JP2617706B2 - 3α,5−シクロ−22,23−ジヒドロキシ−5α−ステロイド化合物 - Google Patents

3α,5−シクロ−22,23−ジヒドロキシ−5α−ステロイド化合物

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JP2617706B2
JP2617706B2 JP60092199A JP9219985A JP2617706B2 JP 2617706 B2 JP2617706 B2 JP 2617706B2 JP 60092199 A JP60092199 A JP 60092199A JP 9219985 A JP9219985 A JP 9219985A JP 2617706 B2 JP2617706 B2 JP 2617706B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ブラシノライド類を製造する為の重要な中
間体である新規なステロイド化合物に関する。さらに詳
しく言えば、本発明は、一般式、 (式中、Xは水酸基でYが水素原子を表すか又は両者で
オキソ基を表し、2つのR′は、それぞれ、水素原子、
アシル基、シリル基、アルコキシカルボニル基又はベン
ジル基を表すか又は2つのR′が一緒になってアルキリ
デン基又はカルボニル基を表し、22位および23位の立体
配置は、22R,23R又は22S,23Sであり、R″及びRは、
それぞれ、水素原子又は低級アルキル基を表す。但し、
XとYが一緒になってオキソ基を表す場合はR″は水素
原子又はS配位のメチル基で、かつRはイソプロピル
基である。)で表わされる新規な3α,5−シクロ−5α
−ステロイド化合物に関する。
ブラシノライド、すなわち、(2R,3S,22R,23R,24S)
−2,3,22,23−テトラヒドロキシ−24−メチル−B−ホ
モ−7−オキサ−5α−コレスタ−6−オン、はセイヨ
ウアブラナ(Brassicanapus L.)の花粉から単離さ
れ、構造決定された物質であり、ステロイド骨格を有す
る植物生長促進作用のある第6番目の植物ホルモンと目
されている化合物である。ブラシノライドの合成法は、
これまでに、数多く(10報以上)発表されているが、多
くは下記のスキーム1で示される工程(Siddallらの方
法)を経て行われている。
このSiddallらの方法は、式XX→XXIで示される工程に
おいては、高価で取扱いが面倒な試薬であるジボランが
用いられており、そのため、この方法は、工業的規模で
の合成に用いるには適当な方法とは云えない。
本発明者らは、ブラシノライド合成につき工業的方法
を研究した結果、本発明にかかる新規なステロイド化合
物を中間体として経由して、工業的規模で容易にブラシ
ノライド類を合成し得る方法を開発した。
本発明によれば、先のSiddallらの方法に比べ容易に
安価に、下記式XV−aで表わされる化合物を合成するた
めの中間体として有用な新規化合物が提供される。
さらに上記式XV−cで示される新規化合物は、22,23
−ジアセチルブラシノライド合成のための重要な中間体
であり又上記の化合物(XV−a)と同様なブラシノライ
ドの中間体でもある。
本発明により提供される新規なステロイド化合物は、
化合物XV−cの重要な中間体であり、また、28−ノルブ
ラシノライドの合成中間体である上記式XV−gで表わさ
れる化合物合成の重要な中間体でもある。
この様に、本発明にかかる前記式(A)で表わされる
ステロイド化合物は新規な化合物でありブラシノライド
及びその誘導体又はその類縁体の合成において極めて、
有用な物質である。
次に、本発明に係る新規なステロイド化合物の製造方
法を下記に示すスキーム2、スキーム3、スキーム4お
よびスキーム5で参照して説明する。(化合物は、いず
れも各スキーム中に示した式の数字をもつて記述する) スキーム4 Siddallらの方法やその他の既知文献記載の方法又は
本発明者らが新たに開発した方法(後述)で得られた既
知化合物XIIIをメチルエチルケトン(MEK)中でメシル
化し、ついで含水MEK中で炭酸水素カリウムなどの塩基
で処理すると化合物II−aが得られる。これを酸化する
と容易に化合物I−aが得られる。(スキーム2) さらに本発明者らが新たに開発した方法(後述)で得
られた新規化合物XBをアセチル化やアセトニド化を行つ
た後又は行わないで接触還元すれば、容易に収率良く化
合物II−c、II−a又はII−bが得られる。化合物II−
bをアセトニド化すれば容易に化合物II−aが得られ
る。化合物II−a、化合物II−cを酸化すると、収率良
く化合物I−a、化合物I−cが得られる(スキーム
3)。
本発明者らが新たに開発した方法(後述)で得られた
新規化合物XI Bをたとえばアセチル化した後接触還元す
ると、収率良く化合物II−gが得られる。この化合物
は、容易に化合物I−gに変換することができる(スキ
ーム4)。この化合物は、いわゆる、28−ノルブラシノ
ライドの有用な中間体である。
この様な方法により、化合物I−a、I−c、I−g
や化合物II−a、II−b、II−c、II−gは、既知化合
物XIIIや新規化合物XB、XI Bより容易に収率良く得られ
る。
上述の既知化合物XIII、新規化合物XB、XI Bを製造す
るためには、以下の如き方法による。
既知化合物XIIIについては、Siddallの方法をはじめ
多くの合成法が報告されているが、工業的に製造するた
めの方法としては適当な方法は見出されていない。
本発明者らは、既知化合物VI Aから短工程で収率良く
化合物XIIIを得る方法を見い出した。すなわち、化合物
VI Aに3−メチル−1−ブチニルリチウムを作用させる
と、新規化合物VII Aが得られる(22R:22S=3:2)。カ
ラム精製により、この22R体と22S体とを分離し、22S体
はMITSUNOBU反応などにより22R体に転換する。22RのVII
AをP2−Ni触媒を使つて接触還元しついで酸化すると、
新規化合物IX Aが得られる。これをトリメチルアルミニ
ウムとn−ブチルリチウムにて処理し既知化合物XAを通
算収率35%(IX Aの回収を考慮した収率41%)で得るこ
とができる(この方法をシクロメチルエーテル法と称す
る:下記スキーム5、実施例1参照)。
スキーム5 化合物XAは、Siddallらの方法に従い、式XA→XII→XI
IIの順序で変換することができる。
新規化合物XBは以下の如くして得ることができる。ス
キーム6に示される様にスチグマステロールIIIをメシ
ル化した後、炭酸ソーダなどの塩基の存在下に、ベンジ
ルアルコール中で加熱、攪拌することにより、新規ベン
ジルエーテルVBを得、この物質をオゾン酸化して、新規
アルデヒドVI Bとし、先のシクロメチルエーテル法と同
様にして反応を行い、式、VI B→VII B→VIII B→IX B
→XB+XI Bの順序で化合物XBおよび化合物XI Bが得られ
る。スチグマステロールよりのXBの通算収率は19.5%で
ある(IX Bの回収を考慮すれば23.7%)。この方法をシ
クロベンジルエーテル法と称する。なお化合物XI Bは化
合物XBを得る際の副生物として得られる(実施例5参
照)。
本発明で得られた化合物I−a、I−c、I−gはス
キーム6に示される様にブラシノライド又は28−ノルブ
ラシノライドにすることができる(下記スキーム6参
照)。
スキーム6 化合物I−aに、N,N−ジメチルホルムアミド中で触
媒量のp−トルエンスルホン酸と臭化リチウムを添加
し、加熱することにより、収率良く既知化合物XV−aを
得ることができる。化合物XV−aよりブラシノライドへ
導くにはSiddallらの方法又は池川らの方法(J.Chem.So
c.Perkin Trans.I 1984 139)によることができる。化
合物I−c、I−gは、化合物I−aの際の方法と同様
に処理することにより、収率良く新規化合物XV−c、XV
−gを得ることができる。化合物XV−c、XV−gをオス
ミウム酸化後2,3−ジオールをアセトニド化すると、新
規化合物XXIV−c、XXIV−gが得られ、副生物であるXX
V−c、XXV−gを容易に分離することができる。化合物
XXIV−cをバリヤービリガー酸化することにより、22,2
3−ジアセチルブラシノライドXXVIを得ることができ
る。化合物XXVIを脱アセチルするとブラシノライドを得
ることができる。化合物XXIV−gをアルカリにて脱アセ
チル化を行つた後、酸性にして脱アセトニドを行うと、
既知化合物28−ノルカスタステロンXXVIIIを得ることが
できる。
以下に、本発明に係る新規化合物の製造例を具体例を
もつて説明する。実施例中、化合物に付した数字は、い
ずれも前掲の各スキーム中に示した式の数字である。
実施例1 (1)(22R,23R,24S)−3α,5−シクロ−6β−ベン
ジルオキシ−22,23−ジヒドロキシ−24−メチル−5α
−コレスタン(XB)の製造 スチグマステロール20.7gにTHF 100ml、トリエチルア
ミン9.8mlを加え5℃に冷却し、これに、メタンスルホ
ニルクロリド5.05mlを4〜8℃で滴下する。1時間攪拌
した後、これに、ベンジルアルコール100mlおよび粉末
無水炭酸ソーダ7.95gを加え50〜60℃で25時間攪拌す
る。さらに、AcOEtおよび水を加え、分液し、有機層を
水洗し、減圧で濃縮した後、1Torrにてベンジルアルコ
ールを真空蒸留して回収する。蒸留残留物を、シリカゲ
ル250g、ベンゼン/n−ヘキサン=1/4〜1/3で展開する
と、24S−エチル−3α,5−シクロ−6β−ベンジルオ
キシ−5α−コレスト−22E−エン(VB)16.47gが得ら
れる。
NMRよりベンゼン4%含有、純度を考慮した収率:62.9
%。
化合物(VB)16.47gを、塩化メチレン250mlに溶解
し、これに、メタノール125mlおよび重炭酸ソーダ16gを
加え−70℃に冷却する。これにオゾンを、反応液が青く
着色するまで、吹き込む。次に、窒素ガスを吹き込み過
剰のオゾンを除いた後、ジメチルスルフィド20mlを加え
−60℃→−20℃/3時間攪拌した後、冷凍庫(−25℃)で
一夜放置する。生成物に、水を加え、分液し、塩化メチ
レン層を2%食塩水、飽和食塩水で洗浄し、MgSO4で乾
燥し、減圧で濃縮した後、シリカゲル250g、AcOEt/n−
ヘキサン=1/15でカラム精製すると、3α,5−シクロ−
6β−ベンジルオキシ−20S−ホルミル−5α−プレグ
ナン(VI B)11.04gが得られる。NMRより純度92%。収
率:76.8% 1,1−ジブロム−3−メチル−1−ブテン6.84g及びTH
F 120mlを窒素雰囲気下−65℃に冷却する。1.8N n−ブ
チルリチウムヘキサン溶液34mlを−65〜−60℃にて滴下
する。滴下後−60→−40℃で30分間攪拌する。全体を−
70℃に冷却した後、3α,5−シクロ−6β−ベンジルオ
キシ−20S−ホルミル−5α−プレグナン(VI B)9.14g
をTHF 60mlに溶解した液を、−70〜−68℃にて滴下す
る。滴下後−72〜−68℃で1時間、−70℃→0℃で2時
間攪拌する。生成物に飽和塩化アンモン水溶液および、
エーテルを加えた後水を加え、分液し、有機層をとる。
有機層を5%食塩水、飽和食塩水にて洗浄した後、MgSO
4で乾燥し、減圧で濃縮する。生成物を、シリカゲル200
g、AcOEt/n−ヘキサン=1/10にて展開すると(22R)−
3α,5−シクロ−6β−ベンジルオキシ−22−ヒドロキ
シ−5α−コレスタ−23−イン(VII B)4.76g(m.p.15
5〜156℃)、と(22S)−3α,5−シクロ−6β−ベン
ジルオキシ−22−ヒドロキシ−5α−コレスタ−23−イ
ン3.62g(アモルファス固体)が得られる。この(22S)
体はMITSUNOBU反応により22R体(VII B)に収率72.6%
で転換することができた。
次に、別に、酢酸ニッケル1.0gを95%エタノール20ml
に溶解し、これに1M NaBH4エタノール溶液8mlを滴下
し、次いで、エチレンジアミン0.54mlを加えた後、これ
に上記の22R体(VII B)8.0g及びエタノール80mlを加え
系内を水素雰囲気として接触還元する。この還元反応の
後、反応液にエーテル100ml、セライト(濾過助剤)2g
を加え濾過し、濾液を減圧濃縮乾固する。生成物に、エ
ーテルおよび水を加え、分液し、有機層を水洗し、MgSO
4で乾燥した後、減圧濃縮する。(22R)−3α,5−シク
ロ−6β−ベンジルオキシ−22−ヒドロキシ−5α−コ
レスト−23−エン(VIII B)が得られる。
この物質を、塩化メチレン400mlに溶解し、5℃に冷
却し、これに、メタクロロ過安息香酸(P=88.3%)8.
5gを加え、3〜5℃で2.5時間攪拌する。反応生成物
に、0.5N苛性ソーダ水溶液200mlを加え分液し、有機層
を水洗し、MgSO4で乾燥し、減圧濃縮する。生成物を、
シリカゲル200g、AcOEt/n−ヘキサン1/6〜1/3にてカラ
ム精製すると、(22R,23S,24R)−3α,5−シクロ−6
β−ベンジルオキシ−22−ヒドロキシ−23,24−エポキ
シ−5α−コレスタン(IX B)7.58g(アモルファスな
固体)が得られる。
化合物(IX B)5.07gをn−ヘキサン500mlに溶解し系
内を窒素雰囲気とし−70℃に冷却し、これに、19%トリ
メチルアルミヘキサン溶液50ml、15%n−ブチルリチウ
ムヘキサン溶液6mlを加える。−70℃で1時間、−70℃
→+10℃で4時間攪拌する。ついで−40℃まで冷却しメ
タノールを加えてトリメチルアルミニウムを分解した
後、エーテルおよび、1N−苛性ソーダ水溶液を加える。
分液し、有機層をとり水洗し、MgSO4で乾燥し、減圧で
濃縮する。これをシリカゲル200g、AcOEt/n−ヘキサン
=1/5〜1/3にて展開すると、 原料(IX B) 0.89g 目的物(X B) 3.05g 副生成物(XI B) 0.56g が得られる。
化合物XB:NMR(200MHz)δ:0.39(1H,q)、0.66(1H,
t)、3.00(1H,b.S)、3.6(1H,m)、3.75(1H,m)、4.
60(2H,q)、7.38(5H,d) EI/MS m/e:522、431、422、414、330、313、91 (2)(22R,23R,24S)−3α,5−シクロ−22,23−イソ
プロピリデンジオキシ−24−メチル−5α−コレスタ−
6β−オール(II−a)の製造 上記(1)で得られた化合物(XB)252mgをAcOEt 30m
lに溶解し、これに、5% Pd−C触媒(50% wet品)12
6mgを加え、水素雰囲気で接触還元を行う。TLCにより原
料がなくなったことを確認した後、触媒を濾去し、濾液
を濃縮乾固するとTLCで、ほぼ1spotの(22R,23R,24S)
−3α,5−シクロ−22,23−ジヒドロキシ−24−メチル
−5α−コレスタ−6β−オール(II−b)200mgが得
られる。このものをクロロホルム20mlに溶かし、これ
に、p−トルエンスルホン酸10mgおよびアセトンジメチ
ルアセタール0.10mlを加え、10℃/30分間攪拌する。次
いで、重曹水を加え洗浄した後、MgSO4で乾燥し、減圧
で濃縮乾固すると、粗化合物(II−a)が得られる。こ
のものは、このまま、次の工程に使用することができる
が、これをメタノールより再結晶すると、m.p.187〜189
℃の精製物(II−a)が得られる。
NMR(200MHz)δ:0.30(1H,q)、0.53(1H,t)、3.29
(1H,s)、3.77(1H,q)、3.89(1H,d) 実施例2 (22R,23R,24S)−3α,5−シクロ−22,23−イソプロピ
リデンジオキシ−24−メチル−5α−コレスタ−6−オ
ン(I−a) 実施例1で得られた(22R,23R,24S)−3α,5−シク
ロ−22,23−イソプロピリデンジオキシ−24−メチル−
5α−コレスタ−6β−オール(II−a)1418mgをアセ
トン30mlとAcOEt 30mlの混合液に溶解し、5℃に冷却す
る。この溶液を攪拌しつつ、これにジョオンズ試薬1.2m
lを滴下する。全体を、5℃で30分間攪拌した後、冷水1
00ml中にあけ、これに、AcOEt 100mlを加え分液する。
有機層を水、重曹水、食塩水の順序で洗浄した後、MgSO
4で乾燥し、減圧で濃縮乾固する。(22R,23R,24S)−3
α,5−シクロ−22,23−イソプロピリデンジオキシ−24
−メチル−5α−コレスタ−6−オン(I−a)1342mg
が得られる。
このものはそのまま次の工程で使用することができる
が、AcOEtで再結晶するとm.p.159〜161℃の精製品を得
ることができる。
NMR(200MHz)δ:2.43(1H,m)、3.77(1H,q)、3.88
(1H,d) EI/MS m/e:471、455、399、395、355、171、142、99 実施例3 (22R,23R,24S)−3α,5−シクロ−22,23−イソプロピ
リデンジオキシ−24−メチル−5α−コレスタ−6−オ
ン(I−a) 実施例1、(1)で得られた(22R,23R,24S)−3α,
5−シクロ−6β−ベンジルオキシ−22,23−ジヒドロキ
シ−24−メチル−5α−コレスタン(XB)2.80gをAcOEt
60mlに溶解し、これに、アセトンジメチルアセタール
1.4ml、p−トルエンスルホン酸140mgを加え1時間攪拌
する。生成物に、重曹水を加え、分液し、有機層をMgSO
4にて乾燥し、減圧で濃縮すると、粗(22R,23R,24S)−
3α,5−シクロ−6β−ベンジルオキシ−22,23−イソ
プロピリデンジオキシ−24−メチル−5α−コレスタン
(XVI B−a)が得られる。このものを、AcOEt 60mlに
溶解し、5% pd−Cを触媒として用いて、接触還元を
行う。生成物をTLCにしてチェックし、原料がなくなっ
たことを確認した後、触媒を濾過する。(濾液を濃縮乾
固すると化合物II−aが得られるがここではそのまま次
の工程に使用する)この濾液を5℃に冷却し、これに、
ジョオンズ試薬1.7mlを滴下する。滴下後、1時間攪拌
する。反応液を水、重曹水、食塩水にて順次洗浄した後
MgSO4にて乾燥し、減圧で濃縮乾固する。生成物をシリ
カゲル100g、AcOEt/ベンゼン=1/30〜1/15にて展開する
と、化合物(I−a)2.26gが得られた。これを、AcOEt
より再結晶するとm.p.159〜161℃の化合物(I−a)が
得られる。
実施例4 (22R,23R,24S)−3α,5−シクロ−22,23−ジアセトキ
シ−24−メチル−5α−コレスタ−6−オン(I−c) 実施例1、(1)で得られた(22R,23R,24S)−3α,
5−シクロ−6β−ベンジルオキシ−22,23−ジヒドロキ
シ−24−メチル−5α−コレスタン(XB)2.092gを、ピ
リジン10mlに溶解し、5℃に冷却する。これに、無水酢
酸1.89mlおよびN,N−ジメチルアミノピリジン40mgを加
え、5℃で1時間、次いで室温で16時間攪拌する。生成
物に、AcOEtおよび水を加え、AcOEt層を分離し、冷1N−
塩酸、水、重曹水、食塩水で順次洗浄する。生成物を、
MgSO4で乾燥し、減圧で濃縮乾固すると、アモルファス
固体の(22R,23R,24S)−3α,5−シクロ−6β−ベン
ジルオキシ−22,23−ジアセトキシ−24−メチル−5α
−コレスタン(XVI B−c)2.29gが得られる。
NMR(60MHz)δ:1.98(6H,d)、2.95(1H,b.s.)、4.55
(2H,q)、5.25(2H,q)、7.3(5H,d) 化合物(XVI B−c)をAcOEt 80mlに溶解し、これ
に、5% Pd−C 0.5gを加え室温にて接触還元する。TLC
で原料がなくなったことをチェックした後、触媒を濾去
し、濾液を減圧で濃縮乾固すると、アモルファス固体の
(22R,23R,24S)−3α,5−シクロ−22,23−ジアセトキ
シ−24−メチル−5α−コレスタ−6β−オール(II−
c)2.18gが得られた。
NMR(60MHz)δ:1.98(6H,d)、3.23(1H,b.s.)、5.25
(2H,q) 化合物(II−c)2.18gをAcOEt 50mlに溶解し、5℃
に冷却して、これに、ジョオンズ試薬1.25mlを滴下す
る。生成物を5℃で1時間攪拌した後、反応液を水、重
曹水、食塩水の順序で洗浄し、MgSO4で乾燥した後減圧
で濃縮乾固すると、粗(22R,23R,24S)−3α,5−シク
ロ−22,23−ジアセトキシ−24−メチル−5α−コレス
タ−6−オン(I−c)2.06gが得られる。これを一
部、AcOEt−メタノールにて再結晶すると、精製物(I
−c)が得られる。m.p.173.5〜174.5℃ 実施例5 28−ノルカスタステロン(XXVIII) 実施例1、(1)で得られた副生成物3α,5−シクロ
−22R,23R−ジヒドロキシ−6β−ベンジルオキシ−5
α−コレスト−24−エン(XI B)600mgを、ピリジン6ml
に溶解し5℃に冷却する。これに、無水酢酸1mlおよび
N,N−ジメチルアミノピリジン10mgを加え5〜15℃で18
時間攪拌する。生成物に、水、AcOEtを加え、分液し、A
cOEt層を水、1N−HCl、水、重曹水で順次洗浄し、MgSO4
で乾燥し、減圧濃縮すると、化合物(XVIII)が得られ
る。これを、AcOEt 30mlに溶解し、これに、5%Pd−C
触媒(50% wet品)600mgを加えて水素雰囲気にて室温
下接触還元を行う。水素の吸収が止ったら触媒を濾去
し、濾液を濃縮乾固する。これをシリカゲル30g、AcOEt
/ベンゼン=1/5にてカラム精製すると、3α,5−シクロ
−22R,23R−ジアセトキシ−5α−コレスタ−6β−オ
ール(II−g)480mgが得られる。これをAcOEt 20mlに
溶解し、5℃にてジョーンズ酸化すると粗化合物(I−
g)460mgが得られる。これをメタノールより再結晶す
ると、m.p.176〜178℃の針状晶の(I−g)が得られ
る。
参考例1 (1)(22R,23R,24S)−22,23−ジアセトキシ−24−メ
チル−5α−コレスト−2−エン−6−オン(XV−c)
の製造 粗化合物(I−c)1.86gをDMF 16mlに溶解し、これ
に、p−トルエンスルホン酸68mgおよび臭化リチウム19
0mgを加え155〜157℃にて、1時間半、還流煮沸を行
う。反応液を氷水中にあけ、AcOEtにて抽出する。AcOEt
層を水、重曹水、食塩水の順序に洗浄し、MgSO4で乾燥
し、減圧で濃縮する。次いでシリカゲル80g、AcOEt/ベ
ンゼン=1/25〜1/15にて展開すると、(22R,23R,24S)
−22,23−ジアセトキシ−24−メチル−5α−コレスト
−2−エン−6−オン(XV−c)1.37gが得られる。こ
のものをメタノールより、懸濁精製すると、m.p.210〜2
13℃の精製物(XV−c)が得られる。
NMR(200MHz)δ:2.02(3H,s)、2.04(3H,s)、5.21
(1H,d)、5.38(1H,d)、5.56〜5.85(2H,m) (2)ブラシノライド(XXVII)の製造 前記(1)で得られた(22R,23R,24S)−22,23−ジア
セトキシ−24−メチル−5α−コレスト−2−エン−6
−オン(XV−c)1.32gをtert−ブタノール50ml、THF 1
5mlおよび水5mlよりなる溶液に溶解し、これに、N−メ
チルモルホリンオキシド1.0gおよび四酸化オスミウム32
mgを加え、室温で8時間攪拌する。さらに、亜硫酸ソー
ダ水溶液を加え30分間攪拌した後、AcOEtおよび水を加
え、分液し、このAcOEt層を1N−HCl、水、重曹水で洗浄
した後、MgSO4で乾燥し、減圧で濃縮乾固すると化合物
(XXIII−c)が得られる。これを、クロロホルム60ml
に溶解し、これに、アセトンジメチルアセタール0.75ml
およびp−トルエンスルホン酸50mgを加え、室温で、1
時間攪拌する。さらに、重曹水を加え、クロロホルム層
をとり、それをMgSO4で乾燥し、減圧で濃縮乾固する。
これをシリカゲル50g、AcOEt/n−ヘキサン=1/3〜1/2で
カラム精製すると、(2R,3S,22R,23R,24S)−2,3−イソ
プロピリデンジオキシ−22,23−ジアセトキシ−24−メ
チル−5α−コレスタ−6−オン(XXIV−c)1.07gが
得られる。m.p.181.0〜181.5℃ 化合物(XXIV−c)720mgを、塩化メチレン25mlに溶
解し、これに、粉末Na2HPO4 3g及び無水トリフロロ酢酸
1.66mlより調製したトリフロロ過酢酸塩化メチレン溶液
を加え、0°→20℃で3時間攪拌する。生成物に水およ
びCH2Cl2を加え、分液し、このCH2Cl2層を水、重曹水で
洗浄しMgSO4で乾燥し、濃縮乾固すると、粗(2R,3S,22
R,23R,24S)−2,3−ジヒドロキシ−22,23−ジアセトキ
シ−24−メチル−B−ホモ−7−オキサ−5α−コレス
タ−6−オン700mgが得られる。これに、メタノール50m
l、水5mlおよび苛性ソーダ1.5gを加え、2時間還流煮沸
を行う。生成物を冷却した後、塩酸を加えpHを1とした
後、室温で1時間攪拌する。これに、水100mlを加え、
1時間攪拌した後、生成する結晶を濾取すると、粗ブラ
シノライド550mgが得られる。これをメタノールで再結
晶すると、m.p.274〜278℃の針状晶のブラシノライドが
得られた。
参考例2 (22R,23R,24S)−22,23−イソプロピリデンジオキシ−
24−メチル−5α−コレスト−2−エン−6−オン(XV
−a) 実施例3で得られた粗化合物(I−a)1177mgをN,N
−ジメチルホルムアミド(DMF)10mlに溶解し、これ
に、p−トルエンスルホン酸48mgおよび臭化リチウム13
2mgを加え、155〜157℃にて、2時間還流煮沸する。反
応液を氷水中にあけAcOEtにて抽出する。有機層を水、
重曹水、食塩水の順序で洗浄した後、MgSO4で乾燥し、
減圧で濃縮乾固する。生成物をシリカゲル100gおよびAc
OEt/ベンゼン=1/100〜1/50にて展開すると化合物(XV
−a)932mgが得られた。m.p.236〜238℃(MeOHより再
結晶) NMR(200MHz)δ:3.77(1H,q)、3.88(1H,d)、5.61
(1H,m)、5.74(1H,m) 参考例3 粗化合物(I−g)400mgをDMF 4mlに溶解し、これに、
p−トルエンスルホン酸20mgおよび臭化リチウム50mgを
加え、155〜157℃にて2時間還流煮沸を行う。生成物
に、AcOEtおよび水を加え、AcOEt層をとり、水、重曹水
で洗浄した後、MgSO4で乾燥し、減圧で濃縮乾固する
と、22R,23R−ジアセトキシ−5α−コレスト−2−エ
ン−6−オン(XV−g)370mgが得られる。これを参考
例1(2)の操作に準じて、使用する試薬、溶媒等は全
て参考例1(2)の使用量の30%の量とし、オスミウム
酸化、アセトニド化し、カラム精製すると、プリズム状
晶の(2R,3S,22R,23R)−2,3−イソプロピリデンジオキ
シ−22,23−ジアセトキシ−5α−コレスタ−6−オン
(XXIV−g)215mgが得られる。m.p.184〜187℃。
化合物(XXIV−g)100mgに、メタノール5ml、2N苛性
ソーダ水溶液1mlを加え、2時間還流煮沸を行う。生成
物を冷却した後、2N−塩酸1.2mlおよび水5mlを加え、室
温で1時間攪拌した後、結晶を濾取すると28−ノルカス
タステロン(XXVIII)70mgが得られる。これを、AcOEt
−メタノールより再結晶すると、m.p.258〜260℃の精製
晶が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−181300(JP,A) J.AM.CHEM.SOC.Vo l.105 No.13(1980)P.6580− 6581

Claims (11)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式 (式中、Xは水酸基でYが水素原子を表すか又は両者で
    オキソ基を表し、2個のR′は、それぞれ、水素原子、
    アシル基、シリル基、アルコキシカルボニル基又はベン
    ジル基を表すか又は2つのR′が一緒になってアルキリ
    デン基又はカルボニル基を表し、22位および23位の立体
    配置は、22R,23R又は22S,23Sであり、R″及びRは、
    それぞれ、水素原子又は低級アルキル基を表す。但し、
    XとYが一緒になってオキソ基を表す場合はR″は水素
    原子又はS配位のメチル基で、かつRはイソプロピル
    基である。) で表わされるステロイド化合物。
  2. 【請求項2】一般式 (式中、R′は、それぞれ、水素原子、アシル基、シリ
    ル基、アルコキシカルボニル基又はベンジル基を表すか
    又は2つのR′が一緒になってアルキリデン基又はカル
    ボニル基を表し、22位、23位の立体配置は22R,23R又は2
    2S,23Sであり、R″は、水素原子又はメチル基を表す) で表わされる特許請求の範囲第1項記載のステロイド化
    合物。
  3. 【請求項3】一般式 (式中、R′は、それぞれ、水素原子、アシル基、シリ
    ル基、アルコキシカルボニル基又はベンジル基を表すか
    又は2つのR′が一緒になってアルキリデン基又はカル
    ボニル基を表し、22位、23位の立体配置は22R,23R又は2
    2S,23Sであり、R″及びRは、それぞれ、水素原子又
    は低級アルキル基を表す) で表わされる特許請求の範囲第1項記載のステロイド化
    合物。
  4. 【請求項4】上記のR′が、水素原子である特許請求の
    範囲第1項記載のステロイド化合物。
  5. 【請求項5】上記のR′が、アシル基である特許請求の
    範囲第1項記載のステロイド化合物。
  6. 【請求項6】2つのR′が一緒になってアルキリデン基
    を形成している特許請求の範囲第1項記載のステロイド
    化合物。
  7. 【請求項7】ステロイド化合物が、(22R,23R,24S)−
    3α,5−シクロ−22,23−ジアセトキシ−24−メチル−
    5α−コレスタ−6−オンである特許請求の範囲第2項
    記載のステロイド化合物。
  8. 【請求項8】ステロイド化合物が、(22R,23R,24S)−
    3α,5−シクロ−22,23−イソプロピリデンジオキシ−2
    4−メチル−5α−コレスタ−6−オンである特許請求
    の範囲第2項記載のステロイド化合物。
  9. 【請求項9】ステロイド化合物が、(22R,23R,24S)−
    3α,5−シクロ−22,23−ジヒドロキシ−24−メチル−
    5α−コレスタ−6β−オールである特許請求の範囲第
    3項記載のステロイド化合物。
  10. 【請求項10】ステロイド化合物が、(22R,23R,24S)
    −3α,5−シクロ−22,23−ジアセトキシ−24−メチル
    −5α−コレスタ−6β−オールである特許請求の範囲
    第3項記載のステロイド化合物。
  11. 【請求項11】ステロイド化合物が、(22R,23R,24S)
    −3α,5−シクロ−22,23−イソプロピリデンジオキシ
    −24−メチル−5α−コレスタ−6β−オールである特
    許請求の範囲第3項記載のステロイド化合物。
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