JP2655379B2 - 磁気記録ディスク - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、高密度記録用磁気記録
ディスクに関し、特に、データ記録用の磁気ディスクに
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録技術は、媒体の繰り返し使用が
可能であること、信号の電子化が容易であり周辺電子機
器との組み合わせによるシステムの構築が可能であるこ
と、信号の修正も簡単にできること等の他の記録方式に
はない優れた特長を有することから、ビデオ、オーディ
オ、コンピューター用途等を始めとして様々な分野で幅
広く利用されてきた。そして、機器の小型化、記録再生
信号の高品位化、記録の長時間化、記録容量の増大等の
要求に対応するために、記録媒体に対しては記録密度の
より一層の向上が常に望まれてきた。そして、塗布型の
磁気記録ディスクにおいては、強磁性粉末の粒子サイズ
を小さくしたり、その分散性を向上させたり、その磁性
層中での充填度を高めたりする方策が種々提案されてい
るさらに有効な手段として、磁気特性の優れた強磁性金
属粉末や六方晶フェライトなどを用いることも行われて
いる。

【０００３】また、ＯＡ機器としてのミニコン、パソコ
ンの普及にともない外部記憶媒体としての磁気記録ディ
スクの普及が著しく、磁気記録ディスクの使用頻度が広
がって、温度湿度に関し、幅広い環境条件で使用・保存
され、また使用環境の塵埃も多い場所で使用されるよう
になってきた。特に、記録の大容量化、小型化を達成す
るために記録密度の向上が強く要望されているが、従来
のような針状強磁性粉末を用いて高密度記録に適する磁
気記録ディスクを得るには、針状強磁性粉末の最大寸法
を記録波長、あるいは記録ビット長よりも十分小さくす
る必要がある。現在、針状強磁性粉末として０．３μｍ
程度の寸法のものがすでに実用に供されており、最短記
録波長約１μｍ以下が可能になっている。

【０００４】今後さらに高密度の記録が可能な媒体を得
るには、針状強磁性粉末の寸法をなお一層小さくする必
要がある。しかしそのような小さな針状強磁性粉末にお
いては、太さが１００Å以下と極めて細くなり、粒子体
積としても１０^-17 ｃｍ³ 以下と極めて小さくなるた
め、熱擾乱、表面の効果によって磁気特性が低下し、又
磁性塗膜に磁界を加えても十分な配向が得られない等の
問題がある。

【０００５】高密度記録に対応する強磁性粉末として、
これまで強磁性金属粉末が検討されてきており、また近
年平板状で板面に垂直な方向に磁化容易軸を有する六方
晶系フェライト粒子を強磁性粉末として用いる磁気記録
媒体が開発された（例えば、特開昭５８−６５２５号、
同５８−６５２６号等）。これらによって、強磁性粉末
の平均粒径は０．０５μｍ以下が可能となり、高密度記
録化が可能となった。

【０００６】さらに高密度記録のため大幅な狭トラック
幅が要求されてきている。これらの要求を満たすため磁
気ディスクにおいても高出力や高記録密度が期待できる
強磁性金属粉末や強磁性六方晶系フェライト粉末の使用
が検討されており、サイズの小型化や媒体の記録密度の
向上の要求に応えるべく鋭意開発、実用化が検討されて
いる。特に高記録密度およびオーバーライト電磁変換特
性の向上として磁性層の薄層化、高出力が望まれ、薄層
化に伴い走行耐久性の大幅劣化が懸念されている。

【０００７】即ち、通常、フロッピーディスク等のコン
ピューター用途の磁気記録ディスクにおいては、磁気波
長の異なる記録信号の重ね書き（オーバーライト）が必
要であるが、従来は、周波数で２倍の関係にある２種類
の信号、１ｆ及び２ｆ信号のオーバーライトができれば
良かったが、最近強く要望されている１０Ｍバイト以上
の高容量の磁気記録ディスクに対しては、記録波長が短
くなっただけではなく、ＲＬＬ信号などの周波数比３：
８のより広帯域にある複数の信号のオーバーライトが要
求されている。記録波長が短く、記録周波数の差が大き
い信号を使用した場合、記録波長の短い信号を記録波長
が長い信号の上に重ね書き（オーバーライト）をうまく
行うためには、特開昭５８−１２２６２３号公報、特開
昭６１−７４１３７号公報等に開示されているように、
単に磁性層の磁気特性を向上させるだけでは限界があっ
た。

【０００８】すなわち、今までの１．０μｍ以上の厚さ
の磁性層では、先に記録されているより長い波長の記録
信号の上により短い記録信号を重ね書きしても磁力線が
磁性層の深いところまで達しないために、先に記録され
たより長い波長の信号が消去できないのである。また、
記録密度の向上にともない記録ヘッドのギャップが狭く
なってきている。これにともない、媒体の厚味方向への
十分な記録が困難になってきている。

【０００９】そこで、上記問題を解消するために磁性層
を１μｍ以下に薄くすると磁性層は剥離し易くなり、ド
ロップアウトの発生要因となる等走行耐久性が確保でき
ず、信頼性が低下するという問題が起こった。従って、
前記の高密度記録化に対応し得る磁気記録ディスクを提
供するためには、特に再生出力の向上およびオーバーラ
イト特性の確保および走行耐久性が大きな問題となって
きた。

【００１０】また、磁気記録ディスクの走行時の帯電
は、塵埃の付着によるドロップアウト数の増大を招き、
それによるエラー・レートが致命的な欠陥となった。こ
の帯電の問題を改良するために、磁性層中に帯電を防止
するために添加物を加える方法が通常取られており、中
でもカーボンブラックを添加する方法が最も有効であ
り、広く採用されている。しかしながら、前記の高密度
記録用の磁気記録ディスクにあっては、カーボンブラッ
クの添加は、磁性体充填度を下げ出力の低下を招くの
で、その添加量に限界があり、帯電防止への充分な対処
ができなかった。

【００１１】特に、前記の強磁性六方晶系フェライト粉
末は、Ｃｏ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 強磁性粉末、強磁性金属粉末等
と比較し、飽和磁化量が低く、高い出力が得られ難いた
め高出力の磁気記録ディスクを提供するには充填密度を
上げなければならないが、微粒子でありかつ形状が六方
晶形であるがため、分散性が従来の強磁性粉末に比較し
て劣り、帯電防止性、高再生出力を確保することが基本
的に困難である。

【００１２】前記の帯電の防止、高出力化と耐久性の向
上を満足させるための種々提案が開示されている。（特
開昭５５−５５４３１号、特開昭５５−５５４３２号、
特開昭５５−５５４３３号、特開昭５５−５５４３４
号、特開昭６０−１６４９２６号、特開昭５５−５５４
３６号、特開昭６２−３８５２３号、特開昭６２−１５
９３３７号公報等） 即ち、磁性層と支持体の間に中間層を設けるものである
が、中間層にカーボンブラックと結合剤樹脂を塗布し、
その後その上に磁性層を形成しようとするものである。

【００１３】しかしながら、この方法は、走行耐久性を
改善するめには有効であったが、高密度記録の磁気記録
ディスクであって、十分な走行耐久性を確保しつつ、し
かも、優れた電磁変換特性、すなわち高再生出力、オー
バーライト特性を満足することはできなかった。さらに
面倒な問題として、オーバーライト特性を改良するため
に、磁性層を極端に薄層化、例えば、０．５μｍ以下に
すると、現状の塗布技術では以下のような問題が生じ
た。 （１）非磁性支持体上に直接均一の厚さに塗布すること
が難しい。また、磁性層が剥離し易い。 （２）中間層（非磁性層）を下層にしてその上に塗布す
ることもできるが、逐次塗布であると、密着性が問題で
あり、磁性層が剥離してドロップアウトの原因になった
りする。

【００１４】そこで、検討の結果、非磁性層と磁性層が
湿潤状態の内に重層塗布する、所謂、ウエット・オン・
ウエット塗布方式を採用することが、上記問題を解消す
るために有効であることが分かった。しかし、このウエ
ット・オン・ウエット塗布方式を単に適用するだけで
は、下記の問題を解決することはできなかった。

【００１５】非磁性層を設ける場合、磁性層の分散溶剤
が重要であり、非磁性層に使用した溶剤と同種の溶剤で
あると、非磁性層上に磁性層を塗布した時、磁性層塗布
溶剤が非磁性層を溶解し、非磁性層と磁性層間の境界を
乱してしまい結局磁性層の厚味は大きな膜厚変動をして
しまうこととなる。また、磁性層溶剤を非磁性層を溶解
しない溶剤を使用する場合、磁性層に使用する結合剤樹
脂は非常に限定され、この様な溶剤で塗布した場合、前
述した非磁性層と磁性層間の密着力は大幅に低下してし
まい耐久性が極端に低下する。

【００１６】即ち、非磁性層塗布液及び磁性層塗布液
は、互いに液状の状態で非磁性支持体上に塗布されるか
ら、非磁性層と磁性層の界面が入り乱れて、磁性層の厚
味変動が生じ易くなった。磁性層に厚く変動した部分が
あると、その部分でのオーバーライト特性が良好に行え
なくなって、先に書き込まれた信号を消去できなくな
り、再生不能となる恐れがあるという問題が生じた。ま
た、磁性層の厚味変動を抑制しようとすると耐久性が確
保でき難くなるという問題も生じた。

【００１７】従って、オーバーライト特性を改良するた
めに磁性層を極力薄くしようとすると、現状の塗布技術
では磁気記録ディスクの平均厚味としては薄くできる
が、厚味変動が大きくなり、ディジタル記録に適した全
トラックに渡り、オーバーライト特性が良好でかつ高再
生出力な走行耐久性に優れた薄層磁性層を有する磁気記
録ディスクを得ることが困難であった。

【００１８】そして、この問題に対処する有効な方法は
いまだに提案されていない。

【００１９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来技
術の問題点に鑑みなされたものであって、オーバーライ
ト特性が磁気記録ディスク全トラックに渡り良好で、し
かも出力を含めた電磁変換特性が良好でかつ走行耐久性
の優れた高密度磁気記録ディスクを提供することを目的
としている。

【００２０】

【課題を解決するための手段】本発明は、非磁性支持体
上に非磁性粉末及び結合剤樹脂を主体とする非磁性層並
びに強磁性粉末及び結合剤樹脂を主体とする磁性層が、
この順で形成されてなる磁気記録ディスクにおいて、前
記磁性層は、非磁性層塗布液の塗布層が湿潤状態にある
うちに磁性層用塗布液をその上に塗布するこにより形成
されたものであり、前記磁性層の厚さは、その平均厚味
が０．５μｍ以下であって、最大厚味と最小厚味は前記
平均厚味の±１５％以内にあることを特徴とする磁気記
録ディスクであり、これにより上記課題を解決できる。

【００２１】本発明は、非磁性支持体の上に非磁性層及
び磁性層をこの順に設けた磁気記録ディスクであって、
かつ磁性層の平均厚味を０．５μｍ以下かつ磁性層の最
大厚味（Ｔ_max ）と最小厚味（Ｔ_min ）を前記平均厚味
の±１５％以内に制御したことを最大の特徴とする。即
ち、本発明は、少なくとも磁性層の厚味およびその変動
が上記範囲内にあれば、オーバーライト特性、再生出力
等の電磁変換特性が、磁気記録ディスクの全トラックに
おいて安定して良好に提供できることを見出したもので
ある。

【００２２】 磁性層の平均厚味（Ｔ₀ ）とは、以下に
より算出される値である。磁気記録ディスクをウルトラ
ミクロトーム装置で、ダイアモンドカッターを使用し
て、幅約約０．１μｍの厚さに切り出し、透過型電子顕
微鏡でその断面の切片を５０００〜１００００倍で写真
撮影を行い、８．７ｃｍ×１０．７ｃｍのプリントサイ
ズとし、その後非磁性層と磁性層の界面を強磁性粉末や
非磁性粉末の形状差などの注目して目視判断して黒くふ
ちどりし、かつ磁性層表面も同様にふちどりし、Ｚｅｉ
ｓｓ社製画像処理装置ＩＢＡＳ２にてふちどりした線の
間隔の長さ（距離）を測定した。測定部位は、長さ２０
μｍ（実長）中の磁性層と非磁性層の前記ふちどりをし
た界面が形成する山の頂きと磁性層表面間の距離
（Ｔ₁）と界面が形成する谷の底部と磁性層表面間の距
離（Ｔ₂ ）を各々５ヵ所求めその総和の平均値を平均厚
味とする。

【００２３】また、本発明における最大厚味（Ｔ_max ）
は、該Ｔ₂ の内最大の測定値を意味し、同様に最小厚味
（Ｔ _min）は、は、該Ｔ₁ の内最小の測定値を意味す
る。即ち、本発明においては、下式が全て成立するよう
に磁性層厚味が制御される。 ΔＴ_max ＝１００×（Ｔ_max −Ｔ₀ ）／Ｔ₀ ≦１５ （％） （ａ） ΔＴ_min ＝１００×（Ｔ_min −Ｔ₀ ）／Ｔ₀ ≧−１５（％） （ｂ） ΔＴ_max −ΔＴ_min ＝１００×（Ｔ_max −Ｔ_min ）／Ｔ₀ ≦３０（％）（ｃ） 即ち、式（ａ）において、１５％を超えるか、式（ｂ）
において−１５％より小さいと、あるいは更に（ｃ）に
おいて３０％を超えるとオーバーライト特性、再生出力
等の電磁変換特性を満足することができない。

【００２４】本発明においては、該界面を形成するふち
どり曲線は理想的には磁性層厚味が一定な直線であるこ
とが最も好ましい態様（上記（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）
において、左辺＝０％）であるが、現実的には従来に比
べＴ₀ を軸に振幅の小さな滑らかなサイン曲線に類似し
た曲線が形成されるから、上式（ａ）および（ｃ）が成
立するのであり、厚味変動が極力抑制されるものであ
る。

【００２５】（ａ）式において、ΔＴ_max は、好ましく
は、０≦ΔＴ_max ≦１２、特に好ましくは、０≦ΔＴ
_max ≦８の範囲に制御され、ΔＴ_min は、好ましくは、
−１２≦ΔＴ_min ≦０、特に好ましくは、−８≦ΔＴ
_min ≦０ の範囲に制御される。また、本発明において
は、該界面のふちどり線は山と谷の間隔が長ければ長い
程好ましい。山と山または谷と谷の距離はなるべく等し
いことが望ましい。

【００２６】本発明は、上記範囲に設定したことによ
り、再生出力、オーバーライト特性等の電磁変換特性の
安定性を著しく向上できる。また、本発明は、磁性層及
び非磁性層を形成するための塗布方式としてウエット・
オン・ウエット塗布方式が磁性層の剥がれ等を防止し、
高耐久性磁気記録ディスクを得るために有効であること
を見出した。

【００２７】従来のブレードコート法、グラビアコート
法等で非磁性層を支持体上に設け、乾燥後に更に磁性層
を設ける方法であると、非磁性層と磁性層間の密着力が
十分でなく本発明の様な超薄層磁性層では、耐久性が劣
り、実用に供するのは困難であった。本発明は、少なく
ともウエット・オン・ウエット塗布方式を採用すること
により、上記式を満足することができ、かつ非磁性層と
磁性層は一体の層の様な特性となり非磁性層と磁性層間
の密着力を高めることができる。

【００２８】該ウエット・オン・ウエット塗布方式の具
体的な例としては、下記等が挙げられる。 １．磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず非磁性層を塗布し、その層が湿潤
状態にあるうちに、例えば、特公平１−４６１８６号や
特開昭６０−２３８１７９号、特開平２−２６５６７２
号の各公報に開示されている非磁性支持体加圧型エクス
トルージョン塗布装置により磁性層を塗布する方法。 ２．特開昭６３−８８０８０号、特開平２−１７９７１
号、特開平２−２６５６７２号の各公報に開示されてい
るような塗布液通液スリットを二つ内蔵したヘッドによ
り非磁性層塗布液、磁性層塗布液をほぼ同時に塗布する
方法。 ３．特開平２−１７４９６５号公報に開示されているバ
ックアップロール付きエキストルージョン塗布装置によ
り非磁性層塗布液、磁性層塗布液をほぼ同時に塗布する
方法。

【００２９】本発明の製造方法は、ウエット・オン・ウ
エット塗布方式において磁性層の厚味変動を抑制し、厚
味精度を向上させる方法を提供するものであり、その具
体的な方法としては、以下、第１〜第５の方法が挙げら
れる。第１としては、非磁性層塗布液と磁性層塗布液に
使用する溶剤を選定することであり、その選定基準は、
非磁性層塗布液に使用する溶剤の沸点が磁性層塗布液に
使用する溶剤の沸点より高いことである。

【００３０】その作用効果を簡単に述べると、先に塗布
された非磁性層からの溶剤の蒸発が抑制され、非磁性層
の表面の形状的な変化変形を抑え、また、塗布液の粘弾
性特性が相違する磁性層塗布液と湿潤状態で接触しても
界面での液の乱流を抑え、非磁性層の上に形成される磁
性層膜厚をより均一にすること、即ち厚味変動をより小
さく抑制することができるというものである。

【００３１】 非磁性層に使用する溶剤の沸点は９０℃
以上、望ましくは１００℃以上であり、磁性層に使用す
る溶剤の沸点は１００℃以下が望ましく、特に好ましく
は８０℃以下である。また沸点の差は好ましくは４０℃
以上、更に好ましくは５０℃以上、沸点の差の上限は、
１００℃にすることにより磁性層膜厚を本発明の範囲に
することができる。本発明で用いられる非磁性層塗布液
に使用する溶剤として沸点が９０℃以上の溶剤として
は、シクロヘキサノン（沸点１５６℃）、メチルイソブ
チルケトン（沸点１１６℃）、ジイソブチルケトン（１
６８℃）等のケトン類、イソホロン（沸点２１５℃）、
ブタノール（沸点１１８℃）、イソブチルアルコール
（沸点１０８℃）等のアルコール類、２−メチルシクロ
ヘキサノール（沸点１７３℃）等が挙げられ、単独また
は混合溶剤が使用できる。非磁性層塗布液の溶剤として
は、例えばシクロヘキサノンのような非磁性層の結合剤
樹脂や添加される潤滑剤との相溶性が優れているものが
望ましい。

【００３２】また、非磁性層の上に塗布する磁性層塗布
液の溶剤の沸点は、非磁性層塗布液の溶剤の沸点より低
いことが望ましく、例えばメチルエチルケトン（沸点７
９℃）、ＴＨＦ（沸点６６℃）、アセトン（沸点５６
℃）、プロパノール（沸点９７℃）、酢酸メチル（沸点
５８℃）、ベンゼン（沸点８０℃）、ヘキサン（沸点６
９℃）、四塩化炭素（沸点７７℃）等、単独または混合
溶剤を使用することができる。混合溶剤として用いる場
合、その沸点は、各溶剤の重量使用比率から加成的に計
算される沸点を目安にできる。

【００３３】第２に、ウエット・オン・ウエット塗布方
式で非磁性支持体に塗布した後の乾燥工程において乾燥
方法を規定することである。即ち、非磁性層と磁性層を
非磁性支持体上に設けた後、必要に応じ配向を実施後、
乾燥工程を行うが、この乾燥を室温から徐々に温度を上
げることにより、非磁性層と磁性層の乾燥工程における
磁性層の厚味変動を抑えることができる。

【００３４】例えば、塗設された磁気記録ディスクを室
温から高温、好ましくは２０〜１５０℃、特に好ましく
は、２５〜１２０℃に至る変化した雰囲気温度に通すこ
とにより乾燥する方法が挙げられる。雰囲気温度の変化
方法は任意であり、連続的でも断続的でもよい。また、
温度上昇速度は、０．６〜４℃／秒に制御することが好
ましい。

【００３５】具体的には、ウエット・オン・ウエット塗
布後のウエブを一定速度で搬送しながら、雰囲気温度が
進行方向に断続的に高く一定に設定した乾燥室を通すこ
とにより行うことが挙げられる。例えば、ウエブ搬送速
度を５０〜３００ｍ／分として、２５℃、４０℃、６０
℃、８０℃、１００℃に各４乃至２４秒間、１２０℃に
１．５乃至９秒間乾燥することが挙げられる。

【００３６】第３に、ウエット・オン・ウエット塗布方
式においては、非磁性層塗布液と磁性層塗布液の粘弾性
特性をできるだけ合わせることが好ましい。非磁性層が
湿潤状態にある時点で磁性層を設ける為、粘弾性特性が
大幅に異なると境界面において、お互いの液が乱れ、磁
性層厚味が大幅に変動してしまう。粘弾性特性を調節す
るたの手段としては、以下に挙げられる方法等を用いる
ことができる。

【００３７】 各塗布液が、チキソトロピー性を持ち、
剪断速度１０⁴ ｓｅｃ^-1 での剪断応力Ａ１０⁴ と剪断
速度１０ｓｅｃ^{- 1} での剪断応力 Ａ１０との比Ａ１０
⁴ ／Ａ１０を１００≧Ａ１０⁴ ／Ａ１０≧３、好ましく
は、９０≧Ａ１０ ⁴ ／Ａ１０≧３０に調整することが挙
げられる。このような粘弾性特性を調製するための具体
的な手段としては例えば以下の因子を選択することが挙
げられる。

【００３８】 該因子としては、例えば、分散される非
磁性粉末あるいは強磁性粉末に関しては、（１）粒子サ
イズ（比表面積、平均一次粒子径等）、（２）構造（吸
油量、粒子形態等）、（３）粉体表面の性質（ｐＨ、加
熱減量等）、（４）粒子の凝集力（σ_S 等) 等、結合剤
に関しては、（１）分子量、（２）官能基の種類等、溶
剤に関しては（１）種類（極性等）、（２）結合剤溶解
性、（３）溶剤処方量等、含水率等が挙げられる。

【００３９】液粘度として、非磁性層塗布液、磁性層塗
布液ともに、単一円筒型回転粘度計で０．５〜３００セ
ンチポイズが適しており、好ましくは３〜２００センチ
ポイズである。非磁性層塗布液と磁性層塗布液の粘度差
は、１００センチポイズ以下が適しており、好ましく
は、５０センチポイズ以下である。第４に非磁性層、磁
性層の各塗布液に使用する原材料粒子は、少なくとも乾
燥後の非磁性層、磁性層の厚味より小さいサイズが望ま
しい。即ち、使用する強磁性粉末、カーボンブラック粒
子、研磨剤粒子、非磁性粒子は磁性層に使用する場合、
少なくとも、最大０．５μｍ以下が望ましい。非磁性層
の場合は、厚味が規制されていないため、使用粒子サイ
ズにより、膜厚を厚くすることが可能である。

【００４０】第５に磁性層塗布液および／または非磁性
層塗布液に含まれる各種粉体のサイズ、形状を規定して
力学的に磁性層および非磁性層との界面に混合領域が生
じないように制御することができる。例えば、針状の非
磁性粉末を使用した場合、これらが整列して存在すると
未乾燥状態でも強固な塗膜を形成し、磁性層の強磁性粉
末が回転しても、その界面で混合が生じ難くなる。又、
非磁性層に鱗片状の非磁性粉末を用いると、いわばタイ
ル状に敷きつめられ、磁性層の強磁性粉末が回転しても
その界面で混合が生じ難くなる。

【００４１】本発明は、磁性層平均厚味が０．５μｍ以
下の薄層であるためディジタル記録特有のオーバーライ
ト特性が大幅に向上できることとなる。線記録密度が高
くなればなる程、即ち記録波長が短くなればなる程その
磁性層厚味の効果は発揮される。特に記録波長が１．４
μｍ以下の場合、磁性層厚味０．５μｍ以下が必要とさ
れることからも上記式（ａ）〜（ｃ）の本発明の厚味変
動の規定はオーバーライト特性の安定性を確保する上で
重要であるばかりでなく、再生出力の最大値と最小値の
差異を小さくし、かつ再生出力平均値を高くする上で効
果がある。

【００４２】本発明は、上記電磁変換特性を改善したば
かりでなく、ウエット・オン・ウエット塗布方式を用い
るために非磁性層と磁性層の密着性を確保し、走行耐久
性を確保することができるという効果も有する。本発明
の磁気記録ディスクの非磁性層は、非磁性粉末及び結合
剤樹脂を主体とするものである。非磁性粉末は、無機質
粉末及び有機質粉末を包含し、かつ少なくとも導電性粉
末を含むことが好ましい。導電性粉末は、塗布液の粘弾
性特性の調整、磁性層表面の表面電気抵抗の制御等に有
効であり、走行耐久性を確保するために使用される。導
電性粉末としては、特に好ましくは、カーボンブラック
が挙げられる。

【００４３】 非磁性層におけるカーボンブラックの含
有量は、非磁性層に含まれる非磁性粉末全量の３〜２０
重量％が好ましく、特に、５〜１５重量％の範囲であ
る。３重量％以下では十分に表面固有抵抗値を低減でき
ず、また２０重量％以上では十分な表面固有抵抗値の低
減はできるが、十分に平滑な磁性層の表面性を得ること
が出来ない。比表面積は、５〜１２００ｍ² ／ｇが好ま
しく、更に好ましくは、５０〜１０００ｍ² ／ｇの範囲
であり、ＤＢＰ吸油量は、１０〜１５００ｍＬ（ミリリ
ットル）／１００ｇ、好ましくは２０〜６００ｍＬ／１
００ｇ、平均粒径は、５〜５００ｍμ、好ましくは１０
〜３００ｍμ、ｐＨは、２〜１０、更に好ましくは２．
５〜９．５、含水量は０．１〜１０重量％、更に好まし
くは０．３〜３．０重量％、タップ密度は０．１〜１ｇ
／ｃｃ、更に好ましくは０．１２〜０．８０ｇ／ｃｃが
好ましい。

【００４４】これにより磁性層中のカーボンブラックの
添加量を低減することができ、強磁性粉末の充填密度を
確保できる。該カーボンブラックは、ストラクチャーを
形成するため低い表面電気抵抗を得る事ができる。この
ため磁性層の表面固有電気抵抗値も低く抑えることがで
き、走行耐久性におけるドロップアウトの発生を低減で
きる。

【００４５】本発明においては、該磁性層の表面固有電
気抵抗値を５×１０⁹ Ω／ｓｑ以下、好ましくは５×１
０⁸ Ω／ｓｑ以下に調節することが望ましい。また、非
磁性層／磁性層の平滑な表面性が得られ記録／再生ヘッ
ドとのスペーシングロスを少なくでき高い再生出力が得
られる。さらにＤＢＰ吸油量が２００ｍＬ／１００ｇ以
上のカーボンブラックはストラクチャーを形成しやすく
結果として低い表面電気抵抗を得ることができ、走行耐
久性におけるドロップアウトの発生を特に低減でき好ま
しい。 カーボンブラックのＤＢＰ吸油量は、カーボン
ブラック粉末にジブチルフタレートを少しづつ加え、練
り合わせながらカーボンブラックの状態を観察し、ばら
ばらに分散した状態から一つの塊をなす点を見出し、そ
の時のジブチルフタレートの添加量（ｍＬ）をＤＢＰ吸
油量とした。

【００４６】カーボンブラックは、磁気記録ディスクに
導電性を付与して磁気記録ディスクの帯電を防止するた
めに有効であると共に磁性層と非磁性層の物理的強度を
調整するための素材としても使用される。また、カーボ
ンブラックは、非磁性層塗布液の粘弾性特性を調整する
機能も有する。更に、カーボンブラックは、摩擦係数の
調整、遮光性付与等種々の機能を有する非常に有用な素
材である。従って、上記と同様の主旨でカーボンブラッ
クは磁性層にも含ませることができる。この場合は、強
磁性粉末に対し０．１〜３０重量％で用いることが好ま
しい。

【００４７】また、本発明は非磁性層あるいは磁性層に
使用することができるカーボンブラックとしては、あら
ゆる製法のものが使用できる。例えば、ファーネスブラ
ック、サーマルブラック、アセチレンブラック、チャン
ネルブラック、ランプブラック等を使用することができ
る。具体的な例として、キャボット社製；ＢＬＡＣＫＰ
ＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、９００、
８００、７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、旭カーボ
ン社製；＃８０、＃６０、＃５５、＃５０、＃３５、三
菱化成工業社製；＃３９５０Ｂ、＃２４００、＃２３０
０、＃９００、＃１０００、＃３０、＃４０、＃１０
Ｂ、コロンビアカーボン社製；ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ Ｓ
Ｃ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０、４０、１５、ライオン
アクゾ社製；ケッチェンブラックＥＣ、ケッチェンブラ
ックＥＣＤＪ−５００、ケッチェンブラックＥＣＤＪ−
６００などが挙げられる。

【００４８】カーボンブラックを分散剤などで表面処理
したり、樹脂でグラフト化して使用しても表面の一部を
グラファイト化したものを使用しても構わない。また、
カーボンブラックを非磁性層塗布液、あるいは磁性層塗
布液に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかま
わない。これらのカーボンブラックは単独、または組み
合わせて使用することができる。

【００４９】カーボンブラックは前述の通り磁性層の帯
電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの
働きがあり、これらは用いるカーボンブラックにより異
なる。従って本発明に使用されるこれらのカーボンブラ
ックは非磁性層、磁性層でその種類、量、組合せを変
え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示し
た諸特性をもとに目的に応じて使い分けることはもちろ
ん可能である。本発明で使用できるカーボンブラックは
例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協
会編）を参考にすることができる。

【００５０】 本発明の磁気記録ディスクにおいて、磁
性層に含まれる強磁性粉末は、酸化鉄系強磁性粉末、強
磁性金属粉末もしくは強磁性六方晶系フェライト粉末等
が使用できるが、中でも強磁性金属粉末または強磁性六
方晶系フェライト粉末が好ましい。 強磁性粉末が強磁
性金属粉末の場合、その粒子サイズは、望ましくは比表
面積は３０〜６０ｍ² ／ｇ、更に好ましくは４０〜６０
ｍ ² ／ｇであって、Ｘ線回折法から求められる結晶子サ
イズが１００〜３００Å、更に好ましくは１００〜２５
０Åであり、その軸比（長軸長／短軸長）は、５以上、
更に好ましくは６以上である。

【００５１】比表面積が余り小さいと高密度記録に充分
に対応できなくなり、又余り大きくても分散が充分に行
えずに平滑な面の磁性層が形成できずこれ又高密度記録
に対応できなくなるので、好ましくない。ここで、結晶
子サイズは、（１，１，０）面と（２，２，０）面の回
折線の半値巾の広がりから求められる。

【００５２】 強磁性粉末が強磁性六方晶系フェライト
粉末の場合、比表面積は２５〜５０ｍ² ／ｇ、更に好ま
しくは４０〜６０ｍ ² ／ｇであって、板状比（板径／板
厚）は、２〜６、更に好ましくは２．５〜５．５、板径
が０．０２〜１．０μｍ、更に好ましくは０．０３〜
０．０８μｍである。強磁性金属粉末と同じ理由からそ
の粒子サイズが大きすぎても小さすぎても高密度記録が
難しくなる。

【００５３】前記強磁性金属粉末は、好ましくは少なく
ともＦｅを含む粉末が挙げられ、具体的には、Ｆｅ、Ｆ
ｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ又はＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏを主体とし
た金属単体あるいは合金がある。本発明の磁気記録ディ
スクを高記録密度化するために、前記のように粒子サイ
ズが小さいことが好ましいと同時に磁気特性としては、
飽和磁化( σ_S ) は少なくとも１１０ｅｍｕ／ｇ以上、
望ましくは１２０ｅｍｕ／ｇ以上である。又、抗磁力と
しては、８００Ｏｅ（エルステッド）以上、望ましくは
９００Ｏｅ以上である。

【００５４】更に特性を改良するために、組成中にＢ、
Ｃ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ等の非金属が添加されることもあ
る。通常、前記金属粉末の粒子表面は、化学的に安定さ
せるために酸化物の層が形成されている。酸化物の形成
方法としては、公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に
浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち
酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち
乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガ
スの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法等が
挙げられ、いずれを施したものでも用いることができ
る。

【００５５】前記強磁性六方晶系フェライト粉末として
は、平板状でその平板面に垂直な方向に磁化容易軸があ
る強磁性粉末であって、バリウムフェライト、ストロン
チウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライ
トあるいはそれらのコバルト置換体等があり、中でも特
にバリウムフェライトのコバルト置換体、ストロンチウ
ムフェライトのコバルト置換体が好ましい。更に必要に
応じてその特性を改良するためにＩｎ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｎ
ｂ、Ｖ等の元素を添加してもよい。

【００５６】本発明の磁気記録ディスクを高記録密度化
するために、前記六方晶系フェライト粉末の磁性層にお
ける粒子サイズを前記のように小さくすることが好まし
いが、同時に磁気特性としては、飽和磁化( σ_S ) は少
なくとも５０ｅｍｕ／ｇ以上、望ましくは５３ｅｍｕ／
ｇ以上である。又抗磁力としては、５００Ｏｅ以上、特
に６００Ｏｅ以上であることが望ましい。

【００５７】本発明の磁気記録ディスクにおいては、円
周方向の出力が均一で変動がないことが望まれ、そのた
めには面内配向度比ができるだけ高いことが必要とな
り、強磁性粉末の配向度比は好ましくは０．８５以上で
ある。配向度比を０．８５以上にするためには磁性層が
未乾燥の状態にあるところで特公平３−４１８９５号公
報の如く永久磁石を使用したランダム配向法もしくは特
開昭６３−１４８４１７号、特開平１−３００４２７
号、特開平１−３００４２８号等の各公報の如く交流磁
場を印加する方法が使用できる。

【００５８】本発明においては、強磁性金属粉末、六方
晶系フェライト粉末を使用すると０．９以上もの高い配
向度比が実現できる。ここで、配向度比とは、円周方向
の最小角型比を最大角形比で除した値である。尚、飽和
磁化量及び抗磁力等の強磁性粉末の磁気特性、振動試料
型磁束計（東英工業社製）を用いて最大印加磁場５ｋＯ
ｅで測定した。また比表面積の測定はカンターソープ
（米国、カンタークロム社製）を用いたＢＥＴ法による
ものである。２５０℃、３０分間窒素雰囲気で脱水後Ｂ
ＥＴ一点法（分圧０．３０）で測定した値である。

【００５９】また、これら強磁性粉末の含水率は、０．
０１〜２重量％とするのが好ましい。含水率は結合剤樹
脂の種類によって最適化するのが好ましい。強磁性粉末
のｐＨも用いる結合剤樹脂との組み合わせにより最適化
するのが好ましい。その範囲は４〜１２であるが、好ま
しくは５〜１０である。強磁性粉末は必要に応じ、Ａ
ｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処理を施
してもかまわない。その量は強磁性粉末に対し０．１〜
１０％であり表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸
着が１００ｍｇ／ｍ² 以下になり好ましい。強磁性粉末
には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機
イオンを含む場合があるが、５００ｐｐｍ以下であれば
特に特性に影響を与えない。

【００６０】強磁性粉末としては、所望により酸化鉄強
磁性粉末を使用してもよく、ＢＥＴ法による比表面積で
表せば、２５〜８０ｍ² ／ｇであり、好ましくは３５〜
６０ｍ² ／ｇである。２５ｍ² ／ｇ以下ではノイズが高
くなり、８０ｍ² ／ｇ以上では表面性が得にくく好まし
くない。Ｘ線回折法により測定される結晶子サイズは４
５０〜１００オングストロームであり、好ましくは３５
０〜１００オングストロームである。σ_S は５０ｅｍｕ
／ｇ以上、好ましくは７０ｅｍｕ／ｇ以上である。

【００６１】 これらの強磁性粉末にはあとで述べる分
散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前に
あらかじめ処理を行ってもかまわない。具体的には、特
公昭４４−１４０９０号等に記載されている。本発明の
非磁性層に使用できる非磁性粉末のうち非磁性無機質粉
末は、例えば、金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫
酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等が挙げら
れる。具体的にはＴｉＯ₂ （ルチル、アナターゼ）、Ｔ
ｉＯ_X （ｘは、２未満または３〜５）、酸化セリウム、
酸化スズ、酸化タングステン、ＺｎＯ、ＺｒＯ₂ 、Ｓｉ
Ｏ₂ 、Ｃｒ₂ Ｏ₃ 、α化率９０％以上のるαアルミナ、
βアルミナ、γアルミナ、α酸化鉄、ゲータイト、コラ
ンダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化マグネシウ
ム、窒化硼素、２硫化モリブデン、酸化銅、ＭｇＣ
Ｏ₃ 、ＣａＣＯ₃ 、ＢａＣＯ₃ 、ＳｒＣＯ₃ 、ＢａＳＯ
₄ 、ＣａＳＯ₄ 、炭化珪素などが単独または組み合わせ
て使用される。これら無機質粉末の形状、サイズは針
状、球状、サイコロ状等で任意であり、これらは必要に
応じて異なる無機質粉末を組み合わせたり、単独の非磁
性粉末でも粒径分布等を選択することもできる。粒子サ
イズとしては、０．０１〜２μｍが好ましい。非磁性粉
末としては、次のものが好ましい。

【００６２】タップ密度は０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率
は０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０
ｍ² ／ｇが好ましい。ＤＢＰを用いた吸油量は５〜１０
０ｍＬ／１００ｇ、好ましくは１０〜８０ｍＬ／１００
ｇ、更に好ましくは２０〜６０ｍＬ／１００ｇである。
上記の非磁性粉末は必ずしも１００％純粋である必要は
なく、目的に応じて表面を他の化合物、例えば、Ａｌ、
Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｚｎ等の各化合物で処
理し、それらの酸化物を表面に形成してもよい。その
際、純度は７０％以上であれば効果を減ずることにはな
らない。強熱減量は２０％以下であることが好ましい。

【００６３】本発明に用いられる非磁性粉末の具体的な
例としては、住友化学社製ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３
０、ＡＫＰ−５０、日本化学工業社製Ｇ５、Ｇ７、Ｓ−
１、戸田工業社製ＴＦ−１００、ＴＦ−１２０、ＴＦ−
１４０、石原産業社製ＴＴ０５５シリーズ、ＥＴ３００
Ｗ、チタン工業社製ＳＴＴ３０などが挙げられる。

【００６４】本発明に使用される非磁性有機質粉末は、
アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉
末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げ
られるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系
樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉
末、ポリフッ化エチレン樹脂粉末が使用される。その製
法は、特開昭６２−１８５６４号、同６０−２５５８２
７号の各公報に記載されているようなものが使用でき
る。

【００６５】本発明の磁性層、非磁性層に使用される結
合剤としては従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、
反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑性樹
脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数
平均分子量が１０００〜２０００００、好ましくは１０
０００〜１０００００、重合度が約５０〜１０００程度
のものである。このような例としては、塩化ビニル、酢
酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル
酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニ
トリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレ
ン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニル
アセタール、ビニルエーテル、等を構成単位として含む
重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系
樹脂がある。

【００６６】また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂とし
てはフエノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化
型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アク
リル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹
脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイ
ソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリ
オールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンと
ポリイソシアネートの混合物等があげられる。

【００６７】これらの樹脂については朝倉書店発行の
「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されてい
る。また、公知の電子線硬化型樹脂を非磁性層、または
磁性層に使用することも可能である。これらの例とその
製造方法については特開昭６２−２５６２１９号に詳細
に記載されている。以上の樹脂は単独または組合せて使
用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化
ビニル酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルア
ルコール樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共
重合体、ニトロセルロースの群から選ばれる少なくとも
１種とポリウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリ
イソシアネートを組合せたものがあげられる。

【００６８】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテル
ポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレ
タン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、ＣＯＯ
Ｍ、ＳＯ₃ Ｍ、ＯＳＯ₃ Ｍ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、Ｏ−Ｐ
＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、（以上につきＭは水素原子、またはア
ルカリ金属）、ＯＨ、ＮＲ₂ 、Ｎ⁺ Ｒ₃ 、（Ｒは炭化水
素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などから選ばれる少
なくとも一つ以上の極性基を共重合または付加反応で導
入したものを用いることが好ましい。このような極性基
の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好ましくは１０
^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００６９】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカーバイト社製：ＶＡＧＨ、Ｖ
ＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、Ｖ
ＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、Ｐ
ＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業
社製：ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡ
Ｌ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、
ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製：１００
０Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１０
０ＦＤ、日本ゼオン社製：ＭＲ１０５、ＭＲ１１０、Ｍ
Ｒ１００、４００Ｘ１１０Ａ、日本ポリウレタン社製：
ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日
本インキ社製：パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０
８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４００、Ｄ−２１
０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋紡社
製：バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ８６０
０、ＵＲ５５００、ＵＲ４３００、ＲＶ５３０、ＲＶ２
８０、大日精化社製：ダイフエラミン４０２０、５０２
０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２
０、三菱化成社製：ＭＸ５００４、三洋化成社製：サン
プレンＳＰ−１５０、旭化成社製：サランＦ３１０、Ｆ
２１０などがあげられる。

【００７０】本発明の磁性層に用いられる結合剤は強磁
性粉末に対し、また非磁性層に用いられる結合剤は非磁
性粉末に対し、５〜５０重量％の範囲、好ましくは１０
〜３０重量％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹脂を
用いる場合は、５〜１００重量％、ポリウレタン樹脂を
用いる場合は２〜５０重量％、ポリイソシアネートは２
〜１００重量％の範囲でこれらを組合せて用いるのが好
ましい。

【００７１】本発明において、ポリウレタン樹脂を用い
る場合はガラス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸び
が１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ
／ｃｍ² 、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ² が好ま
しい。本発明の磁気記録ディスクは基本的には非磁性層
と磁性層の二層からなるが、非磁性層、上層を各々複数
の層で形成してもかまわない。ここで、各層の塗布液組
成は、同一でも異なってもよく、粉体の種類、サイズ等
を種々選択できる。これら各層塗布液のウエット・オン
・ウエット塗布方式による塗布法は、基本的には前記し
た方法を準用すればよい。

【００７２】従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化
ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネー
ト、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各
樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物
理特性などを必要に応じ各層塗布液で変えることはもち
ろん可能である。本発明に用いるポリイソシアネートと
しては、トリレンジイソシアネート、４−４′−ジフエ
ニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシ
アネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−
１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンイソシアネ
ート、イソホロンジイソシアネート、トリフエニルメタ
ントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、こ
れらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、
また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイ
ソシアネート等を使用することができる。これらのイソ
シアネート類の市販されている商品名としては、日本ポ
リウレタン社製：コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロ
ネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭ
Ｒ、ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製：タケネートＤ
−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２
００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製：デス
モジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュール
Ｎ、デスモジュールＨＬ等があり、これらを単独または
硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合
せで各層に用いることができる。

【００７３】本発明の磁性層あるいは非磁性層に用いら
れる研磨剤としては、α化率９０％以上のα−アルミ
ナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリ
ウム、α−酸化鉄、コランダム、人造コランダム、エメ
リー（主成分：コランダムと磁鉄鉱）、人造ダイアモン
ド、窒化珪素、炭化珪素、チタンカーバイト、酸化チタ
ン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主としてモース硬度
５以上の公知の材料が単独または組合せで使用される。
また、これらの研磨剤どうしの複合体（研磨剤を他の研
磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。これらの
研磨剤には主成分以外の化合物または元素が含まれる場
合もあるが主成分が９０％以上であれば効果にかわりは
ない。

【００７４】これら研磨剤の平均粒径は０．０５〜２μ
ｍび大きさのものが効果があり、好ましくは０．２〜
１．０μｍである。特に磁性層に使用する場合は少なく
とも０．５μｍが好ましい。必要に応じて粒子サイズの
異なる研磨剤を組合せたり、単独の研磨剤でも粒径分布
を広くして同様の効果をもたせることもできる。タップ
密度は０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５％、ｐ
Ｈは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ² ／ｇ、が好まし
い。本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サ
イコロ状、のいずれでも良い。

【００７５】これら研磨剤は非磁性層の非磁性粉末もし
くは磁性層の強磁性粉末の１００重量部に対して３〜２
０重量部の範囲で添加される。３重量部より少ないと十
分な耐久性が得られず、又２０重量部より多すぎると充
填度が減少し、十分な出力が得られない。これら研磨剤
は、非磁性層においては、含有する非磁性粉末の量、種
類、磁性層のおいては上層及び下層の強磁性粉末の量、
種類に応じてその組合せを変え、目的に応じて使い分け
ることはもちろん可能である。例えば、磁性層表面の耐
久性を向上させる場合は、非磁性層の研磨剤量を多くす
る、磁性層端面の耐久性を向上させる場合は磁性層の研
磨剤量を多くするなどの工夫を行うことができる。これ
らの研磨剤はあらかじめ結合剤で分散処理したのち磁性
塗料、非磁性塗料中に添加してもかまわない。本発明の
磁気記録ディスクの磁性層表面および磁性層端面に存在
する研磨剤は５個／１００μｍ² 以上が好ましい。

【００７６】本発明に用いられる研磨剤の具体的な例と
しては、住友化学社製：ＡＫＰ−２０，ＡＫＰ−３０，
ＡＫＰ−５０，ＨＩＴ−５０、日本化学工業社製：Ｇ
５，Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業社製：ＴＦ−１００、ＴＦ
−１４０、１００ＥＤ、１４０ＥＤなどがあげられる。
本発明に使用する分散剤（顔料湿潤剤）としては、カプ
リル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エラ
イジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロール酸等
の炭素数１２〜１８個の脂肪酸（Ｒ₁ ＣＯＯＨ、Ｒ₁ は
炭素数１１〜１７個のアルキルまたはアルケニル基）；
前記の脂肪酸のアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ等）また
はアルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ）からなる金属
石鹸；前記の脂肪酸エステルの弗素を含有した化合物；
前記脂肪酸のアミド；ポリアリキレンオキサイドアルキ
ルリン酸エステル；レシチン；トリアルキルポリオレフ
ィンオキシ第４級アンモニウム塩（アルキルは炭素数１
〜５個、オレフィンはエチレン、プロピレン等）；等が
使用される。この他に炭素数１２以上の高級アルコー
ル、及びこれらの他に硫酸エステル等も使用可能であ
る。これらの分散剤は縮合剤樹脂１００重量部に対して
０．５〜２０重量部の範囲で添加される。

【００７７】潤滑剤としては、ジアルキルポリシロキサ
ン（アルキルは炭素数１〜５個）、ジアルコキシポリシ
ロキサン（アルコキシ基は炭素数１〜４個）、モノアル
キルモノアルコキシポリシロキサン（アルキルは炭素数
１〜５個、アルコキシ基は炭素数１〜４個）、フェニル
ポリシロキサン、フロロアルキルポリシロキサン（アル
キル基は炭素数１〜５個）などのシリコンオイル；グラ
ファイト等の導電性微粉末；二硫化モリブデン、二硫化
タングステン等の無機粉末；ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリエチレン塩化ビニル共重合体、ポリテトラフ
ルオロエチレン等のプラスチック微粉末；α−オレフィ
ン重合物；常温で液状の不飽和脂肪族炭化水素（ｎ−オ
レフィン二重結合が末端の炭素に結合した化合物、炭素
数約２０）；炭素数１２〜２０個の一塩基性脂肪酸と炭
素数３〜１２個の一価のアルコールから成る脂肪酸エス
テル類、フルオロカーボン類等は使用できる。

【００７８】中でも脂肪酸エステルが最も好ましい。脂
肪酸エステルの原料となるアルコールとしては、エタノ
ール、ブタノール、フェノール、ベンジルアルコール、
２−メチルブチルアルコール、２−ヘキシルデシルアル
コール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エ
チレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレング
リコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノブチルエーテル、ｓ−ブチルアルコール等のモノアル
コール類、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、グリセリン、ソルビタン
誘導体等の多価アルコールが挙げられる。

【００７９】同じく脂肪酸としては、酢酸、プロピオン
酸、オクタン酸、２−エチルヘキサン酸、ラウリン酸、
ミリスチン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ベヘン
酸、アラキン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン
酸、エライジン酸、パルミトレイン酸等の脂肪族カルボ
ン酸またはこれらの混合物が挙げられる。脂肪酸エステ
ルとしての具体例は、ブチルステアレート、ｓ−ブチル
ステアレート、イソプロピルステアレート、ブチルオレ
エート、アミルステアレート、３−メチルブチルステア
レート、２−エチルヘキシルステアレート、２−ヘキシ
ルデシルステアレート、ブチルパルミテート、２−エチ
ルヘキシルミリステート、ブチルステアレートとブチル
パルミテートの混合物、ブトキシエチルステアレート、
２−ブトキシ−１−プロピルステアレート、ジプロピレ
ングリコールモノブチルエ−テルをステアリン酸でアシ
ル化したもの、ジエチレングリコールジパルミテート、
ヘキサメチレンジオールをミリスチン酸でアシル化して
ジエステルとしたもの、グリセリンのオレエート等の種
々のエステル化合物を挙げることができる。

【００８０】さらに、磁気記録ディスクを高湿度下で使
用する時、しばしば生ずる脂肪酸エステルの加水分解を
軽減すために、原料の脂肪酸及びアルコールの分岐／直
鎖、シス／トランス等の異性構造、分岐位置を選択する
ことがなされる。潤滑剤としては、更に以下の化合物を
使用することもできる。即ち、シリコンオイル、グラフ
アイト、二硫化モリブデン、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、
フッ素アルコール、ポリオレフィン、ポリグリコール、
アルキル燐酸エステル、二硫化タングステン等である。

【００８１】 これらの潤滑剤は、非磁性層の非磁性粉
末もしくは磁性層の強磁性粉末の１００重量部に対して
０．２〜２０重量部の範囲で添加される。 本発明で使
用されるこれらの潤滑剤等は磁性層、非磁性層でその種
類、量を必要に応じ使い分けることができる。例えば、
各層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを
制御する、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へ
のにじみ出しを制御する、潤滑剤の添加量を非磁性層で
多くして潤滑効果を向上させるなどが考えられ、無論こ
こに示した例のみに限られるものではない。

【００８２】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性塗料製造のどの工程で添加しても
かまわない、例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合す
る場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添
加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加す
る場合、塗布直前に添加する場合などがある。本発明で
使用されるこれら潤滑剤の商品例としては、日本油脂社
製：ＮＡＡ−１０２，ＮＡＡ−４１５，ＮＡＡ−３１
２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１８０，ＮＡＡ−１７
４，ＮＡＡ−１７５，ＮＡＡ−２２２，ＮＡＡ−３４，
ＮＡＡ−３５，ＮＡＡ−１７１，ＮＡＡ−１２２，ＮＡ
Ａ−１４２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１７３Ｋ，ヒマ
シ硬化脂肪酸，ＮＡＡ−４２，ＮＡＡ−４４，カチオン
ＳＡ，カチオンＭＡ，カチオンＡＢ，カチオンＢＢ，ナ
イミーンＬ−２０１，ナイミーンＬ−２０２，ナイミー
ンＳ−２０２，ノニオンＥ−２０８，ノニオンＰ−２０
８，ノニオンＳ−２０７，ノニオンＫ−２０４，ノニオ
ンＮＳ−２０２，ノニオンＮＳ−２１０，ノニオンＨＳ
−２０６，ノニオンＬ−２，ノニオンＳ−２，ノニオン
Ｓ−４，ノニオンＯ−２，ノニオンＬＰ−２０Ｒ，ノニ
オンＰＰ−４０Ｒ，ノニオンＳＰ−６０Ｒ，ノニオンＯ
Ｐ−８０Ｒ，ノニオンＯＰ−８５Ｒ，ノニオンＬＴ−２
２１，ノニオンＳＴ−２２１，ノニオンＯＴ−２２１，
モノグリＭＢ，ノニオンＤＳ−６０，アノンＢＦ，アノ
ンＬＧ，ブチルステアレート，ブチルラウレート，エル
カ酸、関東化学社製：オレイン酸、竹本油脂社製：ＦＡ
Ｌ−２０５，ＦＡＬ−１２３、新日本理化社製：エヌジ
エルブＬＯ，エヌジョルブＩＰＭ，サンソサイザーＥ４
０３０、信越化学社製：ＴＡ−３，ＫＦ−９６，ＫＦ−
９６Ｌ，ＫＦ−９６Ｈ，ＫＦ４１０，ＫＦ４２０，ＫＦ
９６５，ＫＦ５４，ＫＦ５０，ＫＦ５６，ＫＦ−９０
７，ＫＦ−８５１，Ｘ−２２−８１９，Ｘ−２２−８２
２，ＫＦ−９０５，ＫＦ−７００，ＫＦ−３９３，ＫＦ
−８５７，ＫＦ−８６０，ＫＦ−８６５，Ｘ−２２−９
８０，ＫＦ−１０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ−１０３，Ｘ
−２２−３７１０，Ｘ−２２−３７１５，ＫＦ−９１
０，ＫＦ−３９３５、ライオンアーマー社製：アーマイ
ドＰ，アーマイドＣ，アーモスリップＣＰ、ライオン油
脂社製：デュオミンＴＤＯ、日清製油社製：ＢＡ−４１
Ｇ、三洋化成社製：プロフアン２０１２Ｅ，ニューポー
ルＰＥ６１，イオネットＭＳ−４００，イオネットＭＯ
−２００，イオネットＤＬ−２００，イオネットＤＳ−
３００，イオネットＤＳ−１０００，イオネットＤＯ−
２００などがあげられる。

【００８３】本発明に用いられる非磁性支持体は、可撓
性でバランスタイプの支持体が好ましく、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレンナフタレート、等のポリ
エステル類、ポリオレフイン類、セルローストリアセテ
ート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポ
リアミドイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホ
ン、アラミド、芳香族ポリアミド、シンジオタクチック
ポリスチレンなどの公知のフイルムが使用できる。一般
的にはポリエチレンテレフタレートが好ましい。非磁性
支持体の厚味は、ヤング率により異なるが、一般には１
０〜１００μｍが適し、好ましくは３０〜８０μｍであ
り、高記録密度として更に好ましくは５０〜７５μｍで
ある。これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、
プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、などを
おこなっても良い。 本発明の目的を達成するには、非
磁性支持体として中心線平均表面粗さ（Ｒａ）（カット
オフ値 ０．２５ｍｍ）が０．０３μｍ以下、好ましく
は０．０２μｍ以下、さらに好ましくは０．０１μｍ以
下のものを使用するのが望ましい。また、これらの非磁
性支持体は単に中心線平均表面粗さが小さいだけではな
く、１μｍ以上の粗大突起がないことが好ましい。ま
た、表面の粗さ形状は、必要に応じて支持体に添加され
るフィラーの大きさと量により自由にコントロールされ
るものである。これらのフィラーとしては一例としては
Ｃａ、Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル
系などの有機微粉末が挙げられる。

【００８４】本発明に用いられる非磁性支持体のウエブ
走行方向（長手方向）のＦ−５値は好ましくは５〜５０
Ｋｇ／ｍｍ² 、ウエブ幅方向のＦ−５値は好ましくは３
〜３０Ｋｇ／ｍｍ² であり、ウエブ長手方向のＦ−５値
がウエブ幅方向のＦ−５値より高いのが、一般的である
が、特に幅方向の強度を高くする必要があるときはその
限りでない。

【００８５】 また、本磁気記録ディスクの厚味構成
は、非磁性支持体が好ましくは３０〜８０μｍ、非磁性
層が０．５〜１０μｍ、磁性層が０．０１〜０．５μｍ
である。また、非磁性支持体と非磁性層の間に密着性向
上のための下塗り層を設けてもかまわない。この厚味は
０．０１〜２μｍ、好ましくは０．０５〜０．５μｍで
ある。また、非磁性支持体の磁性層側と反対側にバック
コート層を設けてもかまわない。この厚みは０．１〜２
μｍ、好ましくは０．３〜１．０μｍである。これらの
下塗り層、バックコート層は公知のものが使用できる。
本発明磁気記録ディスクは、両面もしくは片面に磁性層
を設けることができる。また、磁性層表面に樹脂および
／または潤滑剤の層を保護層として設けてもよい。

【００８６】また、非磁性支持体のウエブ走行方向およ
び幅方向の１００℃３０分での熱収縮率は好ましくは３
％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃３０分
での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは
０．５％以下である。破断強度は両方向とも５〜１００
Ｋｇ／ｍｍ² 、弾性率は１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ²
が好ましい。

【００８７】本発明の磁気記録ディスクの磁性層塗布
液、非磁性層塗布液を製造する工程は、少なくとも混練
工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応
じて設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２
段階以上にわかれていてもかまわない。本発明に使用す
る強磁性粉末、非磁性粉末、結合剤、カーボンブラッ
ク、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原
料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわな
い。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加
してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、
分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割し
て投入してもよい。

【００８８】各塗布液の混練分散に当たっては、各種の
混練機が使用される。例えば、二本ロールミル、三本ロ
ールミル、ボールミル、ペブルミル、トロンミル、サン
ドグラインダー、ゼグバリ（Ｓｚｅｇｖａｒｉ）、アト
ライター、高速インペラー分散機、高速ストーンミル、
高速衝撃ミル、ディスパー、ニーダー、高速ミキサー、
ホモジナイザー、超音波分散機などを用いることができ
る。

【００８９】本発明の目的を達成するためには、従来の
公知の製造技術を一部の工程として用いることができる
ことはもちろんであるが、混練工程では連続ニーダや加
圧ニーダなど強い混練力をもつものを使用することによ
り本発明の磁気記録ディスクの高いＢｒを得ることがで
きる。連続ニーダまたは加圧ニーダを用いる場合は強磁
性粉末と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合
剤の３０重量％以上が好ましい）および強磁性粉末１０
０部に対し１５〜５００部の範囲で混練処理される。こ
れらの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３
８号、特開昭６４−７９２７４号に記載されている。ま
た、非磁性層塗布液を調製する場合には高比重の分散メ
ディアを用いることが望ましく、ジルコニアビーズ、金
属ビーズが好適である。

【００９０】本発明では、特開昭６２−２１２９３３号
に示されるような同時重層塗布方式を用いることによ
り、より効率的に生産することができる。ウエット・オ
ン・ウエット塗布により非磁性支持体に塗設された非磁
性層及び磁性層は、配向処理、乾燥工程を経て、カレン
ダー処理されることが好ましい。カレンダ処理ロールと
してエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドア
ミド等の耐熱性のあるプラスチックロールを使用する。
また、金属ロール同志で処理することもできる。処理温
度は、好ましくは７０℃以上、さらに好ましくは８０℃
以上である。線圧力は好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ、さ
らに好ましくは３００ｋｇ／ｃｍ以上である。

【００９１】磁性層の０．５％伸びでの弾性率は走行方
向、幅方向とも好ましくは１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ
² 、破断強度は好ましくは１〜３０Ｋｇ／ｃｍ² 、磁気
記録ディスクの弾性率は走行方向、幅方向とも好ましく
は１００〜１５００Ｋｇ／ｍｍ² 、残留のびは好ましく
は０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収
縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％
以下、もっとも好ましくは０．１％以下である。

【００９２】磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは
１００ｍｇ／ｍ² 以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ
² 以下であり、磁性層に含まれる残留溶媒が非磁性層に
含まれる残留溶媒より少ないほうが好ましい。磁性層、
非磁性層が有する空隙率は、ともに好ましくは３０容量
％以下、さらに好ましくは１０容量％以下である。非磁
性層の空隙率が磁性層の空隙率より大きいほうが好まし
いが、非磁性層の空隙率が５％以上であれば小さくても
かまわない。

【００９３】本発明の磁気記録ディスクは、複数層を有
するが、目的に応じ各層でこれらの物理特性を変えるこ
とができるのは容易に推定されることである。例えば、
非磁性層の弾性率を磁性層の弾性率よりも高くして、磁
気記録ディスクに対する磁気ヘッド当たりを改善するこ
と、非磁性層及び磁性層ともにその弾性率を高くして、
走行耐久性を向上させること等の効果が容易に予測でき
る。

【００９４】ウエット・オン・ウエット塗布方式によ
り、支持体上に塗布された磁性層は、必要により層中の
強磁性粉末を配向させる処理を施したのち、形成した磁
性層を乾燥する。又、必要により表面平滑化加工を施し
たり、所望の形状に裁断したりして、本発明の磁気記録
媒体を製造する。本発明磁気記録ディスクは、高密度の
磁気記録が可能であり、特に、コンピューター情報を保
存・読み出しに使用されるディジタルデータ記録媒体に
必須の重ね書き特性、再生出力等の電磁変換特性が、例
えば、最短記録波長が１．５μｍ以下であるような高密
度記録になっても低下せず且つ安定して得られ、しかも
走行耐久性も低下しないという利点を有する。

【００９５】また、記録波長が短波長化した場合だけで
なく、トラック密度が高くなった場合にも本発明の磁気
記録ディスクを使用することにより、信号のクロストー
クが少なく、ピークシフトの分離性に優れた記録ができ
る。そのため、記録トラック幅が５０μｍ以下、トラッ
ク密度１４トラック／ｍｍ以上の条件で、最短記録波長
が１．５μｍ以下の記録をしても重ね書き適性に優れ、
走行耐久性も良好な記録・再生が可能である。

【００９６】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明する。ここに示す成分、割合、操作順序等は、本発明
の精神から逸脱しない範囲において変更しうるものであ
ることは本業界に携わるものにとっては容易に理解され
ることである。従って、本発明は下記の実施例に制限さ
れるべきではない。尚、「部」とあるのは全て「重量
部」のことである。

【００９７】実施例１ 以下の処方で非磁性層塗布液及び磁性層塗布液を調製し
た。 非磁性層塗料 非磁性無機質粉末 ８０部 粒状ＴｉＯ₂ （石原産業社製 ＴＹ５０） 平均粒径 ０．３４μｍ ＢＥＴ法による比表面積 ５．９ ｍ² ／ｇ ｐＨ ５．９ カーボンブラック ２０部 平均粒径 １６ｍμ ＤＢＰ吸油量 ８０ｍＬ／１００ｇ ｐＨ ８．０ ＢＥＴ法による比表面積 ２５０ｍ² ／ｇ 揮発分 １．５重量％ 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール系共重合体 １４部 −Ｎ（ＣＨ₃ ）₃ ⁺ Ｃｌ^- 基 ５×１０^-6ｅｑ／ｇ含有 組成比 ８６：１３：１ 重合度４００ ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃ Ｎａ基 １×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 ｓｅｃ−ブチルステアレート ４部 ２−ブトキシ−１−エチルステアレート ３部 オレイン酸 １部 シクロヘキサノン ４００部 磁性層塗料 強磁性金属微粉末 １００部 組成 Ｆｅ／Ｎｉ＝９６／４ Ｈｃ １６００Ｏｅ、ＢＥＴ法による比表面積 ５８ｍ² ／ｇ 結晶子サイズ １９５Å 平均粒径（長軸長） ０．２０μｍ、針状比 １０ 飽和磁化( σ_S ) １３０ｅｍｕ／ｇ 塩化ビニル系共重合体 １４部 −ＳＯ₃ Ｎａ基 １×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 重合度：３００ ポリエステルポリウレタン樹脂 ３部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃ Ｎａ基 １×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 α−アルミナ（平均粒径 ０．２μｍ、最大０．４２μｍ） ２部 カーボンブラック ０．５部 （平均粒径 ０．１０μｍ、最大０．２５μｍ） イソヘキサデシルステアレート ６部 オレイン酸 １部 メチルエチルケトン ３００部 上記２つの塗料のそれぞれについて、各成分を連続ニー
ダーで混練したのち、サンドミルを用いて分散させた。
得られた分散液にポリイソシアネート（「コロネート
Ｌ」）を非磁性層塗料には１０部、磁性層塗料には１２
部を加え、さらにそれぞれに酢酸ブチル４０部を加え、
１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、
非磁性層塗布液及び磁性層塗布液を夫々調製した。２液
の粘度は非磁性層塗布液が１５０センチポイズ、磁性層
塗布液が１８５センチポイズであった（回転粘度計で測
定）。

【００９８】得られた非磁性層塗布液を乾燥後の厚さが
２μｍになるように、その直後にその上に磁性層の厚さ
が０．４５μｍになるように、厚さ６２μｍで中心平均
表面粗さが０．０１μｍのポリエチレンテレフタレート
支持体上に１５０ｍ／分の速度でウエット・オン・ウエ
ット塗布方式である湿式同時重層塗布をおこない、両層
がまだ湿潤状態にあるうちに周波数５０Ｈｚ、磁場強度
２００ガウスまた周波数５０Ｈｚ、１２０ガウスの２つ
の磁場強度交流磁場発生装置の中を通過され、ランダム
配向処理を行い、２５℃、４０℃、６０℃、８０℃、１
００℃に８秒間、１２０℃に３秒間乾燥後、７段のカレ
ンダ装置で温度９０℃、線圧 ３００Ｋｇ／ｃｍにて処
理を行い、３．５インチサイズに打ち抜き表面研磨処理
を施した後、ライナーが内側に設置済みの３．５インチ
カートリッジに入れ、直径が２９ｍｍ径のセンターコア
を使用し、そのほかは所定の機構部品を付加し、３．５
インチフロッピーディスクを得た。

【００９９】実施例２ 実施例１の磁性層塗料を下記組成に替え、以下に示す方
法で３．５インチフロッピーディスクを得た。 磁性層塗料 強磁性六方晶系フェライト粉末 １００部 Ｈｃ １４００Ｏｅ、ＢＥＴ法による比表面積 ４５ｍ² ／ｇ 平均粒径（板径） ０．０６μｍ、板状比 ５．２ 飽和磁化( σ_S ) ６５ｅｍｕ／ｇ 塩化ビニル系共重合体 １２部 −ＳＯ₃ Ｎａ基 １×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 ポリエステルポリウレタン樹脂 ３部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃ Ｎａ基 １×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 カーボンブラック ０．５部 平均粒径 ０．１０μｍ、最大０．２５μｍ α−アルミナ １０部 平均粒径 ０．２μｍ、最大０．４２μｍ、 比表面積 ７．５ｍ² ／ｇ イソヘキサデシルステアレート ６部 オレイン酸 ２部 メチルエチルケトン ４００部 実施例１の非磁性層塗料と上記磁性層塗料の２つの塗料
のそれぞれについて、各成分を連続ニーダーで混練した
のち、サンドミルを用いて分散させた。得られた分散液
にポリイソシアネート（「コロネートＬ」）を非磁性層
塗料には１０部、磁性層塗料には９部を加え、さらにそ
れぞれに酢酸ブチル４０部を加え、１μｍの平均孔径を
有するフィルターを用いて濾過し、非磁性層塗布液及び
磁性層塗布液を夫々調製した。この時の磁性層塗布液の
粘度は２００センチポイズであった。

【０１００】得られた非磁性層塗布液を乾燥後の厚さが
２μｍになるように、その直後にその上に磁性層の厚さ
が０．４５μｍになるように、厚さ６２μｍで中心平均
表面粗さが０．０１μｍのポリエチレンテレフタレート
支持体上に１５０ｍ／分の速度でウエット・オン・ウエ
ット塗布方式である湿式同時重層塗布をおこない、両層
がまだ湿潤状態にあるうちに塗布面に対し垂直方向に、
垂直面上で３０００Ｇになるように永久磁石を上下に設
置し、その間を通過させ垂直配向を行い、２５℃、４０
℃、６０℃、８０℃、１００℃に８秒間、１２０℃に３
秒間乾燥後、７段のカレンダ装置で温度９０℃、線圧
３００Ｋｇ／ｃｍにて処理を行い、３．５インチサイズ
に打ち抜き表面研磨処理を施した後、ライナーが内側に
設置済みの３．５インチカートリッジに入れ、直径が２
９ｍｍ径のセンターコアを使用し、そのほかは所定の機
構部品を付加し、３．５インチフロッピーディスクを得
た。

【０１０１】 実施例３ 実施例１の非磁性層塗布液のカーボンブラック２０部を
５部、シクロヘキサノン４００部を３５０部に替えた以
外は実施例１と同一条件で３．５インチフロッピーディ
スクを作成した。 実施例４ 実施例１の非磁性層塗布液のカーボンブラック２０部を
５部、シクロヘキサノン４００部を３５０部に替えた以
外は実施例２と同一条件で３．５インチフロッピーディ
スクを作成した。

【０１０２】比較例１ 実施例１の乾燥条件を１００℃、４０秒間、１２０℃、
３秒間に替えた以外は実施例１と同一条件で３．５イン
チフロッピーディスクを作成した。 比較例２ 実施例２の乾燥条件を１００℃、４０秒間、１２０℃、
３秒間に替えた以外は実施例２と同一条件で３．５イン
チフロッピーディスクを作成した。

【０１０３】比較例３ 実施例１の非磁性層塗布液のシクロヘキサノンをメチル
エチルケトンに替えた以外は、実施例１と同一条件で
３．５インチフロッピーディスクを作成した。 比較例４ 実施例２の非磁性層塗布液のシクロヘキサノンをメチル
エチルケトンに替えた以外は、実施例２と同一条件で
３．５インチフロッピーディスクを作成した。

【０１０４】比較例５ 実施例１の非磁性層塗布液のシクロヘキサノン４００部
を７５０部に替えた。この時の粘度は１０センチポイズ
であった。それ以外は、実施例１と同一条件で３．５イ
ンチフロッピーディスクを作成した。 比較例６ 実施例２の磁性層塗布液のメチルエチルケトン４００部
を７５０部に替えた。この時の粘度は２５センチポイズ
であった。それ以外は、実施例２と同一条件で３．５イ
ンチフロッピーディスクを作成した。

【０１０５】比較例７ 実施例１の磁性層塗布液のα−アルミナ（平均粒径０．
２μｍ、最大０．４２μｍ）２部をα−アルミナ（平均
粒径０．４μｍ、最大０．９μｍ）２部に替えた以外は
実施例１と同一条件で３．５インチフロッピーディスク
を作成した。 比較例８ 実施例３の非磁性層組成を使用し、乾燥条件は比較例１
の条件とし、それ以外は実施例１と同一条件で３．５イ
ンチフロッピーディスクを作成した。

【０１０６】比較例９ 実施例１の磁性層平均厚味を０．９μｍとした以外は、
実施例１と同一条件で３．５インチフロッピーディスク
を作成した。 比較例１０ 実施例２の磁性層平均厚味を０．９μｍとした以外は、
実施例２と同一条件で３．５インチフロッピーディスク
を作成した。

【０１０７】このようにして得られたフロッピーディス
クの各試料は、下記の評価方法で測定した。 １．配向度比：振動試料型磁束計（東英工業社製）を使
用し、Ｈｍ１０ＫＯｅの磁場をかけ測定サンプルを１０
度おきに０度〜３６０度まで磁場を回転させ角型比を求
め、その角型比の最小値を最大値で割った値を算出し配
向度とした。

【０１０８】２．再生出力の測定：再生出力の測定は、
東京エンジニアリング製ディスク試験装置ＳＫ６０６Ｂ
型を用いギャップ長０．４５μｍのメタルインギャップ
ヘッドを用い、それぞれ記録周波数を６２５ｋＨｚで半
径２４．６ｍｍの位置において、記録した後、ヘッド増
幅機の再生出力をテクトロニクス社製オシロスコープ７
６３３型で測定した。再生出力の平均値、最大値、及び
最小値はＪＩＳ−Ｘ６２２１の測定法で算出した。再生
出力は、実施例３、比較例１、比較例３、比較例５、比
較例７、比較例８、比較例９では、実施例１の再生出力
を１００として相対値として記載した。また実施例４、
比較例２、比較例４、比較例６、比較例１０は、実施例
２の再生出力を１００として相対値として記載した。

【０１０９】３．オーバーライト（重ね書き）：重ね書
き特性は上記の試験装置にアドバンテスト社製ＴＲ４１
７１型スペクトラムアナライザゲートオプション付きを
用いて、１周周期を７２分割したそれぞれのウインドウ
を設け、このウインドウの位置に相当する媒体上の測定
トラックを７２分割したそれぞれの場所の再生信号スペ
クトラムを測定できる様にした。この測定装置を用い３
９．５ｍｍの位置で、交流消磁済みサンプルに３１２．
５ｋＨｚ記録し、それぞれのウインドウにおける３１
２．５ｋＨｚ成分の出力０１−１（ｄＢ）から０１−７
２（ｄＢ）を測定した後、直ちに１ＭＨｚを重ね書き
し、その時のそれぞれのウインドウにおける３１２．５
ｋＨｚ成分の出力０２−１（ｄＢ）より０１−７２（ｄ
Ｂ）を測定した後、それぞれの場所の重ね書き０２−Ｊ
−０１−Ｊ（ｄＢ）（Ｊは１〜７２）を求めた。これら
７２点の重ね書きの最大、最小、平均を求めた。この値
は、通常、−３０ｄＢ以下が実用的範囲である。

【０１１０】４．磁性層表面電気抵抗（Ω／ｓｑ）：タ
ケダ理研社製、ＴＲ−８６１１Ａ（デジタル超絶縁抵抗
計）を使用し、ＪＩＳＸ６１０１．９．４に記載されて
いる方法にて測定した。 ５．走行耐久性：日本電気社製フロッピーディスクドラ
イブＦＤ１３３１型を用い、記録周波数６２５ｋＨｚで
全２４０トラックに記録した後、半径が中心から３７．
２５ｍｍの位置において表１に記載のサーモサイクルフ
ローを１サイクルとするサーモサイクル試験を実施し
た。このサーモ条件下において、パス回数で１２００万
回まで走行させたときの走行状態をもって、走行耐久性
を評価した。

【０１１１】６．磁性層厚味：３．５インチフロッピー
ディスクサンプルの半径２１ｍｍから４０ｍｍの部分を
前記測定法に従って円周方向に１０箇所測定し、平均厚
味Ｔ₀ 、最大厚味Ｔ_max 及び最小厚味Ｔ_min を求めた。
また。前記式（ａ）および（ｂ）からＴ₀ からの厚味変
動ΔＴ_max およびΔＴ_min を求めた。尚、非磁性層塗布
液および磁性層塗布液の粘度は、単一円筒型回転粘度計
（芝浦システム社製ＶＨ−Ｈ１）にて２３℃、５０％Ｒ
Ｈの条件で測定した。

【０１１２】

【表１】

【０１１３】以上の評価方法で得られた実施例、比較例
のそれぞれの特性値の評価結果を表２に示した。

【０１１４】

【表２】

【０１１５】本発明の実施例１〜４は、磁性層の平均厚
味が０．５μｍ以下でかつΔＴ_maxおよびΔＴ_min で表
される厚味変動が絶対値で１５％以内であるために安定
した再生出力、オーバーライト特性、及び配向度比の電
磁変換特性を示し、しかも実施例１及び２は更に走行耐
久性も優れる。一方、比較例１〜８は何れも磁性層の平
均厚味は０．５μｍ以下であるが、ΔＴ_max およびΔＴ
_min で表される厚味変動が絶対値で１５％を上回るため
磁性層厚味の変動が大きいために再生出力、オーバーラ
イト特性の安定性が劣る。

【０１１６】比較例１、２及び８は、ウエット・オン・
ウエット塗布後の乾燥工程において、実施例と異なり室
温からの乾燥を行わず、はじめから高温で乾燥した例で
あり、磁性層の厚味変動が大きい。比較例３及び４は、
非磁性層塗布液の沸点の高い溶剤（シクロヘキサノン、
沸点１５６℃）を沸点の低い溶剤（メチルエチルケト
ン、沸点７９℃）に変更した例であり、やはり磁性層の
厚味変動が大きい。

【０１１７】比較例５及び６は、非磁性層塗布液と磁性
層塗布液の粘度差が、−１４０ポイズ、−１２５ポイズ
と大きいために非磁性層と磁性層の界面変動が大きい。
比較例７は、磁性層組成のα−アルミナのサイズを大き
くした例である。比較例９および１０は、磁性層の平均
厚味を０．９１μｍ、０．８９μｍにした例であり、オ
ーバーライト特性が極めて劣る。

【０１１８】

【発明の効果】本発明は、好ましくは、非磁性支持体上
に非磁性粉末を結合剤中に分散させた非磁性層と該非磁
性層が湿潤状態にあるうちにその上に強磁性粉末を結合
剤中に分散した磁性層を設けてなる磁気記録ディスクで
あって、非磁性層は非磁性粉末として少なくとも導電性
粉末を含み、磁性層の平均厚味が０．５μｍ以下で、磁
性層最大最小厚味が平均厚味の±１５％以内である磁気
記録媒体であり、これにより、オーバーライト特性の良
好な、しかも出力の安定した高耐久性媒体を得ることが
できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−73883（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−143965（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−182173（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−220125（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−292618（ＪＰ，Ａ)

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性支持体上に非磁性粉末及び結合剤
   樹脂を主体とする非磁性層並びに強磁性粉末及び結合剤
   樹脂を主体とする磁性層が、この順で形成されてなる磁
   気記録ディスクにおいて、前記磁性層は、非磁性層塗布
   液の塗布層が湿潤状態にあるうちに磁性層塗布液をその
   上に塗布することにより形成されたものであり、前記磁
   性層の厚さは、その平均厚味が０．５μｍ以下であっ
   て、最大厚味と最小厚味は前記平均厚味の±１５％以内
   にあることを特徴とする磁気記録ディスク。
2. 【請求項２】 前記非磁性粉末の少なくとも一部は導電
   性粉末である請求項１に記載の磁気記録ディスク。
3. 【請求項３】 前記強磁性粉末は、強磁性金属粉末もし
   くは六方晶系フェライト粉末である請求項１または請求
   項２に記載の磁気記録ディスク。
4. 【請求項４】 前記磁気記録ディスクの表面電気抵抗が
   ５×１０⁹ Ω／ｓｑ以下であることを特徴とする請求項
   １〜請求項３のいずれか１項に記載の磁気記録ディス
   ク。