JPS61251697A - 6,6−エチレンジオキシ−3−ヒドロキシ−20S−ホルミル−5α−プレグナン化合物 - Google Patents
6,6−エチレンジオキシ−3−ヒドロキシ−20S−ホルミル−5α−プレグナン化合物Info
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- JPS61251697A JPS61251697A JP9220085A JP9220085A JPS61251697A JP S61251697 A JPS61251697 A JP S61251697A JP 9220085 A JP9220085 A JP 9220085A JP 9220085 A JP9220085 A JP 9220085A JP S61251697 A JPS61251697 A JP S61251697A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はブラシノライド類の中間体として極めて重要な
役割を有する一般式 (式中、Rは、水素原子、シリル基、トリチル基、t−
ブチル基又はベンジル基を表わす)で表わされる新規な
6.6−エチレンジオキシ−3−ヒドロキシ−208−
ホルミル−5a−プレグナン化合物に関する。
役割を有する一般式 (式中、Rは、水素原子、シリル基、トリチル基、t−
ブチル基又はベンジル基を表わす)で表わされる新規な
6.6−エチレンジオキシ−3−ヒドロキシ−208−
ホルミル−5a−プレグナン化合物に関する。
セイヨウアブラナ(Brasaica napus L
、 )の花粉から単離され、構造決定されたブラシノラ
イド[(2R,3B、22R,,25R,248) −
2,3,22,23−テトラヒドロキシ−24−メチル
−B−ホモ−7−オキサ−5α−コレスタ−6−オン〕
ハ、ステロイド骨格を有する植物生長促進作用のある第
6番目の植物ホルモンと目されている化合物である。
、 )の花粉から単離され、構造決定されたブラシノラ
イド[(2R,3B、22R,,25R,248) −
2,3,22,23−テトラヒドロキシ−24−メチル
−B−ホモ−7−オキサ−5α−コレスタ−6−オン〕
ハ、ステロイド骨格を有する植物生長促進作用のある第
6番目の植物ホルモンと目されている化合物である。
そのブラシノライドの合成法は多く発表され〕
ているが、本発明者らは、文献未載の6.6−エチレン
ジオキシ−3−ヒドロキシ−208−ホルミル−5α−
プレグナン類を合成し、それを中間体として使用するこ
とによりブラシノライド化合物を、収率良く得ることに
成功した。
ジオキシ−3−ヒドロキシ−208−ホルミル−5α−
プレグナン類を合成し、それを中間体として使用するこ
とによりブラシノライド化合物を、収率良く得ることに
成功した。
5iddallらは、J、Am、 Chem、 Soc
、 102 6580(1980)において下記のスキ
ーム1に示される7’ロセスな経てブラシノライドを合
成することを報告している。
、 102 6580(1980)において下記のスキ
ーム1に示される7’ロセスな経てブラシノライドを合
成することを報告している。
〔スキーム1〕
そして、その後、このスキーム1中に示された中間体を
使って多(のブラシノライド合成法が発表されている。
使って多(のブラシノライド合成法が発表されている。
本発明者らは、上記の式(XV)の化合物を経由するこ
とな(式(Xn)で表わされる化合物を収率良く合成す
る新しい方法を提供することに成功した。この方法を、
スキーム2に示す。
とな(式(Xn)で表わされる化合物を収率良く合成す
る新しい方法を提供することに成功した。この方法を、
スキーム2に示す。
これにつき説明すると、既知化合物(II)の6位のオ
キソ基をケタール化した後、3位の水酸基なシリル基、
トリチル基、t−ブチル基、ベンジル基等の保護基によ
り保護する。次K、オゾン酸化を行った後、ジメチルス
ルフィド等で還元的にオシニドを分解すると、式(1)
で示されるアルデヒドが、収率良(得られる。このもの
は、必要に応じ、カラムクロマトグラフィー等の一般的
精製方法にて精製することができる。
キソ基をケタール化した後、3位の水酸基なシリル基、
トリチル基、t−ブチル基、ベンジル基等の保護基によ
り保護する。次K、オゾン酸化を行った後、ジメチルス
ルフィド等で還元的にオシニドを分解すると、式(1)
で示されるアルデヒドが、収率良(得られる。このもの
は、必要に応じ、カラムクロマトグラフィー等の一般的
精製方法にて精製することができる。
式(1)で示されるアルデヒドを3−メチル−1−ブテ
ニルリチウムと反応させると、式(7)の化合物と式(
Vl)の化合物の混合物が得られる。この混合物は一般
的な分離方法九とえばカラムクロマトグラフィー、再結
晶法等による方法により、容易に化合物(V)と化合物
(Vl)とに分離することができる。
ニルリチウムと反応させると、式(7)の化合物と式(
Vl)の化合物の混合物が得られる。この混合物は一般
的な分離方法九とえばカラムクロマトグラフィー、再結
晶法等による方法により、容易に化合物(V)と化合物
(Vl)とに分離することができる。
化合物(■)は、たとえばMITSUNOBU反応によ
り容易に、化合物(V)へ異性化することができる。
り容易に、化合物(V)へ異性化することができる。
化合物(V)を、P2−Ni触媒等で還元した後、エポ
キシ化すると、化合物(■)が、収率良く得られる。
キシ化すると、化合物(■)が、収率良く得られる。
化合物(■)を、たとえば、n−ヘキサン溶媒中、トリ
メチルアルミニウムとn−プチルリチウ1を用いて反応
させると化合物(X)が収率良く得られる。
メチルアルミニウムとn−プチルリチウ1を用いて反応
させると化合物(X)が収率良く得られる。
化合物(IX)の22.23位ジオールなアセトニド化
した後、3位、6位の保護基を除去すると、既知化合物
(XI)が化合物(1)より通算収率32.5チ、(1
) −(xVi)まテノ通算収率28%((■)の回収
を考慮し比値)で得られた。この収率は、現在までに発
表されている化合物(M)(又は(罰))の合成法の中
では最も高い収率である。
した後、3位、6位の保護基を除去すると、既知化合物
(XI)が化合物(1)より通算収率32.5チ、(1
) −(xVi)まテノ通算収率28%((■)の回収
を考慮し比値)で得られた。この収率は、現在までに発
表されている化合物(M)(又は(罰))の合成法の中
では最も高い収率である。
以上に述べた方法の説明から、明らかなように本発明に
係る式(1)で表わされるアルデヒドを中間体に使用す
ることにより収率良(ブラシノライドあるいはその類縁
体を得ることができる。
係る式(1)で表わされるアルデヒドを中間体に使用す
ることにより収率良(ブラシノライドあるいはその類縁
体を得ることができる。
式(Ill)〜(■)で表わされる化合物は、いずれも
、本発明者らにより初めて製造された新規化合物である
。
、本発明者らにより初めて製造された新規化合物である
。
以下に、本発明に係る化合物の製造例を具体的に記載す
る。実施例中化合物名に付した番号(1)〜(XIV)
は、いずれも式に示された番号である。
る。実施例中化合物名に付した番号(1)〜(XIV)
は、いずれも式に示された番号である。
実施例 1
6.6−エチレンジオキシ−248−エチル−5α−コ
レスト−22E−エン−3β−オール3β−ヒドロキシ
−248−エチル−5α−コレスト−22E−エン−6
−オン(If) 54.9 fに、2,2−ジメチル−
1,3〜ジオキソラン350sd、p−トルエンスルホ
ン酸1.Ofを加t、s、s時間還流煮沸する。
レスト−22E−エン−3β−オール3β−ヒドロキシ
−248−エチル−5α−コレスト−22E−エン−6
−オン(If) 54.9 fに、2,2−ジメチル−
1,3〜ジオキソラン350sd、p−トルエンスルホ
ン酸1.Ofを加t、s、s時間還流煮沸する。
反応混合物を、冷却した後、これに10%炭酸カリ水溶
液を加え、次いで、分液し、有機層を無水Na2SO4
で乾燥した後、減圧濃縮すると、!6.6−ニチレンジ
オキシー248−エチル−5α−コレスト−22E−二
y−3β−、t−ルQIl)40.72が得られる。
液を加え、次いで、分液し、有機層を無水Na2SO4
で乾燥した後、減圧濃縮すると、!6.6−ニチレンジ
オキシー248−エチル−5α−コレスト−22E−二
y−3β−、t−ルQIl)40.72が得られる。
実施例 2
6.6−エチレンジオキシ−3β−第3ブチルジメチル
シリルオキシ−2DB−ホルミル−5α−プレグナン(
1−a) 実施例1で得られた粗6,6−ニチレンジオキシー24
8−エチル−5α−コレスト−22E−エン−6β−オ
ール(2)17.7Fを、N、N−ジメチルホルムアミ
ド(DMF) 250 *に溶解する。これにイミダゾ
ール5.091および第3ブチルジメチルクロロシラン
11,21tを加え室温→38℃で%18時間攪拌する
。この反応液を、n−へキサンと水との混合液中にあけ
、次いで、分液する。有機層を、水洗した後、無水Na
2804で乾燥し、減圧濃縮する。得られた生成物を
、塩化メチレン500−およびメタノール250−に溶
解し、これIc、 NaHCO315fを加え、−60
〜−67℃にて、オゾンを吹き込む。反応液が青くなっ
たら、オゾンの吹き込みを止め、窒素ガスを30分間吹
き込む。
シリルオキシ−2DB−ホルミル−5α−プレグナン(
1−a) 実施例1で得られた粗6,6−ニチレンジオキシー24
8−エチル−5α−コレスト−22E−エン−6β−オ
ール(2)17.7Fを、N、N−ジメチルホルムアミ
ド(DMF) 250 *に溶解する。これにイミダゾ
ール5.091および第3ブチルジメチルクロロシラン
11,21tを加え室温→38℃で%18時間攪拌する
。この反応液を、n−へキサンと水との混合液中にあけ
、次いで、分液する。有機層を、水洗した後、無水Na
2804で乾燥し、減圧濃縮する。得られた生成物を
、塩化メチレン500−およびメタノール250−に溶
解し、これIc、 NaHCO315fを加え、−60
〜−67℃にて、オゾンを吹き込む。反応液が青くなっ
たら、オゾンの吹き込みを止め、窒素ガスを30分間吹
き込む。
次いで、ジメチルスルフィド50wtを加え、−60→
−20℃で3時間攪拌した後、冷凍庫(−25℃)で、
−夜装置する。
−20℃で3時間攪拌した後、冷凍庫(−25℃)で、
−夜装置する。
その後、反応液を、水および食塩水で洗浄した後、1i
a2sO4で乾燥し、減圧濃縮する。
a2sO4で乾燥し、減圧濃縮する。
生成物を、Merck silicagel 4773
4 (以下、単K、シリカゲルと略記する) 4 o
o t、Ac0Et/n−ヘキサン%5〜〆0を用いて
カラム精製すると、アモルファス固体の6,6−エチレ
ンジオキシ−3β−第3ブチルジメチルシリルオキシ−
208−ホルミ/I/−56−1しff7 (f−a)
13.IC1が得られる。化合物(Iりよりの収率:
84.5%。
4 (以下、単K、シリカゲルと略記する) 4 o
o t、Ac0Et/n−ヘキサン%5〜〆0を用いて
カラム精製すると、アモルファス固体の6,6−エチレ
ンジオキシ−3β−第3ブチルジメチルシリルオキシ−
208−ホルミ/I/−56−1しff7 (f−a)
13.IC1が得られる。化合物(Iりよりの収率:
84.5%。
NMR(60MHz) J : 0.04 (6H,S
)、0.87(9H,s)、2.04〜:26(IH,
m)、3.54(IH,b、s、)、3.55〜4.1
(4H,m)、9s2(IH,d) IR(cm−’) 1730 実施例 3 6.6−エチレンジオキシ−3β−トリフエニルメトキ
シ−208−ホルミル−5a−プレグナン実施例1で得
られた粗6,6−ニチレンジオキシー248−エチル−
5α−コレスト−22E−エン−6β−オール@)6.
5tを、ピリジン40mに溶解し、これにトリチルクロ
リド675tを加え、加熱し、3.5時間還流煮沸を行
う。次いで、冷却した後、これにヘキサンおよび水を加
える。このヘキサン層を取り、水、メタノール、1N−
塩酸、水、重曹水の順序で洗浄した後Na2804で乾
燥し、減圧、濃縮乾固する。生成物を、シリカゲル15
09%ACOEt/n−ヘキサン= 1Ao−’Asに
てカラム精製すると、6,6−エチレンジオキシ−3β
−トリフエニルメトキシ−248−エチル−5α−コレ
スト−222−エン7、98 tが得られる。(このも
のをEtOHより再結晶すると、m、p、 155〜1
56℃の結晶が得られる。)カラム精製し7’C6,6
−ニチレンジオキシー3β−) IJフェニルメトキシ
−248−エチル−5α−コレスト−22に一エン7、
20 t ヲm化メチレン200mg、メタノール10
0mに溶解し、これに、NaHCO310tを加え実施
例1と同様にして、オゾン酸化、後処理、カラム精製を
行うと、アモルファスな固体4.90tが得られる。収
率:(56,0チ。
)、0.87(9H,s)、2.04〜:26(IH,
m)、3.54(IH,b、s、)、3.55〜4.1
(4H,m)、9s2(IH,d) IR(cm−’) 1730 実施例 3 6.6−エチレンジオキシ−3β−トリフエニルメトキ
シ−208−ホルミル−5a−プレグナン実施例1で得
られた粗6,6−ニチレンジオキシー248−エチル−
5α−コレスト−22E−エン−6β−オール@)6.
5tを、ピリジン40mに溶解し、これにトリチルクロ
リド675tを加え、加熱し、3.5時間還流煮沸を行
う。次いで、冷却した後、これにヘキサンおよび水を加
える。このヘキサン層を取り、水、メタノール、1N−
塩酸、水、重曹水の順序で洗浄した後Na2804で乾
燥し、減圧、濃縮乾固する。生成物を、シリカゲル15
09%ACOEt/n−ヘキサン= 1Ao−’Asに
てカラム精製すると、6,6−エチレンジオキシ−3β
−トリフエニルメトキシ−248−エチル−5α−コレ
スト−222−エン7、98 tが得られる。(このも
のをEtOHより再結晶すると、m、p、 155〜1
56℃の結晶が得られる。)カラム精製し7’C6,6
−ニチレンジオキシー3β−) IJフェニルメトキシ
−248−エチル−5α−コレスト−22に一エン7、
20 t ヲm化メチレン200mg、メタノール10
0mに溶解し、これに、NaHCO310tを加え実施
例1と同様にして、オゾン酸化、後処理、カラム精製を
行うと、アモルファスな固体4.90tが得られる。収
率:(56,0チ。
NMR(60MHz ) δ 二 5.05〜4.1
(5H、m) 、 6.9〜7.8 (15B 。
(5H、m) 、 6.9〜7.8 (15B 。
m)、9.47(1a、a)
IR(!−’) 1727
実施例 4
6.6−エチレンジオキシ−3β−ヒドロキシ−208
−ホルミル−5α−プレグナン 実施例1で得られた粗6,6−ニチレンジオキシー24
8−エチル−5α−コレスト−22B−エン−3β−オ
ール(IIOo、s2pを、テトラヒドロフラン(TH
F) 15 dK溶解し、これにイミダゾール0.57
tおよびトリメチルクロロシラン11−を加え約35℃
で6時間、次いで約55℃で1時間攪拌する。
−ホルミル−5α−プレグナン 実施例1で得られた粗6,6−ニチレンジオキシー24
8−エチル−5α−コレスト−22B−エン−3β−オ
ール(IIOo、s2pを、テトラヒドロフラン(TH
F) 15 dK溶解し、これにイミダゾール0.57
tおよびトリメチルクロロシラン11−を加え約35℃
で6時間、次いで約55℃で1時間攪拌する。
次いで、溶媒を減圧、留去し友後、n−ヘキサンおよび
水を加える。有機層なとり、Na2804で乾燥し、減
圧濃縮した後、シリカゲル35t。
水を加える。有機層なとり、Na2804で乾燥し、減
圧濃縮した後、シリカゲル35t。
Ac OE t/n 7 ヘキサン= !4o −V4
n Vcて、カラム精製すると、アモルファスな固体の
6,6−エチレンジオキシ−3β−トリメチルシリルオ
キシ−248−エチル−5α−コレスト−22g−二7
0.79 tが得られる。
n Vcて、カラム精製すると、アモルファスな固体の
6,6−エチレンジオキシ−3β−トリメチルシリルオ
キシ−248−エチル−5α−コレスト−22g−二7
0.79 tが得られる。
これを、塩化メチレン4o―およびメタノール20sd
K溶解し、これに、NaHCO3tit ヲ加;c−実
施例2と同様圧してオゾン酸化、後処理、カラム精製(
シリカゲル30 f 、 Ac0Et/n −ヘキサ7
=’A −5A)すると、アモルファスな固体ノロ、
6−エチレンジオキシ−3β−ヒドロキシ−208−ホ
ルミル−5α−プレグナン0.43tが得られる。
K溶解し、これに、NaHCO3tit ヲ加;c−実
施例2と同様圧してオゾン酸化、後処理、カラム精製(
シリカゲル30 f 、 Ac0Et/n −ヘキサ7
=’A −5A)すると、アモルファスな固体ノロ、
6−エチレンジオキシ−3β−ヒドロキシ−208−ホ
ルミル−5α−プレグナン0.43tが得られる。
(上記のオゾン酸化の後処理中に、トリメチルシリル基
が切断除去され、6位が水酸基となる)NMR(60M
Hz) a : 2.78(IH,s)、3.49(I
H,b、s、)、3.5〜42 (4H、m)、9.5
4(in、a)IR(備−’) : 1725 実施例 5 (22R,23R,24B) −6,6−ニチレンジオ
キシー22゜23−ジヒドロキシ−24−メチル−3β
−第3ブチルジメチルシリルオキシ−5α−コレスタン
(K) 1.1−ジブロム−3−メチル−1−ブテン7.64t
をT)IF150sfに溶解し窒素雰囲気下−65℃に
冷却する。
が切断除去され、6位が水酸基となる)NMR(60M
Hz) a : 2.78(IH,s)、3.49(I
H,b、s、)、3.5〜42 (4H、m)、9.5
4(in、a)IR(備−’) : 1725 実施例 5 (22R,23R,24B) −6,6−ニチレンジオ
キシー22゜23−ジヒドロキシ−24−メチル−3β
−第3ブチルジメチルシリルオキシ−5α−コレスタン
(K) 1.1−ジブロム−3−メチル−1−ブテン7.64t
をT)IF150sfに溶解し窒素雰囲気下−65℃に
冷却する。
この溶液に、 t8N n−ブチルリチウムヘキサン溶
液58ydを−65〜−60℃にて滴下した後、−60
→−40℃で30分間攪拌する。
液58ydを−65〜−60℃にて滴下した後、−60
→−40℃で30分間攪拌する。
次いで、−70℃に冷却後、6,6−エチレンジオキシ
−3β−第3ブチルジメチルシリルオキシ−2O8−ホ
ルミル−5α−プレグナン15.OfをTHFloow
iに溶解し九液を−70〜−68℃にて滴下して加える
。
−3β−第3ブチルジメチルシリルオキシ−2O8−ホ
ルミル−5α−プレグナン15.OfをTHFloow
iに溶解し九液を−70〜−68℃にて滴下して加える
。
この滴下後、−72〜−68℃で1時間、−70→0℃
で2時間攪拌する。次いで、飽和塩化アンモン水溶液1
2d、エーテル150−および水150−を加え、分液
する。有機層を、5%食塩水および飽和食塩水で洗浄し
た後Na2SO4°で乾燥し、減圧濃縮する。
で2時間攪拌する。次いで、飽和塩化アンモン水溶液1
2d、エーテル150−および水150−を加え、分液
する。有機層を、5%食塩水および飽和食塩水で洗浄し
た後Na2SO4°で乾燥し、減圧濃縮する。
生成物を、シリカゲル400 t Ac0Et/n−ヘ
キサン=A−Δで、カラム精製すると、22R−ヒドロ
キシ−6,6−エチレンジオキシ−3β−第3ブチルジ
メチルシリルオキシ−5α−コレスタ−26−イン(V
) 6.71 t (m、p、 165〜167℃:n
−ヘキサンより再結晶)および、より極性の高い22B
異性体(M) 4.74 f (アモルファスな固体)
が得られる。
キサン=A−Δで、カラム精製すると、22R−ヒドロ
キシ−6,6−エチレンジオキシ−3β−第3ブチルジ
メチルシリルオキシ−5α−コレスタ−26−イン(V
) 6.71 t (m、p、 165〜167℃:n
−ヘキサンより再結晶)および、より極性の高い22B
異性体(M) 4.74 f (アモルファスな固体)
が得られる。
この化合物(W) 4.74 tをTHF’ 50−に
溶解し、これに、トリフェニルホスフィン5.26tお
よび安息香酸t51?を加え5℃に冷却する。さらにア
ゾジカルボン酸エチル190−を5〜10℃で滴下して
加え、滴下後、30分間攪拌する。
溶解し、これに、トリフェニルホスフィン5.26tお
よび安息香酸t51?を加え5℃に冷却する。さらにア
ゾジカルボン酸エチル190−を5〜10℃で滴下して
加え、滴下後、30分間攪拌する。
生成物にメタノール120mおよび粉末の無水炭酸力I
J 5 tを加え50〜60℃にて2時間攪拌する。
J 5 tを加え50〜60℃にて2時間攪拌する。
この反応液を、減圧濃縮した後、Ac OE tおよび
水を加え、分液し、有機層を水洗し、Na2SO4にて
乾燥し、減圧濃縮する。生成物を、シリカゲル200
t%ACOEt/ベンゼン= ’Aa 〜Moにて、カ
ラム精製すると化合物(v)4.o2rが得られる。
水を加え、分液し、有機層を水洗し、Na2SO4にて
乾燥し、減圧濃縮する。生成物を、シリカゲル200
t%ACOEt/ベンゼン= ’Aa 〜Moにて、カ
ラム精製すると化合物(v)4.o2rが得られる。
別に、酢酸ニッケル1.Ofを95チェタノール20−
に溶解し、これにI M −NaBH4:r−タノール
溶液8−を滴下する。
に溶解し、これにI M −NaBH4:r−タノール
溶液8−を滴下する。
これに、エチレンジアミンα54WIlを加えた後、上
記の22R−ヒドロキシ−6,6−エチレンジオキシ−
3β−第3ブチルジメチルシリルオキシ−5α−コレス
ト−23−イン(v)6.75tおよびエタノール10
0−を入れ、系内な水素雰囲気処して、接触還元を行う
。
記の22R−ヒドロキシ−6,6−エチレンジオキシ−
3β−第3ブチルジメチルシリルオキシ−5α−コレス
ト−23−イン(v)6.75tおよびエタノール10
0−を入れ、系内な水素雰囲気処して、接触還元を行う
。
還元後、反応液にエーテル120−、セライト(濾過助
剤)2tを加えテ過し、テ液を減圧濃縮乾固する。生成
物に、エーテルおよび水を加え、分液し、有機層を水洗
し、Na2804で乾燥した後、減圧濃縮乾固すると、
オレフィン体6.809が得られる。m−p、 156
〜158℃。
剤)2tを加えテ過し、テ液を減圧濃縮乾固する。生成
物に、エーテルおよび水を加え、分液し、有機層を水洗
し、Na2804で乾燥した後、減圧濃縮乾固すると、
オレフィン体6.809が得られる。m−p、 156
〜158℃。
このオレフィン体6.60tを、塩化メチレン400t
dK溶解し、これに粉末の無水Na2HPO410Fお
よびメタクロo過安息香[(P=88.3%)10tを
加え、6〜5℃で2.5時間攪拌する。これKO05N
苛性ソーダ水溶液′200w1tを加え、分液し、有機
層を水洗し、Na2804で乾燥し、減圧濃縮乾固する
。生成物を、n−ヘキサンエり再結晶すると、−1ti
、5.72Fが得られる。m、p、 192.5〜19
4.5℃。
dK溶解し、これに粉末の無水Na2HPO410Fお
よびメタクロo過安息香[(P=88.3%)10tを
加え、6〜5℃で2.5時間攪拌する。これKO05N
苛性ソーダ水溶液′200w1tを加え、分液し、有機
層を水洗し、Na2804で乾燥し、減圧濃縮乾固する
。生成物を、n−ヘキサンエり再結晶すると、−1ti
、5.72Fが得られる。m、p、 192.5〜19
4.5℃。
母液を濃縮した後、カラム精製すると、0.582が得
られる。
られる。
上記により、計6.30tの(22R,238,24R
) −6,6−エチレンジオキシ−22−ヒドロキシ−
25,24−エポキシ−3−一第3ブチルジメチルシリ
ルオキシ−5α−コレスタン(■)が得られる。
) −6,6−エチレンジオキシ−22−ヒドロキシ−
25,24−エポキシ−3−一第3ブチルジメチルシリ
ルオキシ−5α−コレスタン(■)が得られる。
NMR(200MEZ )δ: o、o6(6H,a)
、α91 (9H,s)、210(1H,dd、10H
z、4Hz)、五〇9 (1H,dd 、6.7Hz
、4Hz)、3.56(IH,b、s、)、164(I
H,b、s+、)、3.72〜4.12 (4H。
、α91 (9H,s)、210(1H,dd、10H
z、4Hz)、五〇9 (1H,dd 、6.7Hz
、4Hz)、3.56(IH,b、s、)、164(I
H,b、s+、)、3.72〜4.12 (4H。
m)
EI/MSm/z : 589.575.533.48
9.475.417、エポキシ体(■)5.87rにn
−ヘキサン600ゴ及びシクロヘキサン120−を加え
、溶解し、系内を窒素雰囲気とし、−70℃に冷却する
。これに1stsトリメチルアルミニウムヘキサン溶液
60d!および15%n−ブチルリチウムヘキサン溶液
6ゴを加える。−70℃で1時間、−70°→+10℃
で4時間攪拌する。次に、−40℃まで冷却し、メタノ
ールを加えてトリメチルアルミニラムを分解した後、エ
ーテル600dおよび1N苛性ソーダ水溶液600−を
加える。次いで、分液し、有機層をとり水洗し、Na2
SO4で乾燥し、減圧濃縮する。これをシリカゲル35
0 t、 Ac0Et/n−ヘキサン=%〜%でカラム
′n裂すると、目的の(22R,23R,24B) −
6,6−ニチレンジオキシー22.23−ジヒドロキシ
−24−メチル−3β−第3ブチルジメチルシリルオキ
シ−5α−コレスタン(X) 3.259が得られる。
9.475.417、エポキシ体(■)5.87rにn
−ヘキサン600ゴ及びシクロヘキサン120−を加え
、溶解し、系内を窒素雰囲気とし、−70℃に冷却する
。これに1stsトリメチルアルミニウムヘキサン溶液
60d!および15%n−ブチルリチウムヘキサン溶液
6ゴを加える。−70℃で1時間、−70°→+10℃
で4時間攪拌する。次に、−40℃まで冷却し、メタノ
ールを加えてトリメチルアルミニラムを分解した後、エ
ーテル600dおよび1N苛性ソーダ水溶液600−を
加える。次いで、分液し、有機層をとり水洗し、Na2
SO4で乾燥し、減圧濃縮する。これをシリカゲル35
0 t、 Ac0Et/n−ヘキサン=%〜%でカラム
′n裂すると、目的の(22R,23R,24B) −
6,6−ニチレンジオキシー22.23−ジヒドロキシ
−24−メチル−3β−第3ブチルジメチルシリルオキ
シ−5α−コレスタン(X) 3.259が得られる。
NMFL(200MHz ) J : 0.05 (6
H+ a )、0.90(9H,s)、3.45〜4.
08 (7H、m) gI/MS m/z : 607.606.605.5
92.591.549,505原料工ポキシ体(■)Q
、9C1が回収された。回収分を考慮した収率は6!h
、8%である。
H+ a )、0.90(9H,s)、3.45〜4.
08 (7H、m) gI/MS m/z : 607.606.605.5
92.591.549,505原料工ポキシ体(■)Q
、9C1が回収された。回収分を考慮した収率は6!h
、8%である。
実施例 6
(22R,23R,248) −22,23−インプロ
ピリデンジオキシ−24−メチル−5α−コレスト−2
−エン−6−オン(MV)実施例5で得られた(22R
,23R,24R) −6,6−エチレンジオキシ−2
2,25−ジヒドロキシ−24−メチル−第6ブチルジ
メチルシリルオキシー5α−コレスタン(IX) 3.
049を80%酢酸5〇−に溶解し、室温で6時間攪拌
する。Ac OE tおよび水を加え、AcoEt層を
とり、水、重1水および食塩水で洗浄する。MgSO4
で乾燥した後、減圧濃縮する。
ピリデンジオキシ−24−メチル−5α−コレスト−2
−エン−6−オン(MV)実施例5で得られた(22R
,23R,24R) −6,6−エチレンジオキシ−2
2,25−ジヒドロキシ−24−メチル−第6ブチルジ
メチルシリルオキシー5α−コレスタン(IX) 3.
049を80%酢酸5〇−に溶解し、室温で6時間攪拌
する。Ac OE tおよび水を加え、AcoEt層を
とり、水、重1水および食塩水で洗浄する。MgSO4
で乾燥した後、減圧濃縮する。
生成物を、クロロホルム50dに溶解し、これに、アセ
トンジメチルアセタール2.Osd、p−トルエンスル
ホン酸30 myヲm工、 N温テ、1時間攪拌する。
トンジメチルアセタール2.Osd、p−トルエンスル
ホン酸30 myヲm工、 N温テ、1時間攪拌する。
これに重曹水を加え、分液し、クロロホルム層を、Mg
SO4で乾燥し、減圧濃縮乾固する。
SO4で乾燥し、減圧濃縮乾固する。
生成物を、TE(F 50−に溶解し、テトラn−ブチ
ルアンモニウムフロライド(n−Bu4NF、 xH2
0)6.5fを加え、55〜55℃で3時間攪拌する。
ルアンモニウムフロライド(n−Bu4NF、 xH2
0)6.5fを加え、55〜55℃で3時間攪拌する。
これに、 Ac0Rtおよび水を加え、分液し、有機層
を10ts食塩水で2回洗浄した後、MgSO4で乾燥
し、減圧濃縮乾固すると、粗(22R,23R,248
)−22,23−インプロピリデンジオキシ−24−メ
チル−6β−ヒドロキシ−5α−コレスルー6−オン(
Xl) 2.52 tが得られる。
を10ts食塩水で2回洗浄した後、MgSO4で乾燥
し、減圧濃縮乾固すると、粗(22R,23R,248
)−22,23−インプロピリデンジオキシ−24−メ
チル−6β−ヒドロキシ−5α−コレスルー6−オン(
Xl) 2.52 tが得られる。
粗生成物(Xll) 504119をシリカゲル20
t Ac0Eth−ヘキサン−2−林にてカラム精製す
ると、精製された化合物(Xll> s 76 myが
得られる。収率ニア7チ((Doより) 粗生成物国)2.02tを、’I’EF’30mK醪解
し、トリエチルアミンt15−を加え、0℃に冷却する
。これにメタンスルホニルクロリド0.46m’に肩下
して加える。次いで、5〜10℃で1時間、攪拌した後
、Ac0Ktおよび水を加え、分液する。
t Ac0Eth−ヘキサン−2−林にてカラム精製す
ると、精製された化合物(Xll> s 76 myが
得られる。収率ニア7チ((Doより) 粗生成物国)2.02tを、’I’EF’30mK醪解
し、トリエチルアミンt15−を加え、0℃に冷却する
。これにメタンスルホニルクロリド0.46m’に肩下
して加える。次いで、5〜10℃で1時間、攪拌した後
、Ac0Ktおよび水を加え、分液する。
このAc ORを層を、1N−塩酸、水、重曹水、食塩
水にて順次洗浄し、 MgSO4にて乾燥し、減圧濃縮
乾固する。
水にて順次洗浄し、 MgSO4にて乾燥し、減圧濃縮
乾固する。
生成物を、DMF20−に溶解し、これに臭化リチウム
t05tを加え、加熱し、1時間還流煮沸する。
t05tを加え、加熱し、1時間還流煮沸する。
反応混合物をAc OE を中にめけ、水を加え洗浄す
る。さらに、水および食塩水で洗浄した後、MgSO4
で乾燥し、減圧濃縮乾固する。
る。さらに、水および食塩水で洗浄した後、MgSO4
で乾燥し、減圧濃縮乾固する。
生成物を、シリカゲル50 t Ac0Kt/ベンゼン
=!4o−′Aoにてカラム精製すると、 (22h、
23u、24s)−22,23−インプロピリデンジオ
キシ−24−メチル−5α−コレスト−2−エン−6−
オン(X[V)t30rが得られる。m、p、 257
〜239℃。
=!4o−′Aoにてカラム精製すると、 (22h、
23u、24s)−22,23−インプロピリデンジオ
キシ−24−メチル−5α−コレスト−2−エン−6−
オン(X[V)t30rが得られる。m、p、 257
〜239℃。
収率: 66.5% ((IK)より)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは、水素原子、シリル基、トリチル基、t−
ブチル基又はベンジル基を表す) で表わされるプレグナン化合物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9220085A JPS61251697A (ja) | 1985-05-01 | 1985-05-01 | 6,6−エチレンジオキシ−3−ヒドロキシ−20S−ホルミル−5α−プレグナン化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9220085A JPS61251697A (ja) | 1985-05-01 | 1985-05-01 | 6,6−エチレンジオキシ−3−ヒドロキシ−20S−ホルミル−5α−プレグナン化合物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61251697A true JPS61251697A (ja) | 1986-11-08 |
Family
ID=14047798
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9220085A Pending JPS61251697A (ja) | 1985-05-01 | 1985-05-01 | 6,6−エチレンジオキシ−3−ヒドロキシ−20S−ホルミル−5α−プレグナン化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61251697A (ja) |
-
1985
- 1985-05-01 JP JP9220085A patent/JPS61251697A/ja active Pending
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
J.CHEM.SOC.PERKIN TRANS=1983 * |
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