JP2017028091A - 現像液の管理方法及び装置 - Google Patents
現像液の管理方法及び装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017028091A JP2017028091A JP2015144971A JP2015144971A JP2017028091A JP 2017028091 A JP2017028091 A JP 2017028091A JP 2015144971 A JP2015144971 A JP 2015144971A JP 2015144971 A JP2015144971 A JP 2015144971A JP 2017028091 A JP2017028091 A JP 2017028091A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- developer
- concentration
- carbon dioxide
- conductivity
- value
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】現像液管理装置Dは、繰り返し使用される、アルカリ性を示す現像液の溶解フォトレジスト濃度及び吸収二酸化炭素濃度を指標として特定される濃度領域ごとに所定の現像性能となることが予め確認された現像液の導電率値を有する導電率データが格納されているデータ記憶部23と、現像液の溶解フォトレジスト濃度の測定値及び吸収二酸化炭素濃度の測定値により特定される濃度領域のデータ記憶部23に格納された導電率値を制御目標値として、現像液の導電率が制御目標値となるように前記現像液に補給される補充液を送液する流路に設けられた制御弁41〜43に制御信号を発する制御部31と、を備えた制御手段21を備える。
【選択図】 図1
Description
本発明の現像液の管理方法によれば、繰り返し使用される、アルカリ性を示す現像液の導電率に基づいてアルカリ濃度を測定し、前記現像液の溶解フォトレジスト濃度と相関関係のある吸光度を測定し、前記現像液の吸収二酸化炭素濃度を測定し、前記現像液の吸光度及び吸収二酸化炭素濃度を指標として特定される濃度領域ごとに所定の現像性能となることが予め確認された前記現像液のアルカリ濃度値を有するアルカリ濃度データのうち、測定された吸光度及び測定された吸収二酸化炭素濃度により特定される濃度領域の前記アルカリ濃度値を、前記現像液のアルカリ濃度の制御目標値に設定し、前記現像液のアルカリ濃度が前記制御目標値となるように、前記現像液に補充液を補給する。
図1は、本実施形態の現像液管理装置Dの説明をするための現像工程の模式図である。本発明の現像液管理装置Dが、現像工程設備A、補充液貯留部B、循環攪拌機構Cなどとともに図示されている。
図2は、本実施形態の現像液管理装置Dの説明をするための現像工程の模式図である。本発明の現像液管理装置Dが、現像工程設備A、補充液貯留部B、循環攪拌機構Cなどとともに図示されている。なお、第一実施形態の構成と同様の構成には同一符号を付して説明を省略する場合がある。
)とすれば、それにSを乗じて求めるべき濃度Cu(Cuj;j=1〜n)を得ることができる。
さらに、本発明は多変量解析法(例えば、重回帰分析法)を用いているので、従来は測定が困難であった現像液の吸収二酸化炭素濃度を、精度よく算出することができる。
図3は、本実施形態の現像液管理装置Dの説明をするための現像工程の模式図である。本発明の現像液管理装置Dが、現像工程設備A、補充液貯留部B、循環攪拌機構Cなどとともに図示されている。なお、第一実施形態、及び第二実施形態の構成と同様の構成には同一符号を付して説明を省略する場合がある。
図4は、本実施形態の現像液管理装置Dの説明をするための現像工程の模式図である。本発明の現像液管理装置Dが、現像工程設備A、補充液貯留部B、循環攪拌機構Cなどとともに図示されている。なお、第一実施形態、第二実施形態、及び第三実施形態の構成と同様の構成には同一符号を付して説明を省略する場合がある。
図6は、本実施形態の現像液管理装置Dの説明をするための現像工程の模式図である。本発明の現像液管理装置Dが、現像工程設備A、補充液貯留部B、循環攪拌機構Cなどとともに図示されている。なお、第一実施形態、及び第二実施形態の構成と同様の構成には同一符号を付して説明を省略する場合がある。
現像液の溶解フォトレジスト濃度及び二酸化炭素濃度を指標として特定される濃度領域ごとに所定の現像性能となることが予め確認された前記現像液の導電率値を有する導電率データを備え、現像液の溶解フォトレジスト濃度の測定値及び吸収二酸化炭素濃度の測定値により特定される濃度領域の導電率データの導電率値を制御目標値として、現像液の導電率が前記制御目標値となるように前記現像液に補給される補充液を送液する。
1…測定部
11…導電率計、12…第1濃度測定手段、12A…第1特性値測定手段、13…第2濃度測定手段、13A…第2特性値測定手段、13B…密度計
14…サンプリングポンプ、15…サンプリング配管、16…出口側配管
21…制御手段(例えばコンピュータ)
23…データ記憶部、
31…制御部、32,33…演算部、36,37…演算手段
41〜43…制御弁、44、45、46、47…バルブ
61…現像液貯留槽、62…オーバーフロー槽、63…液面計、64…現像室フード、65…ローラーコンベア、66…基板、67…現像液シャワーノズル
71…廃液ポンプ、72、74…循環ポンプ、73、75…フィルター
80…現像液管路、81、82…補充液(現像原液及び/又は新液)用管路、83…純水用管路、84…合流管路、85…循環管路、86…窒素ガス用管路
91、92…補充液(現像原液及び/又は新液)貯留槽
Claims (8)
- 繰り返し使用される、アルカリ性を示す現像液の導電率、溶解フォトレジスト濃度及び吸収二酸化炭素濃度を測定し、
前記現像液の溶解フォトレジスト濃度及び吸収二酸化炭素濃度を指標として特定される濃度領域ごとに所定の現像性能となることが予め確認された前記現像液の導電率値を有する導電率データのうち、測定された溶解フォトレジスト濃度及び測定された吸収二酸化炭素濃度により特定される濃度領域の前記導電率値を、前記現像液の導電率の制御目標値に設定し、
前記現像液の導電率が前記制御目標値となるように、前記現像液に補充液を補給する現像液の管理方法。 - 繰り返し使用される、アルカリ性を示す現像液の溶解フォトレジスト濃度及び吸収二酸化炭素濃度を指標として特定される濃度領域ごとに所定の現像性能となることが予め確認された前記現像液の導電率値を有する導電率データが格納されているデータ記憶部と、
前記現像液の溶解フォトレジスト濃度の測定値及び吸収二酸化炭素濃度の測定値により特定される濃度領域の前記データ記憶部に格納された前記導電率値を制御目標値として、前記現像液の導電率が前記制御目標値となるように前記現像液に補給される補充液を送液する流路に設けられた制御弁に制御信号を発する制御部と、
を備えた制御手段、
を備える現像液管理装置。 - 前記現像液の溶解フォトレジスト濃度と相関のある前記現像液の特性値と前記現像液の吸収二酸化炭素濃度と相関のある前記現像液の特性値とを含む前記現像液の複数の特性値を測定する複数の測定装置をさらに備え、
前記制御手段が、前記複数の測定装置により測定された前記現像液の複数の特性値から、多変量解析により、前記現像液の溶解フォトレジスト濃度の測定値及び吸収二酸化炭素濃度の測定値を算出する演算部をさらに備える請求項2に記載の現像液管理装置。 - 前記現像液の溶解フォトレジスト濃度と相関のある前記現像液の特性値と前記現像液の吸収二酸化炭素濃度と相関のある前記現像液の特性値とを含む前記現像液の複数の特性値を測定する複数の測定装置と、
前記複数の測定装置により測定された前記現像液の複数の特性値から、多変量解析法を用いて、前記現像液の溶解フォトレジスト濃度の測定値及び吸収二酸化炭素濃度の測定値を算出する演算手段と、
をさらに備える請求項2に記載の現像液管理装置。 - 密度計を備え、
前記制御手段が、前記現像液の吸収二酸化炭素濃度と密度との間の対応関係に基づいて前記密度計により測定された前記現像液の密度から前記現像液の吸収二酸化炭素濃度を算出する演算部を、
さらに備える請求項2に記載の現像液管理装置。 - 密度計と、
前記現像液の吸収二酸化炭素濃度と密度との間の対応関係に基づいて前記密度計により測定された前記現像液の密度から前記現像液の吸収二酸化炭素濃度を算出する演算手段と、
をさらに備える請求項2に記載の現像液管理装置。 - 繰り返し使用される、アルカリ性を示す現像液の導電率に基づいてアルカリ濃度を測定し、前記現像液の溶解フォトレジスト濃度と相関関係のある吸光度を測定し、前記現像液の吸収二酸化炭素濃度を測定し、
前記現像液の吸光度及び吸収二酸化炭素濃度を指標として特定される濃度領域ごとに所定の現像性能となることが予め確認された前記現像液のアルカリ濃度値を有するアルカリ濃度データのうち、測定された吸光度及び測定された吸収二酸化炭素濃度により特定される濃度領域の前記アルカリ濃度値を、前記現像液のアルカリ濃度の制御目標値に設定し、
前記現像液のアルカリ濃度が前記制御目標値となるように、前記現像液に補充液を補給する現像液の管理方法。 - 繰り返し使用される、アルカリ性を示す現像液の溶解フォトレジスト濃度と相関関係のある吸光度及び吸収二酸化炭素濃度を指標として特定される濃度領域ごとに所定の現像性能となることが予め確認された前記現像液のアルカリ濃度値を有するアルカリ濃度データが格納されているデータ記憶部と、
前記現像液の吸光度及び吸収二酸化炭素濃度の測定値により特定される濃度領域の前記データ記憶部に格納された前記アルカリ濃度値を制御目標値として、前記現像液のアルカリ濃度が前記制御目標値となるように前記現像液に補給される補充液を送液する流路に設けられた制御弁に制御信号を発する制御部と、
を備えた制御手段と、
を備える現像液管理装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015144971A JP6505534B2 (ja) | 2015-07-22 | 2015-07-22 | 現像液の管理方法及び装置 |
KR1020150181207A KR20170011962A (ko) | 2015-07-22 | 2015-12-17 | 현상액의 관리 방법 및 장치 |
TW108131471A TWI695236B (zh) | 2015-07-22 | 2015-12-23 | 顯影液之管理方法及裝置 |
TW104143286A TWI676086B (zh) | 2015-07-22 | 2015-12-23 | 顯影液之管理方法及裝置 |
CN201510994042.6A CN106371295A (zh) | 2015-07-22 | 2015-12-25 | 显影液的管理方法及装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015144971A JP6505534B2 (ja) | 2015-07-22 | 2015-07-22 | 現像液の管理方法及び装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019014496A Division JP6624762B2 (ja) | 2019-01-30 | 2019-01-30 | 現像液の管理方法及び装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017028091A true JP2017028091A (ja) | 2017-02-02 |
JP2017028091A5 JP2017028091A5 (ja) | 2018-03-29 |
JP6505534B2 JP6505534B2 (ja) | 2019-04-24 |
Family
ID=57880865
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015144971A Expired - Fee Related JP6505534B2 (ja) | 2015-07-22 | 2015-07-22 | 現像液の管理方法及び装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6505534B2 (ja) |
KR (1) | KR20170011962A (ja) |
CN (1) | CN106371295A (ja) |
TW (2) | TWI676086B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018200943A (ja) * | 2017-05-26 | 2018-12-20 | 株式会社平間理化研究所 | 現像液の濃度管理装置、及び、基板の現像処理システム |
WO2019203060A1 (ja) * | 2018-04-20 | 2019-10-24 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理方法および基板処理装置 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107300838A (zh) * | 2017-08-08 | 2017-10-27 | 武汉华星光电技术有限公司 | 显影液稀释*** |
CN109791374B (zh) * | 2017-08-23 | 2022-05-17 | 深圳市柔宇科技股份有限公司 | 显影液回收*** |
CN108121174A (zh) * | 2017-12-20 | 2018-06-05 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 显影设备及其显影液供应*** |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0540345A (ja) * | 1991-08-07 | 1993-02-19 | Hirama Rika Kenkyusho:Kk | 現像液管理装置 |
JP2003131398A (ja) * | 2001-08-16 | 2003-05-09 | Hirama Rika Kenkyusho:Kk | アルカリ系加工液、加工液調整方法及び装置、並びに、加工液供給方法及び装置 |
JP2005070351A (ja) * | 2003-08-22 | 2005-03-17 | Nagase & Co Ltd | 現像液供給方法及び装置 |
WO2008088076A1 (ja) * | 2007-01-17 | 2008-07-24 | Sony Corporation | 現像液、および微細加工体の製造方法 |
JP2008283162A (ja) * | 2006-11-30 | 2008-11-20 | Mitsubishi Chemical Engineering Corp | 現像液の濃度調節方法および調製装置ならびに現像液 |
JP2011128455A (ja) * | 2009-12-18 | 2011-06-30 | Nagase & Co Ltd | 炭酸系塩類濃度測定装置、アルカリ現像液管理システム、及び、炭酸系塩類濃度測定方法 |
JP2017028089A (ja) * | 2015-07-22 | 2017-02-02 | 株式会社平間理化研究所 | 現像液の成分濃度測定方法及び装置、並びに、現像液管理方法及び装置 |
JP2017028090A (ja) * | 2015-07-22 | 2017-02-02 | 株式会社平間理化研究所 | 現像液の成分濃度測定装置、成分濃度測定方法、現像液管理装置、及び現像液管理方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1327888A (zh) * | 2000-06-09 | 2001-12-26 | 株式会社平间理化研究所 | 基板表面处理装置 |
TWI298423B (en) * | 2001-02-06 | 2008-07-01 | Nagase & Co Ltd | Developer producing equipment and method |
US6752545B2 (en) * | 2001-08-16 | 2004-06-22 | Nagase & Co., Ltd. | Alkali-based treating liquid, treating liquid adjusting method and equipment, treating liquid supplying method and equipment |
JP3782374B2 (ja) * | 2002-07-19 | 2006-06-07 | 株式会社平間理化研究所 | レジスト剥離装置 |
US20040055621A1 (en) * | 2002-09-24 | 2004-03-25 | Air Products And Chemicals, Inc. | Processing of semiconductor components with dense processing fluids and ultrasonic energy |
JP2004271974A (ja) * | 2003-03-10 | 2004-09-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版の現像液疲労度検出方法および現像液管理方法 |
JP4323946B2 (ja) * | 2003-12-19 | 2009-09-02 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
US7580111B2 (en) * | 2004-05-21 | 2009-08-25 | Jsr Corporation | Liquid for immersion exposure and immersion exposure method |
JP4649158B2 (ja) * | 2004-09-30 | 2011-03-09 | 富士フイルム株式会社 | ホログラム記録方法 |
JP2006285132A (ja) * | 2005-04-05 | 2006-10-19 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 感光性平版印刷版の処理方法 |
US20080156356A1 (en) * | 2006-12-05 | 2008-07-03 | Nikon Corporation | Cleaning liquid, cleaning method, liquid generating apparatus, exposure apparatus, and device fabricating method |
CN101641647A (zh) * | 2007-01-17 | 2010-02-03 | 索尼株式会社 | 显影液以及制备微细加工材料的方法 |
WO2010016110A1 (ja) * | 2008-08-05 | 2010-02-11 | 富士通株式会社 | 重回帰分析による予測モデルの作成方法、作成システムおよび作成プログラム |
-
2015
- 2015-07-22 JP JP2015144971A patent/JP6505534B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2015-12-17 KR KR1020150181207A patent/KR20170011962A/ko not_active Application Discontinuation
- 2015-12-23 TW TW104143286A patent/TWI676086B/zh not_active IP Right Cessation
- 2015-12-23 TW TW108131471A patent/TWI695236B/zh not_active IP Right Cessation
- 2015-12-25 CN CN201510994042.6A patent/CN106371295A/zh active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0540345A (ja) * | 1991-08-07 | 1993-02-19 | Hirama Rika Kenkyusho:Kk | 現像液管理装置 |
JP2003131398A (ja) * | 2001-08-16 | 2003-05-09 | Hirama Rika Kenkyusho:Kk | アルカリ系加工液、加工液調整方法及び装置、並びに、加工液供給方法及び装置 |
JP2005070351A (ja) * | 2003-08-22 | 2005-03-17 | Nagase & Co Ltd | 現像液供給方法及び装置 |
JP2008283162A (ja) * | 2006-11-30 | 2008-11-20 | Mitsubishi Chemical Engineering Corp | 現像液の濃度調節方法および調製装置ならびに現像液 |
WO2008088076A1 (ja) * | 2007-01-17 | 2008-07-24 | Sony Corporation | 現像液、および微細加工体の製造方法 |
JP2011128455A (ja) * | 2009-12-18 | 2011-06-30 | Nagase & Co Ltd | 炭酸系塩類濃度測定装置、アルカリ現像液管理システム、及び、炭酸系塩類濃度測定方法 |
JP2017028089A (ja) * | 2015-07-22 | 2017-02-02 | 株式会社平間理化研究所 | 現像液の成分濃度測定方法及び装置、並びに、現像液管理方法及び装置 |
JP2017028090A (ja) * | 2015-07-22 | 2017-02-02 | 株式会社平間理化研究所 | 現像液の成分濃度測定装置、成分濃度測定方法、現像液管理装置、及び現像液管理方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018200943A (ja) * | 2017-05-26 | 2018-12-20 | 株式会社平間理化研究所 | 現像液の濃度管理装置、及び、基板の現像処理システム |
WO2019203060A1 (ja) * | 2018-04-20 | 2019-10-24 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理方法および基板処理装置 |
JP2019192708A (ja) * | 2018-04-20 | 2019-10-31 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理方法および基板処理装置 |
CN111989765A (zh) * | 2018-04-20 | 2020-11-24 | 株式会社斯库林集团 | 基板处理方法以及基板处理装置 |
JP7137959B2 (ja) | 2018-04-20 | 2022-09-15 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理方法および基板処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI676086B (zh) | 2019-11-01 |
KR20170011962A (ko) | 2017-02-02 |
TWI695236B (zh) | 2020-06-01 |
CN106371295A (zh) | 2017-02-01 |
TW201944181A (zh) | 2019-11-16 |
JP6505534B2 (ja) | 2019-04-24 |
TW201704901A (zh) | 2017-02-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6721157B2 (ja) | 現像液の成分濃度測定方法及び装置、並びに、現像液管理方法及び装置 | |
JP6505534B2 (ja) | 現像液の管理方法及び装置 | |
JP6713658B2 (ja) | 現像液の成分濃度測定装置、成分濃度測定方法、現像液管理装置、及び現像液管理方法 | |
WO2008065755A1 (fr) | Procédé de régulation d'une concentration de solution de développement, appareil de préparation de la solution de développement et solution de développement | |
KR20030062272A (ko) | 처리액 조제 공급 방법 및 장치 | |
JP6712415B2 (ja) | 現像液管理装置 | |
JP6624762B2 (ja) | 現像液の管理方法及び装置 | |
JP2018120901A (ja) | 現像装置 | |
JP2018120900A (ja) | 現像液管理装置 | |
JP2005070351A (ja) | 現像液供給方法及び装置 | |
JP2018120895A (ja) | 現像装置 | |
JP6736087B2 (ja) | 現像液の濃度監視装置、及び現像液管理装置 | |
JP2018120893A (ja) | 現像液の成分濃度測定装置、及び現像液管理装置 | |
JP2018120896A (ja) | 現像液の二酸化炭素濃度表示装置、及び現像液管理装置 | |
JP2009019877A (ja) | エッチング液成分の濃度測定装置および濃度測定方法 | |
TW201841080A (zh) | 顯影液的濃度監視裝置及顯影液管理裝置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180207 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180207 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20181219 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181227 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190130 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20190201 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190320 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190327 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6505534 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |