JP2584187B2 - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は洗浄装置、詳しくは、油
分等が付着した複雑な形状を有する機械部品等（以下、
ワークと言う）を有機溶剤で蒸気洗浄するための洗浄装
置に関するものである。
分等が付着した複雑な形状を有する機械部品等（以下、
ワークと言う）を有機溶剤で蒸気洗浄するための洗浄装
置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の洗浄装置としては、特開
昭５４−１１３９６５号公報、実開昭６３−１９３５８
８号公報等に開示されているように、気密構造の洗浄室
と、この洗浄室へ配管により連通する有機溶剤蒸気発生
タンク（以下、蒸気発生タンクと言う）と、前記洗浄室
内を排気する真空ポンプとで構成されているものが知ら
れている。この洗浄装置では、洗浄室内に蒸気発生タン
クから有機溶剤蒸気（以下、蒸気と言う）を供給する。
供給された蒸気は洗浄室に収納されているワークの表面
に付着して結露し、やがてワーク表面から滴下すること
により洗浄を行なうものである。
昭５４−１１３９６５号公報、実開昭６３−１９３５８
８号公報等に開示されているように、気密構造の洗浄室
と、この洗浄室へ配管により連通する有機溶剤蒸気発生
タンク（以下、蒸気発生タンクと言う）と、前記洗浄室
内を排気する真空ポンプとで構成されているものが知ら
れている。この洗浄装置では、洗浄室内に蒸気発生タン
クから有機溶剤蒸気（以下、蒸気と言う）を供給する。
供給された蒸気は洗浄室に収納されているワークの表面
に付着して結露し、やがてワーク表面から滴下すること
により洗浄を行なうものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の洗浄装置では、前記のようにして蒸気がワーク表面
に接触するため、ワーク表面の温度が徐々に上昇し、や
がてワークの表面温度が蒸気温度と等しくなって液化が
停止し、それ以上蒸気洗浄を行なうことができず、洗浄
時間が不足して洗浄不良になることがあった。したがっ
て、本発明は、簡単な機構を付加することによりワーク
表面の温度上昇を制御して十分に蒸気洗浄を行なうこと
ができ、しかも、洗浄工程から直ちに真空乾燥工程に移
行することができる洗浄装置を提供することを目的とす
る。
来の洗浄装置では、前記のようにして蒸気がワーク表面
に接触するため、ワーク表面の温度が徐々に上昇し、や
がてワークの表面温度が蒸気温度と等しくなって液化が
停止し、それ以上蒸気洗浄を行なうことができず、洗浄
時間が不足して洗浄不良になることがあった。したがっ
て、本発明は、簡単な機構を付加することによりワーク
表面の温度上昇を制御して十分に蒸気洗浄を行なうこと
ができ、しかも、洗浄工程から直ちに真空乾燥工程に移
行することができる洗浄装置を提供することを目的とす
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、請求項１は、気密構造であって蒸気流通
可能なワーク載置部材を備えた洗浄室と、該洗浄室に配
管にて連通した有機溶剤蒸気発生タンクと、前記洗浄室
内を排気する真空ポンプとで構成した洗浄装置におい
て、前記洗浄室内のワーク上方に熱媒体供給部材を配設
し、該熱媒体供給部材に冷却媒体と加熱媒体とを選択的
に供給できるようにしたものである。請求項２は、前記
有機溶剤蒸気発生タンク内を、蒸気発生槽と廃液回収槽
とに区分し、前記２つの槽をそれぞれ洗浄室と配管によ
り連通したものである。
成するために、請求項１は、気密構造であって蒸気流通
可能なワーク載置部材を備えた洗浄室と、該洗浄室に配
管にて連通した有機溶剤蒸気発生タンクと、前記洗浄室
内を排気する真空ポンプとで構成した洗浄装置におい
て、前記洗浄室内のワーク上方に熱媒体供給部材を配設
し、該熱媒体供給部材に冷却媒体と加熱媒体とを選択的
に供給できるようにしたものである。請求項２は、前記
有機溶剤蒸気発生タンク内を、蒸気発生槽と廃液回収槽
とに区分し、前記２つの槽をそれぞれ洗浄室と配管によ
り連通したものである。
【０００５】
【実施例】つぎに、本発明の実施例を図にしたがって説
明する。図１は、本発明にかかる洗浄装置の第１実施例
を示し、大略、洗浄室１と、熱媒体供給部材３と、蒸気
発生タンク４と、真空ポンプ６とからなる。前記洗浄室
１は、気密構造からなり、内部には蒸気流通可能なワー
ク載置部材８を備え、かつ、装入扉２を有するととも
に、室内上方に熱媒体供給部材３を備えている。
明する。図１は、本発明にかかる洗浄装置の第１実施例
を示し、大略、洗浄室１と、熱媒体供給部材３と、蒸気
発生タンク４と、真空ポンプ６とからなる。前記洗浄室
１は、気密構造からなり、内部には蒸気流通可能なワー
ク載置部材８を備え、かつ、装入扉２を有するととも
に、室内上方に熱媒体供給部材３を備えている。
【０００６】前記熱媒体供給部材３はフイン構造の管か
らなり、前記熱媒体供給部材３の入口側には開閉弁Ｖ1
を有する冷却媒体供給管Ｐ1が、一方、出口側には流量
調節弁Ｖｃを有する配管Ｐ4が接続されて熱媒体供給部
材３内に冷却媒体を流入できるようになっている。ま
た、スチームあるいは熱風等の加熱媒体を供給する加熱
媒体供給管Ｐ2を前記冷却媒体供給管Ｐ1から開閉弁Ｖ2
を介して分岐している。
らなり、前記熱媒体供給部材３の入口側には開閉弁Ｖ1
を有する冷却媒体供給管Ｐ1が、一方、出口側には流量
調節弁Ｖｃを有する配管Ｐ4が接続されて熱媒体供給部
材３内に冷却媒体を流入できるようになっている。ま
た、スチームあるいは熱風等の加熱媒体を供給する加熱
媒体供給管Ｐ2を前記冷却媒体供給管Ｐ1から開閉弁Ｖ2
を介して分岐している。
【０００７】前記蒸気発生タンク４は、前記洗浄室１の
下方に配設され、内部に有機溶剤Ｓを加熱するヒータ５
を備えるとともに、上部は洗浄室１の底部と蒸気導入弁
Ｖ3および液戻弁Ｖ4を介して連通している。
下方に配設され、内部に有機溶剤Ｓを加熱するヒータ５
を備えるとともに、上部は洗浄室１の底部と蒸気導入弁
Ｖ3および液戻弁Ｖ4を介して連通している。
【０００８】前記真空ポンプ６は配管Ｐ3を介して洗浄
室１内を排気するもので、大気開放弁Ｖａ，主排気弁Ｖ
ｂ，コンデンサ７を介して洗浄室１内に連通している。
室１内を排気するもので、大気開放弁Ｖａ，主排気弁Ｖ
ｂ，コンデンサ７を介して洗浄室１内に連通している。
【０００９】つぎに、前記構成からなる洗浄装置の操業
について説明する。まず、装入扉２を開き、ワークＷを
洗浄室１内の載置部材８上に装入して装入扉２を閉じ
る。ついで、真空ポンプ６を駆動するとともに主排気弁
Ｖｂを開として、洗浄室１内を１０Ｔｏｒｒ以下に排気
したのち、主排気弁Ｖｂを閉じ、これと同時に開閉弁Ｖ
1および流量調整弁Ｖｃを開として熱媒体供給部材３の
内部に冷却媒体を流入する。そして、前記蒸気導入弁Ｖ
3および液戻弁Ｖ4を開くことで、蒸気発生タンク４内で
発生している蒸気は蒸気導入弁Ｖ3から洗浄室１内に圧
力差により導入される。導入された蒸気はワークＷの表
面温度が低いため結露し、この結露がワーク全表面に及
んで成長して滴下することにより蒸気洗浄が行なわれ
る。
について説明する。まず、装入扉２を開き、ワークＷを
洗浄室１内の載置部材８上に装入して装入扉２を閉じ
る。ついで、真空ポンプ６を駆動するとともに主排気弁
Ｖｂを開として、洗浄室１内を１０Ｔｏｒｒ以下に排気
したのち、主排気弁Ｖｂを閉じ、これと同時に開閉弁Ｖ
1および流量調整弁Ｖｃを開として熱媒体供給部材３の
内部に冷却媒体を流入する。そして、前記蒸気導入弁Ｖ
3および液戻弁Ｖ4を開くことで、蒸気発生タンク４内で
発生している蒸気は蒸気導入弁Ｖ3から洗浄室１内に圧
力差により導入される。導入された蒸気はワークＷの表
面温度が低いため結露し、この結露がワーク全表面に及
んで成長して滴下することにより蒸気洗浄が行なわれ
る。
【００１０】ところで、蒸気がワークＷの表面に付着す
ることによりワークＷの表面温度も徐々に上昇し、ワー
ク温度が蒸気温度と等しくなり、かつ、飽和蒸気圧と洗
浄室１内の圧力とが等しくなれば、前記蒸気洗浄は不能
となる（従来技術）が、前記熱媒体供給部材３には冷却
媒体が流入しており、常に、蒸気温度より熱媒体供給部
材３の温度が低く保持されているため、前記洗浄室１に
導入された蒸気は熱媒体供給部材３に触れて液化し、こ
の液滴はワークＷ上に滴下する。この液滴はワークＷの
表面温度を蒸気温度未満に冷却するため、前記蒸気洗浄
は継続されることになる。また、ワークＷは前記熱媒体
供給部材３からの液滴により、いわゆるシャワー洗浄が
付加されるため、洗浄効果をより一層向上させる。な
お、洗浄室１の底部に滴下した有機溶剤Ｓは液戻弁Ｖ4
から蒸気発生タンク４内に戻る。
ることによりワークＷの表面温度も徐々に上昇し、ワー
ク温度が蒸気温度と等しくなり、かつ、飽和蒸気圧と洗
浄室１内の圧力とが等しくなれば、前記蒸気洗浄は不能
となる（従来技術）が、前記熱媒体供給部材３には冷却
媒体が流入しており、常に、蒸気温度より熱媒体供給部
材３の温度が低く保持されているため、前記洗浄室１に
導入された蒸気は熱媒体供給部材３に触れて液化し、こ
の液滴はワークＷ上に滴下する。この液滴はワークＷの
表面温度を蒸気温度未満に冷却するため、前記蒸気洗浄
は継続されることになる。また、ワークＷは前記熱媒体
供給部材３からの液滴により、いわゆるシャワー洗浄が
付加されるため、洗浄効果をより一層向上させる。な
お、洗浄室１の底部に滴下した有機溶剤Ｓは液戻弁Ｖ4
から蒸気発生タンク４内に戻る。
【００１１】前述のようにして、ワークＷの表面が十分
に洗浄されると、開閉弁Ｖ1を閉として熱媒体供給部材
３への冷却媒体の供給を停止した後、開閉弁Ｖ2を開と
することにより加熱媒体を供給して、熱媒体供給部材３
を蒸気温度以上に直ちに昇温させて蒸気の液化を停止す
る一方、蒸気の洗浄室１内への供給を継続してワークＷ
を蒸気加熱する。そして、所定時間、蒸気加熱を行なっ
た後、蒸気導入弁Ｖ3および液戻弁Ｖ4を各々閉としたの
ち、主排気弁Ｖｂを開き、真空ポンプ６を作動すること
により洗浄室１内を減圧し、ワークＷの乾燥工程を行な
う。この洗浄室１から吸引した蒸気はコンデンサ７で液
化され、再生された後、再使用される。
に洗浄されると、開閉弁Ｖ1を閉として熱媒体供給部材
３への冷却媒体の供給を停止した後、開閉弁Ｖ2を開と
することにより加熱媒体を供給して、熱媒体供給部材３
を蒸気温度以上に直ちに昇温させて蒸気の液化を停止す
る一方、蒸気の洗浄室１内への供給を継続してワークＷ
を蒸気加熱する。そして、所定時間、蒸気加熱を行なっ
た後、蒸気導入弁Ｖ3および液戻弁Ｖ4を各々閉としたの
ち、主排気弁Ｖｂを開き、真空ポンプ６を作動すること
により洗浄室１内を減圧し、ワークＷの乾燥工程を行な
う。この洗浄室１から吸引した蒸気はコンデンサ７で液
化され、再生された後、再使用される。
【００１２】乾燥工程が終了すると、前記開閉弁Ｖ2を
閉とするとともに真空ポンプ６の運転を停止し、主排気
弁Ｖｂを閉、大気開放弁Ｖａを開として洗浄室１内を復
圧し、装入扉２を開いてワークＷを取り出し、ワークＷ
の洗浄を完了する。以下、前記同様工程にてつぎのワー
クＷを洗浄する。なお、前記全工程において、洗浄室１
はヒータ９にて保温されている。
閉とするとともに真空ポンプ６の運転を停止し、主排気
弁Ｖｂを閉、大気開放弁Ｖａを開として洗浄室１内を復
圧し、装入扉２を開いてワークＷを取り出し、ワークＷ
の洗浄を完了する。以下、前記同様工程にてつぎのワー
クＷを洗浄する。なお、前記全工程において、洗浄室１
はヒータ９にて保温されている。
【００１３】前記実施例のものでは、洗浄室１で液化し
た有機溶剤Ｓは蒸気発生タンク４に戻されるため、加熱
有機溶剤温度が低下し、加熱効率が悪いとともに、安定
した蒸気の供給が行なえないことがある。したがって、
図２に示すように、蒸気発生タンク４を２槽に区分し、
一方を蒸気発生槽４Ａ，他方を廃液回収槽４Ｂとに分離
し、蒸気発生槽４Ａでの加熱効率の向上と安定した蒸気
の供給とを行なうようにしてもよい。その他、図１と同
一部分には同一符号を付して説明を省略する。なお、廃
液回収槽４Ｂの上部は開閉弁Ｖ7を介して真空ポンプ６
の配管Ｐ3に連通し、槽内を減圧して廃液の回収効率を
上げるようにしてある。
た有機溶剤Ｓは蒸気発生タンク４に戻されるため、加熱
有機溶剤温度が低下し、加熱効率が悪いとともに、安定
した蒸気の供給が行なえないことがある。したがって、
図２に示すように、蒸気発生タンク４を２槽に区分し、
一方を蒸気発生槽４Ａ，他方を廃液回収槽４Ｂとに分離
し、蒸気発生槽４Ａでの加熱効率の向上と安定した蒸気
の供給とを行なうようにしてもよい。その他、図１と同
一部分には同一符号を付して説明を省略する。なお、廃
液回収槽４Ｂの上部は開閉弁Ｖ7を介して真空ポンプ６
の配管Ｐ3に連通し、槽内を減圧して廃液の回収効率を
上げるようにしてある。
【００１４】また、加熱媒体供給管Ｐ2を設けることな
く、冷却媒体供給管Ｐ1に、ヒータ等の加熱手段（図示
せず）を付設し、蒸気洗浄が終了すると、加熱手段によ
り冷却媒体を加熱するようにしてもよい。さらに、図３
に示すように、流量調整弁Ｖｃの一次側に配管にて分岐
させた開閉弁Ｖ6を設け、冷却媒体の供給を停止する場
合、開閉弁Ｖ1を閉じて冷却媒体の供給を停止するとと
もに、開閉弁Ｖ6を開として熱媒体供給部材３内の冷却
媒体を排出し、熱媒体供給部材３の昇温時間を短縮する
ようにしてもよい。さらにまた、図４に示すように、熱
媒体供給部材３の下方に金網等の多孔板１０を設置し
て、液滴がワークＷに対して均一に滴下するようにして
も良いし、また、洗浄室１内を排気する開閉弁Ｖｄを有
するバイパス排気管Ｐ5を主排気弁Ｖｂの２次側に設け
ておき、蒸気洗浄時および蒸気加熱時に前記開閉弁Ｖｄ
を開にして、真空ポンプ６を駆動して洗浄室１内の蒸気
が一定方向の流れを形成するようにしても良い。
く、冷却媒体供給管Ｐ1に、ヒータ等の加熱手段（図示
せず）を付設し、蒸気洗浄が終了すると、加熱手段によ
り冷却媒体を加熱するようにしてもよい。さらに、図３
に示すように、流量調整弁Ｖｃの一次側に配管にて分岐
させた開閉弁Ｖ6を設け、冷却媒体の供給を停止する場
合、開閉弁Ｖ1を閉じて冷却媒体の供給を停止するとと
もに、開閉弁Ｖ6を開として熱媒体供給部材３内の冷却
媒体を排出し、熱媒体供給部材３の昇温時間を短縮する
ようにしてもよい。さらにまた、図４に示すように、熱
媒体供給部材３の下方に金網等の多孔板１０を設置し
て、液滴がワークＷに対して均一に滴下するようにして
も良いし、また、洗浄室１内を排気する開閉弁Ｖｄを有
するバイパス排気管Ｐ5を主排気弁Ｖｂの２次側に設け
ておき、蒸気洗浄時および蒸気加熱時に前記開閉弁Ｖｄ
を開にして、真空ポンプ６を駆動して洗浄室１内の蒸気
が一定方向の流れを形成するようにしても良い。
【００１５】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、請求項１
の発明においては、蒸気洗浄工程において、洗浄室内に
配設した熱媒体供給部材に冷却媒体を供給するため、有
機溶剤蒸気は熱媒体供給部材で液化してワークに滴下
し、蒸気によるワークの表面温度上昇を抑制するため、
従来の洗浄装置に比べて洗浄時間を任意に調節でき、ど
のようなワークをも十分に洗浄することができる。しか
も、従来の蒸気洗浄に加えて、熱媒体供給部材から滴下
する液化溶剤でも洗浄されるため、いわゆるシャワー洗
浄も行なわれることになり、洗浄効果は従来のものに比
べて著しく向上することができる。さらに蒸気洗浄完了
後、直ちに加熱媒体の供給に切り換えることにより、熱
媒体供給部材の温度が速やかに低温から高温に切り換え
られるため、蒸気洗浄から次工程である蒸気加熱工程に
短時間で移行でき、洗浄処理時間を短縮することができ
る。請求項２の発明によれば、蒸気発生槽には低温の液
化有機溶剤が混入しないため、有機溶剤の加熱効率が向
上するとともに、蒸気発生が安定し、洗浄効果を向上す
ることができる。
の発明においては、蒸気洗浄工程において、洗浄室内に
配設した熱媒体供給部材に冷却媒体を供給するため、有
機溶剤蒸気は熱媒体供給部材で液化してワークに滴下
し、蒸気によるワークの表面温度上昇を抑制するため、
従来の洗浄装置に比べて洗浄時間を任意に調節でき、ど
のようなワークをも十分に洗浄することができる。しか
も、従来の蒸気洗浄に加えて、熱媒体供給部材から滴下
する液化溶剤でも洗浄されるため、いわゆるシャワー洗
浄も行なわれることになり、洗浄効果は従来のものに比
べて著しく向上することができる。さらに蒸気洗浄完了
後、直ちに加熱媒体の供給に切り換えることにより、熱
媒体供給部材の温度が速やかに低温から高温に切り換え
られるため、蒸気洗浄から次工程である蒸気加熱工程に
短時間で移行でき、洗浄処理時間を短縮することができ
る。請求項２の発明によれば、蒸気発生槽には低温の液
化有機溶剤が混入しないため、有機溶剤の加熱効率が向
上するとともに、蒸気発生が安定し、洗浄効果を向上す
ることができる。
【図１】 本発明にかかる洗浄装置の概略断面図。
【図２】 他の実施例を示す概略断面図。
【図３】 熱媒体供給部材の他の実施例を示す図。
【図４】 図１の変形例を示す概略断面図。
１…洗浄室、２…装入扉、３…熱媒体供給部材、４…蒸
気発生タンク、４Ａ…蒸気発生槽、４Ｂ…廃液回収槽、
５…ヒータ、６…真空ポンプ、Ｖｂ…主排気弁、Ｖ3…
蒸気導入弁、Ｖ4…液戻弁、Ｓ…有機溶剤、Ｗ…ワー
ク。
気発生タンク、４Ａ…蒸気発生槽、４Ｂ…廃液回収槽、
５…ヒータ、６…真空ポンプ、Ｖｂ…主排気弁、Ｖ3…
蒸気導入弁、Ｖ4…液戻弁、Ｓ…有機溶剤、Ｗ…ワー
ク。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭53−23161（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−47337（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−65987（ＪＰ，Ａ) 特開 昭50−149149（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−47576（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−303028（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−251285（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−59086（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−125202（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−101881（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−279877（ＪＰ，Ａ) 特開 昭53−23161（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−112562（ＪＰ，Ａ) 実開 昭60−64185（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭63−133391（ＪＰ，Ｕ) 実開 平２−66282（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭57−199001（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭55−76083（ＪＰ，Ｕ) 特公 昭53−26423（ＪＰ，Ｂ２) 特公 平４−34474（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭63−12146（ＪＰ，Ｂ２) 特公 平７−29091（ＪＰ，Ｂ２) 実公 平５−29113（ＪＰ，Ｙ２) 実公 昭50−2503（ＪＰ，Ｙ２) 実公 昭49−32857（ＪＰ，Ｙ２)
Claims (2)
- 【請求項１】 気密構造であって蒸気流通可能なワーク
載置部材を備えた洗浄室と、該洗浄室に配管にて連通し
た有機溶剤蒸気発生タンクと、前記洗浄室内を排気する
真空ポンプとで構成した洗浄装置において、前記洗浄室
内のワーク上方に熱媒体供給部材を配設し、該熱媒体供
給部材に冷却媒体と加熱媒体とを選択的に供給できるよ
うにしたことを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項２】 前記有機溶剤蒸気発生タンク内を、蒸気
発生槽と廃液回収槽とに区分し、前記２つの槽をそれぞ
れ洗浄室と配管により連通したことを特徴とする前記請
求項１に記載の洗浄装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5270362A JP2584187B2 (ja) | 1993-10-28 | 1993-10-28 | 洗浄装置 |
| TW84103944A TW257697B (en) | 1993-10-28 | 1995-04-21 | Cleaning apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5270362A JP2584187B2 (ja) | 1993-10-28 | 1993-10-28 | 洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07116616A JPH07116616A (ja) | 1995-05-09 |
| JP2584187B2 true JP2584187B2 (ja) | 1997-02-19 |
Family
ID=17485218
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5270362A Expired - Lifetime JP2584187B2 (ja) | 1993-10-28 | 1993-10-28 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2584187B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2742238B2 (ja) | 1995-03-16 | 1998-04-22 | 中外炉工業株式会社 | 有機溶剤を使用する洗浄装置 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8540821B2 (en) | 2004-03-26 | 2013-09-24 | Maasland N.V. | Teat cup cleaning device and method |
| NL1033100C2 (nl) * | 2006-12-21 | 2008-06-24 | Maasland Nv | Melkbekerreinigingsinrichting en -werkwijze. |
| DK1935235T3 (da) * | 2006-12-21 | 2010-05-31 | Maasland Nv | Pattekoprengøringsindretning og fremgangsmåde forbundet dermed |
| NL1034963C2 (nl) | 2007-05-24 | 2008-11-25 | Maasland Nv | Melkbekerreinigingsinrichting en -werkwijze. |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4932857U (ja) * | 1972-06-26 | 1974-03-22 | ||
| JPS50149149A (ja) * | 1974-05-21 | 1975-11-29 | ||
| JPS5323161A (en) * | 1976-08-14 | 1978-03-03 | Takao Ida | Solvent washer of vapor layer moving type |
| JPS5326423A (en) * | 1976-08-23 | 1978-03-11 | Shigeharu Kuroda | Barrlike blank used for lattice* etc* |
| JPH0767552B2 (ja) * | 1986-05-29 | 1995-07-26 | 株式会社日立製作所 | 洗浄装置 |
| JPS6312146A (ja) * | 1986-07-02 | 1988-01-19 | Nec Corp | パタ−ン寸法計測方法 |
| JPH0611435B2 (ja) * | 1989-09-18 | 1994-02-16 | 山崎化学工業株式会社 | 真空洗浄装置 |
| JPH0434474A (ja) * | 1990-05-30 | 1992-02-05 | Mita Ind Co Ltd | 現像装置 |
| JPH0529113U (ja) * | 1991-09-24 | 1993-04-16 | 株式会社トーキン | チヨークコイル |
-
1993
- 1993-10-28 JP JP5270362A patent/JP2584187B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2742238B2 (ja) | 1995-03-16 | 1998-04-22 | 中外炉工業株式会社 | 有機溶剤を使用する洗浄装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07116616A (ja) | 1995-05-09 |
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