JP2018163202A - 描画装置および描画方法 - Google Patents
描画装置および描画方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018163202A JP2018163202A JP2017058912A JP2017058912A JP2018163202A JP 2018163202 A JP2018163202 A JP 2018163202A JP 2017058912 A JP2017058912 A JP 2017058912A JP 2017058912 A JP2017058912 A JP 2017058912A JP 2018163202 A JP2018163202 A JP 2018163202A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- expansion
- data
- substrate
- drawing data
- contraction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2004—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70491—Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
- G03F7/70508—Data handling in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. handling pattern data for addressable masks or data transfer to or from different components within the exposure apparatus
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
2 走査機構
5 撮像部
6 制御部
9 基板
43 光源
46 光変調部
61 記憶部
63 データ生成部
64 伸縮率取得部
S11〜S15,S131,S132 ステップ
Claims (12)
- 対象物上に画像を描画する描画装置であって、
光源と、
前記光源からの光を変調する光変調部と、
前記光変調部により変調された光を対象物上にて走査する走査機構と、
描画データに基づいて前記光変調部および前記走査機構を制御することにより前記対象物に対する描画を実行させる制御部と、
を備え、
前記制御部が、
基準状態からの前記対象物の伸縮の程度を示す複数の伸縮率について、各伸縮率にて伸縮している前記対象物に対して描画が行われる場合の画像のランレングスデータを、複数の初期描画データとして予め記憶する記憶部と、
前記対象物の実際の伸縮率に基づいて前記複数の初期描画データから選択された1つの初期描画データである選択描画データを利用して前記描画データを生成するデータ生成部と、
を備えることを特徴とする描画装置。 - 請求項1に記載の描画装置であって、
前記対象物上に位置する複数の目印を撮像する撮像部をさらに備え、
前記制御部が、前記撮像部による撮像結果に基づいて前記複数の目印の測定位置を取得し、前記複数の目印の前記測定位置と設計位置とを比較することにより、前記対象物の実際の伸縮率を取得する伸縮率取得部をさらに備えることを特徴とする描画装置。 - 請求項1または2に記載の描画装置であって、
前記データ生成部において、仮に、前記基準状態に対応する初期描画データを利用して前記描画データが生成された場合、前記走査機構による主走査方向への走査時における前記光変調部による変調間隔の変更、および、前記走査機構による前記主走査方向への走査時に走査される走査領域の副走査方向における間隔の変更によって描画可能な前記対象物の伸縮率よりも大きい伸縮率が、前記複数の伸縮率に含まれることを特徴とする描画装置。 - 請求項1ないし3のいずれか1つに記載の描画装置であって、
前記対象物上の描画領域に複数の描画ブロックが設定されており、
前記データ生成部が、前記描画データを生成する際に、前記選択描画データの前記複数の描画ブロックにそれぞれ対応する部分を前記描画領域の歪みに基づいて補正することを特徴とする描画装置。 - 請求項4に記載の描画装置であって、
前記データ生成部による前記選択描画データの前記複数の描画ブロックにそれぞれ対応する部分の補正が、前記描画領域における前記複数の描画ブロックのそれぞれの設計位置からの位置ずれの補正であることを特徴とする描画装置。 - 請求項1ないし5のいずれか1つに記載の描画装置であって、
前記対象物の実際の伸縮率に対応する初期描画データが前記複数の初期描画データに含まれていない場合、前記対象物に対する描画が中止されて他の対象物に対する描画が開始され、他の対象物に対する描画と並行して前記対象物の実際の伸縮率に対応する初期描画データが生成された後、前記対象物に対する描画が行われることを特徴とする描画装置。 - 光源と、前記光源からの光を変調する光変調部と、前記光変調部により変調された光を対象物上にて走査する走査機構とを備える描画装置により、前記対象物上に画像を描画する描画方法であって、
a)基準状態からの前記対象物の伸縮の程度を示す複数の伸縮率について、各伸縮率にて伸縮している前記対象物に対して描画が行われる場合の画像のランレングスデータを、複数の初期描画データとして予め記憶する工程と、
b)前記対象物の実際の伸縮率に基づいて前記複数の初期描画データから選択された1つの初期描画データである選択描画データを利用して描画データを生成する工程と、
c)前記描画データに基づいて前記光変調部および前記走査機構を制御することにより前記対象物に対する描画を実行させる工程と、
を備えることを特徴とする描画方法。 - 請求項7に記載の描画方法であって、
d)前記b)工程よりも前に、前記対象物上に位置する複数の目印を撮像する工程と、
e)前記d)工程における撮像結果に基づいて前記複数の目印の測定位置を取得し、前記複数の目印の前記測定位置と設計位置とを比較することにより、前記対象物の実際の伸縮率を取得する工程と、
をさらに備えることを特徴とする描画方法。 - 請求項7または8に記載の描画方法であって、
前記b)工程において、仮に、前記基準状態に対応する初期描画データを利用して前記描画データが生成された場合、前記走査機構による主走査方向への走査時における前記光変調部による変調間隔の変更、および、前記走査機構による前記主走査方向への走査時に走査される走査領域の副走査方向における間隔の変更によって描画可能な前記対象物の伸縮率よりも大きい伸縮率が、前記複数の伸縮率に含まれることを特徴とする描画方法。 - 請求項7ないし9のいずれか1つに記載の描画方法であって、
前記対象物上の描画領域に複数の描画ブロックが設定されており、
前記b)工程において、前記描画データが生成される際に、前記選択描画データの前記複数の描画ブロックにそれぞれ対応する部分が、前記描画領域の歪みに基づいて補正されることを特徴とする描画方法。 - 請求項10に記載の描画方法であって、
前記b)工程における前記選択描画データの前記複数の描画ブロックにそれぞれ対応する部分の補正が、前記描画領域における前記複数の描画ブロックのそれぞれの設計位置からの位置ずれの補正であることを特徴とする描画方法。 - 請求項7ないし11のいずれか1つに記載の描画方法であって、
前記対象物の実際の伸縮率に対応する初期描画データが前記複数の初期描画データに含まれていない場合、前記対象物に対する描画が中止されて他の対象物に対する描画が開始され、他の対象物に対する描画と並行して前記対象物の実際の伸縮率に対応する初期描画データが生成された後、前記対象物に対する描画が行われることを特徴とする描画方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017058912A JP6783172B2 (ja) | 2017-03-24 | 2017-03-24 | 描画装置および描画方法 |
CN201780085286.XA CN110249266B (zh) | 2017-03-24 | 2017-11-30 | 描绘装置及描绘方法 |
PCT/JP2017/043021 WO2018173371A1 (ja) | 2017-03-24 | 2017-11-30 | 描画装置および描画方法 |
KR1020197019194A KR102348544B1 (ko) | 2017-03-24 | 2017-11-30 | 묘화 장치 및 묘화 방법 |
TW106142388A TWI648603B (zh) | 2017-03-24 | 2017-12-04 | 描繪裝置及描繪方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017058912A JP6783172B2 (ja) | 2017-03-24 | 2017-03-24 | 描画装置および描画方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018163202A true JP2018163202A (ja) | 2018-10-18 |
JP6783172B2 JP6783172B2 (ja) | 2020-11-11 |
Family
ID=63584213
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017058912A Active JP6783172B2 (ja) | 2017-03-24 | 2017-03-24 | 描画装置および描画方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6783172B2 (ja) |
KR (1) | KR102348544B1 (ja) |
CN (1) | CN110249266B (ja) |
TW (1) | TWI648603B (ja) |
WO (1) | WO2018173371A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7478029B2 (ja) * | 2020-06-01 | 2024-05-02 | 住友重機械工業株式会社 | 画像データ生成装置及び画像データ生成方法 |
JP7458950B2 (ja) * | 2020-09-23 | 2024-04-01 | 株式会社Screenホールディングス | 描画システム |
JP7521988B2 (ja) * | 2020-09-23 | 2024-07-24 | 株式会社Screenホールディングス | 基板位置検出方法、描画方法、基板位置検出装置および描画装置 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1074261A (ja) * | 1996-08-30 | 1998-03-17 | Kokusai Gijutsu Kaihatsu Kk | パターン欠陥検出装置 |
JP3350400B2 (ja) * | 1997-06-02 | 2002-11-25 | シャープ株式会社 | 投影露光装置 |
JP4020248B2 (ja) * | 2002-06-06 | 2007-12-12 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 光描画装置および光描画方法 |
US7143264B2 (en) * | 2002-10-10 | 2006-11-28 | Intel Corporation | Apparatus and method for performing data access in accordance with memory access patterns |
JP2005259863A (ja) * | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 電子線露光装置及び電子線露光方法 |
JP2007079383A (ja) | 2005-09-16 | 2007-03-29 | Fujifilm Corp | 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 |
KR101391215B1 (ko) * | 2005-09-30 | 2014-05-26 | 후지필름 가부시키가이샤 | 묘화 장치 및 화상 데이터의 작성 방법 |
JP2008089868A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Fujifilm Corp | 描画点データ取得方法および装置ならびに描画方法および装置 |
JP5752967B2 (ja) * | 2011-03-29 | 2015-07-22 | 株式会社Screenホールディングス | パターン描画方法、パターン描画装置およびコンピュータプログラム |
JP2015026738A (ja) * | 2013-07-26 | 2015-02-05 | 株式会社Screenホールディングス | 位置決め装置、位置決め方法および描画装置 |
JP6190254B2 (ja) * | 2013-12-04 | 2017-08-30 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 |
-
2017
- 2017-03-24 JP JP2017058912A patent/JP6783172B2/ja active Active
- 2017-11-30 WO PCT/JP2017/043021 patent/WO2018173371A1/ja active Application Filing
- 2017-11-30 CN CN201780085286.XA patent/CN110249266B/zh active Active
- 2017-11-30 KR KR1020197019194A patent/KR102348544B1/ko active IP Right Grant
- 2017-12-04 TW TW106142388A patent/TWI648603B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102348544B1 (ko) | 2022-01-06 |
TWI648603B (zh) | 2019-01-21 |
CN110249266B (zh) | 2021-08-27 |
JP6783172B2 (ja) | 2020-11-11 |
TW201843530A (zh) | 2018-12-16 |
WO2018173371A1 (ja) | 2018-09-27 |
KR20190088546A (ko) | 2019-07-26 |
CN110249266A (zh) | 2019-09-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5209544B2 (ja) | 描画装置、描画装置用のデータ処理装置、および描画装置用の描画データ生成方法 | |
WO2018173371A1 (ja) | 描画装置および描画方法 | |
US20130057552A1 (en) | Drawing apparatus and drawing method | |
KR101689964B1 (ko) | 데이터 보정 장치, 묘화 장치, 검사 장치, 데이터 보정 방법, 묘화 방법, 검사 방법 및 프로그램을 기록한 기록 매체 | |
JP4020248B2 (ja) | 光描画装置および光描画方法 | |
TWI575307B (zh) | 資料補正裝置,描繪裝置,資料補正方法及描繪方法 | |
JP2009192693A (ja) | パターン描画装置 | |
CN110737179B (zh) | 描画装置及描画方法 | |
JP2014178536A (ja) | 描画データ生成方法、描画方法、描画データ生成装置、および描画装置 | |
JP5336301B2 (ja) | パターン描画方法、パターン描画装置および描画データ生成方法 | |
JP2017068002A (ja) | 補正情報生成装置、描画装置、補正情報生成方法および描画方法 | |
KR20170013162A (ko) | 데이터 보정 장치, 묘화 장치, 검사 장치, 데이터 보정 방법, 묘화 방법, 검사 방법 및 기록 매체에 기록된 프로그램 | |
TWI647984B (zh) | 資料補正裝置、描繪裝置、資料補正方法、描繪方法及程式產品 | |
TWI771080B (zh) | 基板位置檢測方法、描繪方法、基板位置檢測裝置以及描繪裝置 | |
JP2024046030A (ja) | テンプレート生成装置、描画システム、テンプレート生成方法およびプログラム | |
JP6109692B2 (ja) | データ補正方法、データ変換方法、データ補正装置、データ変換装置、描画システムおよびプログラム | |
JP2024076649A (ja) | 位置検出装置、描画装置、位置検出方法およびプログラム | |
JP2021021782A (ja) | パターン形成装置およびパターン形成方法 | |
JP2023032759A (ja) | 描画システム、描画方法およびプログラム | |
KR20160089483A (ko) | 패턴 묘화 장치용의 gui 장치, 패턴 묘화 시스템, 잡 티켓 갱신 방법 및 프로그램 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191223 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200702 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200831 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200924 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20201021 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6783172 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |