最も長い径の平均を意味する）
の０．８０〜１．４０倍、好ましくは０．８５〜１．３
倍の研磨剤（即ち、第１の研磨剤）と強磁性粉末の平均
粒径の２．０〜４．０倍、好ましくは２．３〜３．６倍
の研磨剤（即ち、第２の研磨剤）からなる２種類のモー
ス硬度が共に６以上、好ましくは７以上の研磨剤を用い
かつ磁性層上における前記研磨剤粒子の存在密度を０．
１６〜０．２４個／μｍ ² とすることにより、磁性層中
の強磁性粉末の充填密度を低下させることなく、表面性
の優れた磁性層厚さが１．０μｍ以下、好ましくは０．
８μｍ以下、最も好ましくは０．５μｍ以下と非常に薄
い磁性層を有するフレキシブル磁気記録ディスク（以
下、単に磁気ディスクとも言う）であって、電磁変換特
性に優れ、しかも薄層にもかかわらず高耐久性磁気ディ
スクを得ることができる。

【００１９】この本発明の作用効果を簡単に説明する
と、以下のようである。本発明の磁性層及び非磁性層の
厚みを上記の通り限定することにより、自己減磁損失を
低減すると共に重ね書き特性等の電磁変換特性を確保
し、かつ磁気ヘッドの磁気ディスクへの当たりを緩和す
ると共に磁性層の剥離を抑制するものである。

【００２０】また、研磨剤のサイズを強磁性粉末の平均
粒径に関連ずけて規定して２種類のサイズ分布を有する
研磨剤に限定することにより、主としてサイズの小さな
第１の研磨剤により磁性層の機械的強度を確保すると共
に磁性層表面近傍の研磨剤、特にサイズの大きな研磨剤
の存在分布が特定の範囲に制御でき、ひいてはその磁性
層表面に主として第２の研磨剤を適性に点在させること
ができ、そのスパイク的な効果により走行耐久性を改善
することができるものと考えられる。

【００２１】 即ち、サイズの異なる２種の研磨剤を用
いる効果として、強磁性粉末の平均粒径の０．８０倍〜
１．４０倍の第１の研磨剤の効果は、無機質の塗膜での
充填効果によるものと推定され、磁性層膜自身が強固に
なる。さらに強磁性粉末の平均粒径の２．０倍〜４．０
倍の第２の研磨剤は、好ましくは第１の研磨剤を分散さ
せた後で加える事等により、磁性層充填密度を低下させ
る事なく効率良く表面に存在せしめ、磁気ディスクの耐
久性を付与することができる。

【００２２】本発明における第１の研磨剤と第２の研磨
剤の配合割合は、第２の研磨剤を第１の研磨剤及び第２
の研磨剤の総和に対し５０重量％以下、更に好ましくは
１〜４０重量％の範囲である。以下、第１の研磨剤と第
２の研磨剤の両者を指す場合は単に研磨剤と言う。本発
明においては、磁性層上における研磨剤粒子の存在密度
を０．１６〜０．２４個／μｍ² に制御する。ここで、
「磁性層上における研磨剤粒子の存在密度」とは、磁性
層表面において研磨剤粒子の全体が結合剤樹脂の平均レ
ベルに埋設されないで、該レベルから突出した部分のあ
る研磨剤粒子の存在密度を意味し、具体的には後述のプ
ラズマ処理等により突出した部分のある研磨剤粒子表面
を覆う結合剤を除いた後の露出した研磨剤粒子の存在密
度を指す。以下、このプラズ処理法について説明する。

【００２３】通常のプラズマリアクターを用い、発信周
波数１３．５６ＭＨｚの高周波電力を反応部に供給し、
反応部を２０〜３０Ｐａ（パスカル）の真空度の状態に
おいてＯ₂ を３０ｍｌ／分流入し、出力インピーダンス
５０Ω、電力２０Ｗの条件で５〜４０分間プラズマ処理
し、高周波供給電極に加えられた高周波エネルギーによ
りＯ₂ がプラズマ状態となり、このプラズマＯ₂ が磁性
層表面の結合剤樹脂を含めた有機物を除去する。

【００２４】次に、上記サンプルを乾燥後、電子顕微鏡
で表面撮影を２０００〜１００００倍で行い、表面の研
磨剤粒子をカウントする。１サンプルにつき、通常５０
００倍撮影を４〜１０箇所行い。その合計から数量を算
出する。プラズマ処理後におけるこれらの研磨剤粒子の
存在密度は、０．１６〜０．２４個／μｍ² が好まし
く、更に好ましくは０．１８〜０．２３個／μｍ² であ
る。０．１６個／μｍ² より少ないと十分な耐久性が得
られず、又０．２４個／μｍ² より多すぎると短波長記
録周波数の出力が低下し好ましくない。

【００２５】また、この磁性層上の研磨剤粒子のうち第
２の研磨剤粒子数は、その研磨剤粒子数全体の１０％以
上、好ましくは１５〜７０％が良い。また、磁性層上の
研磨剤粒子の突出部の高さは、０．００１〜０．４μ
ｍ、好ましくは０．０１〜０．３μｍの範囲である。磁
性層表面近傍の研磨剤粒子を０．１６〜０．２４個／μ
ｍ² の範囲にするための方法は、基本的には磁性層と非
磁性層の厚さの関係、研磨剤の上記強磁性粉末とのサイ
ズの関係を最低満足することが必要であるが、更に上記
範囲を確実にするために種々の手段を併用することが好
ましい。単に磁性層塗布液中の研磨剤粒子量、特に第２
の研磨剤粒子量を増加するのみでは前述した如く、充填
密度の低下を招くからである。以下、該手段を具体的に
説明する。

【００２６】第１の研磨剤粒子を強磁性粉末と共に結
合剤樹脂溶液中で分散処理を施した後に、第２の研磨剤
粒子を添加することにより磁性層用塗布液を形成するこ
と。第１の研磨剤を結合剤樹脂、強磁性粉末等と共に例
えばニーダー等を使用して先ず十分に混練、分散してお
き、しかる後に第２の研磨剤をこの分散物に添加し、分
散させる。このようにすることにより第１の研磨剤を磁
性層中に均一に分布させ、かつ第２の研磨剤を磁性層上
に適度に分布させることができる。

【００２７】研磨剤の磁性層塗布液調製における具体的
な分散方法を挙げれば、第１の研磨剤粒子を結合剤樹
脂、強磁性粉末、更に必要に応じてカルボキシルキ基等
を有する化合物等の添加剤を少量の結合剤樹脂用の溶剤
と共に、加圧ニーダー、オープンニーダー、連続ニーダ
ー等の混練機により０．５乃至５時間充分に混練処理し
て、しかる後に、その混練物中に、更に溶剤を追加し
て、サンドミル、ディスパー、高速ミキサー等の分散処
理機を使用して、０．５乃至５時間分散処理（この処理
の初めもしくは中途の所望の時期に第２の研磨剤を添
加、分散する）を行って、第１の研磨剤を第２の研磨剤
が導入される前に磁性塗布液中に均一に分布させる。

【００２８】従来の乾燥条件より更に徐乾燥するこ
と。徐乾燥により、分散溶剤を含有した磁性層塗布液が
非磁性支持体上に設置され静止状態の時間が長くなり、
塗布液中の研磨剤粒子、特に第２の研磨剤が溶剤のゆっ
くりとした蒸発とともに磁性層表面に存在し易くなる。
特に非磁性層、磁性層をウエット・オン・ウエット塗布
方式で作成する場合に有効である。

【００２９】この徐乾燥条件としては、具体的には、連
続または断続した温度環境下に所定時間晒すことが挙げ
られる。具体的には、２０〜１２０℃の温度に搬送速度
５０〜８００ｍ／分で３〜１２０秒通すことが挙げられ
る。 磁性層塗布液の粘度を比較的低粘度、即ち分散溶剤を
多くすること 乾燥条件との組み合わせでの方法と同じメカニズムで
第２の研磨剤粒子を磁性層表面近傍に多く存在させるこ
とが可能となる。

【００３０】この磁性層塗布液の粘度としては、５〜１
００００センチポイズ、好ましくは２０〜１０００セン
チポイズが挙げられる。 比較的比重の軽い研磨剤を選択的に使用するかもしく
は、比表面積の比較的大きい研磨剤あるいはこれらの物
性を組み合わせた研磨剤を用いること 例えば、第１の研磨剤としては、Ｃｒ₂ Ｏ₃ 、Ａｌ₂ Ｏ
₃ 等が挙げられ、第２の研磨剤としては、Ａｌ₂ Ｏ₃ 等
が例示される。比表面積としては、好ましくは１〜３０
ｍ² ／ｇが挙げられる。

【００３１】塗布後のカレンダー処理においてカレン
ダー圧力、温度を緩和すること 塗布後に磁性層上に存在している研磨剤を磁性層中に押
し込むことを少なく抑えることができる、特にこの方法
は非磁性層、磁性層の同時重層塗布品に対し有効な手段
となる。カレンダーの圧力条件としては、線圧５０〜５
００ｋｇ／ｃｍ、好ましくは１００〜４００ｋｇ／ｃ
ｍ、温度２０〜１３０℃、好ましくは４０〜１２０℃の
範囲を挙げることができる。

【００３２】本発明の磁気ディスクは、基本的には非磁
性支持体の上に非磁性層、その上に磁性層が積層された
構造のものであれば、特にその製造方法は制限されない
が、非磁性支持体上に非磁性層用塗布液を塗布して形成
された前記非磁性層が湿潤状態にある内に、その上に磁
性層用塗布液を塗布（即ち、ウエット・オン・ウエット
塗布）し、次いで乾燥を行い、さらに表面成形処理を施
すことにより製造することが磁性層の厚さを均一かつピ
ンホール等の塗布欠陥を防止して歩留りよく生産し、か
つ非磁性層と磁性層との密着性を高めて磁性層の剥離を
防止する上でも好ましい。

【００３３】ウエット・オン・ウエット塗布方式は、非
磁性層用塗布液の塗布層が湿潤状態であれば、磁性層用
塗布液の塗布は非磁性層用塗布液の塗布と同時でも逐次
でもかまわない。本発明では、特開昭６２−２１２９３
３号に示されるような同時重層塗布方式を用いることに
より、より効率的に生産することができる。本発明のよ
うな重層構成の磁気記録媒体を塗布する装置、方法の例
として以下のような構成が挙げられる。 １．磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず非磁性層を塗布し、非磁性層がウ
エット状態のうちに特公平１−４６１８６号や特開昭６
０−２３８１７９号、特開平２−２６５６７２号の各公
報に開示されている支持体加圧型エクストルージョン塗
布装置により磁性層を塗布する方法。 ２．特開昭６３−８８０８０号、特開平２−１７９２１
号、特開平２−２６５６７２号の各公報に開示されてい
るような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布
ヘッドにより磁性層及び非磁性層をほぼ同時に塗布する
方法。 ３．特開平２−１７４９６５号公報に開示されているバ
ックアップロール付きエキストルージョン塗布装置によ
り磁性層及び非磁性層をほぼ同時に塗布する方法。

【００３４】なお、強磁性粉末の凝集による磁気記録媒
体の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開昭６２
−９５１７４号や特開平１−２３６９６８号に開示され
ているような方法により塗布ヘッド内部の塗布液に剪断
を付与することが望ましい。表面成形処理としては、カ
レンダー処理が挙げられ、カレンダ処理ロールとしてエ
ポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等
の耐熱性のあるプラスチックロールが使用される。ま
た、金属ロール同志で処理することもできる。処理条件
は、上記磁性層上の研磨剤存在密度制御手段の範囲が
好ましい。

【００３５】また、本発明は磁性層厚みが１．０μｍ以
下、好ましくは０．８μｍ以下、最も好ましくは０．５
μｍ以下の薄層であるためデジタル記録特有のオーバー
ライト特性が大幅に向上できることとなる。線記録密度
が高くなればなるほど、すなわち記録波長が短くなれば
なるほどその磁性層厚みの効果は発揮される。また、こ
の様な高記録密度薄層磁気ディスクにおいて前記の如く
強磁性粉末としては強磁性金属粉末が適しており、円周
均一で安定な再生出力が得られることが必要とされ、そ
のために配向度比が少なくとも０．８５以上が望まれ
る。ここで、配向度比とは、円周方向の最小角型比を最
大角形比で除した値である。

【００３６】配向度０．８５以上を達成するためには、
磁性層が未乾燥の状態にあるところで、特公平３−４１
８９５の如く、永久磁石を使用したランダム配向法もし
くは特開昭６２−９２１３２、特開昭６３−１４８４１
７、特開平１−３００４２７、特開平１−３００４２８
の如く、交流磁場配向を印加する方法等が挙げられる。

【００３７】 以上のように本発明の好ましい態様は、
非磁性支持体上に非磁性粉末及び結合剤樹脂を主体とす
る非磁性層と、その上に同時重層で強磁性粉末及び結合
剤樹脂を主体とする厚みが０．８μｍ以下の磁性層を設
けた高密度磁気ディスクであって、その磁性層上に存在
するモース硬度６以上の研磨剤粒子数が０．１６〜０．
２４個／μｍ² で、かつ研磨剤が強磁性粉末の平均粒径
の０．８０〜１．４０倍の第１の研磨剤と強磁性粉末の
平均粒径の２．０〜４．０倍の第２の研磨剤からなり、
かつこれら研磨剤のうち該第２の研磨剤が磁性層上に１
５〜７０％分布する磁気ディスクであり、これにより高
密度で電磁変換特性が良好で、かつ走行耐久性の優れた
高密度磁気記録を行うことができる。

【００３８】本発明の磁性層に用いられる研磨剤として
は、一般に使用される材料で溶融アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム（Ｃｒ₂ Ｏ₃ ）、コランダム、人造コラ
ンダム、ダイヤモンド、人造ダイアモンド、ザクロ石、
エメリー（主成分：コランダムと磁鉄鉱）等が使用され
る。これらの研磨剤はモース硬度が６以上である。具体
的な例としては、住友化学社製：ＨＩＴ５０、ＨＩＴ５
５、ＨＩＴ６０、ＡＫＰ−１０、ＡＫＰ−１２、ＡＫＰ
−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０、
ＡＫＰ−１５２０、ＡＫＰ−１５００、日本化学工業社
製：Ｇ５、Ｇ７、Ｓ−１、酸化クロムＫ、村上工業社製
ＵＢ４０Ｂ、不二見研磨剤社製ＷＡ８０００、ＷＡ１０
０００、戸田工業社製ＴＦ−１８０などがあげられる。

【００３９】これらの研磨剤は使用する強磁性粉末の平
均粒径に応じて選定する。平均粒径が０．０５〜３μｍ
の大きさのものが効果があり、好ましくは０．１〜１．
５μｍである。これらの研磨剤は強磁性粉末１００重量
部に対して第１の研磨剤は、１〜２０重量部、好ましく
は６〜１５重量部、第２の研磨剤は、０．１〜５重量
部、好ましくは０．２〜０．４重量部の範囲で添加する
のが望ましい。全体の研磨剤量としては、５〜２２重量
部の範囲で添加され、５重量部より少ないと十分な耐久
性が得られず、また２２重量部より多すぎると表面性、
充填度が劣化し、十分な出力が得られない。

【００４０】本発明の磁気記録媒体において、磁性層に
含まれる強磁性粉末は、酸化鉄系強磁性粉末、強磁性金
属粉末もしくは強磁性六方晶系フェライト粉末等が使用
できるが、中でも高密度記録用の磁気記録媒体に適した
粒子サイズの小さい強磁性金属粉末が好ましい。強磁性
粉末が強磁性金属粉末の場合、その粒子サイズは、望ま
しくは比表面積は３０〜８０ｍ² ／ｇであって、Ｘ線回
折法から求められる結晶子サイズが１００〜３００Åで
ある。比表面積が余り小さいと高密度記録に充分に対応
できなくなり、又余り大きくても分散が充分に行えずに
平滑な面の磁性層が形成できず、これまた高密度記録に
対応できなくなるので好ましくない。

【００４１】ここで、結晶子サイズは、（１，１，０）
面と（２，２，０）面の回折線の半値巾の広がりから求
められる。前記強磁性金属粉末は、好ましくは少なくと
もＦｅを含む粉末が挙げられ、具体的には、Ｆｅ、Ｆｅ
−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ又はＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏを主体とした
金属単体あるいは合金がある。本発明の磁気記録媒体を
高記録密度化するために、前記のように粒子サイズが小
さいことが必要であると同時に磁気特性としては、飽和
磁化( σ_S ) は少なくとも１１０ｅｍｕ／ｇ以上、望ま
しくは１２０ｅｍｕ／ｇ以上である。又、抗磁力として
は、８００Ｏｅ（エルステッド）以上、望ましくは９０
０Ｏｅ以上である。そして、透過型電子顕微鏡により求
められる該粉末の長軸長（即ち、平均粒径）は、０．５
０μｍ以下、好ましくは、０．１０〜０．３５μｍで軸
比（長軸長／短軸長）は５以上、好ましくは２０以下、
更に好ましくは６〜１５が適している。

【００４２】更に特性を改良するために、組成中にＢ、
Ｃ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ等の非金属が添加されることもあ
る。通常、前記金属粉末の粒子表面は、化学的に安定さ
せるために酸化物の層が形成されている。酸化物の形成
方法としては、公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に
浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち
酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち
乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガ
スの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のい
ずれを施したものでも用いることができる。

【００４３】強磁性六方晶系フェライト粉末の場合、比
表面積は２５〜８０ｍ² ／ｇであって、板状比（板径／
板厚）が２〜３０、板径が０．０２〜１．０μｍであ
る。強磁性金属粉末と同じ理由からその粒子サイズが大
きすぎても小さすぎても高密度記録が難しくなる。前記
強磁性六方晶系フェライト粉末としては、平板状でその
平板面に垂直な方向に磁化容易軸がある強磁性粉末であ
って、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライ
ト、鉛フェライト、カルシウムフェライトあるいはそれ
らのコバルト置換体等があり、中でも特にバリウムフェ
ライトのコバルト置換体、ストロンチウムフェライトの
コバルト置換体が好ましい。更に必要に応じてその特性
を改良するためにＩｎ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｖ等の元素
を添加してもよい。本発明の磁気記録媒体を高記録密度
化するために、前記六方晶系フェライト粉末の粒子サイ
ズを前記のように小さいことが必要であると同時に磁気
特性としては、飽和磁化( σ_S ) は少なくとも５０ｅｍ
ｕ／ｇ以上、望ましくは５３ｅｍｕ／ｇ以上である。又
抗磁力としては、５００Ｏｅ以上、６００Ｏｅ以上であ
ることが望ましい。六方晶系フェライト粉末は、長波長
記録の場合は出力は他の磁性粒子に比例して低めではあ
るが高周波帯域の記録波長が１．５μｍ以下、好ましく
は１．０μｍ以下の短波長記録となると、他の磁性粒子
よりもむしろ高出力が期待できるという特徴がある。

【００４４】尚、飽和磁化量及び抗磁力等の強磁性粉末
の磁気特性は、振動試料型磁束計（東英工業社製）を用
いて最大印加磁場１０ｋＯｅで測定した。また比表面積
の測定はカンターソープ（米国、カンタークロム社製）
を用いたＢＥＴ法によるものである。２５０℃、３０分
間窒素雰囲気で脱水後ＢＥＴ一点法（分圧０．３０）で
測定した値である。

【００４５】これら強磁性粉末の含水率は、０．０１〜
２重量％とするのが好ましい。含水率は結合剤樹脂の種
類によって最適化するのが好ましい。強磁性粉末のｐＨ
も用いる結合剤樹脂との組み合わせにより最適化するの
が好ましい。その範囲は４〜１２であるが、好ましくは
５〜１０である。強磁性粉末は必要に応じ、Ａｌ、Ｓ
ｉ、Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処理を施しても
かまわない。その量は強磁性粉末に対し０．１〜１０％
であり表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が１
００ｍｇ／ｍ² 以下になり好ましい。強磁性粉末には可
溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオン
を含む場合があるが、５００ｐｐｍ以下であれば特に特
性に影響を与えない。

【００４６】強磁性粉末としては、所望により酸化鉄強
磁性粉末を使用してもよく、ＢＥＴ法による比表面積で
表せば、２５〜８０ｍ² ／ｇであり、好ましくは３５〜
６０ｍ² ／ｇである。２５ｍ² ／ｇ以下ではノイズが高
くなり、８０ｍ² ／ｇ以上では表面性が得にくく好まし
くない。結晶子サイズは４５０〜１００オングストロー
ムであり、好ましくは３５０〜１００オングストローム
である。σ_S は５０ｅｍｕ／ｇ以上、好ましくは７０ｅ
ｍｕ／ｇ以上である。

【００４７】これらの強磁性粉末にはあとで述べる分散
剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあ
らかじめ処理を行ってもかまわない。具体的には、特公
昭４４−１４０９０号等に記載されている。本発明の磁
気記録媒体の非磁性層は、非磁性粉末及び結合剤樹脂を
主体とするものである。非磁性粉末は、無機質粉末及び
有機質粉末を包含し、無機質粉末を少なくとも含むこと
が好ましく、かつカーボンブラックを含むことが好まし
い。

【００４８】該カーボンブラックは、磁気記録媒体に導
電性を付与して磁気記録媒体の帯電を防止するために有
効であると共に磁性層と非磁性層のヤング率等の力学的
特性を調整するための素材としても使用される。また、
カーボンブラックは、非磁性層用塗布液の粘弾性特性を
調整する機能も有する。更に、カーボンブラックは、摩
擦係数の調整、遮光性付与等種々の機能を有する。従っ
て、上記と同様の主旨でカーボンブラックは磁性層にも
含ませることが好ましい。

【００４９】非磁性層におけるカーボンブラックの含有
量は、非磁性層に含まれる非磁性粉末全量の好ましくは
３〜２０重量％の範囲である。磁性層におけるカーボン
ブラックの含有量は、磁性層に含まれる強磁性粉末の好
ましくは０．１〜２０重量％の範囲である。本発明の磁
気記録媒体は、ウエット・オン・ウエット塗布方式を使
用することが好ましいが、ウエット・オン・ウエット方
式で留意すべきこととして、塗布液の粘弾性特性（チク
ソトロピック性）がある。即ち、磁性層と非磁性層の塗
布液の粘弾性特性の差が大きいと塗布した際に、磁性層
塗布層と非磁性層塗布層の界面で液の混じり合いが起こ
り、本発明のように磁性層の厚さが非常に薄い場合、磁
性層の表面性が低下する等の問題を起こし易い。

【００５０】塗布液の粘弾性特性をできるだけ近づける
ためには、まず、磁性層と非磁性層の分散粒子を同一に
することが効果的であるが、本発明の場合は、それがで
きないので、磁性層の塗布液中で強磁性粉末が磁性によ
り形成されるストラクチャー構造がもたらす構造粘性と
合わせるために、下層の非磁性層塗布液の非磁性粒子と
してカーボンブラックのように構造粘性を形成し易い粒
子を使用することが望ましい。そのために本発明におい
て、吸油量が大きく且つ粒子サイズの小さいカーボンブ
ラックを使用することが有効であるが、同時にカーボン
ブラック以外の粒子サイズの小さい非磁性無機質粉末を
使用することも有効である。例えば、１μｍ以下の酸化
チタン、酸化アルミ等の粒子では、適度な凝集により粒
子の構造粘性を有した塗布液となり易い。

【００５１】本発明の磁性層、非磁性層に使用すること
ができるカーボンブラックとしては、ゴム用ファーネ
ス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブ
ラック、等を用いることができる。比表面積は５〜５０
０ｍ² ／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜１５００ｍｌ／１０
０ｇ、粒子径は５ｍμ〜３００ｍμ、ｐＨは２〜１０、
含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／
ｃｃが好ましい。本発明に用いられるカーボンブラック
の具体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫＰＥ
ＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、９００、８
００、、７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、旭カーボ
ン社製、＃８０、＃６０、＃５５、＃５０、＃３５、三
菱化成工業社製、＃３９５０、＃２４００Ｂ、＃２３０
０、、＃９００、＃１０００、＃３０、＃４０、＃１０
Ｂ、コロンビアカーボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ Ｓ
Ｃ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０、４０、１５、ライオン
アグゾ社製ケッチェンブラックＥＣ、ケッチェンブラッ
クＥＣＤＪ−５００、ケッチェンブラックＥＣＤＪ−６
００などが挙げられる。

【００５２】カーボンブラックを分散剤などで表面処理
したり、樹脂でグラフト化して使用しても表面の一部を
グラファイト化したものを使用しても構わない。また、
カーボンブラックを、磁性塗料、非磁性塗料に添加する
前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これら
のカーボンブラックは単独、または組み合わせて使用す
ることができる。

【００５３】カーボンブラックは、上述したように帯電
防止、膜強度向上、摩擦係数低減、遮光性付与、などの
働きがあり、これらは用いるカーボンブラックによって
異なる。従って、本発明に使用されるカーボンブラック
は、非磁性層、磁性層でその種類、量、組合せを変え、
粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸
特性をもとに目的に応じて使い分けることができる。本
発明で使用できるカーボンブラックは例えば（「カーボ
ンブラック便覧」、カーボンブラック協会編）を参考に
することができる。

【００５４】本発明の非磁性層に使用できる非磁性無機
質粉末は、例えば、金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金
属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等が挙
げられる。具体的にはＴｉＯ₂ （ルチル、アナター
ゼ）、ＴｉＯ_X 、酸化セリウム、酸化スズ、酸化タング
ステン、ＺｎＯ、ＺｒＯ₂ 、ＳｉＯ₂ 、Ｃｒ₂ Ｏ₃ 、α
化率９０％以上のるαアルミナ、βアルミナ、γアルミ
ナ、α酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チ
タンカーバイト、酸化マグネシウム、窒化硼素、２硫化
モリブデン、酸化銅、ＭｇＣＯ₃ 、ＣａＣＯ₃ 、ＢａＣ
Ｏ₃ 、ＳｒＣＯ₃ 、ＢａＳＯ₄ 、ＣａＳＯ₄ 、炭化珪素
などが単独または組み合わせて使用される。これら無機
質粉末の形状、サイズは針状、球状、サイコロ状等で任
意であり、これらは必要に応じて異なる無機質粉末を組
み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布等を選択
することもできる。粒子サイズとしては、０．０１〜２
μｍから選択される。非磁性粉末としては、次のものが
好ましい。

【００５５】タップ密度は０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率
は０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０
ｍ² ／ｇが好ましい。ＤＢＰを用いた吸油量は５〜１０
０ｍｌ／１００ｇ、好ましくは１０〜８０ｍｌ／１００
ｇ、更に好ましくは２０〜６０ｍｌ／１００ｇである。
上記の非磁性粉末は必ずしも１００％純粋である必要は
なく、目的に応じて表面を他の化合物、例えば、Ａｌ、
Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｚｎ等の各化合物で処
理し、それらの酸化物を表面に形成してもよい。その
際、純度は７０％以上であれば効果を減ずることにはな
らない。強熱減量は２０％以下であることが好ましい。

【００５６】本発明に用いられる非磁性粉末の具体的な
例としては、住友化学社製ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３
０、ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ−５０、日本化学工業社製Ｇ
５、Ｇ７、Ｓ−１、戸田工業社製ＴＦ−１００、ＴＦ−
１２０、ＴＦ−１４０、石原産業社製ＴＴ０５５シリー
ズ、ＥＴ３００Ｗ、チタン工業社製ＳＴＴ３０などが挙
げられる。これらの非磁性粉末は、あらかじめ結合剤で
分散処理したのち非磁性塗料中に添加してもかまわな
い。

【００５７】本発明に使用される非磁性有機質粉末は、
アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉
末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げ
られるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系
樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉
末、ポリフッ化エチレン樹脂粉末が使用される。その製
法は、特開昭６２−１８５６４号、同６０−２５５８２
７号の各公報に記載されているようなものが使用でき
る。

【００５８】本発明の磁性層、非磁性層に使用される結
合剤としては従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、
反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑性樹
脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数
平均分子量が１０００〜２０００００、好ましくは１０
０００〜１０００００、重合度が約５０〜１０００程度
のものである。このような例としては、塩化ビニル、酢
酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル
酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニ
トリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレ
ン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニル
アセタール、ビニルエーテル、等を構成単位として含む
重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系
樹脂がある。

【００５９】また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂とし
てはフエノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化
型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アク
リル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹
脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイ
ソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリ
オールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンと
ポリイソシアネートの混合物等があげられる。

【００６０】これらの樹脂については朝倉書店発行の
「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されてい
る。また、公知の電子線硬化型樹脂を磁性層、または非
磁性層に使用することも可能である。これらの例とその
製造方法については特開昭６２−２５６２１９号に詳細
に記載されている。以上の樹脂は単独または組合せて使
用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化
ビニル酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルア
ルコール樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共
重合体の群から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン
樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシアネートを組
合せたものがあげられる。

【００６１】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテル
ポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレ
タン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、ＣＯＯ
Ｍ、ＳＯ₃ Ｍ、ＯＳＯ₃ Ｍ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、Ｏ−Ｐ
＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、（以上につきＭは水素原子、またはア
ルカリ金属）、ＯＨ、ＮＲ₂ 、Ｎ⁺ Ｒ₃ 、（Ｒは炭化水
素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などから選ばれる少
なくとも一つ以上の極性基を共重合または付加反応で導
入したものを用いることが好ましい。このような極性基
の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好ましくは１０
^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００６２】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカーバイト社製：ＶＡＧＨ、Ｖ
ＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、Ｖ
ＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、Ｐ
ＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業
社製：ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡ
Ｌ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、
ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製：１００
０Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１０
０ＦＤ、日本ゼオン社製：ＭＲ１０５、ＭＲ１１０、Ｍ
Ｒ１００、４００Ｘ１１０Ａ、日本ポリウレタン社製：
ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日
本インキ社製：パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０
８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４００、Ｄ−２１
０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋紡社
製：バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ８６０
０、ＵＲ５５００、ＵＲ４３００、ＲＶ５３０、ＲＶ２
８０、大日精化社製：ダイフエラミン４０２０、５０２
０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２
０、三菱化成社製：ＭＸ５００４、三洋化成社製：サン
プレンＳＰ−１５０、旭化成社製：サランＦ３１０、Ｆ
２１０などがあげられる。

【００６３】本発明に用いられる結合剤は各層の強磁性
粉末または非磁性粉体に対し、５〜１００重量％の範
囲、好ましくは１０〜４０重量％の範囲で用いられる。
塩化ビニル系樹脂を用いる場合は、５〜１００重量％、
ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜５０重量％、ポリ
イソシアネートは２〜１００重量％の範囲でこれらを組
合せて用いるのが好ましい。

【００６４】本発明において、ポリウレタン樹脂を用い
る場合はガラス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸び
が１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ
／ｃｍ² 、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ² が好ま
しい。本発明に用いるポリイソシアネートとしては、ト
リレンジイソシアネート、４−４′−ジフエニルメタン
ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、
キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジ
イソシアネート、ｏ−トルイジンイソシアネート、イソ
ホロンジイソシアネート、トリフエニルメタントリイソ
シアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソ
シアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソ
シアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネー
ト等を使用することができる。これらのイソシアネート
類の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン
社製：コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０
３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオ
ネートＭＴＬ、武田薬品社製：タケネートＤ−１０２、
タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケ
ネートＤ−２０２、住友バイエル社製：デスモジュール
Ｌ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジ
ュールＨＬ等があり、これらを単独または硬化反応性の
差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで磁性層、
非磁性層共に用いることができる。

【００６５】本発明の磁気記録媒体は基本的には非磁性
層と磁性層の二層からなるが、三層以上であってもよ
い。三層以上の構成としては、磁性層または非磁性層を
２層以上の複数の層とすることである。この場合、各層
の組成（結合剤樹脂の他、強磁性粉末、非磁性粉体等の
各種粉体、各種添加剤等）を所望に設定することができ
る。

【００６６】本発明に使用される、添加剤としては潤滑
効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつ
ものが使用される。これら添加剤は、非磁性層及び磁性
層の少なくとも何れか一方に添加することができる。本
発明に使用する分散剤（顔料湿潤剤）としては、カプリ
ル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミ
チン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライ
ジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロール酸等の
炭素数１２〜１８個の脂肪酸（Ｒ₁ ＣＯＯＨ、Ｒ₁ は炭
素数１１〜１７個のアルキルまたはアルケニル基）；前
記の脂肪酸のアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ等）または
アルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ）からなる金属石
鹸；前記の脂肪酸エステルの弗素を含有した化合物；前
記脂肪酸のアミド；ポリアリキレンオキサイドアルキル
リン酸エステル；レシチン；トリアルキルポリオレフィ
ンオキシ第４級アンモニウム塩（アルキルは炭素数１〜
５個、オレフィンはエチレン、プロピレン等）；等が使
用される。この他に炭素数１２以上の高級アルコール、
及びこれらの他に硫酸エステル等も使用可能である。こ
れらの分散剤は縮合剤樹脂１００重量部に対して０．５
〜２０重量部の範囲で添加される。

【００６７】潤滑剤としては、ジアルキルポリシロキサ
ン（アルキルは炭素数１〜５個）、ジアルコキシポリシ
ロキサン（アルコキシ基は炭素数１〜４個）、モノアル
キルモノアルコキシポリシロキサン（アルキルは炭素数
１〜５個、アルコキシ基は炭素数１〜４個）、フェニル
ポリシロキサン、フロロアルキルポリシロキサン（アル
キル基は炭素数１〜５個）などのシリコンオイル；グラ
ファイト等の導電性微粉末；二硫化モリブデン、二硫化
タングステン等の無機粉末；ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリエチレン塩化ビニル共重合体、ポリテトラフ
ルオロエチレン等のプラスチック微粉末；α−オレフィ
ン重合物；常温で液状の不飽和脂肪族炭化水素（ｎ−オ
レフィン二重結合が末端の炭素に結合した化合物、炭素
数約２０）；炭素数１２〜２０個の一塩基性脂肪酸と炭
素数３〜１２個の一価のアルコールから成る脂肪酸エス
テル類、フルオロカーボン類等は使用できる。

【００６８】中でも脂肪酸エステルが最も好ましい。脂
肪酸エステルの原料となるアルコールとしては、エタノ
ール、ブタノール、フェノール、ベンジルアルコール、
２−メチルブチルアルコール、２−ヘキシルデシルアル
コール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エ
チレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレング
リコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノブチルエーテル、ｓ−ブチルアルコール等のモノアル
コール類、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、グリセリン、ソルビタン
誘導体等の多価アルコールが挙げられる。

【００６９】同じく脂肪酸としては、酢酸、プロピオン
酸、オクタン酸、２−エチルヘキサン酸、ラウリン酸、
ミリスチン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ベヘン
酸、アラキン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン
酸、エライジン酸、パルミトレイン酸等の脂肪族カルボ
ン酸またはこれらの混合物が挙げられる。脂肪酸エステ
ルとしての具体例は、ブチルステアレート、ｓ−ブチル
ステアレート、イソプロピルステアレート、ブチルオレ
エート、アミルステアレート、３−メチルブチルステア
レート、２−エチルヘキシルステアレート、２−ヘキシ
ルデシルステアレート、ブチルパルミテート、２−エチ
ルヘキシルミリステート、ブチルステアレートとブチル
パルミテートの混合物、ブトキシエチルステアレート、
２−ブトキシ−１−プロピルステアレート、ジプロピレ
ングリコールモノブチルエ−テルをステアリン酸でアシ
ル化したもの、ジエチレングリコールジパルミテート、
ヘキサメチレンジオールをミリスチン酸でアシル化して
ジエステルとしたもの、グリセリンのオレエート等の種
々のエステル化合物を挙げることができる。

【００７０】さらに、磁気記録媒体を高湿度下で使用す
る時、しばしば生ずる脂肪酸エステルの加水分解を軽減
すために、原料の脂肪酸及びアルコールの分岐／直鎖、
シス／トランス等の異性構造、分岐位置を選択すること
がなされる。これらの潤滑剤は、磁性層にあっては強磁
性粉末１００重量部に対し、非磁性層にあっては非磁性
粉末１００重量部に対し、各々０．２〜２０重量部の範
囲で添加される。

【００７１】潤滑剤としては、更に以下の化合物を使用
することもできる。即ち、シリコンオイル、、グラフア
イト、二硫化モリブデン、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、フ
ッ素アルコール、ポリオレフィン、ポリグリコール、ア
ルキル燐酸エステル、二硫化タングステン等である。本
発明で使用されるこれらの潤滑剤等は磁性層、非磁性層
でその種類、量を必要に応じ使い分けることができる。
例えば、各層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじ
み出しを制御する、沸点や極性の異なるエステル類を用
い表面へのにじみ出しを制御する、潤滑剤の添加量を非
磁性層で多くして潤滑効果を向上させるなどが考えら
れ、無論ここに示した例のみに限られるものではない。

【００７２】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性塗料製造のどの工程で添加しても
かまわない、例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合す
る場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添
加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加す
る場合、塗布直前に添加する場合などがある。本発明で
使用されるこれら潤滑剤の商品例としては、日本油脂社
製：ＮＡＡ−１０２，ＮＡＡ−４１５，ＮＡＡ−３１
２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１８０，ＮＡＡ−１７
４，ＮＡＡ−１７５，ＮＡＡ−２２２，ＮＡＡ−３４，
ＮＡＡ−３５，ＮＡＡ−１７１，ＮＡＡ−１２２，ＮＡ
Ａ−１４２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１７３Ｋ，ヒマ
シ硬化脂肪酸，ＮＡＡ−４２，ＮＡＡ−４４，カチオン
ＳＡ，カチオンＭＡ，カチオンＡＢ，カチオンＢＢ，ナ
イミーンＬ−２０１，ナイミーンＬ−２０２，ナイミー
ンＳ−２０２，ノニオンＥ−２０８，ノニオンＰ−２０
８，ノニオンＳ−２０７，ノニオンＫ−２０４，ノニオ
ンＮＳ−２０２，ノニオンＮＳ−２１０，ノニオンＨＳ
−２０６，ノニオンＬ−２，ノニオンＳ−２，ノニオン
Ｓ−４，ノニオンＯ−２，ノニオンＬＰ−２０Ｒ，ノニ
オンＰＰ−４０Ｒ，ノニオンＳＰ−６０Ｒ，ノニオンＯ
Ｐ−８０Ｒ，ノニオンＯＰ−８５Ｒ，ノニオンＬＴ−２
２１，ノニオンＳＴ−２２１，ノニオンＯＴ−２２１，
モノグリＭＢ，ノニオンＤＳ−６０，アノンＢＦ，アノ
ンＬＧ，ブチルステアレート，ブチルラウレート，エル
カ酸、関東化学社製：オレイン酸、竹本油脂社製：ＦＡ
Ｌ−２０５，ＦＡＬ−１２３、新日本理化社製：エヌジ
エルブＬＯ，エヌジョルブＩＰＭ，サンソサイザーＥ４
０３０、信越化学社製：ＴＡ−３，ＫＦ−９６，ＫＦ−
９６Ｌ，ＫＦ−９６Ｈ，ＫＦ４１０，ＫＦ４２０，ＫＦ
９６５，ＫＦ５４，ＫＦ５０，ＫＦ５６，ＫＦ−９０
７，ＫＦ−８５１，Ｘ−２２−８１９，Ｘ−２２−８２
２，ＫＦ−９０５，ＫＦ−７００，ＫＦ−３９３，ＫＦ
−８５７，ＫＦ−８６０，ＫＦ−８６５，Ｘ−２２−９
８０，ＫＦ−１０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ−１０３，Ｘ
−２２−３７１０，Ｘ−２２−３７１５，ＫＦ−９１
０，ＫＦ−３９３５、ライオンアーマー社製：アーマイ
ドＰ，アーマイドＣ，アーモスリップＣＰ、ライオン油
脂社製：デュオミンＴＤＯ、日清製油社製：ＢＡ−４１
Ｇ、三洋化成社製：プロフアン２０１２Ｅ，ニューポー
ルＰＥ６１，イオネットＭＳ−４００，イオネットＭＯ
−２００，イオネットＤＬ−２００，イオネットＤＳ−
３００，イオネットＤＳ−１０００，イオネットＤＯ−
２００などがあげられる。

【００７３】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチ
ルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール、などのアルコール類、酢酸メチル、酢酸
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチ
ル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチ
ルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサ
ン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳
香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒド
リン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用で
きる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではな
く、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解
物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわな
い。これらの不純分は３０重量％以下が好ましく、さら
に好ましくは１０重量％以下である。

【００７４】本発明で用いる有機溶媒は必要ならば磁性
層と非磁性層でその種類、量は変えてもかまわない。磁
性層に揮発性の高い溶媒を用い表面性を向上させる、非
磁性層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオ
キサンなど）を用い塗布の安定性をあげる、非磁性層に
溶解性パラメータの高い溶媒を用い充填度を上げるなど
がその例として挙げられるが、これらの例に限られたも
のではないことは無論である。

【００７５】本発明に用いられる非磁性支持体は、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、
等のポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン等
のポリオレフイン類、セルローストリアセテート、ポリ
カーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイ
ミド、ポリスルフオン、ポリエーテルスルフオン、シン
ジオタクチックポリスチレン、ポリパラフェニレンベン
ゾビスオキサゾールなどの各種合成樹脂のフィルム、お
よびアルミニウム箔、ステンレス箔などの金属箔を挙げ
ることができる。非磁性支持体は一般には１〜１００μ
ｍ、好ましくは２５〜８５μｍの厚さのものが使用され
る。

【００７６】これらの支持体にはあらかじめコロナ放電
処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、
などをおこなっても良い。本発明の目的を達成するに
は、非磁性支持体として中心線平均表面粗さ（Ｒａ）
（カットオフ値 ０．２５ｍｍ）が０．０３μｍ以下、
好ましくは０．０２μｍ以下、さらに好ましくは０．０
１μｍ以下のものを使用するのが望ましい。また、これ
らの非磁性支持体は単に中心線平均表面粗さが小さいだ
けではなく、１μｍ以上の粗大突起がないことが好まし
い。また、表面の粗さ形状は、必要に応じて支持体に添
加されるフィラーの大きさと量により自由にコントロー
ルされるものである。これらのフィラーとしては一例と
してはＣａ、Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、ア
クリル系などの有機微粉末が挙げられる。

【００７７】本発明に用いられる非磁性支持体のウエブ
走行方向（長手方向）のＦ−５値は好ましくは５〜５０
Ｋｇ／ｍｍ² 、ウエブ幅方向のＦ−５値は好ましくは３
〜３０Ｋｇ／ｍｍ² であり、ウエブ長手方向のＦ−５値
がウエブ幅方向のＦ−５値より高いのが、一般的である
が、特に幅方向の強度を高くする必要があるときはその
限りでない。

【００７８】また、非磁性支持体と非磁性層の間に密着
性向上のための下塗り層を設けてもかまわない。この厚
みは０．０１〜２μｍ、好ましくは０．０５〜０．５μ
ｍである。また、非磁性支持体の磁性層側と反対側にバ
ックコート層を設けてもかまわない。この厚みは０．１
〜２μｍ、好ましくは０．３〜１．０μｍである。これ
らの下塗り層、バックコート層は公知のものが使用でき
る。

【００７９】また、非磁性支持体のウエブ走行方向およ
び幅方向の１００℃３０分での熱収縮率は好ましくは３
％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃３０分
での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは
０．５％以下である。破断強度は両方向とも５〜１００
Ｋｇ／ｍｍ² が好ましい。本発明の磁気記録媒体の磁性
塗料、非磁性塗料を製造する工程は、少なくとも混練工
程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じ
て設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段
階以上にわかれていてもかまわない。本発明に使用する
強磁性粉末、非磁性粉末、結合剤、カーボンブラック、
研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料は
どの工程の最初または途中で添加してもかまわない。ま
た、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加しても
かまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工
程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入
してもよい。

【００８０】磁性塗料、非磁性塗料の混練分散に当たっ
ては、各種の混練機が使用される。例えば、二本ロール
ミル、三本ロールミル、ボールミル、ペブルミル、トロ
ンミル、サンドグラインダー、ゼグバリ（Ｓｚｅｇｖａ
ｒｉ）、アトライター、高速インペラー分散機、高速ス
トーンミル、高速衝撃ミル、ディスパー、ニーダー、高
速ミキサー、ホモジナイザー、超音波分散機などを用い
ることができる。

【００８１】本発明の目的を達成するためには、従来の
公知の製造技術を一部の工程として用いることができる
ことはもちろんであるが、混練工程では連続ニーダや加
圧ニーダなど強い混練力をもつものを使用することによ
り本発明の磁気記録媒体の高いＢｒを得ることができ
る。連続ニーダまたは加圧ニーダを用いる場合は強磁性
粉末、非磁性粉末と結合剤のすべてまたはその一部（た
だし全結合剤の３０重量％以上が好ましい）および強磁
性粉末または非磁性粉末１００部に対し１５〜５００部
の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細につ
いては特開平１−１０６３３８号、特開昭６４−７９２
７４号に記載されている。また、非磁性層液を調製する
場合には高比重の分散メディアを用いることが望まし
く、ジルコニアビーズ、金属ビーズが好適である。

【００８２】本発明の磁気記録媒体の磁性層面の表面固
有抵抗は、好ましくは１０⁵ 〜５×１０⁹ オーム／ｓｑ
が好ましい。磁性層の破断強度は好ましくは１〜３０Ｋ
ｇ／ｃｍ² 、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率
は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以
下、もっとも好ましくは０．１％以下である。

【００８３】磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは
１００ｍｇ／ｍ² 以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ
² 以下であり、磁性層に含まれる残留溶媒が非磁性層に
含まれる残留溶媒より少ないほうが好ましい。磁性層、
非磁性層が有する空隙率は、ともに好ましくは３０容量
％以下、さらに好ましくは１０容量％以下である。非磁
性層の空隙率が磁性層の空隙率より大きいほうが好まし
いが、非磁性層の空隙率が５％以上であれば小さくても
かまわない。

【００８４】本発明の磁気記録媒体は、非磁性層と磁性
層を有するが、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの
物理特性を変えることができるのは容易に推定されるこ
とである。本発明の磁気記録ディスクを使用することに
より、高密度の磁気記録が可能であり、特に、コンピュ
ーター情報を保存・読み出しに使用されるディジタルデ
ータ記録媒体に必須の重ね書き特性が、例えば、最短記
録波長が１．５μｍ以下であるような高密度記録になっ
ても低下せず且つ走行耐久性も低下しないという利点を
有する。

【００８５】また、記録波長が短波長化した場合だけで
なく、トラック密度が高くなった場合にも本発明の磁気
記録ディスクを使用することにより、信号のクロストー
クが少なく、ピークシフトの分離性に優れた記録ができ
る。そのため、記録トラック幅が５０μｍ以下、トラッ
ク密度１４トラック／ｍｍ以上の条件で、最短記録波長
が１．５μｍ以下の記録をしても重ね書き適性に優れ、
走行耐久性も良好な記録・再生が可能である。

【００８６】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明する。ここに示す成分、割合、操作順序等は、本発明
の精神から逸脱しない範囲において変更しうるものであ
ることは本業界に携わるものにとっては容易に理解され
ることである。従って、本発明は下記の実施例に制限さ
れるべきではない。尚、「部」とあるのは全て「重量
部」のことである。

【００８７】実施例１ 以下の処方で磁性層塗布液、及び非磁性層塗布液を調製
した。 非磁性層塗布液 非磁性無機質粉末 ９０部 ＴｉＯ₂ （石原産業社製 ＴＹ５０） 平均粒径 ０．３４μｍ ＢＥＴ法による比表面積 ５．９ ｍ² ／ｇ ｐＨ ５．９ カーボンブラック １０部 （ライオンアクゾ社製ケッチェンブラックＥＣ） 平均粒径 ３０ｍμ ＤＢＰ吸油量 ３５０ｍｌ／１００ｇ ＢＥＴ法による比表面積 ９５０ｍ² ／ｇ 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 １２部 −Ｎ（ＣＨ₃ ）₃ ⁺ Ｃｌ^- の極性基を３．５×１０^-6ｅｑ／ｇ含む ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃ Ｎａ基 ２×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 ｓｅｃ−ブチルステアレート ４部 α−アルミナ（平均粒径０．３μｍ） １０部 ２−ブトキシ−１−プロピルステアレート ３部 ブトキシエチルパルミテート ２部 オレイン酸 １部 メチルエチルケトン ２００部 シクロヘキサノン ２００部 磁性層塗布液 強磁性金属微粉末 １００部 組成 Ｆｅ／Ｎｉ／Ａｌ＝９６／４／０．５ Ｈｃ １６００Ｏｅ、ＢＥＴ法による比表面積 ４２ｍ² ／ｇ 結晶子サイズ ２５５Å 飽和磁化( σ_S ) １３０ｅｍｕ／ｇ 粒子サイズ（長軸長） ０．２６μｍ、針状比 ９ 塩化ビニル系共重合体 １４部 −ＳＯ₃ Ｎａ基 ０．７×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 ポリエステルポリウレタン樹脂 ３部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃ Ｎａ基 １×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 Ｃｒ₂ Ｏ₃ （日本化学工業社製Ｇ−５） １２部 平均粒径 ０．３２μｍ、比表面積 ２．５ｍ² ／ｇ カーボンブラック（平均粒径 ０．１０μｍ） ０．５部 イソヘキサデシルステアレート ６部 オレイン酸 ２部 メチルエチルケトン ２５０部 シクロヘキサノン １３０部 上記非磁性層塗布液と磁性層塗布液２つの塗料のそれぞ
れについて、各成分を連続ニーダーで混練したのち、サ
ンドミルを用いて２時間分散させた。磁性層塗布液につ
いては、α−アルミナ（住友化学社製ＡＫＰ１５、平均
粒径０．６５μｍ、比表面積３．１ｍ² ／ｇ）２部を添
加し、再度サンドミルで３時間分散した。得られた各分
散液に得られたポリイソシアネートを非磁性層塗布液に
は１０部、磁性層塗布液には１２部を加え、さらにそれ
ぞれに酢酸ブチル４０部を加え、１μｍの平均孔径を有
するフィルターを用いて濾過し、非磁性層形成用塗布液
及び磁性層形成用塗布液を夫々調製した。

【００８８】２液の粘度は、非磁性層形成用塗布液が１
５０センチポイズ、磁性層形成用塗布液が１００センチ
ポイズである（回転粘度計で測定）。得られた非磁性層
形成用塗布液を乾燥後の厚さが２μｍになるように、さ
らにその直後にその上に磁性層形成用塗布液を乾燥後の
厚さが０．５μｍになるように、厚さ６２μｍで中心平
均表面粗さが０．０１μｍのポリエチレンテレフタレー
ト支持体上に１５０ｍ／分の速度でウエット・オン・ウ
エット塗布方式である同時重層塗布を行い、両層がまだ
湿潤状態にあるうちに周波数５０Ｈｚ、磁場強度２００
ガウスまた周波数５０Ｈｚ、磁場強度１２０ガウスの２
つの交流磁場発生装置中を通過させランダム配向処理を
行い、２５℃、４０℃、６０℃、８０℃、１００℃に各
８秒、１２０℃に３秒間乾燥後、７段のカレンダで温度
５０℃、線圧２００Ｋｇ／ｃｍにて処理を行い、３．５
インチサイズに打ち抜き表面研磨処理を施した後、ライ
ナーが内側に設置済みの３．５インチカートリッジに入
れ、直径が２９ｍｍ径のセンターコアを使用し、そのほ
かは所定の機構部品を付加し、３．５インチフロッピー
ディスクを得た。

【００８９】比較例１ 実施例１の乾燥条件を、６０℃、８０℃、１００℃、１
００℃、１００℃に各８秒間、１２０℃に３秒間に変更
した。それ以外の条件は実施例１と同一条件で３．５イ
ンチフロッピーディスクを得た。比較例２ 実施例１の磁性層形成用塗布液粘度を３００センチポイ
ズになるように分散溶媒であるメチルエチルケトン、シ
クロヘキサノン量を実施例１の比率で減じ、磁性層形成
用塗布液を調製した。それ以外の条件は実施例１と同一
の条件で３．５インチフロッピーディスクを得た。

【００９０】比較例３ 実施例１のカレンダー処理条件を温度９０℃、線圧３０
０ｋｇ／ｃｍに変更し、それ以外の条件は実施例１と同
一条件で３．５インチフロッピーディスクを得た。 比較例４ 実施例１の磁性層塗布液の分散において、各原料を連続
ニーダーで混練したのち、サンドミルをもちいてα−ア
ルミナを添加することなく５時間分散し、その後の磁性
層形成用塗布液の調製は、実施例１と同一方法で行い、
３．５インチフロッピーディスクを得た。

【００９１】比較例５ 実施例１の磁性層形成用塗布液のα−アルミナ（ＡＫＰ
１５）２部をサンドミルへ途中添加するのでなく、実施
例１の強磁性粉末を含めた他の原料と一緒に連続ニーダ
ーで混練後、サンドミルで５時間分散し、実施例１と同
一条件で３．５インチフロッピーディスクを得た。

【００９２】実施例２ 実施例１の磁性層塗布液組成のＣｒ₂ Ｏ₃ （日本化学工
業社製Ｇ−５）１２部をα−アルミナ（住友化学社製Ｈ
ＩＴ５５、８．５ｍ² ／ｇ、平均粒径０．２３μｍ）１
２部に変更し、それ以外は実施例１と同一条件で３．５
インチフロッピーディスクを得た。

【００９３】比較例６ 実施例１の磁性層塗布液組成のＣｒ₂ Ｏ₃ （日本化学工
業社製Ｇ−５）１２部をα−アルミナ（住友化学社製Ａ
ＫＰ２０、４．０ｍ² ／ｇ、平均粒径０．３９μｍ）１
２部に変更し、それ以外は実施例１と同一条件で３．５
インチフロッピーディスクを得た。

【００９４】比較例７ 実施例１の磁性層塗布液組成のＣｒ₂ Ｏ₃ （日本化学工
業社製Ｇ−５）１２部をα−アルミナ（昭和軽金属製Ｕ
Ａ５１５５、１５ｍ² ／ｇ、平均粒径０．２０μｍ）１
２部に変更し、それ以外は実施例１と同一条件で３．５
インチフロッピーディスクを得た。

【００９５】比較例８ 実施例１の磁性層塗布液組成のα−アルミナ（住友化学
社製ＡＫＰ１５）２部をα−アルミナ（住友化学社製Ａ
ＫＰ２０、４．０ｍ² ／ｇ、平均粒径０．３９μｍ）２
部に変更し、それ以外は実施例１と同一条件で３．５イ
ンチフロッピーディスクを得た。

【００９６】比較例９ 実施例１の磁性層塗布液組成のα−アルミナ（住友化学
社製ＡＫＰ１５）２部をα−アルミナ（住友化学社製Ａ
ＫＰ１０、２．１ｍ² ／ｇ、平均粒径１．０７μｍ）２
部に変更し、それ以外は実施例１と同一条件で３．５イ
ンチフロッピーディスクを得た。

【００９７】比較例１０ 実施例１の磁性層塗布液組成のＣｒ₂ Ｏ₃ （日本化学工
業社製Ｇ−５）を２０部、α−アルミナ（住友化学社製
ＡＫＰ１５）を３部に変更し、それ以外は実施例１と同
一条件で３．５インチフロッピーディスクを得た。 比較例１１ 実施例１の非磁性層形成用塗布液を乾燥後の塗布厚が
０．９μｍになるよう、また磁性層形成用塗布液を乾燥
後の厚さが１．１μｍになるように塗布した。それ以外
の条件は実施例１と同一条件で３．５インチフロッピー
ディスクを得た。

【００９８】比較例１２ 実施例１の磁性層塗布液のＣｒ₂ Ｏ₃ １２部を使用せ
ず、それ以外の原材料を実施例１と同様連続ニーダーで
混練した後、サンドミルを用いて２時間分散させた。し
かる後、実施例１で使用したαアルミナを１０部添加
し、再度サンドミルで３時間分散した。その後は実施例
１と同一条件で３．５インチフロッピーディスクを得
た。

【００９９】比較例１３ 実施例１の磁性層塗布液のＣｒ₂ Ｏ₃ およびαアルミナ
を使用せず、Ｃｒ₂ Ｏ₃ １２部の替わりにαアルミナ
（住友化学社製ＨＩＴ１００、平均粒径０．１１μｍ）
１２部、αアルミナ（住友化学社製ＡＫＰ１５、平均粒
径０．６５μｍ）の替わりにαアルミナ（住友化学社製
ＨＩＴ１００、平均粒径０．１１μｍ）２部に替えた。
それ以外は実施例１と同一条件で３．５インチフロッピ
ーディスクを得た。

【０１００】比較例１４ 実施例１の磁性層塗布液のＣｒ₂ Ｏ₃ １２部を使用せ
ず、それ以外の原材料を実施例１と同様連続ニーダーで
混練した後、サンドミルを用いて２時間分散させた。し
かる後、実施例１で使用したＣｒ₂ Ｏ₃ （日本化学工業
社製Ｇ−５、平均粒径０．３２μｍ）１２部と、αアル
ミナ（ＡＫＰ１５、住友化学社製、平均粒径０．６５μ
ｍ）２部添加し、再度サンドミルで３時間分散した。そ
の後は実施例１と同一条件で３．５インチフロッピーデ
ィスクを得た。

【０１０１】比較例１５ 実施例１の非磁性塗布液を乾燥後の塗布厚が２μｍにな
るように６２μｍポリエチレンテレフタレート支持体
（中心平均表面粗さが０．０１μｍ）の両面上に塗布
し、実施例１の乾燥条件で乾燥後、巻き取った。しかる
後、再度、巻き取った非磁性層塗布済みロール両面に、
実施例１の磁性層塗布液を乾燥後の塗布厚が０．５μｍ
になるように塗布した。乾燥条件、ランダム配向条件等
は実施例１と同一条件とした。このようにして、３．５
インチフロッピーディスクを得た。

【０１０２】このようにして得られたフロッピーディス
クの各試料は、下記の評価法で測定した。 磁性層上の研磨剤粒子の存在密度（表面研磨剤密度）：
ヤマト化学社製プラズマリアクターＰＲ４１を使用し、
発信周波数１３．５６ＭＨｚ、出力インピーダンス５０
Ω、出力電力２０Ｗ、真空度２０〜３０Ｐａ（パスカ
ル）、酸素流量３０ｍｌ／分、時間２０分の条件で表面
をプラズマ処理し、乾燥後、電子顕微鏡で５０００倍の
倍率で１０視野撮影し、研磨剤粒子（即ち、第１の研磨
剤及び第２の研磨剤の総和）をカウントした。その合計
から、研磨剤粒子数をμｍ² 当たり算出した。尚、第２
の研磨剤の割合も併せて示した。

【０１０３】再生出力：再生出力の測定は、東京エンジ
ニアリング製ディスク試験装置ＳＫ６０６Ｂ型を用いギ
ャップ長０．４５μｍのメタルインギャップヘッドを用
い、それぞれ記録周波数６２５ｋＨｚで半径２４．６ｍ
ｍの位置において記録した後ヘッド増幅機の再生出力を
テクトロニクス社製オシロスコープ７６３３型で測定し
た。実施例１の出力を１００として他の実施例、比較例
の値を相対値として求めた。

【０１０４】重ね書き：重ね書き特性は、上記の試験装
置を用い半径３９．５ｍｍの位置で、交流消磁済みサン
プルに３１２．５ｋＨｚ記録し、アドバンテスト社製Ｔ
Ｒ４１７１型スペクトラムアナライザで３１２．５ｋＨ
ｚ成分の出力０１（ｄＢ）を測定した後、直ちに１ＭＨ
ｚを重ね書きし、その時の３１２．５ｋＨｚ成分の出力
０２（ｄＢ）から重ね書き ０２−０１（ｄＢ）を求め
た。通常、デジタル記録媒体においては、−３０ｄＢ以
下が必要とされる。

【０１０５】走行耐久性：日本電気社製フロッピーディ
スクドライブＦＤ１３３１型を用い、記録周波数６２５
ｋＨｚで全２４０トラックに記録した後、半径が中心か
ら３７．２５ｍｍの位置において表１に記載のサーモサ
イクルフローを１サイクルとするサーモサイクル試験を
実施した。このサーモ条件下において、パス回数で１５
００万回まで走行させたときの走行状態をもって、走行
耐久性を評価した。

【０１０６】

【表１】 以上の評価方法で測定した実施例、比較例の特性を表２
に示す。

【０１０７】

【表２】

【０１０８】上表から明らかなように実施例１に対し、
比較例１は乾燥条件が急速乾燥になっており、表面研磨
剤数が少なく、耐久性が劣っている。比較例２は塗布液
粘度が高く、（実施例１は比較例２より低粘度）、研磨
剤数は低下している。比較例３は、カレンダー成形温
度、圧力ともに実施例１に比較し高く、磁性層表面の研
磨剤が磁性層および非磁性層中に押し込められ表面研磨
剤数は少なくなっている。比較例４は第２の研磨剤を使
用しない場合の例であり、耐久性が大幅に劣ってしま
う。比較例５では第２の研磨剤を強磁性粉末と一緒に混
練すると特に第２の研磨剤の研磨剤数が低下し、耐久性
が十分でない。比較例６、７は、平均粒径が強磁性粉末
の０．８〜１．４倍を外れる研磨剤を第１の研磨剤に代
えて使用した例であるが、出力の低下、耐久性の劣化等
が生じている。比較例８、９は、平均粒径が強磁性粉末
の２〜４倍を外れる研磨剤を第２の研磨剤に代えて使用
した例であり、耐久性の劣化、出力の低下が同様に生じ
ている。比較例１０は表面研磨剤数が多い例であり、耐
久性は優れるが、出力、オーバーライト特性は大幅に低
下している。比較例１１は、磁性層と非磁性層の厚みの
関係が本発明を満足しない例であり、表面研磨剤数が少
なくなり、走行耐久性が悪化し、またオーバーライト特
性も低下する。比較例１２は、第２の研磨剤のみを使用
した例であり、走行耐久性は満足するが、表面研磨剤の
密度も高過ぎ、再生出力、オーバーライト特性が劣る。
比較例１３は、第１の研磨剤及び第２の研磨剤を共に満
足しない範囲の平均粒径を有する研磨剤を使用した例で
あり、走行耐久性が劣る。比較例１４は、研磨剤の分散
法を変更した例であるが、磁性層表面における研磨剤の
存在密度が所定範囲より大きくなり、再生出力、オーバ
ーライト特性に劣る。比較例１４はウェット・オン・ド
ライ法により作成した例で、ウェット・オン・ウェット
法による実施例１に比べ走行耐久性に劣る。

【０１０９】

【発明の効果】本発明は、非磁性支持体上に非磁性粉末
及び結合剤樹脂を主体とする非磁性層並びに強磁性粉末
及び結合剤樹脂を主体とする磁性層が、この順で形成さ
れている磁気記録ディスクにおいて、該磁性層の厚さは
１．０μｍ以下であり、かつ非磁性層の厚さの１／２以
下であって、研磨剤として強磁性粉末の平均粒径の０．
８０〜１．４０倍の第１の研磨剤と強磁性粉末の平均粒
径の２．０〜４．０倍の第２の研磨剤を使用することに
より、磁性層表面をプラズマ処理した後の表面に存在す
るモース硬度６以上の研磨剤粒子数を、０．１６〜０．
２４個／μｍ² に制御することができるので、走行耐久
性に優れ、高密度記録に適した良好な電磁変換特性およ
び走行安定性に優れた磁気記録媒体を提供できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河俣 利夫 神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号 富士写真フイルム株式会社内 (56)参考文献 特開 平３−120613（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−49121（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−176810（ＪＰ，Ａ)

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性支持体上に非磁性粉末及び結合剤
   樹脂を主体とする非磁性層並びに強磁性粉末及び結合剤
   樹脂を主体とする磁性層が、この順で形成されている磁
   気記録ディスクにおいて、該磁性層の厚さは１．０μｍ
   以下であり、かつ非磁性層の厚さの１／２以下であっ
   て、前記磁性層中に含有される研磨剤粒子は、モース硬
   度が６以上であって前記強磁性粉末の平均粒径の０．８
   ０〜１．４０倍の平均粒径を有する第１の研磨剤とモー
   ス硬度が６以上であって前記強磁性粉末の平均粒径の
   ２．０〜４．０倍の平均粒径を有する第２の研磨剤から
   なり、前記強磁性粉末は、少なくとも強磁性金属粉末及
   び強磁性六方晶フェライト粉末から選択され、かつ前記
   磁性層上における前記研磨剤粒子の存在密度は、０．１
   ６〜０．２４個／μｍ ² であることを特徴とするフレキ
   シブル磁気記録ディスク。
2. 【請求項２】 前記強磁性粉末が強磁性金属粉末である
   請求項１記載のフレキシブル磁気記録ディスク。
3. 【請求項３】 前記非磁性支持体上に非磁性層用塗布液
   を塗布して形成された前記非磁性層が湿潤状態にある内
   に、その上に磁性層用塗布液を塗布し、次いで乾燥を行
   い、さらに表面成形処理を施す請求項１または請求項２
   に記載のフレキシブル磁気記録ディスクの製造方法。
4. 【請求項４】 前記第１の研磨剤粒子を前記強磁性粉末
   と共に前記結合剤樹脂溶液中で分散処理を施した後に、
   前記第２の研磨剤粒子を添加することにより前記磁性層
   用塗布液を形成する請求項１または請求項２に記載のフ
   レキシブル磁気記録ディスクの製造方法。