JP2016097595A - 積層体及びその製造方法、フィルムセット、感光性導電フィルム、並びに、電子部品 - Google Patents

Abstract

【課題】表面抵抗率の増加を抑制しつつ、黒浮き現象を抑制することが可能な積層体を提供すること。
【解決手段】透明基材２０、及び、透明基材２０上に設けられた導電パターン２ａを有する導電パターン付透明基材３０と、導電パターン２ａの透明基材２０とは反対側に設けられた光透過層７ａと、を備え、導電パターン２ａが導電材料を含有し、光透過層７ａが、４５０〜６５０ｎｍの領域に光の吸収を有する光吸収材料９を含有し、反射Ｌ^＊が３以下である、積層体５０。
【選択図】図１

Description

本発明は、積層体及びその製造方法、フィルムセット、感光性導電フィルム、並びに、電子部品に関し、特に、液晶表示素子等のフラットパネルディスプレイ、タッチパネル（タッチスクリーン）、太陽電池などに用いられる積層体及びその製造方法、積層体を得るためのフィルムセット及び感光性導電フィルム、並びに、積層体を備える電子部品に関する。

パソコンやテレビ等の大型電子機器からカーナビゲーション、携帯電話、電子辞書等の小型電子機器やＯＡ・ＦＡ機器等の表示機器には液晶表示素子やタッチパネルが用いられている。

タッチパネルは、すでに各種の方式が実用化されているが、近年、静電容量方式のタッチパネルの利用が進んでいる。静電容量方式タッチパネルでは、指先（導電体）がタッチ入力面に接触すると、指先と導電膜との間が静電容量結合し、コンデンサを形成する。このため、静電容量方式タッチパネルは、指先の接触位置における電荷の変化を捉えることによってその座標を検出している。

特に、投影型静電容量方式のタッチパネルは、指先の多点検出が可能なため、複雑な指示を行うことができるという良好な操作性を備え、その操作性の良さから、携帯電話や携帯型音楽プレーヤ等の小型の表示装置を有する機器における表示面上の入力装置として利用が進んでいる。

一般に、投影型静電容量方式のタッチパネルでは、Ｘ軸及びＹ軸による２次元座標を表現するために、複数のＸ電極と、当該Ｘ電極に直交する複数のＹ電極とが２層構造を形成している。電極には透明導電膜用材料が用いられる。

従来、透明導電膜用材料には、可視光に対して高い透過率を示すことから、酸化インジウムスズ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ：ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化スズ等が用いられているが、これらに替わる材料を用いて透明な導電パターンを形成する試みがなされている。例えば、下記特許文献１には、支持フィルム上に設けられた導電層（導電性繊維を含有する導電層）と、該導電層上に設けられた感光性樹脂層とを備える感光性導電フィルムを用い、感光性樹脂層が基板に密着するようにラミネートし、露光、現像することで、導電パターンを形成する方法が開示されている。本技術を用いれば、種々の基板上にフォトリソグラフィー工程で直接導電パターンを形成できる。

また、下記特許文献２には、基板上に感光性導電フィルムを転写後、露光工程を２回行った後、現像することにより、段差の充分小さい導電パターンを充分な解像度で形成する方法が記載されている。

ところで、導電材料（導電性繊維等）を含有する導電層では、導電材料の表面で光が反射して導電層（導電パターン部等）が白く見えてしまう「黒浮き現象」が生じて視認性が低下することが問題となっている。

これに対し、下記特許文献３には、上記黒浮き現象の防止を目的として、可視光領域に吸収を持つ染料を金属ナノワイヤーに吸着させる方法が提案されている。しかし、このような方法では、金属ナノワイヤーを含む組成物の塗布性が低下し、均一な導電膜を作製する上で改善の余地がある。

また、下記特許文献４には、金属ナノワイヤーに染料の他、チオール類、スルフィド類及びジスルフィド類を吸着させる方法が提案されている。しかし、チオール類、スルフィド類及びジスルフィド類が存在すると高温高湿下で金属ナノワイヤーの硫化が進み、表面抵抗率が増加する点で改善の余地がある。

さらに、下記特許文献５には、光吸収材料を含む光透過層を導電層の上に形成する方法が提案されている。しかし、このような方法において高い光透過率を保持するように光吸収材料の添加量を調整すると、黒浮き現象の抑制が不充分となり、改善の余地がある。

国際公開第２０１０／０２１２２４号 国際公開第２０１３／０５１５１６号 特許第４８９３８６７号公報 特開２０１３−２１４５０７号公報 国際公開第２０１４／０３４４５１号

上記のとおり、従来、表面抵抗率の増加を抑制しつつ、黒浮き現象を抑制することは困難である。

そこで、本発明は、表面抵抗率の増加を抑制しつつ、黒浮き現象を抑制することが可能な積層体及びその製造方法を提供することを目的とする。また、本発明は、積層体を得るためのフィルムセット及び感光性導電フィルム、並びに、積層体を備える電子部品を提供することを目的とする。

本発明者らは、前記導電パターン付基材及び前記光透過層を備える積層体の反射Ｌ^＊が小さくなるほど黒浮き現象が抑えられ易いことを見出し、前記積層体の反射Ｌ^＊が３以下になると、表面抵抗率の増加が抑制されつつ黒浮き現象が抑えられ、充分な視認性が得られることを見出した。

本発明は、透明基材、及び、該透明基材上に設けられた導電パターンを有する導電パターン付基材と、前記導電パターンの前記透明基材とは反対側に設けられた光透過層と、を備え、前記導電パターンが導電材料を含有し、前記光透過層が、４５０〜６５０ｎｍの領域に光の吸収を有する光吸収材料を含有し、反射Ｌ^＊が３以下である、積層体を提供する。

本発明に係る積層体によれば、表面抵抗率の増加を抑制しつつ、黒浮き現象を抑制することができる。本発明に係る積層体によれば、充分な光透過率を維持すると共に表面抵抗率の増加を抑制しつつ黒浮き現象を抑制することができる。

上記のような効果が得られる理由は明らかではないが、本発明者らは、以下のとおりと推察している。すなわち、導電材料の表面で反射する光を本願所定の光吸収材料を含む光透過層で吸収し、反射光を低減（具体的には反射Ｌ^＊を３以下まで低減）することによって、導電材料が存在するパターン部と、導電材料を除去した部分との反射光のコントラストを下げ、導電材料の導電性への影響を与えることなく、また透明性の大幅な低下なく、充分な視認性が得られると考えられる。

前記光吸収材料は、灰色染料を含むことが好ましい。この場合、透明性の大幅な低下、色相の大幅な変動、及び、表面抵抗率の上昇を抑制し易い。

前記光吸収材料の含有量は、光透過層全量を基準として０質量％を超え０．２質量％以下であることが好ましい。

前記導電材料は、無機導電体及び有機導電体からなる群より選択される少なくとも一種の導電体を含むことが好ましい。

前記導電材料は、導電性繊維を含むことが好ましい。

前記導電性繊維は、銀繊維であることが好ましい。

また、本発明は、透明基材、及び、該透明基材上に設けられた導電パターンを有する導電パターン付基材の前記導電パターンの前記透明基材とは反対側に光透過層を形成する光透過層形成工程を備え、前記導電パターンが導電材料を含有し、前記光透過層が、４５０〜６５０ｎｍの領域に光の吸収を有する光吸収材料を含有し、反射Ｌ^＊が３以下である、積層体の製造方法を提供する。本発明に係る積層体の製造方法によれば、表面抵抗率の増加を抑制しつつ黒浮き現象を抑制することが可能な積層体を得ることができる。また、本発明に係る積層体の製造方法によれば、充分な光透過率を維持すると共に表面抵抗率の増加を抑制しつつ黒浮き現象を抑制することができる。さらに、本発明に係る積層体の製造方法によれば、黒浮き現象が充分に抑制された導電パターンを透明基材上に形成することができる。

前記光透過層形成工程は、バインダーポリマー、光重合性化合物、光重合開始剤、及び、光吸収材料を含有する光透過層形成用組成物層を前記導電パターンの前記透明基材とは反対側に形成する工程と、前記光透過層形成用組成物層に活性光線を照射する工程と、を含んでいてもよい。

本発明に係る積層体の製造方法は、支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた感光性樹脂組成物層と、を有する感光性フィルムを、前記感光性樹脂組成物層が前記導電パターン付基材に接するようにラミネートすることによって前記光透過層形成用組成物層が形成され、前記感光性樹脂組成物層が、バインダーポリマー、光重合性化合物、光重合開始剤、及び、光吸収材料を含有する態様であってもよい。

前記光吸収材料は、灰色染料を含むことが好ましい。前記光吸収材料の含有量は、前記光透過層全量を基準として０質量％を超え０．２質量％以下であることが好ましい。

本発明に係る積層体の製造方法は、前記導電パターン付基材が、前記透明基材上に設けられた感光性樹脂組成物層と、該感光性樹脂組成物層の前記透明基材とは反対側に設けられた導電層と、を含む感光層に、パターン状に活性光線を照射する第１の露光工程と、酸素存在下で、前記感光層の少なくとも前記第１の露光工程における未露光部の一部又は全部に活性光線を照射する第２の露光工程と、前記第２の露光工程の後に前記感光層を現像することにより導電パターンを形成する現像工程と、を経て得られたものであり、前記感光性樹脂組成物層が、バインダーポリマー、光重合性化合物、及び、光重合開始剤を含有し、前記導電層が導電材料を含有する態様であってもよい。

本発明に係る積層体の製造方法は、支持フィルムと、導電材料を含有する導電層と、バインダーポリマー、光重合性化合物、及び、光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物層と、がこの順で積層されている構造を有する感光性導電フィルムを、前記感光性樹脂組成物層が前記透明基材に接するようにラミネートすることによって前記感光層を設ける態様であってもよい。

さらに、本発明は、第１の支持フィルムと、該第１の支持フィルム上に設けられた第１の感光性樹脂組成物層と、を有する感光性フィルム、及び、第２の支持フィルムと、導電材料を含有する導電層と、第２の感光性樹脂組成物層と、がこの順で積層されている構造を有する感光性導電フィルムを含み、前記第１の感光性樹脂組成物層が、バインダーポリマー、光重合性化合物、光重合開始剤、及び、４５０〜６５０ｎｍの領域に光の吸収を有する光吸収材料を含有し、前記第２の感光性樹脂組成物層が、バインダーポリマー、光重合性化合物、及び、光重合開始剤を含有する、フィルムセットを提供する。本発明に係るフィルムセットによれば、表面抵抗率の増加を抑制しつつ黒浮き現象を抑制することが可能な積層体を得ることができる。また、本発明に係るフィルムセットによれば、充分な光透過率を維持すると共に表面抵抗率の増加を抑制しつつ黒浮き現象を抑制することが可能な積層体を得ることができる。

本発明に係るフィルムセットは、前記積層体の製造方法に用いられてもよい。

本発明は、支持フィルムと、導電材料を含有する導電層と、バインダーポリマー、光重合性化合物、光重合開始剤、及び、４５０〜６５０ｎｍの領域に光の吸収を有する光吸収材料を含有する感光性樹脂組成物層と、がこの順で積層されている構造を有する、感光性導電フィルムを提供する。

本発明は、本発明に係る積層体、本発明に係る積層体の製造方法により得られる積層体、本発明に係るフィルムセットを用いて得られる積層体、又は、本発明に係る感光性導電フィルムを用いて得られる積層体を備える、電子部品を提供する。

本発明によれば、表面抵抗率の増加を抑制しつつ、黒浮き現象を抑制することが可能な積層体及びその製造方法を提供することができる。本発明によれば、黒浮き現象を抑制することにより、良好な視認性を得ることができる。また、本発明によれば、充分な光透過率を維持すると共に表面抵抗率の増加を抑制しつつ黒浮き現象を抑制することができる。さらに、本発明によれば、積層体を得るためのフィルムセット及び感光性導電フィルム、並びに、積層体を備える電子部品を提供することができる。

本発明の一実施形態に係る積層体を示す模式断面図である。 本発明の他の実施形態に係る積層体を示す模式断面図である。 本発明の一実施形態に係る感光性導電フィルムを説明するための模式断面図である。 本発明の一実施形態に係る積層体の製造方法を説明するための模式断面図である。 図２（ｃ）の積層体の製造方法の一部を説明するための模式断面図である。 本発明の一実施形態に係る電子部品を示す模式平面図（図６（ａ））と、図６（ａ）の一部切欠き斜視図（図６（ｂ））である。 光吸収材料の吸光スペクトルを示す図面である。

以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。

本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味する。また、「Ａ又はＢ」とは、ＡとＢのどちらか一方を含んでいればよく、両方とも含んでいてもよい。さらに、以下に例示する材料等は、特に断らない限り単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

本明細書において、「導電パターン」とは、所定の形状を有すると共に導体を含んで構成されるものである。例えば、導電パターンを有する基材は、導体を含む部分と、導体を含まない部分とを有し、導体を含む部分によって導電パターンが構成される。

本明細書において、導電パターン又は導電層と、感光性樹脂組成物層との境界は必ずしも明確になっている必要はない。導電パターン又は導電層と、感光性樹脂組成物層とが混じり合った態様であってもよい。例えば、感光性樹脂組成物層を構成する組成物が導電パターン又は導電層中に含浸されていたり、感光性樹脂組成物層を構成する組成物が導電パターン又は導電層の表面に存在していたりしてもよい。

＜積層体＞
図１は、本実施形態に係る積層体を示す模式断面図である。図１に示すように、本実施形態に係る積層体５０は、導電パターン付透明基材（導電パターン付基材）３０と、光透過層７ａとを備えている。導電パターン付透明基材３０は、透明基材２０と、透明基材２０上に設けられた透明な導電パターン２ａ及び樹脂層（樹脂硬化層）３ａと、を有している。導電パターン２ａは、樹脂層３ａ上に設けられている。導電パターン２ａは、導電材料を含有している。光透過層７ａは、樹脂硬化物８ａと、樹脂硬化物８ａ中に分散している光吸収材料９と、を有している。

なお、図１に示される光透過層７ａは、樹脂硬化物８ａ中に光吸収材料９が含まれていることが分かるように、便宜的に光吸収材料が図示されている。例えば、光吸収材料が染料である場合には、光透過層７ａを構成する媒体中に光吸収材料が溶解した状態であってもよく、光吸収材料が顔料である場合には、光透過層７ａを構成する媒体中に光吸収材料が分散した状態であってもよい。

図２は、他の実施形態に係る積層体を示す模式断面図である。図２（ａ）に示される積層体は、透明基材２０上に導電パターン２ａが直接設けられた導電パターン付透明基材（導電パターン付基材）３１と、光吸収材料９を含有する光透過層７ａとを備える。図２（ｂ）に示される積層体は、透明基材２０上に樹脂層（樹脂硬化パターン）３ｂ及び導電パターン２ａが透明基材２０側からこの順に配置されてなる導電パターン付透明基材（導電パターン付基材）３２と、光吸収材料９を含有する光透過層７ａとを備える。図２（ｃ）に示される積層体は、透明基材２０上に導電パターン２ａ及び樹脂層（樹脂硬化パターン）３ｃが透明基材２０側からこの順に配置されてなる導電パターン付透明基材（導電パターン付基材）３３と、光吸収材料９を含有する光透過層７ａとを備える。図２（ｄ）に示される積層体は、透明基材２０上に導電パターン２ａ及び樹脂層（光透過層、樹脂硬化パターン）３ｄが透明基材２０側からこの順に配置されてなる導電パターン付透明基材（導電パターン付基材）３４と、樹脂硬化物８ａからなる樹脂層７ｂとを備える。光透過層は、図２（ｄ）に示すように、導電パターン付透明基材の全体を覆うことなく局所的に導電パターン２ａのみを覆っていてもよい。

本実施形態に係る積層体は、光透過層（光透過層７ａ、樹脂層３ｄ等）を備えることにより、導電パターンが形成されている部分と、それ以外の部分（例えば、図１において、導電パターン２ａが形成されていない樹脂層３ａ）とのヘーズ差を小さくすることができる。ヘーズ差は、１．０以下であることが好ましく、０．７以下であることがより好ましく、０．５以下であることがさらに好ましい。このようなヘーズ差が得られるように、光透過層における光吸収材料の種類及びその含有量、並びに、層の厚み等を調整することが好ましい。

本実施形態に係る積層体は、積層体を備える電子部品（例えば、タッチセンサーのセンシング領域部分）の視認性にさらに優れる観点から、導電パターンが形成されている部分のヘーズが１．５以下であることが好ましい。また、積層体を備える電子部品（例えば、タッチセンサーのセンシング領域部分）の視認性にさらに優れる観点から、導電パターンが形成されていない部分のヘーズが２．０以下であることが好ましい。

本実施形態に係る積層体の反射Ｌ^＊は、３以下であり、２．８以下であることが好ましく、２．５以下であることがより好ましい。このような範囲であることで、黒浮き現象を抑制することができる。ここで、反射Ｌ^＊とは、物体の色を表すのに使用されているＬ^＊ａ^＊ｂ^＊のうちの明度Ｌ^＊を反射モードで測定した値である。反射Ｌ^＊は、全て正反射光を除いて測定している。なお、反射Ｌ^＊はＣＭ−５（コニカミノルタ株式会社製、商品名）等の市販の分光測色計などで測定が可能である。

本実施形態に係る積層体の製造方法の詳細については後述するが、図１に示される導電パターン付透明基材３０は、例えば、上記特許文献２（国際公開第２０１３／０５１５１６号）に記載の方法によって作製することができる。
図２（ａ）に示される導電パターン付透明基材３１は、例えば、特開２００７−２５７９６３号公報に記載の方法、又は、透明基材上にスパッタ法によりＩＴＯ膜又は酸化スズ膜を形成し、エッチングによりパターニングする方法等によって作製することができる。
図２（ｂ）に示される導電パターン付透明基材３２は、例えば、上記特許文献１（国際公開第２０１０／０２１２２４号）に記載の方法によって作製することができる。
図２（ｃ）及び（ｄ）に示される導電パターン付透明基材３３，３４は、例えば、米国特許出願公開第２００７／００７４３１６号明細書に記載の方法により作製することができる。

透明基材２０としては、例えば、ガラス基材、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、トリアセチルセルロース等のプラスチック基材が挙げられる。透明基材は、４５０〜６５０ｎｍの波長域における最小光透過率が８０％以上であるものが好ましい。作製する電子部品の軽量化の観点からは、プラスチック基材が好ましく、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、又はトリアセチルセルロースがより好ましい。

導電パターン２ａが含有する導電材料としては、導電パターン２ａの導電性を確保することができるものであればよく、高い導電性を確保する観点から、無機導電体及び有機導電体からなる群より選択される少なくとも一種の導電体が好ましい。

無機導電体としては、酸化インジウムスズ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ：ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化スズ等の金属酸化物粒子、金、銀、銅、白金等の金属繊維、金属粒子、金属メッシュなどが挙げられる。有機導電体としては、気相成長炭素繊維（ＶＧＣＦ）、カーボンナノチューブ等の炭素繊維、カーボンブラック等の炭素粉末などが挙げられる。

導電材料の形態は、特に制限されるものではないが、繊維状が好ましく、導電性繊維がより好ましい。導電パターン２ａが導電性繊維を含有することで、導電性と透明性とを高水準で両立することができる。また、図１や図２（ｂ）に示される導電パターンを、後述する転写形感光性導電フィルムを用いて形成する場合には、導電材料として導電性繊維を用いることで、現像性がさらに向上して、解像度に優れた導電パターンを形成することができる。

導電パターン２ａが含有する導電性繊維としては、金、銀、銅、白金等の金属繊維、カーボンナノチューブ等の炭素繊維などが挙げられる。導電性の観点からは、金繊維又は銀繊維を用いることが好ましい。形成される導電パターンの導電性を容易に調整できる観点からは、銀繊維がより好ましい。黒浮き現象をさらに抑制する観点から、導電パターン２ａが銀繊維を含む場合には、後述する灰色染料を光透過層において用いることが好ましい。

金属繊維は、金属イオンをＮａＢＨ_４等の還元剤で還元する方法、ポリオール法などにより作製することができる。また、カーボンナノチューブは、Ｕｎｉｄｙｍ社のＨｉｐｃｏ単層カーボンナノチューブ等の市販品などを用いることができる。

導電性繊維の繊維径は、１〜５０ｎｍであることが好ましく、２〜４５ｎｍであることがより好ましく、３〜４０ｎｍであることがさらに好ましい。また、導電性繊維の繊維長は、１〜１００μｍであることが好ましく、２〜５０μｍであることがより好ましく、３〜１０μｍであることがさらに好ましい。繊維径及び繊維長は、走査型電子顕微鏡により測定することができる。

導電パターン２ａの厚みは、導電パターンに求められる導電性及び透明性等によっても異なるが、１μｍ以下であることが好ましく、１ｎｍ〜０．５μｍであることがより好ましく、５ｎｍ〜０．１μｍであることがさらに好ましい。導電パターン２ａの厚みが１μｍ以下であると、４５０〜６５０ｎｍの波長域における光透過率が高く、特に透明電極に好適なものとなる。なお、導電パターン２ａの厚みは、走査型電子顕微鏡によって測定される値を指す。

導電パターン２ａは、導電性繊維同士が接触してなる網目構造を有することが好ましい。このような網目構造を有する導電性繊維は、導電パターンを形成した際に露出する表面においてその面方向に導電性が得られるのであれば、導電パターン２ａと接する層における表層部（例えば、導電パターン２ａと接する樹脂層３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄにおける導電パターン２ａ側の表層部）に含まれる形態で存在していてもよい。

樹脂層３ａ，３ｂは、透明基材２０と導電パターン２ａとを接着し、透明基材２０上に導電パターン２ａを保持できるものであればよく、樹脂層３ｃ，３ｄは、導電パターン２ａ上に保持できるものであればよい。また、樹脂層３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄは、例えば、感光性樹脂組成物からなる層（以下、感光性樹脂組成物層ともいう）の硬化物である樹脂硬化層であり、この場合、後述する転写形感光性導電フィルムを用いて樹脂層と導電パターンを一括で形成することができる。

感光性樹脂組成物としては、例えば、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、及び、（Ｃ）光重合開始剤を含有する組成物が挙げられる。このような組成物を用いることで、導電パターン２ａの解像度、及び、透明基材２０との接着性を両立することができる。

（Ａ）バインダーポリマーとしては、従来公知のものが特に制限無く使用できるが、アクリル樹脂が好ましい。アクリル樹脂は、例えば、（メタ）アクリル酸又は（メタ）アクリル酸エステルをラジカル重合させることにより製造することができる。

（メタ）アクリル酸エステルとしては、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸アリールエステル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリルエステル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル等が挙げられる。（メタ）アクリル酸アリールエステルとしては、（メタ）アクリル酸ベンジル等が挙げられる。また、上記アクリル樹脂は、スチレンに基づく構造単位を含んでもよい。

（Ａ）バインダーポリマーは、アルカリ現像性をより良好にする観点から、カルボキシル基を有することが好ましい。このようなバインダーポリマーを得るための、カルボキシル基を有する重合性単量体としては、上述したような（メタ）アクリル酸等が挙げられる。

（Ａ）バインダーポリマーが有するカルボキシル基の比率は、バインダーポリマーを得るために使用する全重合性単量体に対するカルボキシル基を有する重合性単量体の割合として、１０〜５０質量％であることが好ましく、１２〜４０質量％であることがより好ましく、１５〜３０質量％であることがさらに好ましく、１５〜２５質量％であることが特に好ましい。アルカリ現像性に優れる点では、１０質量％以上であることが好ましく、アルカリ耐性に優れる点では、５０質量％以下であることが好ましい。

（Ａ）成分であるバインダーポリマーの重量平均分子量は、１００００〜２０００００であることが好ましいが、解像度の見地から、１５０００〜１５００００であることがより好ましく、３００００〜１５００００であることがさらに好ましく、３００００〜１０００００であることが特に好ましい。なお、重量平均分子量は、後述する実施例の測定方法を参考に測定することができる。１００００未満では、現像時に硬化膜のアルカリ耐性が低いため密着性が低下する場合があり、２０００００を超えると、現像時に未露光部の現像性が低くなり良好なパターンが得られづらくなる場合がある。

（Ｂ）成分である光重合性化合物としては、エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物を用いることができる。これにより、導電パターン２ａの解像度、及び、透明基材２０との接着性をさらに高度に両立することができる。

エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物としては、例えば、一官能ビニルモノマー、二官能ビニルモノマー、及び、少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーが挙げられる。

一官能ビニルモノマーとしては、上記した（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、それらと共重合可能なモノマー等が挙げられる。

二官能ビニルモノマーとしては、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン）、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーとしては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の、多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物；トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリアクリレート等の、グリシジル基含有化合物にα，β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物などが挙げられる。

（Ａ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、４０〜８０質量部であることが好ましく、５０〜７０質量部であることがより好ましい。この含有量が４０質量部以上であれば、塗膜性に優れ、後述する転写形感光性導電フィルムを形成し、ロール状に巻き取った際に、エッジフュージョン（樹脂がフィルム端部から染み出すこと）を防ぐことができる。８０質量部以下であれば、高感度となり、硬化膜の機械強度を向上させることができる。

（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、２０〜６０質量部であることが好ましく、３０〜５０質量部であることがより好ましい。この含有量が２０質量部以上であれば、高感度となり、機械強度を強くすることができる。６０質量部以下であれば、塗膜性に優れ、後述する転写形感光性導電フィルムを形成し、ロール状に巻き取った際に、エッジフュージョンが起こることを防ぐことができる。

（Ｃ）成分である光重合開始剤としては、従来公知のものを特に制限無く用いることができる。具体的には、芳香族ケトン、オキシムエステル化合物、ホスフィンオキサイド化合物、ベンジル誘導体、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体、アクリジン誘導体、Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−フェニルグリシン誘導体、クマリン系化合物、オキサゾール系化合物等が挙げられる。

これらの中でも、薄膜（例えば、１０μｍ以下の厚み）としたときのパターン形成能に優れ、透明性に優れた導電パターンを形成し易い点で、オキシムエステル化合物又はホスフィンオキサイド化合物が好ましい。

オキシムエステル化合物としては、１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノン１−（Ｏ−アセチルオキシム）等が挙げられる。ホスフィンオキサイド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド等が挙げられる。

（Ｃ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．１〜１０質量部であることが好ましく、０．２〜５質量部であることがより好ましく、１〜５質量部であることがさらに好ましい。この含有量が０．１質量部以上であれば、感度を充分に高めることができる。１０質量部以下であれば、露光の際に組成物の表面での吸収が増大して内部の光硬化が不充分となることを防ぐことができる。

感光性樹脂組成物は、必要に応じて、光吸収材料をさらに含有していてもよい。例えば、図２（ｄ）に示すように、導電パターン２ａの透明基材２０とは反対側の面に樹脂層３ｄが配置され、樹脂層３ｄが光吸収材料を含有する態様とする場合には、感光性樹脂組成物に光吸収材料を配合させてもよい。

光吸収材料としては、特に制限されず、公知の材料を用いることができる。光吸収材料としては、例えば、４５０〜６５０ｎｍの領域に光の吸収を有する光吸収材料が挙げられる。４５０〜６５０ｎｍの領域に光の吸収を有する光吸収材料は、４５０〜６５０ｎｍにおける少なくとも一つの波長の光を吸収する。

また、光吸収材料としては、例えば公知の有色化合物を用いることができる。有色化合物としては、染料、顔料、カーボン等を用いることができる。染料としては、公知の染料を用いることができる。染料としては、Ｃ．Ｉ．ソルベント イエロー １４，３０，３３，４２，９３、Ｃ．Ｉ．ソルベント オレンジ ２２、Ｃ．Ｉ．ソルベント レッド ３，２４，２７，４９，１１１、Ｃ．Ｉ．ソルベント バイオレット １４、Ｃ．Ｉ．ソルベント ブルー ５，３５，９０、Ｃ．Ｉ．ソルベント グリーン ３、Ｃ．Ｉ．ソルベント ブラック ３，５，７等が挙げられる。染料の中でも、透明性の大幅な低下、色相の大幅な変動、及び、表面抵抗率の上昇を抑制し易い観点から、灰色染料が好ましい。 灰色染料とは、可視光領域の４５０〜６５０ｎｍの全範囲において同程度の吸収を持つ染料を指し、例えば、５５０ｎｍの吸収強度を１としたときに、４５０〜６５０ｎｍの全範囲における吸収強度が０．７〜１．３の範囲内である染料が好ましく、０．８〜１．２の範囲内である染料がより好ましい。このような範囲内であることによって、黒浮き防止時の透過率の大幅な低下を抑え易い。また、光吸収材料添加前に対して色のバランスの変化を抑えられる。なお、上記吸光度は、ＵＶ分光光度計（株式会社日立製作所製、商品名「Ｕ−３３１０」）を用いて測定できる。

顔料としては、例えば公知の無機顔料、有機顔料を用いることができる。無機顔料としては、金属酸化物、金属錯塩等で示される金属化合物などを挙げることができる。具体的には、鉄、コバルト、アルミニウム、カドミウム、鉛、銅、チタン、マグネシウム、クロム、亜鉛、アンチモン等の金属酸化物、前記金属の複合酸化物などを挙げることができる。有機顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメント イエロー １１，２４，１０８,１０９，１１０，１３８，１３９，１５０，１５１，１５４，１６７，１８０，１８５、Ｃ．Ｉ．ピグメント オレンジ ３６，７１、Ｃ．Ｉ．ピグメント レッド １２２，１５０，１７１，１７５，１７７，１７９，２０９，２２４，２４２，２５４、Ｃ．Ｉ．ピグメント バイオレット １９，２３，３２、Ｃ．Ｉ．ピグメント ブルー １５，１５：１，１５：３，１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメント ブラック １等を用いることができる。顔料を用いる場合は、高透過率を得る観点から、粒子経が細かいものを選択することが好ましい。また、吸収強度以外の指標として、積層体のＣＩＥＬＡＢ表色系での色相がａ^＊、ｂ^＊ともにプラスマイナス５以内になることが好ましい。

灰色染料として、市販品では、ＮＵＢＩＡＮ ＢＬＡＣＫ ＰＡ−２８０２やＮＵＢＩＡＮ ＢＬＡＣＫ ＰＣ−５８５７（いずれもオリエント化学工業株式会社製）を用いることができる。また、黄、赤、紫、青等の複数の染料を混合することによって、灰色としてもよい。また、染料以外の有色化合物を用いる場合でも吸収強度は灰色染料と同様の上記の範囲内にすることが好ましい。また、高温高湿下で表面抵抗率が上昇し易いチオール基含有化合物や、高温高湿下で退色や析出を発生する有色化合物は選択しないことが好ましい。さらに、光透過層が感光性樹脂組成物層の場合は、感光特性の低下を抑制するために紫外領域に強い吸収を持たない有色化合物を選択することが好ましい。

感光性樹脂組成物が光吸収材料を含有する場合、光吸収材料の含有量は、高い透明性を得る観点から、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量を基準として、０．２質量％以下であることが好ましく、０．１８質量％以下であることがより好ましく、０．１５質量％以下であることがさらに好ましい。一方、光吸収材料の含有量は、０質量％を超え、黒浮き現象をさらに抑制し且つパターン見えをさらに抑制する観点からは、０．１質量％以上が好ましい。

図１に示される導電パターン２ａ及び樹脂層３ａは、例えば、図４に基づき後述するように、透明基材２０上に設けられた感光性樹脂組成物層（樹脂層３ａを得るための層）と、感光性樹脂組成物層の透明基材２０とは反対側の面に設けられた導電層とを含む感光層に、パターン状に活性光線を照射する第１の露光工程と、酸素存在下で、感光層の少なくとも第１の露光工程での未露光部の一部又は全部に活性光線を照射する第２の露光工程と、第２の露光工程の後に感光層を現像することにより、導電パターン２ａを形成する現像工程とを経て得ることができる。このような導電パターン形成方法によれば、導電パターンを有する領域と、導電層の一部が除去され樹脂硬化層が露出した領域と、を一括して形成することができる。

また、図２（ｂ）に示される導電パターン２ａ及び樹脂層３ｂは、例えば、透明基材２０上に設けられた感光性樹脂組成物層（樹脂層３ｂを得るための層）と、感光性樹脂組成物層の透明基材２０とは反対側の面に設けられた導電層とを含む感光層に、パターン状に活性光線を照射する露光工程と、露光した感光層を現像することにより導電パターンを形成する現像工程とを経て得ることができる。

また、図２（ｃ）及び図２（ｄ）に示される導電パターン２ａ及び樹脂層３ｃ，３ｄは、例えば、透明基材２０上に設けられた導電層と、導電層の透明基材２０とは反対側の面に設けられた感光性樹脂組成物層（樹脂層３ｃ，３ｄを得るための層）とを含む感光層に、パターン状に活性光線を照射する露光工程と、露光した感光層を現像することにより導電パターン２ａを形成する現像工程とを経て得ることができる（後述する図５参照）。

上記の感光層（感光性樹脂組成物層及び導電層）は、透明基材２０上に塗布等の方法により直接設けてもよく、別途、支持体と、該支持体上に設けられた感光層とを有する転写形感光性導電フィルムを作製し、透明基材２０に対して感光性樹脂組成物層又は導電層が接するようにラミネートすることで設けてもよい。このような転写形感光性導電フィルムを用いることにより、基材上に、導電パターンを充分な解像度で簡便に形成することができる。また、基板表面に設けられる接続端子等と導電パターンとを簡便に接続することが可能となる。

図３は、本実施形態に係る感光性導電フィルムを説明するための模式断面図である。図３に示すように感光性導電フィルム１０は、支持フィルム１と、支持フィルム１上に設けられた感光層４とを有する。感光層４は、導電材料を含有する導電層２と、導電層２の支持フィルム１とは反対側の面に設けられた感光性樹脂組成物層３とを含む。すなわち、感光性導電フィルム１０は、支持フィルム１と、導電層２と、感光性樹脂組成物層３とがこの順で積層されている構造を有する。

支持フィルム１としては、耐熱性及び耐溶剤性を有する重合体フィルムを用いることができる。重合体フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられる。これらのうち、透明性や耐熱性の観点からは、ポリエチレンテレフタレートフィルム又はポリプロピレンフィルムが好ましい。

支持フィルム１として、ガス（特には酸素）透過性を有する重合体フィルムを用いてもよい。この場合、例えば、上記した第１の露光工程及び第２の露光工程を有する導電パターン形成方法において、第２の露光工程における雰囲気の酸素濃度を調整することにより、支持フィルム１を剥離しなくても酸素存在下で第２の露光工程を行うことができる。

導電層２に含まれる成分等については、上記導電パターン２ａについて記載したものを用いることができる。導電層２は、例えば、上述した導電材料を水又は有機溶剤、界面活性剤等の分散安定剤などを加えた導電材料分散液を調製し、これを支持フィルム１上に塗工した後、乾燥することにより形成することができる。乾燥後、支持フィルム１上に形成した導電層２は、必要に応じてラミネートされてもよい。

感光性樹脂組成物層３に含まれる成分等については、上記感光性樹脂組成物について記載したものを用いることができる。感光性樹脂組成物層３は、例えば、バインダーポリマー、光重合性化合物（例えば、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物）及び光重合開始剤を含有し、必要に応じて、４５０〜６５０ｎｍの領域に光の吸収を有する光吸収材料をさらに含有する。これらの成分としては、感光性樹脂組成物における（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物（例えば、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物）、及び、（Ｃ）光重合開始剤として上述した成分、並びに、光透過層７ａにおける光吸収材料として上述した成分を用いることができる。

感光性樹脂組成物層３は、感光性樹脂組成物の溶液を調製し、支持フィルム１上に形成された導電層２上に塗工した後、乾燥することにより形成することができる。感光性樹脂組成物の溶液は、メタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、トルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、プロピレングリコールモノメチルエーテル等の溶剤又はこれらの混合溶剤に溶解したものであってもよい。感光性樹脂組成物溶液の濃度は、固形分１０〜６０質量％程度とすることができる。

感光性樹脂組成物層３の厚みは、用途により異なるが、乾燥後の厚みで０．０５〜２０μｍであることが好ましく、０．０５〜１５μｍであることがより好ましく、０．１〜１０μｍであることがさらに好ましく、０．１〜８μｍであることが特に好ましく、０．１〜５μｍであることが極めて好ましい。この厚みが０．０５μｍ以上であれば、塗工がし易くなる傾向があり、２０μｍ以下であれば、感度の低下を防ぐことができる。なお、感光性樹脂組成物層３を硬化した層（樹脂層３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ等）の厚みについてもこれらの範囲であることが好ましい。

上記塗工は、ロールコート法等の公知の方法で行うことができる。また、乾燥は、３０〜１５０℃で１〜３０分間程度、熱風対流式乾燥機等で行うことができる。導電層２において、導電材料は界面活性剤や分散安定剤と共存していてもかまわない。

感光性導電フィルム１０は、必要に応じて、保護フィルム５を有していてもよい（後述する図５参照）。保護フィルムとしては、支持フィルム１で例示されたフィルムを用いることができる。この場合、保護フィルムの剥離強度が支持フィルム１の剥離強度よりも小さくなるように、支持フィルム１及び保護フィルムの厚み又は表面処理を調節することが好ましい。

保護フィルムの厚みは、１０〜２００μｍであることが好ましく、１５〜１５０μｍであることがより好ましく、１５〜１００μｍであることがさらに好ましい。

感光層４（導電層２及び感光性樹脂組成物層３）は、両層の合計厚みを１〜１０μｍとしたときに４５０〜６５０ｎｍの波長域における最小光透過率が８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましい。導電層２及び感光性樹脂組成物層３がこのような条件を満たすと、積層体をタッチパネル等の電子部品に適用した場合に、視認性がより向上する。

光透過層７ａ及び樹脂層（光透過層）３ｄは、光吸収材料９として、４５０〜６５０ｎｍの領域に光の吸収を有する光吸収材料を含有している。光透過層７ａ及び樹脂層（光透過層）３ｄは、導電パターン２ａの導電材料からの反射光を吸収し、黒浮き現象の抑制が可能な層である。光透過層７ａ及び樹脂層（光透過層）３ｄは、形成の簡便さから、感光性樹脂組成物層又はその硬化物であることが好ましい。

光透過層に含まれる光吸収材料としては、上記感光性樹脂組成物における光吸収材料と同様のものを用いることができる。

光吸収材料を含有する媒体は、樹脂硬化物であってもよく、硬化前の樹脂組成物層、有機ガラス等であってもよい。

樹脂硬化物としては、例えば、感光性樹脂組成物の硬化物が挙げられる。感光性樹脂組成物としては、バインダーポリマー、光重合性化合物（例えば、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物）、光重合開始剤及び光吸収材料、並びに、必要に応じてその他の成分を含有する組成物を用いることができる。バインダーポリマー、光重合性化合物（例えば、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物）、光重合開始剤及びその他の成分としては、上述した樹脂層３ａ，３ｂ，３ｃを構成する材料と同様のものが挙げられる。

光透過層７ａは、上記の感光性樹脂組成物を導電パターン付透明基材３０，３１，３２，３３上に塗布、乾燥することにより形成してもよく、支持フィルム上に上記の感光性樹脂組成物の層を形成した感光性フィルムを用意し、転写することで設けてもよい。樹脂層３ｄは、上記の感光性樹脂組成物を導電パターン２ａ上に塗布、乾燥することにより形成してもよく、支持フィルム上に上記の感光性樹脂組成物の層を形成した感光性フィルムを用意し、転写した後に露光、現像することで設けてもよい。

光透過層７ａ及び樹脂層（光透過層）３ｄにおける光吸収材料の含有量は、高い透明性が得られ易い観点から、光透過層全量を基準として、０．２質量％以下であることが好ましく、０．１８質量％以下であることがより好ましく、０．１５質量％以下であることがさらに好ましい。一方、光吸収材料の含有量は、０質量％を超え、黒浮き現象をさらに抑制する観点、及び、パターン見えを抑制する観点から、０．０５質量％以上が好ましい。

光透過層７ａ及び樹脂層（光透過層）３ｄの厚みは、さらに優れた光透過率及びヘーズ値を得る観点から、０．５〜２５μｍであることが好ましく、１〜１５μｍであることがより好ましく、２〜８μｍであることがさらに好ましく、２．５〜８μｍであることが特に好ましく、２．５〜５μｍであることが極めて好ましい。

導電パターン付透明基材は、４５０〜６５０ｎｍの波長域における最小光透過率が８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましい。

導電パターン付透明基材は、上述した導電パターンの形成方法により得られる。導電パターン２ａの表面抵抗率は、配線、電極（透明電極等）などとして有効に利用できる観点から、４００Ω／□以下であることが好ましく、３００Ω／□以下であることがより好ましく、１５０Ω／□以下であることがさらに好ましい。また、導電パターンの表面抵抗率をこのような範囲とすることで、基材表面に設けられる接続端子等と良好な電気的接続を確保することができる。表面抵抗率は、例えば、導電性繊維分散液の濃度、塗工量等によって調整することができる。なお、導電層をパターニングして得られる導電パターンの表面抵抗率は、前記導電層の表面抵抗率として測定することができる。

導電パターン付透明基材の全光線透過率は、８５％以上であることが好ましく、８７％以上であることがより好ましい。導電パターン付透明基材がこのような条件を満たす場合、ディスプレイパネル等での視認性がさらに向上する。

本実施形態に係る積層体の全光線透過率は、８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましく、８７％以上であることがさらに好ましい。上記積層体がこのような条件を満たす場合、充分な透明性を確保し易く、ディスプレイパネル等での視認性がさらに向上する。

＜積層体の製造方法＞
本実施形態に係る積層体の製造方法について説明する。本実施形態に係る積層体の製造方法は、透明基材、及び、透明基材上に設けられた導電パターンを有する導電パターン付透明基材の前記導電パターンの前記透明基材とは反対側に光透過層を形成する光透過層形成工程を備え、前記導電パターンが導電材料を含有し、前記光透過層が、４５０〜６５０ｎｍの領域に光の吸収を有する光吸収材料を含有する。換言すれば、光透過層形成工程では、透明基材、及び、透明基材上に設けられた導電パターンを有する導電パターン付透明基材の前記導電パターンが設けられている側に光透過層を形成する。

光透過層形成工程は、例えば、バインダーポリマー、光重合性化合物（例えば、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物）、光重合開始剤、及び、光吸収材料を含有する光透過層形成用組成物層を導電パターンの前記透明基材とは反対側に形成する工程と、光透過層形成用組成物層に活性光線を照射して光透過層を得る工程と、を含む。光透過層形成用組成物層は、支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた感光性樹脂組成物層と、を有する感光性フィルムを、感光性樹脂組成物層が導電パターン付透明基材（導電パターン付基材）に接するようにラミネートすることによって形成されてもよい。光透過層形成用組成物層は、光透過層を形成するための組成物層であり、例えば、バインダーポリマー、光重合性化合物（例えば、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物）、光重合開始剤、及び、光吸収材料を含有する。感光性樹脂組成物層は、光透過層形成用組成物層と同様の構成成分を含有しており、例えば、バインダーポリマー、光重合性化合物（例えば、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物）、光重合開始剤、及び、光吸収材料を含有している。

図４は、本実施形態に係る積層体の製造方法を説明するための模式断面図である。図４に示される方法では、まず、透明基材２０上に導電パターン２ａを形成して導電パターン付透明基材（導電パターン付基材）３０を作製する（図４（ａ）〜（ｄ）参照）。

導電パターン付透明基材３０は、透明基材２０上に感光層４を設ける感光層形成工程（図４（ａ））と、感光層４にパターン状に活性光線Ｌを照射する第１の露光工程（図４（ｂ））と、酸素存在下で、感光層４の少なくとも第１の露光工程における未露光部の一部又は全部に活性光線Ｌを照射する第２の露光工程（図４（ｃ））と、第２の露光工程の後に感光層４を現像することにより導電パターン２ａを形成する現像工程（図４（ｄ））と、を経て得られる。感光層４は、透明基材２０上の感光性樹脂組成物層３と、感光性樹脂組成物層３の透明基材２０とは反対側の面に設けられた導電層２と、を含む。

上記感光層形成工程では、感光性導電フィルム１０をラミネートすることによって感光層４を設けるラミネート工程を有していてもよい。ラミネート工程では、上述した感光性導電フィルム１０を、感光性樹脂組成物層３が透明基材２０に接するようにラミネートすることによって感光層４を設けてもよい。この場合、第１の露光工程では、感光層４上に支持フィルム１が配置されていてもよく、第２の露光工程の前に支持フィルム１を剥離してもよい。第１の露光工程は、真空下又は不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。

ラミネート工程は、例えば、感光性導電フィルム１０を加熱しながら感光性樹脂組成物層３を透明基材２０に圧着して積層する方法により行われる。なお、この作業は、密着性及び追従性の見地から減圧下で行われることが好ましい。感光性導電フィルム１０の積層は、導電層２と、感光性樹脂組成物層３又は透明基材２０とを７０〜１３０℃に加熱することが好ましく、圧着圧力は、０．１〜１．０ＭＰａ程度（１〜１０ｋｇｆ／ｃｍ^２程度）とすることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。また、導電層２や感光性樹脂組成物層３を上記のように７０〜１３０℃に加熱すれば、予め透明基材２０を予熱処理することは必要ではないが、積層性をさらに向上させるために透明基材２０の予熱処理を行うこともできる。

第１及び第２の露光工程では、活性光線を照射することによって感光性樹脂組成物層３が硬化される。導電パターンの形成方法においては、この硬化物によって導電層２が固定されることで、透明基材２０上に導電パターン２ａ及び樹脂層（樹脂硬化層）３ａが形成される。

露光工程における露光方法としては、例えば、アートワークと呼ばれるマスクパターン６（図４（ｂ））を通して活性光線Ｌを画像状に照射する方法（マスク露光法）が挙げられる。活性光線の光源としては、公知の光源、例えば、高圧水銀灯、キセノンランプ等の紫外線、可視光等を有効に放射するものが用いられる。また、Ａｒイオンレーザ、半導体レーザ等の紫外線、可視光等を有効に放射するものも用いられる。さらに、写真用フラッド電球、太陽ランプ等の可視光を有効に放射するものも用いられる。また、レーザ露光法等を用いた直接描画法により活性光線を画像状に照射する方法を採用してもよい。

第２の露光工程の前に支持フィルム１を剥離してもよいが、支持フィルムとしてガス透過性のフィルムを用い、第１の露光工程を真空下、不活性ガス雰囲気下又は酸素減圧下で行い、第２の露光工程を空気中等の酸素存在下、好ましくは高圧酸素下で行う等、露光時の雰囲気を調整することにより、支持フィルム１を剥離することなく、目的の導電パターンを形成することができる。

現像工程では、感光層４の露光部以外の部分が除去される。具体的には、感光層４上に透明な支持フィルム１が存在している場合には、まず、支持フィルム１を除去し、その後、ウェット現像により感光層４の露光部以外の部分を除去する。これにより、所定のパターンを有する樹脂層（樹脂硬化層）３ａ上に、導電材料を含有する部分が残り、導電パターン２ａが形成される。

ウェット現像は、アルカリ性水溶液、水系現像液、有機溶剤系現像液等の感光性樹脂に対応した現像液を用いて、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知の方法により行われる。

現像液としては、安全かつ安定であり、操作性が良好なアルカリ性水溶液等を用いることが好ましい。上記アルカリ性水溶液の塩基としては、リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物等の水酸化アルカリ；リチウム、ナトリウム、カリウム若しくはアンモニウムの炭酸塩又は重炭酸塩等の炭酸アルカリなどが用いられる。

現像に用いるアルカリ性水溶液としては、０．１〜５質量％炭酸ナトリウム水溶液、０．１〜５質量％炭酸カリウム水溶液、０．１〜５質量％水酸化ナトリウム水溶液、０．１〜５質量％四ホウ酸ナトリウム水溶液等が好ましい。また、現像に用いるアルカリ性水溶液のｐＨは９〜１１の範囲とすることが好ましく、その温度は、感光性樹脂組成物層の現像性に合わせて調節される。また、アルカリ性水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等を混入させてもよい。また、水又はアルカリ水溶液と一種以上の有機溶剤とからなる水系現像液を用いてもよい。

本実施形態においては、現像後に必要に応じて、６０〜２５０℃程度の加熱又は０．２〜１０Ｊ／ｃｍ^２程度の露光を行うことにより樹脂層をさらに硬化してもよい。

次に、透明基材２０と、透明基材２０上に設けられた樹脂層（樹脂硬化層）３ａと、樹脂層３ａ上に設けられた導電パターン２ａとを有する導電パターン付透明基材３０の導電パターン２ａが設けられた側に、感光性樹脂組成物層８と、感光性樹脂組成物層８中に分散している光吸収材料９と、を有する光透過層形成用組成物層７を形成した後に露光して光透過層７ａを得る光透過層形成工程が行われる（図４（ｅ）及び図４（ｆ））。

光透過層形成工程は、例えば、導電パターン付透明基材３０の導電パターン２ａが設けられた側に、バインダーポリマー、光重合性化合物（例えば、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物）、光重合開始剤、及び、光吸収材料を含有する光透過層形成用組成物層７を形成する光透過層形成用組成物層形成工程（図４（ｅ））と、光透過層形成用組成物層７に活性光線を照射して光透過層７ａを得る露光工程と、を含んでもよい。

例えば、上記光透過層形成用組成物層形成工程は、支持フィルムと、支持フィルム上に設けられた光吸収材料９を含有する光透過層形成用組成物層７とを有する感光性フィルムをあらかじめ作製し、導電パターン付透明基材３０の導電パターン２ａ、及び、導電パターン２ａが形成されていない樹脂層（樹脂硬化層）３ａに上記光透過層形成用組成物層７が接するように感光性フィルムをラミネートする工程とすることもできる。

露光工程及びラミネート工程については、上記と同様の条件で行うことができる。感光性フィルムについても同様の条件により、導電パターン付透明基材に対してラミネートを行うことができる。

以上により、積層体５０を製造することができる（図４（ｆ））。積層体５０には、視認性向上フィルム、又は、ハードコート層等の層をさらに設けることができる。図４（ｅ）の積層体にこれらの層を設けた後、光透過層の硬化を行ってもよい。

上述した感光性フィルム（導電層を有さないフィルム）は、感光性導電フィルム（導電層を有するフィルム）とあわせてフィルムセットとして提供することもできる。すなわち、第１の支持フィルムと、該第１の支持フィルム上に設けられた第１の感光性樹脂組成物層と、を有する感光性フィルム、及び、第２の支持フィルムと、導電材料を含有する導電層と、第２の感光性樹脂組成物層と、がこの順で積層されている構造を有する感光性導電フィルムを含み、前記第１の感光性樹脂組成物層が、バインダーポリマー、光重合性化合物（例えば、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物）、光重合開始剤、及び、４５０〜６５０ｎｍの領域に光の吸収を有する光吸収材料を含有し、前記第２の感光性樹脂組成物層が、バインダーポリマー、光重合性化合物（例えば、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物）、及び、光重合開始剤を含有する、フィルムセットを提供してもよい。フィルムセットは、上述した積層体の製造方法に用いることができる。

上記のフィルムセットを用いて、透明基材及び導電パターンを有する積層体を製造することで、導電パターンの表面抵抗率の上昇及び光透過性の低下を抑制しつつ、充分に黒浮き現象が抑制された積層体を提供することが可能である。フィルムセットを用いた積層体の製造方法としては、例えば上述した方法が挙げられる。例えば、図１の積層体５０は、感光性導電フィルムを用いて導電パターン付透明基材３０を作製し、感光性フィルムを用いて光透過層７ａを作製することにより得ることができる。

感光性導電フィルムは、支持フィルムと、導電材料を含有する導電層と、バインダーポリマー、光重合性化合物（例えば、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物）、光重合開始剤、及び、４５０〜６５０ｎｍの領域に光の吸収を有する光吸収材料を含有する感光性樹脂組成物層と、がこの順で積層されている構造を有する、感光性導電フィルムであってもよい。このような感光性導電フィルムを用いると、図２（ｄ）に示すように、導電パターン２ａと、導電パターン２ａ上に設けられた樹脂層（光透過層）３ｄを一括して形成できる。この場合、光吸収材料を含む光透過層を導電パターン２ａ及び樹脂層３ｄ上にさらに形成する必要はない。ただし、この導電パターン２ａは、表面の段差が見え易いので、形式は問わないが光透過層をさらに形成して表面凹凸を無くすことが好ましい。

感光性導電フィルムの感光性樹脂組成物層は、光吸収材料を含有していない態様であってもよい。例えば、図２（ｃ）に示す積層体の導電パターン付透明基材は、光吸収材料を含有していない感光性樹脂組成物層を有する感光性導電フィルムを用いて、図５に示す手順により得ることができる。まず、支持フィルム１、感光層４（導電層２及び感光性樹脂組成物層３）並びに保護フィルム５がこの順に積層された構造を有する感光性導電フィルムを準備し、ラミネートロール６０を用いて、支持フィルム１を剥離しつつ感光層４及び保護フィルム５を透明基材２０上に積層する（図５（ａ）及び図５（ｂ））。次に、マスクパターン６を通して活性光線Ｌを画像状に照射（図５（ｃ））した後に現像することにより、図２（ｃ）に示す積層体の導電パターン付透明基材を得ることができる（図５（ｄ））。

＜電子部品＞
本実施形態に係る電子部品は、本実施形態に係る積層体を備えている。本実施形態に係る積層体は、タッチパネル、液晶ディスプレイ、太陽電池、照明等の電子部品に用いることができる。

図６（ａ）は、本実施形態に係る電子部品としてのタッチパネルを示す模式平面図である。図６（ｂ）は、図６（ａ）の一部切欠き斜視図である。

図６に示すタッチパネル（静電容量式タッチパネル）は、透明基材（透明基材、タッチパネル用基材）１００上に、静電容量変化を検出する透明電極１０３及び透明電極１０４を有しており、透明電極１０３，１０４の透明基材１００とは反対側の面に、光吸収材料を含有する光透過層１０２を有している。透明電極１０３は、Ｘ位置座標の信号を検出する。透明電極１０４は、Ｙ位置座標の信号を検出する。透明電極１０３及び透明電極１０４は、樹脂層１０１上に存在している。これらの電極及び樹脂層は、上述した導電パターンの形成方法により設けることができる。透明電極１０３，１０４には、タッチパネルとしての電気信号を制御するドライバ素子回路（図示せず）の制御回路に接続するための引き出し配線１０５ａ及び引き出し配線１０５ｂが接続されている。透明電極１０３と透明電極１０４とが交差する部分において透明電極１０３と透明電極１０４との間には、絶縁膜１２４が配置されている（図６（ｂ）参照）。これらの透明電極及び樹脂層上に光透過層１０２が積層されている。

以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。

＜導電性繊維分散液（銀繊維分散液）の調製＞
（ポリオール法による銀繊維の作製）
２０００ｍＬの３口フラスコに、エチレングリコール５００ｍＬを入れ、窒素雰囲気下、マグネチックスターラーで攪拌しながらオイルバスにより１６０℃まで加熱した。ここに、別途用意したＰｔＣｌ_２２ｍｇを５０ｍＬのエチレングリコールに溶解した溶液を滴下した。４〜５分後、ＡｇＮＯ_３５ｇをエチレングリコール３００ｍＬに溶解した溶液と、重量平均分子量が５万８０００のポリビニルピロリドン（和光純薬工業株式会社製）５ｇをエチレングリコール１５０ｍＬに溶解した溶液とを、それぞれの滴下漏斗から１分間で滴下し、その後１６０℃で６０分間攪拌した。

上記反応溶液が３０℃以下になるまで放置してから、アセトンで１０倍に希釈し、遠心分離機により２０００回転で２０分間遠心分離し、上澄み液をデカンテーションした。沈殿物にアセトンを加え攪拌後に上記と同様の条件で遠心分離し、アセトンをデカンテーションした。その後、蒸留水を用いて同様に２回遠心分離して、銀繊維を得た。得られた銀繊維を光学顕微鏡で観察したところ、繊維径（直径）は約４０ｎｍで、繊維長は約４μｍであった。

（銀繊維分散液の調製）
純水に、上記で得られた銀繊維を０．２質量％、及び、ドデシル−ペンタエチレングリコールを０．１質量％の濃度となるように分散し、導電性繊維分散液１を得た。

＜感光性樹脂組成物溶液の調製＞
（アクリル樹脂の合成）
撹拌機、還流冷却器、温度計、滴下漏斗及び窒素ガス導入管を備えたフラスコに、メチルセロソルブとトルエンとの混合液（メチルセロソルブ／トルエン＝３／２（質量比）、以下、「溶液ｓ」という）４００ｇを加え、窒素ガスを吹き込みながら撹拌して、８０℃まで加熱した。一方、単量体としてメタクリル酸１００ｇ、メタクリル酸メチル２５０ｇ、アクリル酸エチル１００ｇ及びスチレン５０ｇと、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル０．８ｇとを混合した溶液（以下、「溶液ａ」という）を用意した。次に、８０℃に加熱された溶液ｓに、溶液ａを４時間かけて滴下した後、８０℃で撹拌しながら２時間保温した。さらに、１００ｇの溶液ｓにアゾビスイソブチロニトリル１．２ｇを溶解した溶液を１０分かけてフラスコ内に滴下した。そして、滴下後の溶液を撹拌しながら８０℃で３時間保温した後、３０分間かけて９０℃に加熱した。９０℃で２時間保温した後、冷却してバインダーポリマー溶液を得た。このバインダーポリマー溶液にアセトンを加えて不揮発成分（固形分）が５０質量％になるように調整し、（Ａ）成分としてのバインダーポリマー溶液を得た。得られたバインダーポリマーの重量平均分子量はＧＰＣによる標準ポリスチレン換算で８００００であった。これをアクリルポリマーＡとした。なお、重量平均分子量を測定したＧＰＣの測定条件は下記のとおりである。

［ＧＰＣ測定条件］
機種：日立Ｌ６０００（株式会社日立製作所製）
検出：Ｌ３３００ＲＩ（株式会社日立製作所製）
カラム：Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４４０ ＋ ＧＬ−Ｒ４５０ ＋ ＧＬ−Ｒ４００Ｍ（日立化成株式会社製）
カラム仕様：直径１０．７ｍｍ × ３００ｍｍ
溶媒：ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
試料濃度：ＮＶ（不揮発分濃度）５０質量％の樹脂溶液を１２０ｍｇ採取、５ｍＬのＴＨＦに溶解
注入量：２００μＬ
圧力：４．９ＭＰａ
流量：２．０５ｍＬ／ｍｉｎ

（感光性樹脂組成物溶液の調製）
表１に示す材料を同表に示す配合量（単位：質量部）で配合し、感光性樹脂組成物溶液Ｘ１〜Ｘ６を調製した。

表１中の各成分の記号は下記を意味する。なお、表１に示す成分のうち、４５０〜６５０ｎｍの領域に光の吸収を有する成分は（Ｄ）成分のみである。
（Ａ）成分
（Ａ１）：アクリルポリマーＡ（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル／スチレン＝２０／５０／２０／１０の質量比率のアクリルポリマー）
（Ｂ）成分
ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート（日本化薬株式会社製）
（Ｃ）成分
ＯＸＥ−０１：１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）（ＢＡＳＦ株式会社製）
（Ｄ）成分：光吸収材料
ＮＵＰＩＡＮ ＢＬＡＣＫ ＰＡ−２８０２：灰色染料（オリエント化学工業株式会社製）
ＮＵＢＩＡＮ ＢＬＡＣＫ ＰＣ−５８５７：灰色染料（オリエント化学工業株式会社製）
Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｂｌａｃｋ ３：ＯＩＬ ＢＬＡＣＫ ８６０（オリエント化学工業株式会社製）
その他
ＰＭＴ：１−フェニル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール（東洋紡株式会社製）
３ＭＴ：３−メルカプト−トリアゾール（大塚化学株式会社製）
８０３２ ＡＤＤＩＴＩＶＥ：オクタメチルシクロテトラシロキサン（東レ・ダウコーニング株式会社製）
メチルエチルケトン：東燃化学株式会社製

図７は、光吸収材料の吸光スペクトルを示す図面であり、ＮＵＰＩＡＮ ＢＬＡＣＫ ＰＡ−２８０２の吸光スペクトル（図７（ａ））、及び、Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｂｌａｃｋ３の吸光スペクトル（図７（ｂ））である。図７の吸光スペクトル中には、５５０ｎｍにおける吸収強度の値、並びに、測定領域における最大強度及び最小強度の値を表示している。破線は、光吸収材料の５５０ｎｍにおける吸収強度（例えば、図７（ａ）においては１．１６である。）を１としたときの吸収強度が０．７〜１．３となる範囲を示している。なお、吸光スペクトルの測定は、測定装置としてＵＶ分光光度計（株式会社日立製作所製、商品名「Ｕ−３３１０」）を使用し、溶媒としてメチルエチルケトンを使用し、光吸収材料の含有量が４０ｍｇ／Ｌとなるように調製したサンプルを使用して行った。

図７（ａ）に示されるように、ＮＵＰＩＡＮ ＢＬＡＣＫ ＰＡ−２８０２では、５５０ｎｍの吸収強度を１としたときに４５０〜６５０ｎｍの全範囲における吸収強度が０．７〜１．３の範囲内であることが確認された。図７（ｂ）に示されるように、Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｂｌａｃｋ３では、５５０ｎｍの吸収強度を１としたときに４５０〜６５０ｎｍの一部の吸収強度が０．７〜１．３の範囲内に収まらないことが確認された。なお、ＮＵＢＩＡＮ ＢＬＡＣＫ ＰＣ−５８５７を用いた場合についても、５５０ｎｍの吸収強度を１としたときに４５０〜６５０ｎｍの全範囲における吸収強度が０．７〜１．３の範囲内であることが確認され得る。

＜感光性導電フィルムと、光吸収材料を含む感光性フィルムとを用いた積層体の作製＞
（実施例１）
［感光性導電フィルムの作製］
上記導電性繊維分散液１を、支持フィルムである厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム、帝人株式会社製、商品名「Ｇ２−５０」）上に２６ｇ／ｍ^２で均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で１０分間乾燥し、室温（２５℃）において１ＭＰａの線圧で加圧することにより、導電性繊維を含有する導電層を支持フィルム上に形成した。なお、導電層の乾燥後の厚みは、走査型電子顕微鏡により測定したところ、約０．１μｍであった。

次に、支持フィルム上に形成された導電層上に上記感光性樹脂組成物溶液Ｘ４（光吸収材料を含まない溶液）を均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で１０分間乾燥して感光性樹脂組成物層を形成した。なお、走査型電子顕微鏡により測定したところ、感光性樹脂組成物層の乾燥後の厚みは５μｍであった。次に、感光性樹脂組成物層をポリエチレン製のカバーフィルム（タマポリ株式会社製、商品名「ＮＦ−１３」）で覆い、感光性導電フィルムＥ１を得た。

［感光性フィルムの作製］
次に、感光性樹脂組成物溶液Ｘ１（光吸収材料を含む溶液）を５０μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム、帝人株式会社製、商品名「Ｇ２−５０」）上に均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で１０分間乾燥して感光性樹脂組成物層を形成した。その後、感光性樹脂組成物層をポリエチレン製のカバーフィルム（タマポリ株式会社製、商品名「ＮＦ−１３」）で覆い、感光性フィルムＦ１を得た。なお、走査型電子顕微鏡により測定したところ、感光性樹脂組成物層の乾燥後の厚みは５μｍであった。

［表面抵抗率、全光線透過率及び反射Ｌ^＊の測定］
厚み１ｍｍのポリカーボネート基板を８０℃に加温し、実施例１で得られた感光性導電フィルムＥ１のカバーフィルムを剥離しながら感光性樹脂組成物層とポリカーボネート基板とを対向させて、ラミネータ（日立化成株式会社製、商品名「ＨＬＭ−３０００型」）を用いて１１０℃、０．４ＭＰａの条件でラミネートした。ラミネート後、基板を冷却し基板の温度が２５℃になった時点で、超高圧水銀灯を有する露光機（株式会社オーク製作所製、商品名「ＥＸＭ−１２０１」）を用いて、１０００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で感光層（導電層及び感光性樹脂組成物層）に支持フィルム側から光照射した。露光後、室温（２５℃）で１５分間放置し、続いて、支持フィルムを剥離することで、銀繊維を含有する導電層をポリカーボネート基板上に形成し、導電層付基板を得た。得られた導電層付基板に対して、上記と同様の手順及び条件で感光性フィルムＦ１をラミネートした後に露光して光透過層を形成し、表面抵抗率、全光線透過率及び反射Ｌ^＊の評価用積層体（ポリカーボネート基板／感光性樹脂組成物の硬化物層／導電層／光透過層（硬化物）からなる積層体）を得た。得られた評価用積層体について表面抵抗率、全光線透過率及び反射Ｌ^＊の評価を行った。下記の測定装置を用いて測定した評価用積層体の表面抵抗率は９８Ω／□であり、全光線透過率は８７％であり、反射Ｌ^＊は２．７であった。

｛表面抵抗率の測定｝
非接触型表面抵抗計（ナプソン株式会社製、商品名「ＥＣ−８０Ｐ」）を用い、測定プローブを基板の反対面から当てて、評価用積層体の表面抵抗率を測定した。

｛全光線透過率の測定｝
ヘーズメータ（日本電飾工業株式会社製、商品名「ＮＤＨ−５０００」）を用いて、積層体の全光線透過率を測定した。

｛反射Ｌ^＊の測定｝
分光測色計（コニカミノルタ株式会社製、商品名「ＣＭ−５」）を用いて、積層体の反射Ｌ^＊を、基板と反対面からＳＣＥ方式で測定した。

［黒浮き現象の評価］
｛評価用積層体の作製｝
ＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社製、商品名「Ａ４３００」、縦１２ｃｍ×横１２ｃｍ、厚み１２５μｍ）に感光性導電フィルムＥ１のカバーフィルムを剥離しながら感光性樹脂組成物層とＰＥＴフィルムとを対向させて、上記と同様のラミネータを用いて、ロール温度１１０℃、０．４ＭＰａの条件でラミネートした。ライン幅／スペース幅が１ｍｍ／１ｍｍで長さが１００ｍｍの配線パターンを有するフォトマスクを支持フィルム面に密着させた。上記と同様の露光設備を用いて、４０ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で感光層（導電層及び感光性樹脂組成物層）に支持フィルム側から光照射した。その後、フォトマスクを除き、さらに、支持フィルムを導電層が露出するように剥離した。その後、上記と同様の露光設備を用い、大気下で、１００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で導電層及び感光性樹脂組成物層に光照射した。露光後、室温（２５℃）で１５分間放置し、続いて、３０℃で１質量％炭酸ナトリウム水溶液を４０秒間スプレーすることにより現像した。続いて、紫外線照射装置（株式会社オーク製作所製）を使用して１Ｊ／ｃｍ^２のエネルギー量で紫外線照射を行い、導電パターン基板（導電パターン付透明基材）を得た。

得られた導電パターン基板上に、感光性フィルムＦ１のカバーフィルムを剥離しながら感光性樹脂組成物層と導電パターンとを対向させて、上記と同様のラミネート設備を用いて、ロール温度１１０℃、０．４ＭＰａの条件でラミネートした。ラミネート後、基板を冷却し基板の温度が２５℃になった時点で、上記と同様の露光設備を用いて、１０００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で支持フィルム側から光照射した。露光後、室温（２５℃）で１５分間放置し、続いて、支持フィルムを剥離することで、黒浮き現象評価用積層体（ＰＥＴフィルム／感光性樹脂組成物の硬化物層／導電パターン／光透過層（硬化物）からなる積層体。図１の積層体）を得た。

｛黒浮き現象の評価｝
得られた黒浮き現象評価用積層体を蛍光灯下でブラックシート上に置き、斜め４５度から目視にて黒浮き現象を評価した。実施例１で得られた感光性導電フィルムで形成した黒浮き現象評価用積層体の黒浮き現象を下記基準に基づき評価したところ、評点は「○」であった。
○：黒浮き現象の抑制を確認
△：下記比較例１より黒浮き現象が抑制されているが不充分
×：下記比較例１と同等

（実施例２，３、比較例１〜３）
感光性樹脂組成物溶液Ｘ１に代えて、表２に示す感光性樹脂組成物溶液をそれぞれ用いて感光性フィルムＦ２〜Ｆ６を作製したほかは実施例１と同様にして各評価用積層体を形成し、実施例１と同様に評価した。評価結果を表２に示す。

表２に示すように、成分（Ｄ）を含有する光透過層を用いた実施例１〜３においては、成分（Ｄ）を含有する光透過層を用いていない比較例１と比較して、黒浮き現象が抑制されていることを確認できた。比較例２及び３においても黒浮き現象の抑制は確認できたが、表面抵抗率の上昇が顕著であった。

＜感光性フィルムと、光吸収材料を含む感光性導電フィルムとを用いた積層体の作製＞
（実施例４）
［感光性導電フィルムの作製］
上記導電性繊維分散液１を、厚み１６μｍのカバーフィルム（ＰＥＴフィルム、帝人株式会社製、商品名「Ｇ２−１６」）上に２６ｇ／ｍ^２で均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で１０分間乾燥し、室温（２５℃）において１ＭＰａの線圧で加圧することにより、導電性繊維を含有する導電層をカバーフィルム上に形成した。なお、走査型電子顕微鏡により測定したところ、導電層の乾燥後の厚みは約０．１μｍであった。

次に、上記感光性樹脂組成物溶液Ｘ１（光吸収材料を含む溶液）を、別途用意した厚み５０μｍの支持フィルム（ＰＥＴフィルム、帝人株式会社製、商品名「Ｇ２−５０」）上に均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で１０分間乾燥して感光性樹脂組成物層を形成した。なお、走査型電子顕微鏡により測定したところ、感光性樹脂組成物層の乾燥後の厚みは５μｍであった。

以上のようにして得られた、導電層を形成したカバーフィルムと、感光性樹脂組成物層を形成した支持フィルムとを、導電層と感光性樹脂組成物層とが向かい合うように配置し、１１０℃、０．４ＭＰａの条件でラミネートすることにより、目的の感光性導電フィルムＥ２を作製した。

［感光性フィルムの作製］
次に、感光性樹脂組成物溶液Ｘ４（光吸収材料を含まない溶液）を５０μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上に均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で１０分間乾燥して感光性樹脂組成物層を形成した。その後、感光性樹脂組成物層をポリエチレン製のカバーフィルム（タマポリ株式会社製、商品名「ＮＦ−１３」）で覆い、感光性フィルムＦ４を得た。なお、走査型電子顕微鏡により測定したところ、感光性樹脂組成物層の乾燥後の厚みは５μｍであった。

［表面抵抗率、全光線透過率及び反射Ｌ^＊の測定］
感光性導電フィルムＥ２のカバーフィルムを剥離して露出する導電層を基板に対向させてラミネートするほかは、実施例１と同様にして評価用積層体（ポリカーボネート基板／導電層／光透過層（硬化物）／感光性樹脂組成物の硬化物層からなる積層体）を作製し評価を行った。表面抵抗率は９８Ω／□であり、全光線透過率は８６％であり、反射Ｌ^＊は２．７であった。

［黒浮き現象の評価］
｛評価用積層体の作製｝
ＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社製、商品名「Ａ４３００」、縦１２ｃｍ×横１２ｃｍ、厚み１２５μｍ）に感光性導電フィルムＥ２のカバーフィルムを剥離しながら導電層とＰＥＴフィルムとを対向させて、上記と同様のラミネータを用いて、ロール温度１１０℃、０．４ＭＰａの条件でラミネートした。ライン幅／スペース幅が１ｍｍ／１ｍｍで長さが１００ｍｍの配線パターンを有するフォトマスクを支持フィルム面に密着させた。上記と同様の露光設備を用いて、４０ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で感光層（導電層及び感光性樹脂組成物層）に支持フィルム側から光照射した。露光後、室温（２５℃）で１５分間放置し、続いて、支持フィルムを剥離し、３０℃で１質量％炭酸ナトリウム水溶液を４０秒間スプレーすることにより現像した。続いて、紫外線照射装置（株式会社オーク製作所製）を使用して１Ｊ／ｃｍ^２のエネルギー量で紫外線照射を行い、導電パターン基板（導電パターン付透明基材）を得た。得られた導電パターン基板上に、感光性フィルムＦ３を用いて実施例１と同様に光透過層を形成して黒浮き現象評価用積層体（ＰＥＴフィルム／導電パターン／感光性樹脂組成物の硬化物パターン（光透過層）／樹脂層（硬化物）からなる積層体。図２（ｄ）の積層体）を得た。得られた積層体について実施例１と同様に評価を行ったところ、評点は「○」であった。

（実施例５，６、比較例４）
感光性樹脂組成物溶液Ｘ１に代えて、表３に示す感光性樹脂組成物溶液をそれぞれ用いて感光性導電フィルムＥ３〜Ｅ５を作製したほかは実施例４と同様にして各評価用積層体を形成し、実施例４と同様に評価した。評価結果を表３に示す。

表３に示すように、成分（Ｄ）を含有する光透過層を用いた実施例４〜６においては、成分（Ｄ）を含有する光透過層を用いていない比較例４と比較して、黒浮き現象が抑制されていることを確認できた。

本発明によれば、表面抵抗率の増加を抑制しつつ、黒浮き現象を抑制することが可能な積層体及びその製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、充分な光透過率を維持すると共に表面抵抗率の増加を抑制しつつ、黒浮き現象を抑制することが可能な積層体及びその製造方法を提供することができる。さらに、本発明によれば、積層体を得るためのフィルムセット及び感光性導電フィルム、並びに、積層体を備える電子部品を提供することができる。

１…支持フィルム、２…導電層、２ａ…導電パターン、３，８…感光性樹脂組成物層、３ａ，３ｂ，３ｃ，７ｂ，１０１…樹脂層、３ｄ…樹脂層（光透過層）、４…感光層、５…保護フィルム、６…マスクパターン、７…光透過層形成用組成物層、７ａ，１０２…光透過層、８ａ…樹脂硬化物、９…光吸収材料、１０…感光性導電フィルム、２０，１００…透明基材、３０，３１，３２，３３，３４…導電パターン付透明基材（導電パターン付基材）、５０…積層体、６０…ラミネートロール、１０３…透明電極（Ｘ位置座標）、１０４…透明電極（Ｙ位置座標）、１０５ａ，１０５ｂ…引き出し配線、１２４…絶縁膜、Ｌ…活性光線。

Claims (17)

1. 透明基材、及び、該透明基材上に設けられた導電パターンを有する導電パターン付基材と、
   前記導電パターンの前記透明基材とは反対側に設けられた光透過層と、を備え、
   前記導電パターンが導電材料を含有し、
   前記光透過層が、４５０〜６５０ｎｍの領域に光の吸収を有する光吸収材料を含有し、 反射Ｌ^＊が３以下である、積層体。
2. 前記光吸収材料が灰色染料を含む、請求項１に記載の積層体。
3. 前記光吸収材料の含有量が、前記光透過層全量を基準として０質量％を超え０．２質量％以下である、請求項１又は２に記載の積層体。
4. 前記導電材料が、無機導電体及び有機導電体からなる群より選択される少なくとも一種の導電体を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の積層体。
5. 前記導電材料が導電性繊維を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の積層体。
6. 前記導電性繊維が銀繊維である、請求項５に記載の積層体。
7. 透明基材、及び、該透明基材上に設けられた導電パターンを有する導電パターン付基材の前記導電パターンの前記透明基材とは反対側に光透過層を形成する光透過層形成工程を備え、
   前記導電パターンが導電材料を含有し、
   前記光透過層が、４５０〜６５０ｎｍの領域に光の吸収を有する光吸収材料を含有し、 反射Ｌ^＊が３以下である、積層体の製造方法。
8. 前記光透過層形成工程が、
   バインダーポリマー、光重合性化合物、光重合開始剤、及び、光吸収材料を含有する光透過層形成用組成物層を前記導電パターンの前記透明基材とは反対側に形成する工程と、
   前記光透過層形成用組成物層に活性光線を照射する工程と、を含む、請求項７に記載の積層体の製造方法。
9. 支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた感光性樹脂組成物層と、を有する感光性フィルムを、前記感光性樹脂組成物層が前記導電パターン付基材に接するようにラミネートすることによって前記光透過層形成用組成物層が形成され、
   前記感光性樹脂組成物層が、バインダーポリマー、光重合性化合物、光重合開始剤、及び、光吸収材料を含有する、請求項８に記載の積層体の製造方法。
10. 前記光吸収材料が灰色染料を含む、請求項７〜９のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
11. 前記光吸収材料の含有量が、前記光透過層全量を基準として０質量％を超え０．２質量％以下である、請求項７〜１０のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
12. 前記導電パターン付基材が、
    前記透明基材上に設けられた感光性樹脂組成物層と、該感光性樹脂組成物層の前記透明基材とは反対側に設けられた導電層と、を含む感光層に、パターン状に活性光線を照射する第１の露光工程と、
    酸素存在下で、前記感光層の少なくとも前記第１の露光工程における未露光部の一部又は全部に活性光線を照射する第２の露光工程と、
    前記第２の露光工程の後に前記感光層を現像することにより導電パターンを形成する現像工程と、を経て得られたものであり、
    前記感光性樹脂組成物層が、バインダーポリマー、光重合性化合物、及び、光重合開始剤を含有し、
    前記導電層が導電材料を含有する、請求項７〜１１のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
13. 支持フィルムと、導電材料を含有する導電層と、バインダーポリマー、光重合性化合物、及び、光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物層と、がこの順で積層されている構造を有する感光性導電フィルムを、前記感光性樹脂組成物層が前記透明基材に接するようにラミネートすることによって前記感光層を設ける、請求項１２に記載の積層体の製造方法。
14. 第１の支持フィルムと、該第１の支持フィルム上に設けられた第１の感光性樹脂組成物層と、を有する感光性フィルム、及び、
    第２の支持フィルムと、導電材料を含有する導電層と、第２の感光性樹脂組成物層と、がこの順で積層されている構造を有する感光性導電フィルムを含み、
    前記第１の感光性樹脂組成物層が、バインダーポリマー、光重合性化合物、光重合開始剤、及び、４５０〜６５０ｎｍの領域に光の吸収を有する光吸収材料を含有し、
    前記第２の感光性樹脂組成物層が、バインダーポリマー、光重合性化合物、及び、光重合開始剤を含有する、フィルムセット。
15. 請求項７〜１３のいずれか一項に記載の積層体の製造方法に用いられる、請求項１４に記載のフィルムセット。
16. 支持フィルムと、
    導電材料を含有する導電層と、
    バインダーポリマー、光重合性化合物、光重合開始剤、及び、４５０〜６５０ｎｍの領域に光の吸収を有する光吸収材料を含有する感光性樹脂組成物層と、がこの順で積層されている構造を有する、感光性導電フィルム。
17. 請求項１〜６のいずれか一項に記載の積層体、請求項７〜１３のいずれか一項に記載の製造方法により得られる積層体、請求項１４若しくは１５に記載のフィルムセットを用いて得られる積層体、又は、請求項１６に記載の感光性導電フィルムを用いて得られる積層体を備える、電子部品。
    

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