JP2018052926A - 縮合多環芳香族化合物及びその用途 - Google Patents
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Abstract
Description
このような技術に利用される有機半導体材料には、良好な半導体特性(キャリア移動度など)を有することは言うまでもなく、印刷技術に使用される有機半導体溶液(インク)を調製するために、有機溶媒に可溶であることが求められる。
すなわち本発明は、
[1]下記式(1)または(2)
(2)R1及びR4が水素原子であり、R2が水素原子、炭素数1乃至20のアルキル基、芳香族炭化水素基または複素環基であり、かつR3が式(3)または(4)で表される置換基である前項(1)に記載の縮合多環芳香族化合物、
(3)R1が水素原子、炭素数1乃至20のアルキル基、芳香族炭化水素基または複素環基であり、R2及びR3が水素原子であり、かつR4が式(3)または(4)で表される置換基である前項(1)に記載の縮合多環芳香族化合物、
(4)R3及びR4のいずれか一方が式(3)で表される置換基である前項(1)乃至(3)のいずれか一項に記載の縮合多環芳香族化合物、
(5)pが6乃至14の整数である前項(4)に記載の縮合多環芳香族化合物、
(6)R3及びR4のいずれか一方が式(4)で表される置換基である前項(1)乃至(3)のいずれか一項に記載の縮合多環芳香族化合物、
(7)qが6乃至14の整数であって、かつrが1乃至4の整数である前項(6)に記載の縮合多環芳香族化合物、
(8)R5が炭素数1乃至4のアルキル基である前項(1)乃至(7)のいずれか一項に記載の縮合多環芳香族化合物、
(9)液晶性を示さない前項(1)乃至(8)のいずれか一項に記載の縮合多環芳香族化合物、
(10)前項(1)乃至(9)のいずれか一項に記載の縮合多環芳香族化合物を含有する有機半導体材料、
(11)前項(10)に記載の有機半導体材料及び有機溶媒を含有する有機半導体組成物、
(12)前項(10)に記載の有機半導体材料を含む有機薄膜、
(13)前項(12)に記載の有機薄膜を有する有機半導体デバイス、
(14)有機トランジスタである前項(13)に記載の有機半導体デバイス、及び
(15)前項(11)に記載の有機半導体組成物を基板に塗布または印刷する工程、及び該基板に塗布または印刷した有機半導体組成物から有機溶媒を除去する工程を含む有薄膜の製造方法、
に関するものである。
本発明の縮合多環芳香族化合物は、上記式(1)または(2)で表される構造を有する。
式(1)及び(2)中、R1及びR2はいずれか一方が水素原子、炭素数1乃至20のアルキル基、芳香族炭化水素基または複素環基を、他方が水素原子を表す。
直鎖アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基及びn−エイコシル基等が挙げられる。
分岐鎖アルキル基の具体例としては、iso−プロピル基、iso−ブチル基、t−ブチル基、iso−ペンチル基、t−ペンチル基、sec−ペンチル基、iso−ヘキシル基、sec−ヘプチル基及びsec−ノニル基等が挙げられる。
脂環式のアルキル基の具体例としては、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、アダマンチル基及びノルボルニル基等が挙げられる。
式(1)及び(2)のR1またはR2が表すアルキル基としては、直鎖または分岐鎖アルキル基であることが好ましく、直鎖アルキル基であることがより好ましい。また、R1またはR2が表すアルキル基の炭素数は4乃至12であることが好ましく、6乃至12であることがより好ましい。
式(1)及び(2)のR1またはR2が表す芳香族炭化水素基はアルキル基を置換基として有していてもよく、該置換基として有していてもよいアルキル基は直鎖、分岐鎖または脂環式の何れにも限定されず、その具体例としては、式(1)及び(2)のR1またはR2が表すアルキル基と同じものが挙げられる。
式(1)及び(2)のR1またはR2が表す芳香族炭化水素基が置換基として有していてもよいアルキル基としては、直鎖または分岐鎖のアルキル基であることが好ましく、直鎖アルキル基であることがより好ましい。また、R1またはR2が表す芳香族炭化水素基が置換基として有していてもよいアルキル基の炭素数は1乃至20であることが好ましく、1乃至12であることがより好ましく、1乃至6であることが更に好ましい。
式(1)及び(2)のR1またはR2が表す芳香族炭化水素基はアルキル基を置換基として有していてもよく、該置換基として有していてもよいアルキル基の具体例としては、式(1)及び(2)のR1またはR2が表すアルキル基と同じものが挙げられる。
式(1)及び(2)のR1またはR2が表す複素環基が置換基として有していてもよいアルキル基としては、式(1)及び(2)のR1またはR2が表す芳香族炭化水素基が置換基として有していてもよいアルキル基と同じものが挙げられ、好ましいものも同じである。
式(3)及び(4)中、p、q及びrはそれぞれ1乃至20の整数を表し、Xはそれぞれ独立に酸素原子または硫黄原子を表し、R5は炭素数1乃至20のアルキル基、芳香族炭化水素基または複素環基を表す。
q及びrはそれぞれ式(4)で表される置換基中のアルキレン基の炭素数を示しており、qは4乃至16の整数であることが好ましく、6乃至14の整数であることがより好ましく、8乃至12の整数であることが更に好ましく、rは1乃至8の整数であることが好ましく、1乃至6の整数であることがより好ましく、1乃至4の整数であることが更に好ましい。
また、q及びrの合計q+rが、2乃至25であることが好ましく、2乃至20であることがより好ましく、2乃至15であることが更に好ましい。
式(3)及び式(4)のR5が表す炭素数1乃至20のアルキル基は芳香族炭化水素基または複素環基を置換基として有していてもよく、該有していてもよい置換基としては、式(1)及び(2)のR1またはR2が表す芳香族炭化水素基及び複素環基と同じものが挙げられる。
式(3)及び式(4)のR5が表す炭素数1乃至20のアルキル基としては、直鎖または分岐鎖のアルキル基であることが好ましく、直鎖アルキル基であることがより好ましい。また、式(3)及び式(4)のR5が表す炭素数1乃至20のアルキル基の炭素数は、1乃至10であることが好ましく、1乃至8であることがより好ましく、1乃至6であることが更に好ましく、1乃至4であることが特に好ましい。
(i)R1及びR4が水素原子であり、R2が水素原子、炭素数1乃至20のアルキル基、芳香族炭化水素基または複素環基であり、かつR3が式(3)または(4)で表される置換基である縮合多環芳香族化合物が好ましく、該R1乃至R4(及び式(3)、式(4)中のp、q、r、X並びにR5)が、上記の好ましい乃至特に好ましい等の縮合多環芳香族化合物がより好ましい。
(ii)R1が水素原子、炭素数1乃至20のアルキル基、芳香族炭化水素基または複素環基であり、R2及びR3が水素原子であり、かつR4が式(3)または(4)で表される置換基である縮合多環芳香族化合物が好ましく、該R1乃至R4(及び式(3)、式(4)中のp、q、r、X並びにR5)が、上記の好ましい乃至特に好ましい等の縮合多環芳香族化合物がより好ましい。
有機半導体材料中の式(1)または(2)で表される縮合多環芳香族化合物の含有量は特に限定されないが、通常は有機半導体材料中に50乃至100質量%程度である。
有機半導体組成物中の式(1)または(2)で表わされる縮合多環芳香族化合物の含有量は、溶媒の種類や作成する薄膜の膜厚により異なるが、溶媒に対して通常0.01乃至5質量%であり、0.1乃至5質量%が好ましく、0.3乃至5質量%がより好ましい。また、本発明の有機半導体組成物は、本発明の有機半導体材料が上記の溶媒に溶解又は分散していれば構わないが、均一な溶液として溶解していることが好ましい。
一般に、有機トランジスタデバイスはゲート電極が絶縁膜で絶縁されている構造(Metal−InsuIator−Semiconductor MIS構造)がよく用いられる。絶縁膜に金属酸化膜を用いるものはMOS構造と呼ばれる。他には、ショットキー障壁を介してゲート電極が形成されている構造(すなわちMES構造)もあるが、有機トランジスタの場合、MIS構造がよく用いられる。
図1における各態様例において、1がソース電極、2が半導体層、3がドレイン電極、4が絶縁体層、5がゲート電極、6が基板をそれぞれ表す。尚、各層や電極の配置は、デバイスの用途により適宜選択できる。A乃至D及びFは基板と並行方向に電流が流れるので、横型トランジスタと呼ばれる。Aはボトムコンタクトボトムゲート構造、Bはトップコンタクトボトムゲート構造と呼ばれる。また、Cは半導体上にソース及びドレイン電極、絶縁体層を設け、さらにその上にゲート電極を形成しており、トップコンタクトトップゲート構造と呼ばれている。Dはトップ&ボトムコンタクトボトムゲート型トランジスタと呼ばれる構造である。Fはボトムコンタクトトップゲート構造である。Eは縦型の構造をもつトランジスタ、すなわち静電誘導トランジスタ(SIT)の模式図である。このSITは、電流の流れが平面状に広がるので一度に大量のキャリアが移動できる。またソース電極とドレイン電極が縦に配されているので電極間距離を小さくできるため応答が高速である。従って、大電流を流す、高速のスイッチングを行うなどの用途に好ましく適用できる。なお図1中のEには、基板を記載していないが、通常の場合、図1E中の1及び3で表されるソース又はドレイン電極の外側には基板が設けられる。
基板6は、その上に形成される各層が剥離することなく保持できることが必要である。例えば樹脂板やフィルム、紙、ガラス、石英、セラミックなどの絶縁性材料;金属や合金などの導電性基板上にコーティング等により絶縁層を形成した物;樹脂と無機材料など各種組合せからなる材料;等が使用できる。使用できる樹脂フィルムの例としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、セルローストリアセテート、ポリエーテルイミドなどが挙げられる。樹脂フィルムや紙を用いると、デバイスに可撓性を持たせることができ、フレキシブルで、軽量となり、実用性が向上する。基板の厚さとしては、通常1μm乃至10mmであり、好ましくは5μm乃至5mmである。
またソース電極とドレイン電極間の距離(チャネル長)がデバイスの特性を決める重要なファクターであり、適正なチャネル長が必要である。チャネル長が短ければ取り出せる電流量は増えるが、コンタクト抵抗の影響などの短チャネル効果が生じ、半導体特性を低下させることがある。該チャネル長は、通常0.01乃至300μm、好ましくは0.1乃至100μmである。ソースとドレイン電極間の幅(チャネル幅)は通常10乃至5000μm、好ましくは40乃至2000μmとなる。またこのチャネル幅は、電極の構造をくし型構造とすることなどにより、さらに長いチャネル幅を形成することが可能で、必要な電流量やデバイスの構造などにより、適切な長さにする必要がある。
半導体層については複数の層を形成してもよいが、単層構造であることがより好ましい。半導体層2の膜厚は、必要な機能を失わない範囲で、薄いほど好ましい。A、B及びDに示すような横型の有機トランジスタにおいては、所定以上の膜厚があればデバイスの特性は膜厚に依存しないが、膜厚が厚くなると漏れ電流が増加してくることが多いためである。必要な機能を示すための半導体層の膜厚は、通常、1nm乃至1μm、好ましくは5nm乃至500nm、より好ましくは10nm乃至300nmである。
上記保護層の材料としては特に限定されないが、例えば、エポキシ樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリウレタン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、フッ素樹脂、ポリオレフィン等の各種樹脂からなる膜;酸化珪素、酸化アルミニウム、窒化珪素等の無機酸化膜;及び窒化膜等の誘電体からなる膜;等が好ましく用いられ、特に、酸素や水分の透過率や吸水率の小さな樹脂(ポリマー)が好ましい。有機ELディスプレイ用に開発されているガスバリア性保護材料も使用が可能である。保護層の膜厚は、その目的に応じて任意の膜厚を選択できるが、通常100nm乃至1mmである。
トラップ部位とは、未処理の基板に存在する例えば水酸基のような官能基をさし、このような官能基が存在すると、電子が該官能基に引き寄せられ、この結果としてキャリア移動度が低下する。従って、トラップ部位を低減することもキャリア移動度等の特性改良には有効な場合が多い。
これらの態様において、例えば基板層と絶縁膜層や絶縁膜層と有機半導体層等の各層を設ける方法としては、前記した真空プロセス、溶液プロセスが適宜採用できる。
本発明の有機トランジスタは、基板6上に必要な各種の層や電極を設けることで作製される(図2(1)参照)。基板としては上記で説明したものが使用できる。この基板上に前述の表面処理などを行うことも可能である。基板6の厚みは、必要な機能を妨げない範囲で薄い方が好ましい。材料によっても異なるが、通常1μm乃至10mmであり、好ましくは5μm乃至5mmである。また、必要により、基板に電極の機能を持たせるようにする事も出来る。
基板6上にゲート電極5を形成する(図2(2)参照)。電極材料としては上記で説明したものが用いられる。電極膜を成膜する方法としては、各種の方法を用いることができ、例えば真空蒸着法、スパッタ法、塗布法、熱転写法、印刷法、ゾルゲル法等が採用される。成膜時又は成膜後、所望の形状になるよう必要に応じてパターニングを行うのが好ましい。パターニングの方法としても各種の方法を用いうるが、例えばフォトレジストのパターニングとエッチングを組み合わせたフォトリソグラフィー法等が挙げられる。また、シャドウマスクを用いた蒸着法やスパッタ法やインクジェット印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、凸版印刷等の印刷法、マイクロコンタクトプリンティング法等のソフトリソグラフィーの手法、及びこれら手法を複数組み合わせた手法を利用し、パターニングすることも可能である。ゲート電極5の膜厚は、材料によっても異なるが、通常0.1nm乃至10μmであり、好ましくは0.5nm乃至5μmであり、より好ましくは1nm乃至3μmである。また、ゲート電極と基板を兼ねるような場合は上記の膜厚より大きくてもよい。
ゲート電極5上に絶縁体層4を形成する(図2(3)参照)。絶縁体材料としては上記で説明した材料が用いられる。絶縁体層4を形成するにあたっては各種の方法を用いることができる。例えばスピンコーティング、スプレーコーティング、ディップコーティング、キャスト、バーコート、ブレードコーティングなどの塗布法、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット等の印刷法、真空蒸着法、分子線エピタキシャル成長法、イオンクラスタービーム法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、大気圧プラズマ法、CVD法などのドライプロセス法が挙げられる。その他、ゾルゲル法やアルミニウム上のアルマイト、シリコン上の酸化珪素のように金属上に熱酸化法などにより酸化物膜を形成する方法等が採用される。尚、絶縁体層と半導体層が接する部分においては、両層の界面で半導体を構成する分子、例えば上記式(1)または(2)で表される縮合多環芳香族化合物の分子を良好に配向させるために、絶縁体層に所定の表面処理を行うこともできる。表面処理の手法は、基板の表面処理と同様のものを用いることができうる。絶縁体層4の膜厚は、その電気容量をあげることで取り出す電気量を増やすことが出来るため、出来るだけ薄い膜であることが好ましい。このときに薄い膜になるとリーク電流が増えるため、その機能を損なわない範囲で薄い方が好ましい。通常0.1nm乃至100μmであり、好ましくは0.5nm乃至50μmであり、より好ましくは5nm乃至10μmである。
本発明の上記式(1)または(2)で表される縮合多環芳香族化合物を含む有機半導体材料は、有機半導体層の形成に使用される(図2(4)参照)。有機半導体層を成膜するにあたっては、各種の方法を用いることができる。具体的にはディップコート法、ダイコーター法、ロールコーター法、バーコーター法、スピンコート法等の塗布法、インクジェット法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、マイクロコンタクト印刷法などの溶液プロセスによる形成方法が挙げられる。
更に、塗布方法に類似した方法として水面上に上記の組成物を滴下することにより作製した有機半導体層の単分子膜を基板に移し積層するラングミュアプロジェクト法、液晶や融液状態の材料を2枚の基板で挟んで毛管現象で基板間に導入する方法等も採用できる。
この方法により作製される有機半導体層の膜厚は、機能を損なわない範囲で、薄い方が好ましい。膜厚が厚くなると漏れ電流が大きくなる懸念がある。有機半導体層の膜厚は、通常1nm乃至1μm、好ましくは5nm乃至500nm、より好ましくは10nm乃至300nmである。
これらのドーピングの効果は、キャリア密度の増加あるいは減少による電気伝導度の変化、キャリアの極性の変化(p型、n型)、フェルミ準位の変化等が挙げられる。
ソース電極1及びドレイン電極3の形成方法等はゲート電極5の場合に準じて形成することができる(図2(5)参照)。また有機半導体層との接触抵抗を低減するために各種添加剤などを用いることが可能である。
有機半導体層上に保護層7を形成すると、外気の影響を最小限にでき、また、有機トランジスタの電気的特性を安定化できるという利点がある(図2(6)参照)。保護層の材料としては前記のものが使用される。保護層7の膜厚は、その目的に応じて任意の膜厚を採用できるが、通常100nm乃至1mmである。
保護層を成膜するにあたっては各種の方法を採用しうるが、保護層が樹脂からなる場合は、例えば、樹脂溶液を塗布後、乾燥させて樹脂膜とする方法;樹脂モノマーを塗布あるいは蒸着したのち重合する方法;などが挙げられる。成膜後に架橋処理を行ってもよい。保護層が無機物からなる場合は、例えば、スパッタリング法、蒸着法等の真空プロセスでの形成方法や、ゾルゲル法等の溶液プロセスでの形成方法も用いることができる。
有機トランジスタにおいては有機半導体層上の他、各層の間にも必要に応じて保護層を設けることができる。それらの層は有機トランジスタの電気的特性の安定化に役立つ場合がある。
以下の操作において、不活性ガス下の反応や測定には無水蒸留した溶媒を用い、その他の反応や操作においては市販一級または特級の溶媒を用いた。また、試薬は必要に応じて無水蒸留等で精製し、その他は市販一級または特級の試薬を用いた。以下に、使用した分析機器および測定機器を示す。核磁気共鳴分光は、LAMBDA−NMR(395.75MHz、σ値、ppm、内部標準TMS)を用いて行った。
化合物No.1で表される本発明の有機化合物を、下記の合成フローに準じて合成した。
1H−NMR(400MHz,CDCl3)σ1.31−1.36(m,12H)、1.61(m,1H)、1.71(m,1H)、2.79(t,2H)、3.36(s,3H)、3.51(t,2H)、4.62(s,2H)、7.28(dd,1H)、7.41(m,1H)、7.70−7.54(m,2H)、7.70(d,1H)、7.76−7.81(m,3H)、7.85(d,1H)、8.01(d,1H)、8.22(d,1H)、8.40(s,1H)、8,41(s,1H)
実施例1で得られたNo.1で表される縮合多環芳香族化合物の粉末約1mgをバイアルに量り取り、正確に質量を測定した。そこにシクロヘキサノン及びキシレンをそれぞれ加えていき、縮合多環芳香族化合物が完全に溶解した時点で溶液の質量を正確に測定した。No.1で表される縮合多環芳香族化合物の質量と前記のシクロヘキサノン溶液又はキシレン溶液の質量から溶解度(縮合多環芳香族化合物の質量/各溶液の質量×100)を算出した。尚、完全に溶解した時点の見極めは目視確認により行った。結果を表1に示した。
実施例1で得られたNo.1で表される縮合多環芳香族化合物を用いて有機トランジスタデバイスを作製し、トランジスタ特性を評価した。
実施例2で得られたNo.1で表される化合物のキシレン溶液を用いて、フェネチルトリクロロシランにより表面処理を施したSiO2熱酸化膜付きnドープシリコンウェハー上に、スピンコート法により有機薄膜を作製した。次に、前記で得られた有機薄膜上にシャドウマスクを用いてAuを真空蒸着してソース電極及びドレイン電極を作製することによりトップコンタクト型の有機トランジスタを得た。得られた有機トランジスタのチャネル長は20μm、チャネル幅は100μmであった。
図1Bはトップコンタクト型の有機トランジスタの構造を示すものである。尚、本実施例の有機トランジスタにおいては、nドープシリコンウェハー上の熱酸化膜が絶縁層4の機能を有し、nドープシリコンウェハーが基板6及びゲート電極5の機能を兼ね備えている。
Id=ZμCi(Vg−Vt)2/2L・・・(a)
式(a)中、Idは飽和したソース・ドレイン電流値、Zはチャネル幅、Ciは絶縁体の電気容量、Vgはゲート電位、Vtはしきい電位、Lはチャネル長であり、μは決定する移動度(cm2/Vs)である。Ciは用いたSiO2絶縁膜の誘電率、Z、Lは有機トランジスタデバイスのデバイス構造よりに決まり、Id、Vgは有機トランジスタデバイスの電流値の測定時に決まり、VtはId、Vgから求めることができる。式(a)に各値を代入することで、それぞれのゲート電位での移動度を算出することができる。
Precursorを下記式(5)で表される化合物に変更した以外は実施例1と同様の処理を行うことにより、上記No.41で表される本発明の縮合多環芳香族化合物396mg(収率32%)を黄色固体として得た。
1H−NMR(400MHz,CDCl3)σ1.25−1.40(m,12H)、1.77(m,4H)、2.79(t,2H)、3.94(t,2H)、6.90(m,3H)、7.25−7.29(m,3H)、7.41(dd,1H)、7.52(dd,2H)、7.70(s,1H)、7.77(d,2H)、7.81(s,1H)、7.85(d,1H)、8.01(d,1H)、8.22(d,1H)、8.40(s,1H)、8,41(s,1H)
Precursorを下記式(6)で表される化合物に変更した以外は実施例1と同様の処理を行うことにより、上記No.42で表される本発明の縮合多環芳香族化合物198mg(収率29%)を黄色固体として得た。
1H−NMR(400MHz,CDCl3)σ1.25−1.35(m,14H)、1.77(m,2H)、2.78(t,2H)、3.94(t,2H)、6.90(m,3H)、7.26(m,2H)、7.31(d,1H)、7.52(m,2H)、7.75(s,1H)、7.79(d,1H)、7.93(dd,1H)、8.01(dd,1H)、8.33(s,1H)、8.38(s,1H)
No.1で表される縮合多環芳香族化合物をNo.41で表される縮合多環芳香族化合物に変更した以外は実施例2と同様の方法で溶解度を測定した。結果を表3に示した。
No.1で表される縮合多環芳香族化合物をNo.42で表される縮合多環芳香族化合物に変更した以外は実施例2と同様の方法で溶解度を測定した。結果を表3に示した。
No.1で表される縮合多環芳香族化合物を下記式(7)で表される比較用の縮合多環芳香族化合物(特許文献4に記載の化合物の類似化合物)に変更した以外は実施例2と同様の方法で溶解度を測定した。結果を表3に示した。
No.1で表される化合物のキシレン溶液を実施例6で得られたNo.41で表される化合物のキシレン溶液に変更した以外は、実施例3と同様の方法で有機トランジスタデバイスを作製し、トランジスタ特性を評価した。結果を表4に示した。
No.1で表される化合物のキシレン溶液を実施例7で得られたNo.42で表される化合物のキシレン溶液に変更した以外は、実施例3と同様の方法で有機トランジスタデバイスを作製し、トランジスタ特性を評価した。結果を表4に示した。
No.1で表される化合物のキシレン溶液を比較例1で得られた式(7)で表される化合物のキシレン溶液に変更した以外は、実施例3と同様の方法で有機トランジスタデバイスを作製し、トランジスタ特性を評価した。結果を表4に示した。
Claims (15)
- R1及びR4が水素原子であり、R2が水素原子、炭素数1乃至20のアルキル基、芳香族炭化水素基または複素環基であり、かつR3が式(3)または(4)で表される置換基である請求項1に記載の縮合多環芳香族化合物。
- R1が水素原子、炭素数1乃至20のアルキル基、芳香族炭化水素基または複素環基であり、R2及びR3が水素原子であり、かつR4が式(3)または(4)で表される置換基である請求項1に記載の縮合多環芳香族化合物。
- R3及びR4のいずれか一方が式(3)で表される置換基である請求項1乃至3のいずれか一項に記載の縮合多環芳香族化合物。
- pが6乃至14の整数である請求項4に記載の縮合多環芳香族化合物。
- R3及びR4のいずれか一方が式(4)で表される置換基である請求項1乃至3のいずれか一項に記載の縮合多環芳香族化合物。
- qが6乃至14の整数であって、かつrが1乃至4の整数である請求項6に記載の縮合多環芳香族化合物。
- R5が炭素数1乃至4のアルキル基である請求項1乃至7のいずれか一項に記載の縮合多環芳香族化合物。
- 液晶性を示さない請求項1乃至8のいずれか一項に記載の縮合多環芳香族化合物。
- 請求項1乃至9のいずれか一項に記載の縮合多環芳香族化合物を含有する有機半導体材料。
- 請求項10に記載の有機半導体材料及び有機溶媒を含有する有機半導体組成物。
- 請求項10に記載の有機半導体材料を含む有機薄膜。
- 請求項12に記載の有機薄膜を有する有機半導体デバイス。
- 有機トランジスタである請求項13に記載の有機半導体デバイス。
- 請求項11に記載の有機半導体組成物を基板に塗布または印刷する工程、及び該基板に塗布または印刷した有機半導体組成物から有機溶媒を除去する工程を含む有機薄膜の製造方法。
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