JP5797532B2 - 有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理方法及び現像処理装置 - Google Patents
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Description
40 スピンチャック(基板保持部)
42 回転駆動機構
50 現像処理装置
52,52A,52B 現像ノズル(現像液供給ノズル)
56A 現像ノズル移動機構(現像液供給ノズル移動機構)
56B リンスノズル移動機構(リンス液供給ノズル移動機構)
58 リンスノズル(リンス液供給ノズル)
60 コントローラ(制御部)
Claims (10)
- 表面にレジストが塗布され、露光された後の基板に有機溶剤を含有する現像液を供給して現像を行う現像処理方法において、
上記基板を回転させながら、現像液供給ノズルから上記基板の中心部に上記現像液を供給して液膜を形成する液膜形成工程と、
上記現像液供給ノズルから上記基板への上記現像液の供給を停止すると共に、上記現像液の液膜を薄く保ち、かつ乾燥させない状態で上記基板を回転させながら上記基板上のレジスト膜の領域のうち、露光部分以外を溶解・除去する現像工程と、
上記現像液供給ノズルから上記基板の中心部に上記現像液を供給して、上記現像工程において上記現像液に溶解したレジスト成分を洗い流す洗浄工程と、を備え、
上記液膜形成工程は、上記現像工程よりも短い時間にて行われ、
上記液膜形成工程と、上記現像工程とを交互に複数回繰り返し、
上記液膜形成工程においては、第1の回転数で上記基板を回転させ、
上記現像工程においては、上記第1の回転数よりも低く上記現像液の液膜の乾燥を促進しない第2の回転数で上記基板を回転させ、
上記洗浄工程においては、上記第2の回転数よりも高い第3の回転数で上記基板を回転させる、ことを特徴とする有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理方法。 - 請求項1記載の現像処理方法において、
上記第1の回転数は、100rpm〜1500rpmであり、上記第2の回転数は、10rpm〜100rpmである、ことを特徴とする有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理方法。 - 請求項1又は2に記載の現像処理方法において、
上記現像液供給ノズルから上記基板の中心部に上記現像液を供給する前に、上記基板を回転させながら、上記現像液供給ノズルを上記基板の周縁部から中心部に移動させつつ、上記現像液供給ノズルから上記基板に上記現像液を連続的に供給する工程を備える、ことを特徴とする有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理方法。 - 請求項1又は2に記載の現像処理方法において、
上記現像液供給ノズルから上記基板の中心部に上記現像液を供給した後に、上記基板を回転させながら、上記現像液供給ノズルを上記基板の中心部から周縁部に移動させつつ、上記現像液供給ノズルから上記基板に上記現像液を供給する工程と、上記現像液供給ノズルから上記基板への上記現像液の供給を停止する工程と、を交互に複数回繰り返す、ことを特徴とする有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理方法。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の現像処理方法において、
上記現像液供給ノズルは、複数設けられ、上記液膜形成工程では、上記複数の現像液供給ノズルから上記基板の中心部及び中心部以外の部位に上記現像液を供給し、上記現像工程では、上記複数の現像液供給ノズルから上記基板への上記現像液の供給が停止される、ことを特徴とする有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理方法。 - 表面にレジストが塗布され、露光された後の基板に有機溶剤を含有する現像液を供給して現像を行う現像処理装置において、
上記基板を水平に保持する基板保持部と、
上記基板保持部を鉛直軸回りに回転させる回転駆動機構と、
上記基板保持部に保持された基板の表面に対して上記現像液を供給する現像液供給ノズルと、
上記現像液供給ノズルから上記基板への上記現像液の供給及び上記回転駆動機構を制御する制御部と、を具備し、
上記制御部からの制御信号に基づいて、上記基板を回転させながら、現像液供給ノズルから上記基板の中心部に上記現像液を供給して液膜を形成する液膜形成処理と、上記現像液供給ノズルから上記基板への上記現像液の供給を停止すると共に、上記現像液の液膜を薄く保ち、かつ乾燥させない状態で上記基板を回転させながら上記基板上のレジスト膜の領域のうち、露光部分以外を溶解・除去する現像処理と、上記現像液供給ノズルから上記基板の中心部に上記現像液を供給して、上記現像処理において上記現像液に溶解したレジスト成分を洗い流す洗浄処理を行い、上記液膜形成処理は、上記現像処理よりも短い時間にて行われ、上記液膜形成処理と、上記現像処理とを交互に複数回繰り返し、上記液膜形成処理においては、第1の回転数で上記基板を回転させ、上記現像処理においては、上記第1の回転数よりも低く上記現像液の液膜の乾燥を促進しない第2の回転数で上記基板を回転させ、上記洗浄処理においては、上記第2の回転数よりも高い第3の回転数で上記基板を回転させる、ことを特徴とする有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理装置。 - 請求項6記載の現像処理装置において、
上記第1の回転数は、100rpm〜1500rpmであり、上記第2の回転数は、10rpm〜100rpmである、ことを特徴とする有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理装置。 - 請求項6又は7に記載の現像処理装置において、
上記現像液供給ノズルを上記基板の表面に沿った方向に移動可能であって、上記制御部により移動動作が制御される現像液供給ノズル移動機構を更に備え、上記制御部は、上記現像液供給ノズルから上記基板の中心部に上記現像液を供給する前に、上記現像液供給ノズルを上記基板の周縁部から中心部に移動させつつ、上記現像液供給ノズルから上記基板に上記現像液を連続的に供給する、ことを特徴とする有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理装置。 - 請求項6ないし8のいずれかに記載の現像処理装置において、
上記現像液供給ノズルを上記基板の表面に沿った方向に移動可能であって、上記制御部により移動動作が制御される現像液供給ノズル移動機構を更に備え、上記制御部は、上記現像液供給ノズルから上記基板の中心部に上記現像液を供給した後に、上記現像液供給ノズルを上記基板の中心部から周縁部に移動させつつ、上記現像液供給ノズルから上記基板に上記現像液を供給する処理と、上記現像液供給ノズルから上記基板への上記現像液の供給を停止する処理と、を交互に複数回繰り返す、ことを特徴とする有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理装置。 - 請求項6ないし9のいずれかに記載の現像処理装置において、
上記現像液供給ノズルは、複数設けられ、上記液膜形成処理では、上記複数の現像液供給ノズルから上記基板の中心部及び中心部以外の部位に上記現像液が供給され、上記現像処理では、上記複数の現像液供給ノズルから上記基板への上記現像液の供給が停止される、ことを特徴とする有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理装置。
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