JP2704794B2 - 光学活性ジヒドロピラン誘導体の製法 - Google Patents
光学活性ジヒドロピラン誘導体の製法Info
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- JP2704794B2 JP2704794B2 JP3011580A JP1158091A JP2704794B2 JP 2704794 B2 JP2704794 B2 JP 2704794B2 JP 3011580 A JP3011580 A JP 3011580A JP 1158091 A JP1158091 A JP 1158091A JP 2704794 B2 JP2704794 B2 JP 2704794B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D309/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings
- C07D309/16—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D309/28—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は次の一般式（１）
【化５】 （式中、Ｒ1 及びＲ4 はそれぞれ低級アルキル基又は低
級アルコキシ基を示し、Ｒ2 及びＲ3 はそれぞれ水素原
子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基を示し、Ｒ5
は低級アルキル基を示す）で表わされる２位、５位及び
６位の３ケ所に光学活性部位を有する光学活性ジヒドロ
ピラン誘導体の製法に関する。
級アルコキシ基を示し、Ｒ2 及びＲ3 はそれぞれ水素原
子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基を示し、Ｒ5
は低級アルキル基を示す）で表わされる２位、５位及び
６位の３ケ所に光学活性部位を有する光学活性ジヒドロ
ピラン誘導体の製法に関する。
【０００２】
【従来の技術】上記一般式（１）で表わされる光学活性
ジヒドロピラン誘導体は、例えば、A.KONOWALら； Tetr
ahedron, 32 巻，2957 −2959 頁（1976 ）に記載のサ
ッカライド、あるいは K.C.Nicolaou ら；J. Org. Che
m.,1440頁（1985）に記載の抗生物質等の合成中間体と
して有用な化合物である。
ジヒドロピラン誘導体は、例えば、A.KONOWALら； Tetr
ahedron, 32 巻，2957 −2959 頁（1976 ）に記載のサ
ッカライド、あるいは K.C.Nicolaou ら；J. Org. Che
m.,1440頁（1985）に記載の抗生物質等の合成中間体と
して有用な化合物である。
【０００３】従来、光学活性ジヒドロピラン誘導体
（１）を製造する方法としては、１−メトキシ−1,3 −
ブタジエン又は 1,3−ペンタジエンにグリオキシル酸エ
ステルを、二塩化メントキシアルミニウムあるいは Eu
(hfc)3 〔トリス−[3-(ヘプタフルオロプロピルヒドロ
キシメチレン) −（＋）−カンフォラート] ユウロピウ
ム（III)〕の触媒の存在下に反応せしめる方法が報告さ
れている〔M. Quimpereら;J.Chem. Soc., Chem. Commu
n.,676−677 頁(1987)〕。
（１）を製造する方法としては、１−メトキシ−1,3 −
ブタジエン又は 1,3−ペンタジエンにグリオキシル酸エ
ステルを、二塩化メントキシアルミニウムあるいは Eu
(hfc)3 〔トリス−[3-(ヘプタフルオロプロピルヒドロ
キシメチレン) −（＋）−カンフォラート] ユウロピウ
ム（III)〕の触媒の存在下に反応せしめる方法が報告さ
れている〔M. Quimpereら;J.Chem. Soc., Chem. Commu
n.,676−677 頁(1987)〕。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記
M. Quimpereらの方法で使用する触媒の光学活性部位
は、どちらも天然物由来、すなわち、二塩化メントキシ
アルミニウムでは（−）−メントールを、Eu(hfc)3では
（＋）−カンファーを由来とする特定の絶対配置を有す
るものであるが、それぞれに対応した絶対配置を有する
生成物を得ようとしても、二塩化メントキシアルミニウ
ムを用いた場合には工業的に利用可能な光学純度を有す
る生成物を得ることができず、実際には（＋）−カンフ
ァー由来の Eu(hfc)3触媒から得られる特定の絶対配置
を有する生成物しか得ることができなかった。しかもEu
(hfc)3を触媒として用いた場合でも、生成物の光学純度
は、最も高い (2R,6S)−２−メトキシ−６−メトキシカ
ルボニルジヒドロピランで64％eeであり、更に高い光学
純度を有するジヒドロピラン誘導体を得る方法が望まれ
ていた。本発明者らは、先に「日本化学会第59春季年会
講演予稿集II」、平成２年３月14日発行、第1356頁にお
いて、１点及び２点の光学活性部位を有するジヒドロピ
ラン誘導体の製造法を報告したが、３点の光学活性部位
が決定されるジヒドロピラン誘導体の製造法については
未だ報告されていない。
M. Quimpereらの方法で使用する触媒の光学活性部位
は、どちらも天然物由来、すなわち、二塩化メントキシ
アルミニウムでは（−）−メントールを、Eu(hfc)3では
（＋）−カンファーを由来とする特定の絶対配置を有す
るものであるが、それぞれに対応した絶対配置を有する
生成物を得ようとしても、二塩化メントキシアルミニウ
ムを用いた場合には工業的に利用可能な光学純度を有す
る生成物を得ることができず、実際には（＋）−カンフ
ァー由来の Eu(hfc)3触媒から得られる特定の絶対配置
を有する生成物しか得ることができなかった。しかもEu
(hfc)3を触媒として用いた場合でも、生成物の光学純度
は、最も高い (2R,6S)−２−メトキシ−６−メトキシカ
ルボニルジヒドロピランで64％eeであり、更に高い光学
純度を有するジヒドロピラン誘導体を得る方法が望まれ
ていた。本発明者らは、先に「日本化学会第59春季年会
講演予稿集II」、平成２年３月14日発行、第1356頁にお
いて、１点及び２点の光学活性部位を有するジヒドロピ
ラン誘導体の製造法を報告したが、３点の光学活性部位
が決定されるジヒドロピラン誘導体の製造法については
未だ報告されていない。
【０００５】
【課題を解決するための手段】このような実情におい
て、本発明者らは、前記課題を解決せんと鋭意研究を行
った結果、光学活性なビナフトール−チタン錯体を触媒
として用いれば、高い光学純度で３点の光学活性部位を
有するジヒドロピラン誘導体を効率よく得ることができ
ることを見出し、本発明を完成した。
て、本発明者らは、前記課題を解決せんと鋭意研究を行
った結果、光学活性なビナフトール−チタン錯体を触媒
として用いれば、高い光学純度で３点の光学活性部位を
有するジヒドロピラン誘導体を効率よく得ることができ
ることを見出し、本発明を完成した。
【０００６】本発明の方法は、次の反応式で示される。
【化６】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4及びＲ5 は前記と同じ
意味を有する）
意味を有する）
【０００７】すなわち、本発明は、ジエン化合物（２）
とグリオキシル酸エステル（３）とを、光学活性ビナフ
トール−チタン錯体（４）の存在下に反応せしめて光学
活性ジヒドロピラン誘導体（１）を製造する方法であ
る。
とグリオキシル酸エステル（３）とを、光学活性ビナフ
トール−チタン錯体（４）の存在下に反応せしめて光学
活性ジヒドロピラン誘導体（１）を製造する方法であ
る。
【０００８】原料のジエン化合物（２）としては、例え
ば 2,4−ヘキサジエン、 2,4−ヘプタジエン、３−メチ
ル−2,4 −ヘキサジエン、3,4 −ジメチル−2,4 −ヘキ
サジエン、１−メトキシ−1,3 −ペンタジエン、１−メ
トキシ−２−メチル−1,3 −ペンタジエン、１−メトキ
シ−2,3 −ジメチル−1,3 −ペンタジエン、３−エトキ
シ−2,4 −ヘキサジエン、３−tert−ブトキシ−2,4 −
ヘキサジエン、３−エトキシ−４−メチル−2,4 −ヘキ
サジエン等が挙げられる。また、もう一方の原料である
グリオキシル酸エステル（３）としては、例えばグリオ
キシル酸メチル、グリオキシル酸エチル、グリオキシル
酸イソプロピル、グリオキシル酸ｔ−ブチル等が挙げら
れ、これらは、例えば T. ROSS KELLYらの方法〔Synthe
sis, 544−545 頁(1972)〕によって製造される。
ば 2,4−ヘキサジエン、 2,4−ヘプタジエン、３−メチ
ル−2,4 −ヘキサジエン、3,4 −ジメチル−2,4 −ヘキ
サジエン、１−メトキシ−1,3 −ペンタジエン、１−メ
トキシ−２−メチル−1,3 −ペンタジエン、１−メトキ
シ−2,3 −ジメチル−1,3 −ペンタジエン、３−エトキ
シ−2,4 −ヘキサジエン、３−tert−ブトキシ−2,4 −
ヘキサジエン、３−エトキシ−４−メチル−2,4 −ヘキ
サジエン等が挙げられる。また、もう一方の原料である
グリオキシル酸エステル（３）としては、例えばグリオ
キシル酸メチル、グリオキシル酸エチル、グリオキシル
酸イソプロピル、グリオキシル酸ｔ−ブチル等が挙げら
れ、これらは、例えば T. ROSS KELLYらの方法〔Synthe
sis, 544−545 頁(1972)〕によって製造される。
【０００９】触媒として使用される光学活性ビナフトー
ル−チタン錯体は次の一般式（４）
ル−チタン錯体は次の一般式（４）
【化７】 （式中、Ｘは塩素原子又は臭素原子を示す）で表わされ
る。このビナフトール−チタン錯体（４）は、例えば特
開平 2-40344号公報記載の方法によって調製される。す
なわち、まず四ハロゲン化チタン（ハロゲンは塩素又は
臭素）とテトライソプロポキシチタンをヘキサン中で混
合してジイソプロポキシ−ジハロゲノチタンの結晶を調
製し、これをトルエンに溶解する。別に基質１ミリモル
に対し 0.5ｇ以上の量の粉末のモレキュラーシーブ４Ａ
（市販品）を塩化メチレンに加え、これに上で調製した
ジイソプロポキシ−ジハロゲノチタンのトルエン溶液、
次いでビナフトールを加えて約１時間撹拌すればビナフ
トール−チタン錯体（４）を得ることができる。
る。このビナフトール−チタン錯体（４）は、例えば特
開平 2-40344号公報記載の方法によって調製される。す
なわち、まず四ハロゲン化チタン（ハロゲンは塩素又は
臭素）とテトライソプロポキシチタンをヘキサン中で混
合してジイソプロポキシ−ジハロゲノチタンの結晶を調
製し、これをトルエンに溶解する。別に基質１ミリモル
に対し 0.5ｇ以上の量の粉末のモレキュラーシーブ４Ａ
（市販品）を塩化メチレンに加え、これに上で調製した
ジイソプロポキシ−ジハロゲノチタンのトルエン溶液、
次いでビナフトールを加えて約１時間撹拌すればビナフ
トール−チタン錯体（４）を得ることができる。
【００１０】また、ビナフトール−チタン錯体（４）に
は、（Ｒ）−ビナフトール又は（Ｓ）−ビナフトールか
ら合成される（Ｒ）体と（Ｓ）体が存在し、これらは目
的とする生成物の光学活性ジヒドロピラン誘導体（１）
の絶対配置に応じて使いわけることができる。すなわ
ち、前記一般式（１）のジヒドロピラン環の６位の不斉
炭素において、（Ｒ）体を得ようとする時は（Ｒ）−
（４）を、（Ｓ）体を得ようとする時は（Ｓ）−（４）
を用いればよい。このように、本発明によれば、用いる
錯体（４）の選択によって６位の炭素の絶対配置を自由
自在に決定することができる。更に一般式（１）の化合
物は２位と５位についても不斉炭素となるが、用いる錯
体（４）の絶対配置によって、（Ｒ）体もしくは（Ｓ）
体のどちらか一方が有利な比率で得られる。
は、（Ｒ）−ビナフトール又は（Ｓ）−ビナフトールか
ら合成される（Ｒ）体と（Ｓ）体が存在し、これらは目
的とする生成物の光学活性ジヒドロピラン誘導体（１）
の絶対配置に応じて使いわけることができる。すなわ
ち、前記一般式（１）のジヒドロピラン環の６位の不斉
炭素において、（Ｒ）体を得ようとする時は（Ｒ）−
（４）を、（Ｓ）体を得ようとする時は（Ｓ）−（４）
を用いればよい。このように、本発明によれば、用いる
錯体（４）の選択によって６位の炭素の絶対配置を自由
自在に決定することができる。更に一般式（１）の化合
物は２位と５位についても不斉炭素となるが、用いる錯
体（４）の絶対配置によって、（Ｒ）体もしくは（Ｓ）
体のどちらか一方が有利な比率で得られる。
【００１１】本発明方法を実施するには、光学活性ビナ
フトール−チタン錯体の有機溶媒溶液にジエン化合物
（２）及びグリオキシル酸エステル（３）を加えて反応
せしめる。使用する有機溶媒としては、塩化メチレン、
クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素；ベ
ンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素；テトラヒドロフ
ラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン等の非プロ
トン性溶媒等が挙げられる。触媒の光学活性ビナフトー
ル−チタン錯体（４）は原料（２）及び（３）に対し
０．０２〜１モル倍、特に０．０５〜０．１倍モル使用
するのが、高い光学収率の生成物を得る上で好ましい。
また、反応温度は−５０℃〜０℃、特に−３０℃〜−１
０℃が好ましく、反応時間は１〜２０時間が好ましい。
反応後、反応混合物に炭酸水素ナトリウム水溶液等のア
ルカリ剤を加え、ジエチルエーテル、酢酸エチル等の溶
媒で抽出し、乾燥後溶媒を留去し、残留物をシリカゲル
カラム等のカラムクロマトグラフィーで精製すれば、目
的とする光学活性ジヒドロピラン誘導体を高収率で得る
ことができる。
フトール−チタン錯体の有機溶媒溶液にジエン化合物
（２）及びグリオキシル酸エステル（３）を加えて反応
せしめる。使用する有機溶媒としては、塩化メチレン、
クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素；ベ
ンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素；テトラヒドロフ
ラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン等の非プロ
トン性溶媒等が挙げられる。触媒の光学活性ビナフトー
ル−チタン錯体（４）は原料（２）及び（３）に対し
０．０２〜１モル倍、特に０．０５〜０．１倍モル使用
するのが、高い光学収率の生成物を得る上で好ましい。
また、反応温度は−５０℃〜０℃、特に−３０℃〜−１
０℃が好ましく、反応時間は１〜２０時間が好ましい。
反応後、反応混合物に炭酸水素ナトリウム水溶液等のア
ルカリ剤を加え、ジエチルエーテル、酢酸エチル等の溶
媒で抽出し、乾燥後溶媒を留去し、残留物をシリカゲル
カラム等のカラムクロマトグラフィーで精製すれば、目
的とする光学活性ジヒドロピラン誘導体を高収率で得る
ことができる。
【００１２】本発明方法は、例えば次の反応式に従っ
て、３−エチレン−4,5 −ジヒドロピラン（５）とグリ
オキシル酸メチル（６）とから3,6,7,8a−テトラヒドロ
− 2H,5H−ピラノ[2,3-b] ピラン−２−カルボン酸メチ
ル（７）を製造するような、縮合環を有する光学活性ジ
ヒドロピラン誘導体の製法に利用することができる。
て、３−エチレン−4,5 −ジヒドロピラン（５）とグリ
オキシル酸メチル（６）とから3,6,7,8a−テトラヒドロ
− 2H,5H−ピラノ[2,3-b] ピラン−２−カルボン酸メチ
ル（７）を製造するような、縮合環を有する光学活性ジ
ヒドロピラン誘導体の製法に利用することができる。
【化８】
【００１３】
【実施例】次に実施例を挙げて本発明を具体的に説明す
るが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。尚、実施例中の分析は次の分析機器を用いて行っ
た。1 H 核磁気共鳴スペクトル（以下1H-NMR と略す）：GEMI
NI 200型(200MHz)（バリアン社製） 旋光度計：DIP-370 型（日本分光工業株式会社製）
るが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。尚、実施例中の分析は次の分析機器を用いて行っ
た。1 H 核磁気共鳴スペクトル（以下1H-NMR と略す）：GEMI
NI 200型(200MHz)（バリアン社製） 旋光度計：DIP-370 型（日本分光工業株式会社製）
【００１４】実施例１ 予め、アルゴン置換を行った５０mlのシュレンク管に、
テトライソプロポキシチタン2.98ml（10ミリモル）とヘ
キサン５mlを加え、これに四塩化チタン1.10ml（10ミリ
モル）を加え、室温で10分間撹拌した。その後、室温で
３時間放置し白色の結晶を沈澱させた。溶媒をシリンジ
で抜取り、ヘキサン５mlを加え再結晶を行った。この操
作を２回繰り返し、減圧下で乾燥すると白色のジイソプ
ロポキシジクロロチタンが3.09ｇ得られた。これに、ト
ルエン43mlを加えて、0.3Nの溶液を調製した。一方、25
mlのフラスコにモレキュラーシーブ４Ａ（アルドリッチ
社製）の粉末を 0.5ｇ入れ、アルゴン置換を充分行った
後、塩化メチレン５mlを加え、更に上記で調製したジイ
ソプロポキシジクロロチタンのトルエン溶液を0.33ml
(0.1ミリモル）、（Ｒ）−ビナフトール28.6mg（ 0.1ミ
リモル）を加え、室温で１時間撹拌し、（Ｒ）−ビナフ
トール−ジクロロチタン錯体を調製した。この溶液をド
ライアイス−アセトン浴で−70℃に冷却した後、グリオ
キシル酸メチル88mg（１ミリモル）を加え、更に、１−
メトキシ−1,3 −ペンタジエンを0.196g（２ミリモル）
加えた。−10℃で１時間反応した後、炭酸水素ナトリウ
ム水溶液10mlを加え反応を停止し、セライト上で濾過
し、ジエチルエーテル20mlで１回、酢酸エチルで２回抽
出を行い無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ 200メッシ
ュ、展開溶媒はヘキサン：酢酸エチル＝10：１）で精製
し、目的とする光学活性な２−メトキシ−５−メチル−
６−メトキシカルボニル−5,6 −ジヒドロピランを0.23
ｇ（収率63％）得た。1 H-NMRの結果より、エンド体：エキソ体の生成比は97：
３であった。1 H-NMR (CDCl3)δppm : エンド体 (2S,5S,6R) : 1.04(d,J=6.8Hz,3H)、2.25(m,1H)、3.53(s,3H)、 3.79(s,3H)、4.43(d,J=3.6Hz,1H)、5.16(bs,1H) 、 5.62(m,1H)、6.02(m,1H) エキソ体 (2R,5R,6R) : 1.05(d,J=7.2Hz,3H)、2.55(m,1H)、3.45(s,3H)、 3.82(s,3H)、4.09(d,J=10.4Hz,1H) 、4.95(m,1H)、 5.73(m,1H)、5.81(m,1H) 生成物の光学純度は、光学活性なシフト試薬（＋）−Eu
(DPPM)3 〔（＋）−トリス[ ジ（ペルフルオロ-2-プロ
ポキシプロピオニル）メタナート] ユウロピウム(III)
、第一化学薬品株式会社製〕を用いて、1H-NMR分析に
より測定したところエンド体（2S,5S,6R）は90％eeであ
った。またエキソ体は収量がごくわずかであるために測
定不可能であった。 旋光度：［α］30 D ＝＋163 °（c ＝0.285,クロロホル
ム）
テトライソプロポキシチタン2.98ml（10ミリモル）とヘ
キサン５mlを加え、これに四塩化チタン1.10ml（10ミリ
モル）を加え、室温で10分間撹拌した。その後、室温で
３時間放置し白色の結晶を沈澱させた。溶媒をシリンジ
で抜取り、ヘキサン５mlを加え再結晶を行った。この操
作を２回繰り返し、減圧下で乾燥すると白色のジイソプ
ロポキシジクロロチタンが3.09ｇ得られた。これに、ト
ルエン43mlを加えて、0.3Nの溶液を調製した。一方、25
mlのフラスコにモレキュラーシーブ４Ａ（アルドリッチ
社製）の粉末を 0.5ｇ入れ、アルゴン置換を充分行った
後、塩化メチレン５mlを加え、更に上記で調製したジイ
ソプロポキシジクロロチタンのトルエン溶液を0.33ml
(0.1ミリモル）、（Ｒ）−ビナフトール28.6mg（ 0.1ミ
リモル）を加え、室温で１時間撹拌し、（Ｒ）−ビナフ
トール−ジクロロチタン錯体を調製した。この溶液をド
ライアイス−アセトン浴で−70℃に冷却した後、グリオ
キシル酸メチル88mg（１ミリモル）を加え、更に、１−
メトキシ−1,3 −ペンタジエンを0.196g（２ミリモル）
加えた。−10℃で１時間反応した後、炭酸水素ナトリウ
ム水溶液10mlを加え反応を停止し、セライト上で濾過
し、ジエチルエーテル20mlで１回、酢酸エチルで２回抽
出を行い無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ 200メッシ
ュ、展開溶媒はヘキサン：酢酸エチル＝10：１）で精製
し、目的とする光学活性な２−メトキシ−５−メチル−
６−メトキシカルボニル−5,6 −ジヒドロピランを0.23
ｇ（収率63％）得た。1 H-NMRの結果より、エンド体：エキソ体の生成比は97：
３であった。1 H-NMR (CDCl3)δppm : エンド体 (2S,5S,6R) : 1.04(d,J=6.8Hz,3H)、2.25(m,1H)、3.53(s,3H)、 3.79(s,3H)、4.43(d,J=3.6Hz,1H)、5.16(bs,1H) 、 5.62(m,1H)、6.02(m,1H) エキソ体 (2R,5R,6R) : 1.05(d,J=7.2Hz,3H)、2.55(m,1H)、3.45(s,3H)、 3.82(s,3H)、4.09(d,J=10.4Hz,1H) 、4.95(m,1H)、 5.73(m,1H)、5.81(m,1H) 生成物の光学純度は、光学活性なシフト試薬（＋）−Eu
(DPPM)3 〔（＋）−トリス[ ジ（ペルフルオロ-2-プロ
ポキシプロピオニル）メタナート] ユウロピウム(III)
、第一化学薬品株式会社製〕を用いて、1H-NMR分析に
より測定したところエンド体（2S,5S,6R）は90％eeであ
った。またエキソ体は収量がごくわずかであるために測
定不可能であった。 旋光度：［α］30 D ＝＋163 °（c ＝0.285,クロロホル
ム）
【００１５】実施例２ 実施例１と同様の試薬量及び操作により、（Ｒ）−ビナ
フトール−ジクロロチタン錯体の溶液を得、このものを
ドライアイス−アセトン浴で−70℃に冷却した後、グリ
オキシル酸メチル88mg（１ミリモル）を加え、更に１−
メトキシ−２−メチル−1,3 −ペンタジエン 224mg（２
ミリモル）を加えた。−30℃で１時間反応した後、炭酸
水素ナトリウム水溶液10mlを加え、反応を停止し、セラ
イト上でろ過し、ジエチルエーテル20mlで１回、酢酸エ
チル20mlで２回抽出を行い、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（ 200メッシュ、展開溶媒はヘキサン：酢酸エチ
ル＝10：１）で精製し、目的とする光学活性な２−メト
キシ−3,5 −ジメチル−６−メトキシカルボニル−5,6
−ジヒドロピランを108mg（収率54％）得た。1 H-NMRの結果より、エンド体：エキソ体の生成比は98：
２であった。1 H-NMR (CDCl3)δppm : エンド体 (2S,5S,6R) : 1.01(d,J=7.0Hz,3H)、1.66(m,3H)、2.46(m,1H)、 3.48(s,3H)、3.78(s,3H)、4.38(d,J=3.5Hz,1H)、 5.04(m,1H)、5.73(m,1H) エキソ体 (2R,5R,6R) : 1.02(d,J=7.1Hz,3H)、1.72(m,3H)、 2.51(m,1H)、3.46(s,3H)、3.81(s,3H)、 4.03(d,J=10.5Hz,1H) 、4.73(m,1H)、5.43(m,1H) 光学純度：エンド体：88％ee エキソ体：収量がごくわずかであるため測定不能
フトール−ジクロロチタン錯体の溶液を得、このものを
ドライアイス−アセトン浴で−70℃に冷却した後、グリ
オキシル酸メチル88mg（１ミリモル）を加え、更に１−
メトキシ−２−メチル−1,3 −ペンタジエン 224mg（２
ミリモル）を加えた。−30℃で１時間反応した後、炭酸
水素ナトリウム水溶液10mlを加え、反応を停止し、セラ
イト上でろ過し、ジエチルエーテル20mlで１回、酢酸エ
チル20mlで２回抽出を行い、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（ 200メッシュ、展開溶媒はヘキサン：酢酸エチ
ル＝10：１）で精製し、目的とする光学活性な２−メト
キシ−3,5 −ジメチル−６−メトキシカルボニル−5,6
−ジヒドロピランを108mg（収率54％）得た。1 H-NMRの結果より、エンド体：エキソ体の生成比は98：
２であった。1 H-NMR (CDCl3)δppm : エンド体 (2S,5S,6R) : 1.01(d,J=7.0Hz,3H)、1.66(m,3H)、2.46(m,1H)、 3.48(s,3H)、3.78(s,3H)、4.38(d,J=3.5Hz,1H)、 5.04(m,1H)、5.73(m,1H) エキソ体 (2R,5R,6R) : 1.02(d,J=7.1Hz,3H)、1.72(m,3H)、 2.51(m,1H)、3.46(s,3H)、3.81(s,3H)、 4.03(d,J=10.5Hz,1H) 、4.73(m,1H)、5.43(m,1H) 光学純度：エンド体：88％ee エキソ体：収量がごくわずかであるため測定不能
【００１６】参考例１ 実施例１と同様の試薬量及び操作により（Ｒ）−ビナフ
トール−ジクロロチタン錯体の溶液を得、このものをド
ライアイス−アセトン浴で−70℃に冷却した後、グリオ
キシル酸メチル88mg（１ミリモル）を加え、更に、３−
エチレン−4,5−ジヒドロピラン 220mg（２ミリモル）
を加えた。−30℃で３時間反応した後、炭酸水素ナトリ
ウム水溶液10mlを加え反応を停止し、セライト上でろ過
し、ジエチルエーテル20mlで１回、酢酸エチル20mlで２
回抽出を行い無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ 200メ
ッシュ、展開溶媒はヘキサン：酢酸エチル＝10：１）で
精製し、目的とする光学活性な3,6,7,8a−テトラヒドロ
−2H,5H −ピラノ［ 2,3−ｂ］ピラン−２−カルボン酸
メチルを123mg （収率62％）得た。1H-NMRの結果より、
シス体とトランス体の生成比は89：11であった。1 H-NMR (CDCl3)δppm : シス体（2R,8aS) :1.68(m,2H) 、2.33(m,4H)、3.63(m,1H)、3.78(s,3H)、 4.06(m,1H)、4.38(dd,J=4.4,9.2Hz,1H) 、5.14(br,s,1H) 、 5.64(m,1H) トランス体(2R,8aR)：1.68(m,2H)、2.33(m,4H)、3.65(m,1H)、3.79(s,3H)、 4.06(m,1H)、4.47(dd,J=7.0,8.2Hz,1H) 、4.98(br,s,1H) 、 5.64(m,1H) 光学純度： シス体(2R,8aS)：86％ee トランス体(2R,8aR)：収量がごくわずかであるため測定
不能。
トール−ジクロロチタン錯体の溶液を得、このものをド
ライアイス−アセトン浴で−70℃に冷却した後、グリオ
キシル酸メチル88mg（１ミリモル）を加え、更に、３−
エチレン−4,5−ジヒドロピラン 220mg（２ミリモル）
を加えた。−30℃で３時間反応した後、炭酸水素ナトリ
ウム水溶液10mlを加え反応を停止し、セライト上でろ過
し、ジエチルエーテル20mlで１回、酢酸エチル20mlで２
回抽出を行い無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ 200メ
ッシュ、展開溶媒はヘキサン：酢酸エチル＝10：１）で
精製し、目的とする光学活性な3,6,7,8a−テトラヒドロ
−2H,5H −ピラノ［ 2,3−ｂ］ピラン−２−カルボン酸
メチルを123mg （収率62％）得た。1H-NMRの結果より、
シス体とトランス体の生成比は89：11であった。1 H-NMR (CDCl3)δppm : シス体（2R,8aS) :1.68(m,2H) 、2.33(m,4H)、3.63(m,1H)、3.78(s,3H)、 4.06(m,1H)、4.38(dd,J=4.4,9.2Hz,1H) 、5.14(br,s,1H) 、 5.64(m,1H) トランス体(2R,8aR)：1.68(m,2H)、2.33(m,4H)、3.65(m,1H)、3.79(s,3H)、 4.06(m,1H)、4.47(dd,J=7.0,8.2Hz,1H) 、4.98(br,s,1H) 、 5.64(m,1H) 光学純度： シス体(2R,8aS)：86％ee トランス体(2R,8aR)：収量がごくわずかであるため測定
不能。
【００１７】
【発明の効果】本発明は、触媒として光学活性なビナフ
トール−チタン錯体を使用することにより、ジエン化合
物とグリオキシル酸エステルとから高い光学純度で光学
活性ジヒドロピラン誘導体を製造することができる工業
的に優れた方法である。
トール−チタン錯体を使用することにより、ジエン化合
物とグリオキシル酸エステルとから高い光学純度で光学
活性ジヒドロピラン誘導体を製造することができる工業
的に優れた方法である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 ＺＨ．ＯＲＧ．ＫＨＩＭ．，23〜３！ （1987）Ｐ．494−498
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式（２） 【化１】 （式中、Ｒ１及びＲ４はそれぞれ低級アルキル基又は低
級アルコキシ基を示し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ水素原
子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基を示す）で表
わされるジエン化合物と、一般式（３） 【化２】 （式中、Ｒ５は低級アルキル基を示す）で表わされるグ
リオキシル酸エステルとを、式（４）、 【化３】 （式中、Ｘは塩素原子又は臭素原子を示す）で表わされ
る光学活性ビナフトール−チタン錯体の存在下に反応せ
しめることを特徴とする一般式（１） 【化４】 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は前記と同じ
意味を有する）で表わされる光学活性ジヒドロピラン誘
導体の製法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3011580A JP2704794B2 (ja) | 1991-01-08 | 1991-01-08 | 光学活性ジヒドロピラン誘導体の製法 |
| US07/668,656 US5155240A (en) | 1990-09-05 | 1991-03-13 | Process for producing optically active dihydropyran derivative |
| CA002038243A CA2038243A1 (en) | 1990-09-05 | 1991-03-14 | Process for producing optically active dihydropyran derivative |
| DE1992601873 DE69201873T2 (de) | 1991-01-08 | 1992-01-08 | Verfahren zur Herstellung optisch aktiver Dihydropyranderivate. |
| EP92300153A EP0494771B1 (en) | 1991-01-08 | 1992-01-08 | Process for producing optically active dihydropyran derivatives |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3011580A JP2704794B2 (ja) | 1991-01-08 | 1991-01-08 | 光学活性ジヒドロピラン誘導体の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04235179A JPH04235179A (ja) | 1992-08-24 |
| JP2704794B2 true JP2704794B2 (ja) | 1998-01-26 |
Family
ID=11781850
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3011580A Expired - Fee Related JP2704794B2 (ja) | 1990-09-05 | 1991-01-08 | 光学活性ジヒドロピラン誘導体の製法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0494771B1 (ja) |
| JP (1) | JP2704794B2 (ja) |
| DE (1) | DE69201873T2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10360060A1 (de) * | 2003-12-19 | 2005-07-21 | Basell Polyolefine Gmbh | Verfahren zur meso-selektiven Synthese von anso-Metallocen |
-
1991
- 1991-01-08 JP JP3011580A patent/JP2704794B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-01-08 DE DE1992601873 patent/DE69201873T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-01-08 EP EP92300153A patent/EP0494771B1/en not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| ＺＨ．ＯＲＧ．ＫＨＩＭ．，２３〜３！（１９８７）Ｐ．４９４−４９８ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0494771A1 (en) | 1992-07-15 |
| JPH04235179A (ja) | 1992-08-24 |
| DE69201873T2 (de) | 1995-12-07 |
| DE69201873D1 (de) | 1995-05-11 |
| EP0494771B1 (en) | 1995-04-05 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |