JPS61251697A - ６，６−エチレンジオキシ−３−ヒドロキシ−２０Ｓ−ホルミル−５α−プレグナン化合物 - Google Patents
６，６−エチレンジオキシ−３−ヒドロキシ−２０Ｓ−ホルミル−５α−プレグナン化合物Info
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- JPS61251697A JPS61251697A JP9220085A JP9220085A JPS61251697A JP S61251697 A JPS61251697 A JP S61251697A JP 9220085 A JP9220085 A JP 9220085A JP 9220085 A JP9220085 A JP 9220085A JP S61251697 A JPS61251697 A JP S61251697A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はブラシノライド類の中間体として極めて重要な
役割を有する一般式 （式中、Ｒは、水素原子、シリル基、トリチル基、ｔ−
ブチル基又はベンジル基を表わす）で表わされる新規な
６．６−エチレンジオキシ−３−ヒドロキシ−２０８−
ホルミル−５ａ−プレグナン化合物に関する。
役割を有する一般式 （式中、Ｒは、水素原子、シリル基、トリチル基、ｔ−
ブチル基又はベンジル基を表わす）で表わされる新規な
６．６−エチレンジオキシ−３−ヒドロキシ−２０８−
ホルミル−５ａ−プレグナン化合物に関する。
セイヨウアブラナ（Ｂｒａｓａｉｃａ ｎａｐｕｓ Ｌ
、 ）の花粉から単離され、構造決定されたブラシノラ
イド［（２Ｒ，３Ｂ、２２Ｒ，，２５Ｒ，２４８） −
２，３，２２，２３−テトラヒドロキシ−２４−メチル
−Ｂ−ホモ−７−オキサ−５α−コレスタ−６−オン〕
ハ、ステロイド骨格を有する植物生長促進作用のある第
６番目の植物ホルモンと目されている化合物である。
、 ）の花粉から単離され、構造決定されたブラシノラ
イド［（２Ｒ，３Ｂ、２２Ｒ，，２５Ｒ，２４８） −
２，３，２２，２３−テトラヒドロキシ−２４−メチル
−Ｂ−ホモ−７−オキサ−５α−コレスタ−６−オン〕
ハ、ステロイド骨格を有する植物生長促進作用のある第
６番目の植物ホルモンと目されている化合物である。
そのブラシノライドの合成法は多く発表され〕
ているが、本発明者らは、文献未載の６．６−エチレン
ジオキシ−３−ヒドロキシ−２０８−ホルミル−５α−
プレグナン類を合成し、それを中間体として使用するこ
とによりブラシノライド化合物を、収率良く得ることに
成功した。
ジオキシ−３−ヒドロキシ−２０８−ホルミル−５α−
プレグナン類を合成し、それを中間体として使用するこ
とによりブラシノライド化合物を、収率良く得ることに
成功した。
５ｉｄｄａｌｌらは、Ｊ、Ａｍ、 Ｃｈｅｍ、 Ｓｏｃ
、 １０２ ６５８０（１９８０）において下記のスキ
ーム１に示される７’ロセスな経てブラシノライドを合
成することを報告している。
、 １０２ ６５８０（１９８０）において下記のスキ
ーム１に示される７’ロセスな経てブラシノライドを合
成することを報告している。
〔スキーム１〕
そして、その後、このスキーム１中に示された中間体を
使って多（のブラシノライド合成法が発表されている。
使って多（のブラシノライド合成法が発表されている。
本発明者らは、上記の式（ＸＶ）の化合物を経由するこ
とな（式（Ｘｎ）で表わされる化合物を収率良く合成す
る新しい方法を提供することに成功した。この方法を、
スキーム２に示す。
とな（式（Ｘｎ）で表わされる化合物を収率良く合成す
る新しい方法を提供することに成功した。この方法を、
スキーム２に示す。
これにつき説明すると、既知化合物（ＩＩ）の６位のオ
キソ基をケタール化した後、３位の水酸基なシリル基、
トリチル基、ｔ−ブチル基、ベンジル基等の保護基によ
り保護する。次Ｋ、オゾン酸化を行った後、ジメチルス
ルフィド等で還元的にオシニドを分解すると、式（１）
で示されるアルデヒドが、収率良（得られる。このもの
は、必要に応じ、カラムクロマトグラフィー等の一般的
精製方法にて精製することができる。
キソ基をケタール化した後、３位の水酸基なシリル基、
トリチル基、ｔ−ブチル基、ベンジル基等の保護基によ
り保護する。次Ｋ、オゾン酸化を行った後、ジメチルス
ルフィド等で還元的にオシニドを分解すると、式（１）
で示されるアルデヒドが、収率良（得られる。このもの
は、必要に応じ、カラムクロマトグラフィー等の一般的
精製方法にて精製することができる。
式（１）で示されるアルデヒドを３−メチル−１−ブテ
ニルリチウムと反応させると、式（７）の化合物と式（
Ｖｌ）の化合物の混合物が得られる。この混合物は一般
的な分離方法九とえばカラムクロマトグラフィー、再結
晶法等による方法により、容易に化合物（Ｖ）と化合物
（Ｖｌ）とに分離することができる。
ニルリチウムと反応させると、式（７）の化合物と式（
Ｖｌ）の化合物の混合物が得られる。この混合物は一般
的な分離方法九とえばカラムクロマトグラフィー、再結
晶法等による方法により、容易に化合物（Ｖ）と化合物
（Ｖｌ）とに分離することができる。
化合物（■）は、たとえばＭＩＴＳＵＮＯＢＵ反応によ
り容易に、化合物（Ｖ）へ異性化することができる。
り容易に、化合物（Ｖ）へ異性化することができる。
化合物（Ｖ）を、Ｐ２−Ｎｉ触媒等で還元した後、エポ
キシ化すると、化合物（■）が、収率良く得られる。
キシ化すると、化合物（■）が、収率良く得られる。
化合物（■）を、たとえば、ｎ−ヘキサン溶媒中、トリ
メチルアルミニウムとｎ−プチルリチウ１を用いて反応
させると化合物（Ｘ）が収率良く得られる。
メチルアルミニウムとｎ−プチルリチウ１を用いて反応
させると化合物（Ｘ）が収率良く得られる。
化合物（ＩＸ）の２２．２３位ジオールなアセトニド化
した後、３位、６位の保護基を除去すると、既知化合物
（ＸＩ）が化合物（１）より通算収率３２．５チ、（１
） −（ｘＶｉ）まテノ通算収率２８％（（■）の回収
を考慮し比値）で得られた。この収率は、現在までに発
表されている化合物（Ｍ）（又は（罰））の合成法の中
では最も高い収率である。
した後、３位、６位の保護基を除去すると、既知化合物
（ＸＩ）が化合物（１）より通算収率３２．５チ、（１
） −（ｘＶｉ）まテノ通算収率２８％（（■）の回収
を考慮し比値）で得られた。この収率は、現在までに発
表されている化合物（Ｍ）（又は（罰））の合成法の中
では最も高い収率である。
以上に述べた方法の説明から、明らかなように本発明に
係る式（１）で表わされるアルデヒドを中間体に使用す
ることにより収率良（ブラシノライドあるいはその類縁
体を得ることができる。
係る式（１）で表わされるアルデヒドを中間体に使用す
ることにより収率良（ブラシノライドあるいはその類縁
体を得ることができる。
式（Ｉｌｌ）〜（■）で表わされる化合物は、いずれも
、本発明者らにより初めて製造された新規化合物である
。
、本発明者らにより初めて製造された新規化合物である
。
以下に、本発明に係る化合物の製造例を具体的に記載す
る。実施例中化合物名に付した番号（１）〜（ＸＩＶ）
は、いずれも式に示された番号である。
る。実施例中化合物名に付した番号（１）〜（ＸＩＶ）
は、いずれも式に示された番号である。
実施例 １
６．６−エチレンジオキシ−２４８−エチル−５α−コ
レスト−２２Ｅ−エン−３β−オール３β−ヒドロキシ
−２４８−エチル−５α−コレスト−２２Ｅ−エン−６
−オン（Ｉｆ） ５４．９ ｆに、２，２−ジメチル−
１，３〜ジオキソラン３５０ｓｄ、ｐ−トルエンスルホ
ン酸１．Ｏｆを加ｔ、ｓ、ｓ時間還流煮沸する。
レスト−２２Ｅ−エン−３β−オール３β−ヒドロキシ
−２４８−エチル−５α−コレスト−２２Ｅ−エン−６
−オン（Ｉｆ） ５４．９ ｆに、２，２−ジメチル−
１，３〜ジオキソラン３５０ｓｄ、ｐ−トルエンスルホ
ン酸１．Ｏｆを加ｔ、ｓ、ｓ時間還流煮沸する。
反応混合物を、冷却した後、これに１０％炭酸カリ水溶
液を加え、次いで、分液し、有機層を無水Ｎａ２ＳＯ４
で乾燥した後、減圧濃縮すると、！６．６−ニチレンジ
オキシー２４８−エチル−５α−コレスト−２２Ｅ−二
ｙ−３β−、ｔ−ルＱＩｌ）４０．７２が得られる。
液を加え、次いで、分液し、有機層を無水Ｎａ２ＳＯ４
で乾燥した後、減圧濃縮すると、！６．６−ニチレンジ
オキシー２４８−エチル−５α−コレスト−２２Ｅ−二
ｙ−３β−、ｔ−ルＱＩｌ）４０．７２が得られる。
実施例 ２
６．６−エチレンジオキシ−３β−第３ブチルジメチル
シリルオキシ−２ＤＢ−ホルミル−５α−プレグナン（
１−ａ） 実施例１で得られた粗６，６−ニチレンジオキシー２４
８−エチル−５α−コレスト−２２Ｅ−エン−６β−オ
ール（２）１７．７Ｆを、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド（ＤＭＦ） ２５０ ＊に溶解する。これにイミダゾ
ール５．０９１および第３ブチルジメチルクロロシラン
１１，２１ｔを加え室温→３８℃で％１８時間攪拌する
。この反応液を、ｎ−へキサンと水との混合液中にあけ
、次いで、分液する。有機層を、水洗した後、無水Ｎａ
２８０４で乾燥し、減圧濃縮する。得られた生成物を
、塩化メチレン５００−およびメタノール２５０−に溶
解し、これＩｃ、 ＮａＨＣＯ３１５ｆを加え、−６０
〜−６７℃にて、オゾンを吹き込む。反応液が青くなっ
たら、オゾンの吹き込みを止め、窒素ガスを３０分間吹
き込む。
シリルオキシ−２ＤＢ−ホルミル−５α−プレグナン（
１−ａ） 実施例１で得られた粗６，６−ニチレンジオキシー２４
８−エチル−５α−コレスト−２２Ｅ−エン−６β−オ
ール（２）１７．７Ｆを、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド（ＤＭＦ） ２５０ ＊に溶解する。これにイミダゾ
ール５．０９１および第３ブチルジメチルクロロシラン
１１，２１ｔを加え室温→３８℃で％１８時間攪拌する
。この反応液を、ｎ−へキサンと水との混合液中にあけ
、次いで、分液する。有機層を、水洗した後、無水Ｎａ
２８０４で乾燥し、減圧濃縮する。得られた生成物を
、塩化メチレン５００−およびメタノール２５０−に溶
解し、これＩｃ、 ＮａＨＣＯ３１５ｆを加え、−６０
〜−６７℃にて、オゾンを吹き込む。反応液が青くなっ
たら、オゾンの吹き込みを止め、窒素ガスを３０分間吹
き込む。
次いで、ジメチルスルフィド５０ｗｔを加え、−６０→
−２０℃で３時間攪拌した後、冷凍庫（−２５℃）で、
−夜装置する。
−２０℃で３時間攪拌した後、冷凍庫（−２５℃）で、
−夜装置する。
その後、反応液を、水および食塩水で洗浄した後、１ｉ
ａ２ｓＯ４で乾燥し、減圧濃縮する。
ａ２ｓＯ４で乾燥し、減圧濃縮する。
生成物を、Ｍｅｒｃｋ ｓｉｌｉｃａｇｅｌ ４７７３
４ （以下、単Ｋ、シリカゲルと略記する） ４ ｏ
ｏ ｔ、Ａｃ０Ｅｔ／ｎ−ヘキサン％５〜〆０を用いて
カラム精製すると、アモルファス固体の６，６−エチレ
ンジオキシ−３β−第３ブチルジメチルシリルオキシ−
２０８−ホルミ／Ｉ／−５６−１しｆｆ７ （ｆ−ａ）
１３．ＩＣ１が得られる。化合物（Ｉりよりの収率：
８４．５％。
４ （以下、単Ｋ、シリカゲルと略記する） ４ ｏ
ｏ ｔ、Ａｃ０Ｅｔ／ｎ−ヘキサン％５〜〆０を用いて
カラム精製すると、アモルファス固体の６，６−エチレ
ンジオキシ−３β−第３ブチルジメチルシリルオキシ−
２０８−ホルミ／Ｉ／−５６−１しｆｆ７ （ｆ−ａ）
１３．ＩＣ１が得られる。化合物（Ｉりよりの収率：
８４．５％。
ＮＭＲ（６０ＭＨｚ） Ｊ ： ０．０４ （６Ｈ，Ｓ
）、０．８７（９Ｈ，ｓ）、２．０４〜：２６（ＩＨ，
ｍ）、３．５４（ＩＨ，ｂ、ｓ、）、３．５５〜４．１
（４Ｈ，ｍ）、９ｓ２（ＩＨ，ｄ） ＩＲ（ｃｍ−’） １７３０ 実施例 ３ ６．６−エチレンジオキシ−３β−トリフエニルメトキ
シ−２０８−ホルミル−５ａ−プレグナン実施例１で得
られた粗６，６−ニチレンジオキシー２４８−エチル−
５α−コレスト−２２Ｅ−エン−６β−オール＠）６．
５ｔを、ピリジン４０ｍに溶解し、これにトリチルクロ
リド６７５ｔを加え、加熱し、３．５時間還流煮沸を行
う。次いで、冷却した後、これにヘキサンおよび水を加
える。このヘキサン層を取り、水、メタノール、１Ｎ−
塩酸、水、重曹水の順序で洗浄した後Ｎａ２８０４で乾
燥し、減圧、濃縮乾固する。生成物を、シリカゲル１５
０９％ＡＣＯＥｔ／ｎ−ヘキサン＝ １Ａｏ−’Ａｓに
てカラム精製すると、６，６−エチレンジオキシ−３β
−トリフエニルメトキシ−２４８−エチル−５α−コレ
スト−２２２−エン７、９８ ｔが得られる。（このも
のをＥｔＯＨより再結晶すると、ｍ、ｐ、 １５５〜１
５６℃の結晶が得られる。）カラム精製し７’Ｃ６，６
−ニチレンジオキシー３β−） ＩＪフェニルメトキシ
−２４８−エチル−５α−コレスト−２２に一エン７、
２０ ｔ ヲｍ化メチレン２００ｍｇ、メタノール１０
０ｍに溶解し、これに、ＮａＨＣＯ３１０ｔを加え実施
例１と同様にして、オゾン酸化、後処理、カラム精製を
行うと、アモルファスな固体４．９０ｔが得られる。収
率：（５６，０チ。
）、０．８７（９Ｈ，ｓ）、２．０４〜：２６（ＩＨ，
ｍ）、３．５４（ＩＨ，ｂ、ｓ、）、３．５５〜４．１
（４Ｈ，ｍ）、９ｓ２（ＩＨ，ｄ） ＩＲ（ｃｍ−’） １７３０ 実施例 ３ ６．６−エチレンジオキシ−３β−トリフエニルメトキ
シ−２０８−ホルミル−５ａ−プレグナン実施例１で得
られた粗６，６−ニチレンジオキシー２４８−エチル−
５α−コレスト−２２Ｅ−エン−６β−オール＠）６．
５ｔを、ピリジン４０ｍに溶解し、これにトリチルクロ
リド６７５ｔを加え、加熱し、３．５時間還流煮沸を行
う。次いで、冷却した後、これにヘキサンおよび水を加
える。このヘキサン層を取り、水、メタノール、１Ｎ−
塩酸、水、重曹水の順序で洗浄した後Ｎａ２８０４で乾
燥し、減圧、濃縮乾固する。生成物を、シリカゲル１５
０９％ＡＣＯＥｔ／ｎ−ヘキサン＝ １Ａｏ−’Ａｓに
てカラム精製すると、６，６−エチレンジオキシ−３β
−トリフエニルメトキシ−２４８−エチル−５α−コレ
スト−２２２−エン７、９８ ｔが得られる。（このも
のをＥｔＯＨより再結晶すると、ｍ、ｐ、 １５５〜１
５６℃の結晶が得られる。）カラム精製し７’Ｃ６，６
−ニチレンジオキシー３β−） ＩＪフェニルメトキシ
−２４８−エチル−５α−コレスト−２２に一エン７、
２０ ｔ ヲｍ化メチレン２００ｍｇ、メタノール１０
０ｍに溶解し、これに、ＮａＨＣＯ３１０ｔを加え実施
例１と同様にして、オゾン酸化、後処理、カラム精製を
行うと、アモルファスな固体４．９０ｔが得られる。収
率：（５６，０チ。
ＮＭＲ（６０ＭＨｚ ） δ 二 ５．０５〜４．１
（５Ｈ、ｍ） 、 ６．９〜７．８ （１５Ｂ 。
（５Ｈ、ｍ） 、 ６．９〜７．８ （１５Ｂ 。
ｍ）、９．４７（１ａ、ａ）
ＩＲ（！−’） １７２７
実施例 ４
６．６−エチレンジオキシ−３β−ヒドロキシ−２０８
−ホルミル−５α−プレグナン 実施例１で得られた粗６，６−ニチレンジオキシー２４
８−エチル−５α−コレスト−２２Ｂ−エン−３β−オ
ール（ＩＩＯｏ、ｓ２ｐを、テトラヒドロフラン（ＴＨ
Ｆ） １５ ｄＫ溶解し、これにイミダゾール０．５７
ｔおよびトリメチルクロロシラン１１−を加え約３５℃
で６時間、次いで約５５℃で１時間攪拌する。
−ホルミル−５α−プレグナン 実施例１で得られた粗６，６−ニチレンジオキシー２４
８−エチル−５α−コレスト−２２Ｂ−エン−３β−オ
ール（ＩＩＯｏ、ｓ２ｐを、テトラヒドロフラン（ＴＨ
Ｆ） １５ ｄＫ溶解し、これにイミダゾール０．５７
ｔおよびトリメチルクロロシラン１１−を加え約３５℃
で６時間、次いで約５５℃で１時間攪拌する。
次いで、溶媒を減圧、留去し友後、ｎ−ヘキサンおよび
水を加える。有機層なとり、Ｎａ２８０４で乾燥し、減
圧濃縮した後、シリカゲル３５ｔ。
水を加える。有機層なとり、Ｎａ２８０４で乾燥し、減
圧濃縮した後、シリカゲル３５ｔ。
Ａｃ ＯＥ ｔ／ｎ ７ ヘキサン＝ ！４ｏ −Ｖ４
ｎ Ｖｃて、カラム精製すると、アモルファスな固体の
６，６−エチレンジオキシ−３β−トリメチルシリルオ
キシ−２４８−エチル−５α−コレスト−２２ｇ−二７
０．７９ ｔが得られる。
ｎ Ｖｃて、カラム精製すると、アモルファスな固体の
６，６−エチレンジオキシ−３β−トリメチルシリルオ
キシ−２４８−エチル−５α−コレスト−２２ｇ−二７
０．７９ ｔが得られる。
これを、塩化メチレン４ｏ―およびメタノール２０ｓｄ
Ｋ溶解し、これに、ＮａＨＣＯ３ｔｉｔ ヲ加；ｃ−実
施例２と同様圧してオゾン酸化、後処理、カラム精製（
シリカゲル３０ ｆ 、 Ａｃ０Ｅｔ／ｎ −ヘキサ７
＝’Ａ −５Ａ）すると、アモルファスな固体ノロ、
６−エチレンジオキシ−３β−ヒドロキシ−２０８−ホ
ルミル−５α−プレグナン０．４３ｔが得られる。
Ｋ溶解し、これに、ＮａＨＣＯ３ｔｉｔ ヲ加；ｃ−実
施例２と同様圧してオゾン酸化、後処理、カラム精製（
シリカゲル３０ ｆ 、 Ａｃ０Ｅｔ／ｎ −ヘキサ７
＝’Ａ −５Ａ）すると、アモルファスな固体ノロ、
６−エチレンジオキシ−３β−ヒドロキシ−２０８−ホ
ルミル−５α−プレグナン０．４３ｔが得られる。
（上記のオゾン酸化の後処理中に、トリメチルシリル基
が切断除去され、６位が水酸基となる）ＮＭＲ（６０Ｍ
Ｈｚ） ａ ： ２．７８（ＩＨ，ｓ）、３．４９（Ｉ
Ｈ，ｂ、ｓ、）、３．５〜４２ （４Ｈ、ｍ）、９．５
４（ｉｎ、ａ）ＩＲ（備−’） ： １７２５ 実施例 ５ （２２Ｒ，２３Ｒ，２４Ｂ） −６，６−ニチレンジオ
キシー２２゜２３−ジヒドロキシ−２４−メチル−３β
−第３ブチルジメチルシリルオキシ−５α−コレスタン
（Ｋ） １．１−ジブロム−３−メチル−１−ブテン７．６４ｔ
をＴ）ＩＦ１５０ｓｆに溶解し窒素雰囲気下−６５℃に
冷却する。
が切断除去され、６位が水酸基となる）ＮＭＲ（６０Ｍ
Ｈｚ） ａ ： ２．７８（ＩＨ，ｓ）、３．４９（Ｉ
Ｈ，ｂ、ｓ、）、３．５〜４２ （４Ｈ、ｍ）、９．５
４（ｉｎ、ａ）ＩＲ（備−’） ： １７２５ 実施例 ５ （２２Ｒ，２３Ｒ，２４Ｂ） −６，６−ニチレンジオ
キシー２２゜２３−ジヒドロキシ−２４−メチル−３β
−第３ブチルジメチルシリルオキシ−５α−コレスタン
（Ｋ） １．１−ジブロム−３−メチル−１−ブテン７．６４ｔ
をＴ）ＩＦ１５０ｓｆに溶解し窒素雰囲気下−６５℃に
冷却する。
この溶液に、 ｔ８Ｎ ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶
液５８ｙｄを−６５〜−６０℃にて滴下した後、−６０
→−４０℃で３０分間攪拌する。
液５８ｙｄを−６５〜−６０℃にて滴下した後、−６０
→−４０℃で３０分間攪拌する。
次いで、−７０℃に冷却後、６，６−エチレンジオキシ
−３β−第３ブチルジメチルシリルオキシ−２Ｏ８−ホ
ルミル−５α−プレグナン１５．ＯｆをＴＨＦｌｏｏｗ
ｉに溶解し九液を−７０〜−６８℃にて滴下して加える
。
−３β−第３ブチルジメチルシリルオキシ−２Ｏ８−ホ
ルミル−５α−プレグナン１５．ＯｆをＴＨＦｌｏｏｗ
ｉに溶解し九液を−７０〜−６８℃にて滴下して加える
。
この滴下後、−７２〜−６８℃で１時間、−７０→０℃
で２時間攪拌する。次いで、飽和塩化アンモン水溶液１
２ｄ、エーテル１５０−および水１５０−を加え、分液
する。有機層を、５％食塩水および飽和食塩水で洗浄し
た後Ｎａ２ＳＯ４°で乾燥し、減圧濃縮する。
で２時間攪拌する。次いで、飽和塩化アンモン水溶液１
２ｄ、エーテル１５０−および水１５０−を加え、分液
する。有機層を、５％食塩水および飽和食塩水で洗浄し
た後Ｎａ２ＳＯ４°で乾燥し、減圧濃縮する。
生成物を、シリカゲル４００ ｔ Ａｃ０Ｅｔ／ｎ−ヘ
キサン＝Ａ−Δで、カラム精製すると、２２Ｒ−ヒドロ
キシ−６，６−エチレンジオキシ−３β−第３ブチルジ
メチルシリルオキシ−５α−コレスタ−２６−イン（Ｖ
） ６．７１ ｔ （ｍ、ｐ、 １６５〜１６７℃：ｎ
−ヘキサンより再結晶）および、より極性の高い２２Ｂ
異性体（Ｍ） ４．７４ ｆ （アモルファスな固体）
が得られる。
キサン＝Ａ−Δで、カラム精製すると、２２Ｒ−ヒドロ
キシ−６，６−エチレンジオキシ−３β−第３ブチルジ
メチルシリルオキシ−５α−コレスタ−２６−イン（Ｖ
） ６．７１ ｔ （ｍ、ｐ、 １６５〜１６７℃：ｎ
−ヘキサンより再結晶）および、より極性の高い２２Ｂ
異性体（Ｍ） ４．７４ ｆ （アモルファスな固体）
が得られる。
この化合物（Ｗ） ４．７４ ｔをＴＨＦ’ ５０−に
溶解し、これに、トリフェニルホスフィン５．２６ｔお
よび安息香酸ｔ５１？を加え５℃に冷却する。さらにア
ゾジカルボン酸エチル１９０−を５〜１０℃で滴下して
加え、滴下後、３０分間攪拌する。
溶解し、これに、トリフェニルホスフィン５．２６ｔお
よび安息香酸ｔ５１？を加え５℃に冷却する。さらにア
ゾジカルボン酸エチル１９０−を５〜１０℃で滴下して
加え、滴下後、３０分間攪拌する。
生成物にメタノール１２０ｍおよび粉末の無水炭酸力Ｉ
Ｊ ５ ｔを加え５０〜６０℃にて２時間攪拌する。
Ｊ ５ ｔを加え５０〜６０℃にて２時間攪拌する。
この反応液を、減圧濃縮した後、Ａｃ ＯＥ ｔおよび
水を加え、分液し、有機層を水洗し、Ｎａ２ＳＯ４にて
乾燥し、減圧濃縮する。生成物を、シリカゲル２００
ｔ％ＡＣＯＥｔ／ベンゼン＝ ’Ａａ 〜Ｍｏにて、カ
ラム精製すると化合物（ｖ）４．ｏ２ｒが得られる。
水を加え、分液し、有機層を水洗し、Ｎａ２ＳＯ４にて
乾燥し、減圧濃縮する。生成物を、シリカゲル２００
ｔ％ＡＣＯＥｔ／ベンゼン＝ ’Ａａ 〜Ｍｏにて、カ
ラム精製すると化合物（ｖ）４．ｏ２ｒが得られる。
別に、酢酸ニッケル１．Ｏｆを９５チェタノール２０−
に溶解し、これにＩ Ｍ −ＮａＢＨ４：ｒ−タノール
溶液８−を滴下する。
に溶解し、これにＩ Ｍ −ＮａＢＨ４：ｒ−タノール
溶液８−を滴下する。
これに、エチレンジアミンα５４ＷＩｌを加えた後、上
記の２２Ｒ−ヒドロキシ−６，６−エチレンジオキシ−
３β−第３ブチルジメチルシリルオキシ−５α−コレス
ト−２３−イン（ｖ）６．７５ｔおよびエタノール１０
０−を入れ、系内な水素雰囲気処して、接触還元を行う
。
記の２２Ｒ−ヒドロキシ−６，６−エチレンジオキシ−
３β−第３ブチルジメチルシリルオキシ−５α−コレス
ト−２３−イン（ｖ）６．７５ｔおよびエタノール１０
０−を入れ、系内な水素雰囲気処して、接触還元を行う
。
還元後、反応液にエーテル１２０−、セライト（濾過助
剤）２ｔを加えテ過し、テ液を減圧濃縮乾固する。生成
物に、エーテルおよび水を加え、分液し、有機層を水洗
し、Ｎａ２８０４で乾燥した後、減圧濃縮乾固すると、
オレフィン体６．８０９が得られる。ｍ−ｐ、 １５６
〜１５８℃。
剤）２ｔを加えテ過し、テ液を減圧濃縮乾固する。生成
物に、エーテルおよび水を加え、分液し、有機層を水洗
し、Ｎａ２８０４で乾燥した後、減圧濃縮乾固すると、
オレフィン体６．８０９が得られる。ｍ−ｐ、 １５６
〜１５８℃。
このオレフィン体６．６０ｔを、塩化メチレン４００ｔ
ｄＫ溶解し、これに粉末の無水Ｎａ２ＨＰＯ４１０Ｆお
よびメタクロｏ過安息香［（Ｐ＝８８．３％）１０ｔを
加え、６〜５℃で２．５時間攪拌する。これＫＯ０５Ｎ
苛性ソーダ水溶液′２００ｗ１ｔを加え、分液し、有機
層を水洗し、Ｎａ２８０４で乾燥し、減圧濃縮乾固する
。生成物を、ｎ−ヘキサンエり再結晶すると、−１ｔｉ
、５．７２Ｆが得られる。ｍ、ｐ、 １９２．５〜１９
４．５℃。
ｄＫ溶解し、これに粉末の無水Ｎａ２ＨＰＯ４１０Ｆお
よびメタクロｏ過安息香［（Ｐ＝８８．３％）１０ｔを
加え、６〜５℃で２．５時間攪拌する。これＫＯ０５Ｎ
苛性ソーダ水溶液′２００ｗ１ｔを加え、分液し、有機
層を水洗し、Ｎａ２８０４で乾燥し、減圧濃縮乾固する
。生成物を、ｎ−ヘキサンエり再結晶すると、−１ｔｉ
、５．７２Ｆが得られる。ｍ、ｐ、 １９２．５〜１９
４．５℃。
母液を濃縮した後、カラム精製すると、０．５８２が得
られる。
られる。
上記により、計６．３０ｔの（２２Ｒ，２３８，２４Ｒ
） −６，６−エチレンジオキシ−２２−ヒドロキシ−
２５，２４−エポキシ−３−一第３ブチルジメチルシリ
ルオキシ−５α−コレスタン（■）が得られる。
） −６，６−エチレンジオキシ−２２−ヒドロキシ−
２５，２４−エポキシ−３−一第３ブチルジメチルシリ
ルオキシ−５α−コレスタン（■）が得られる。
ＮＭＲ（２００ＭＥＺ ）δ： ｏ、ｏ６（６Ｈ，ａ）
、α９１ （９Ｈ，ｓ）、２１０（１Ｈ，ｄｄ、１０Ｈ
ｚ、４Ｈｚ）、五〇９ （１Ｈ，ｄｄ 、６．７Ｈｚ
、４Ｈｚ）、３．５６（ＩＨ，ｂ、ｓ、）、１６４（Ｉ
Ｈ，ｂ、ｓ＋、）、３．７２〜４．１２ （４Ｈ。
、α９１ （９Ｈ，ｓ）、２１０（１Ｈ，ｄｄ、１０Ｈ
ｚ、４Ｈｚ）、五〇９ （１Ｈ，ｄｄ 、６．７Ｈｚ
、４Ｈｚ）、３．５６（ＩＨ，ｂ、ｓ、）、１６４（Ｉ
Ｈ，ｂ、ｓ＋、）、３．７２〜４．１２ （４Ｈ。
ｍ）
ＥＩ／ＭＳｍ／ｚ ： ５８９．５７５．５３３．４８
９．４７５．４１７、エポキシ体（■）５．８７ｒにｎ
−ヘキサン６００ゴ及びシクロヘキサン１２０−を加え
、溶解し、系内を窒素雰囲気とし、−７０℃に冷却する
。これに１ｓｔｓトリメチルアルミニウムヘキサン溶液
６０ｄ！および１５％ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液
６ゴを加える。−７０℃で１時間、−７０°→＋１０℃
で４時間攪拌する。次に、−４０℃まで冷却し、メタノ
ールを加えてトリメチルアルミニラムを分解した後、エ
ーテル６００ｄおよび１Ｎ苛性ソーダ水溶液６００−を
加える。次いで、分液し、有機層をとり水洗し、Ｎａ２
ＳＯ４で乾燥し、減圧濃縮する。これをシリカゲル３５
０ ｔ、 Ａｃ０Ｅｔ／ｎ−ヘキサン＝％〜％でカラム
′ｎ裂すると、目的の（２２Ｒ，２３Ｒ，２４Ｂ） −
６，６−ニチレンジオキシー２２．２３−ジヒドロキシ
−２４−メチル−３β−第３ブチルジメチルシリルオキ
シ−５α−コレスタン（Ｘ） ３．２５９が得られる。
９．４７５．４１７、エポキシ体（■）５．８７ｒにｎ
−ヘキサン６００ゴ及びシクロヘキサン１２０−を加え
、溶解し、系内を窒素雰囲気とし、−７０℃に冷却する
。これに１ｓｔｓトリメチルアルミニウムヘキサン溶液
６０ｄ！および１５％ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液
６ゴを加える。−７０℃で１時間、−７０°→＋１０℃
で４時間攪拌する。次に、−４０℃まで冷却し、メタノ
ールを加えてトリメチルアルミニラムを分解した後、エ
ーテル６００ｄおよび１Ｎ苛性ソーダ水溶液６００−を
加える。次いで、分液し、有機層をとり水洗し、Ｎａ２
ＳＯ４で乾燥し、減圧濃縮する。これをシリカゲル３５
０ ｔ、 Ａｃ０Ｅｔ／ｎ−ヘキサン＝％〜％でカラム
′ｎ裂すると、目的の（２２Ｒ，２３Ｒ，２４Ｂ） −
６，６−ニチレンジオキシー２２．２３−ジヒドロキシ
−２４−メチル−３β−第３ブチルジメチルシリルオキ
シ−５α−コレスタン（Ｘ） ３．２５９が得られる。
ＮＭＦＬ（２００ＭＨｚ ） Ｊ ： ０．０５ （６
Ｈ＋ ａ ）、０．９０（９Ｈ，ｓ）、３．４５〜４．
０８ （７Ｈ、ｍ） ｇＩ／ＭＳ ｍ／ｚ ： ６０７．６０６．６０５．５
９２．５９１．５４９，５０５原料工ポキシ体（■）Ｑ
、９Ｃ１が回収された。回収分を考慮した収率は６！ｈ
、８％である。
Ｈ＋ ａ ）、０．９０（９Ｈ，ｓ）、３．４５〜４．
０８ （７Ｈ、ｍ） ｇＩ／ＭＳ ｍ／ｚ ： ６０７．６０６．６０５．５
９２．５９１．５４９，５０５原料工ポキシ体（■）Ｑ
、９Ｃ１が回収された。回収分を考慮した収率は６！ｈ
、８％である。
実施例 ６
（２２Ｒ，２３Ｒ，２４８） −２２，２３−インプロ
ピリデンジオキシ−２４−メチル−５α−コレスト−２
−エン−６−オン（ＭＶ）実施例５で得られた（２２Ｒ
，２３Ｒ，２４Ｒ） −６，６−エチレンジオキシ−２
２，２５−ジヒドロキシ−２４−メチル−第６ブチルジ
メチルシリルオキシー５α−コレスタン（ＩＸ） ３．
０４９を８０％酢酸５〇−に溶解し、室温で６時間攪拌
する。Ａｃ ＯＥ ｔおよび水を加え、ＡｃｏＥｔ層を
とり、水、重１水および食塩水で洗浄する。ＭｇＳＯ４
で乾燥した後、減圧濃縮する。
ピリデンジオキシ−２４−メチル−５α−コレスト−２
−エン−６−オン（ＭＶ）実施例５で得られた（２２Ｒ
，２３Ｒ，２４Ｒ） −６，６−エチレンジオキシ−２
２，２５−ジヒドロキシ−２４−メチル−第６ブチルジ
メチルシリルオキシー５α−コレスタン（ＩＸ） ３．
０４９を８０％酢酸５〇−に溶解し、室温で６時間攪拌
する。Ａｃ ＯＥ ｔおよび水を加え、ＡｃｏＥｔ層を
とり、水、重１水および食塩水で洗浄する。ＭｇＳＯ４
で乾燥した後、減圧濃縮する。
生成物を、クロロホルム５０ｄに溶解し、これに、アセ
トンジメチルアセタール２．Ｏｓｄ、ｐ−トルエンスル
ホン酸３０ ｍｙヲｍ工、 Ｎ温テ、１時間攪拌する。
トンジメチルアセタール２．Ｏｓｄ、ｐ−トルエンスル
ホン酸３０ ｍｙヲｍ工、 Ｎ温テ、１時間攪拌する。
これに重曹水を加え、分液し、クロロホルム層を、Ｍｇ
ＳＯ４で乾燥し、減圧濃縮乾固する。
ＳＯ４で乾燥し、減圧濃縮乾固する。
生成物を、ＴＥ（Ｆ ５０−に溶解し、テトラｎ−ブチ
ルアンモニウムフロライド（ｎ−Ｂｕ４ＮＦ、 ｘＨ２
０）６．５ｆを加え、５５〜５５℃で３時間攪拌する。
ルアンモニウムフロライド（ｎ−Ｂｕ４ＮＦ、 ｘＨ２
０）６．５ｆを加え、５５〜５５℃で３時間攪拌する。
これに、 Ａｃ０Ｒｔおよび水を加え、分液し、有機層
を１０ｔｓ食塩水で２回洗浄した後、ＭｇＳＯ４で乾燥
し、減圧濃縮乾固すると、粗（２２Ｒ，２３Ｒ，２４８
）−２２，２３−インプロピリデンジオキシ−２４−メ
チル−６β−ヒドロキシ−５α−コレスルー６−オン（
Ｘｌ） ２．５２ ｔが得られる。
を１０ｔｓ食塩水で２回洗浄した後、ＭｇＳＯ４で乾燥
し、減圧濃縮乾固すると、粗（２２Ｒ，２３Ｒ，２４８
）−２２，２３−インプロピリデンジオキシ−２４−メ
チル−６β−ヒドロキシ−５α−コレスルー６−オン（
Ｘｌ） ２．５２ ｔが得られる。
粗生成物（Ｘｌｌ） ５０４１１９をシリカゲル２０
ｔ Ａｃ０Ｅｔｈ−ヘキサン−２−林にてカラム精製す
ると、精製された化合物（Ｘｌｌ＞ ｓ ７６ ｍｙが
得られる。収率ニア７チ（（Ｄｏより） 粗生成物国）２．０２ｔを、’Ｉ’ＥＦ’３０ｍＫ醪解
し、トリエチルアミンｔ１５−を加え、０℃に冷却する
。これにメタンスルホニルクロリド０．４６ｍ’に肩下
して加える。次いで、５〜１０℃で１時間、攪拌した後
、Ａｃ０Ｋｔおよび水を加え、分液する。
ｔ Ａｃ０Ｅｔｈ−ヘキサン−２−林にてカラム精製す
ると、精製された化合物（Ｘｌｌ＞ ｓ ７６ ｍｙが
得られる。収率ニア７チ（（Ｄｏより） 粗生成物国）２．０２ｔを、’Ｉ’ＥＦ’３０ｍＫ醪解
し、トリエチルアミンｔ１５−を加え、０℃に冷却する
。これにメタンスルホニルクロリド０．４６ｍ’に肩下
して加える。次いで、５〜１０℃で１時間、攪拌した後
、Ａｃ０Ｋｔおよび水を加え、分液する。
このＡｃ ＯＲを層を、１Ｎ−塩酸、水、重曹水、食塩
水にて順次洗浄し、 ＭｇＳＯ４にて乾燥し、減圧濃縮
乾固する。
水にて順次洗浄し、 ＭｇＳＯ４にて乾燥し、減圧濃縮
乾固する。
生成物を、ＤＭＦ２０−に溶解し、これに臭化リチウム
ｔ０５ｔを加え、加熱し、１時間還流煮沸する。
ｔ０５ｔを加え、加熱し、１時間還流煮沸する。
反応混合物をＡｃ ＯＥ を中にめけ、水を加え洗浄す
る。さらに、水および食塩水で洗浄した後、ＭｇＳＯ４
で乾燥し、減圧濃縮乾固する。
る。さらに、水および食塩水で洗浄した後、ＭｇＳＯ４
で乾燥し、減圧濃縮乾固する。
生成物を、シリカゲル５０ ｔ Ａｃ０Ｋｔ／ベンゼン
＝！４ｏ−′Ａｏにてカラム精製すると、 （２２ｈ、
２３ｕ、２４ｓ）−２２，２３−インプロピリデンジオ
キシ−２４−メチル−５α−コレスト−２−エン−６−
オン（Ｘ［Ｖ）ｔ３０ｒが得られる。ｍ、ｐ、 ２５７
〜２３９℃。
＝！４ｏ−′Ａｏにてカラム精製すると、 （２２ｈ、
２３ｕ、２４ｓ）−２２，２３−インプロピリデンジオ
キシ−２４−メチル−５α−コレスト−２−エン−６−
オン（Ｘ［Ｖ）ｔ３０ｒが得られる。ｍ、ｐ、 ２５７
〜２３９℃。
収率： ６６．５％ （（ＩＫ）より）。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒは、水素原子、シリル基、トリチル基、ｔ−
ブチル基又はベンジル基を表す） で表わされるプレグナン化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9220085A JPS61251697A (ja) | 1985-05-01 | 1985-05-01 | ６，６−エチレンジオキシ−３−ヒドロキシ−２０Ｓ−ホルミル−５α−プレグナン化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9220085A JPS61251697A (ja) | 1985-05-01 | 1985-05-01 | ６，６−エチレンジオキシ−３−ヒドロキシ−２０Ｓ−ホルミル−５α−プレグナン化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61251697A true JPS61251697A (ja) | 1986-11-08 |
Family
ID=14047798
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9220085A Pending JPS61251697A (ja) | 1985-05-01 | 1985-05-01 | ６，６−エチレンジオキシ−３−ヒドロキシ−２０Ｓ−ホルミル−５α−プレグナン化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61251697A (ja) |
-
1985
- 1985-05-01 JP JP9220085A patent/JPS61251697A/ja active Pending
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| J.CHEM.SOC.PERKIN TRANS=1983 * |
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