JP2016184672A - 塗布液供給装置、塗布液供給装置における洗浄方法及びコンピュータ記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ウェハに対して塗布液を供給する塗布液供給装置は、塗布液を供給する供給孔が形成された供給ノズルと、供給ノズルを収容する収容部160を備えたノズルバス155と、供給ノズルの外側面及び供給ノズルの供給孔152aの少なくとも先端部に形成された第1の光触媒層161と、ノズルバス155の収容部160の内側面に形成された第2の光触媒層と、第1の光触媒層161及び第2の触媒層に対して光触媒可能な光を照射する光源164、173と、ノズルバス155に配置され、供給ノズルに対して洗浄液を吐出する洗浄ノズル170と、を有する。
【選択図】図7
Description
30 現像処理装置
31 下部反射防止膜形成装置
32 レジスト塗布装置
33 上部反射防止膜形成装置
40 熱処理装置
41 アドヒージョン装置
42 周辺露光装置
152 供給ノズル
155 ノズルバス
156 光照射用バス
161 第1の光触媒層
164 第1の光源
165 第2の光触媒層
170 洗浄ノズル
173 第2の光源
181 第3の光源
240 現像液供給ノズル
270 光触媒層
261 光源
300 制御部
W ウェハ
Claims (12)
- 基板に対して塗布液を供給する塗布液供給装置であって、
前記塗布液を供給する供給孔が形成された供給ノズルと、
前記供給ノズルを収容する収容部を備えたノズルバスと、
前記供給ノズルの外側面及び前記供給ノズルの前記供給孔の少なくとも先端部に形成された第1の光触媒層と、
前記ノズルバスの収容部の内側面に形成された第2の光触媒層と、
前記第1の光触媒層及び前記第2の光触媒層に対して光触媒可能な光を照射する光源と、
前記ノズルバスに配置され、前記供給ノズルに対して洗浄液を吐出する洗浄ノズルと、を有することを特徴とする、塗布液供給装置。 - 前記光源は、前記供給ノズルの上方から当該供給ノズルに対して光を照射する第1の光源と、前記ノズルバスの収容部の下端側から前記供給ノズルに対して光を照射する第2の光源と、有することを特徴とする、請求項1に記載の塗布液供給装置。
- 前記ノズルバスに隣接して設けられた他のノズルバスをさらに有し、
前記他のノズルバスは、
前記供給ノズルを収容する他の収容部と、
当該他の収容部に収容された前記供給ノズルの第1の光触媒層に対して、側方から光触媒可能な光を照射する第3の光源が設けられていることを特徴とする、請求項2に記載の塗布液供給装置。 - 基板に対して塗布液を供給する塗布液供給装置であって、
円筒形状の本体部の下面に接液面が形成され、当該接液面に前記塗布液を供給する供給孔が形成された供給ノズルと、
前記供給ノズルを待機させるノズルバスと、
前記供給ノズルの前記接液面、前記供給ノズルの側面及び前記供給ノズルの前記供給孔の少なくとも先端部に形成された光触媒層と、
前記光触媒層に対して光触媒可能な光を照射する光源と、
前記ノズルバスに配置され、前記供給ノズルに対して洗浄液を吐出する洗浄ノズルと、を有することを特徴とする、塗布液供給装置。 - 前記ノズルバスの底面は、前記光源から照射される光の波長を透過する透過部材で形成され、
前記光源は、前記ノズルバスの下方に、前記供給ノズルの接液面と対向して配置されていることを特徴とする、請求項4に記載の塗布液供給装置。 - 基板に対して塗布液を供給する塗布液供給装置における洗浄方法であって、
前記塗布液を供給する供給孔を備え、外側面及び前記供給孔の少なくとも先端部に第1の光触媒層が形成された供給ノズルに対して、光触媒可能な光を照射すると共に、
前記供給ノズルを収容する収容部を備え、当該収容部の内側面に第2の光触媒層が形成されたノズルバスに対して、光触媒可能な光を照射し、
前記収容部に収容された前記供給ノズルに対して洗浄液を供給することを特徴とする、塗布液供給装置の洗浄方法。 - 前記供給ノズルに対する前記光の照射及び前記洗浄液の供給は、前記供給ノズルを前記ノズルバスの収容部に収容した状態で行うことを特徴とする、請求項6に記載の塗布液供給装置の洗浄方法。
- 前記供給ノズルに対する前記光の照射は、前記供給ノズルの上方から当該供給ノズルに対して光を照射する第1の光源と、前記ノズルバスの収容部の下端側から前記供給ノズルに対して光を照射する第2の光源により行うことを特徴とする、請求項6または7のいずれか一項に記載の塗布液供給装置の洗浄方法。
- 前記塗布液供給装置は、
前記ノズルバスに隣接して設けられ、前記供給ノズルを収容する他の収容部を備えた他のノズルバスをさらに有し、
前記他のノズルバスには、前記他の収容部に収容された前記供給ノズルの第1の光触媒層に対して光触媒可能な光を照射する第3の光源が設けられ、
前記ノズルバスでの前記光の照射及び前記洗浄液の供給の前、または後の少なくともいずれかにおいて、前記他のノズルバスの収容部に前記供給ノズルを収容して、前記第3の光源から当該供給ノズルに対して光を照射することを特徴とする、請求項8に記載の塗布液供給装置の洗浄方法。 - 基板に対して塗布液を供給する塗布液供給装置における洗浄方法であって、
円筒形状の本体部の下面に形成された接液面と、当該接液面に前記塗布液を供給する供給孔と、を備えた供給ノズルの、前記接液面、側面及び前記供給孔の先端部に形成された光触媒層に対して光触媒可能な光を照射し、
前記供給ノズルに対して洗浄液を供給し、
前記供給ノズルに対する前記光の照射及び前記洗浄液の供給は、前記供給ノズルを待機させるノズルバスで行われることを特徴とする、塗布液供給装置の洗浄方法。 - 前記ノズルバスの底面は、前記光触媒層に対して照射される光の波長を透過する透過部材で形成され、
前記供給ノズルに対する前記光の照射は、前記透過部材を介して行われることを特徴とする、請求項10に記載の塗布液供給装置の洗浄方法。 - 請求項6〜11のいずれかに記載の洗浄方法を塗布液供給装置によって実行させるように、当該塗布液供給装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラムを格納した、読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
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