JP2014056639A - 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】外周端面研磨工程は、円柱状の支持軸を有する支持治具に、前記支持軸を複数のガラス基板1の円形孔3に挿入して、前記ガラス基板の径方向の位置を合わせることにより、ガラス基板積層体を形成する工程と、前記ガラス基板積層体の外周側面5及び外周面取り部6に遊離砥粒を含有した研磨液を供給するとともに、研磨ブラシを回転させた状態で前記外周側面5及び前記外周面取り部6に接触させて研磨する工程と、を含み、前記支持軸は、ヤング率が150GPa以上であり、前記支持軸の軸方向の両端から10mm内側を支持し、前記支持軸の軸方向の中心部に98Nの荷重を印加した場合の、前記中心部の移動距離である最大たわみ量が260μm以下である、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【選択図】図1
Description
内周側面と、外周側面と、主平面とを有し、中心部に円形孔を有する円盤状のガラス基板を形成する形状付与工程と、
前記ガラス基板の前記外周側面と前記主平面との交差部に外周面取り部を形成する外周面取り工程と、
前記外周側面と前記外周面取り部を研磨する外周端面研磨工程と、
ガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程と、を備え、
前記外周端面研磨工程は、
円柱状の支持軸を有する支持治具に、前記支持軸を複数の前記ガラス基板の前記円形孔に挿入して、前記ガラス基板の径方向の位置を合わせることにより、ガラス基板積層体を形成する工程と、
前記ガラス基板積層体の外周側面及び外周面取り部に遊離砥粒を含有した研磨液を供給するとともに、研磨ブラシを回転させた状態で前記外周側面及び前記外周面取り部に接触させて研磨する工程と、
を含み、
前記支持軸は、ヤング率が150GPa以上であり、
前記支持軸の軸方向の両端から10mm内側を支持し、前記支持軸の軸方向の中心部に98Nの荷重を印加した場合の、前記中心部の移動距離である最大たわみ量が260μm以下である、
磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法が提供される。
以下、本発明の支持治具の構成と、支持治具を利用した、ガラス基板の外周端面の研磨方法について、図を参照しながら詳細に説明する。
δ=PL3/(12πr4E)・・・式(1)
式(1)の最大たわみ量を測定する方法として、下記に一例を挙げるが、本発明はこの点において限定されない。支持軸11の軸方向の両端から10mm内側を支持し、支持軸11の軸方向の中心部にプシュプルゲージ等により、98Nの荷重を加え、中心部の移動距離(即ち、最大たわみ量)をダイヤルゲージなどで測定する方法などが、挙げられる。
磁気記録媒体用ガラス基板の外周端面を研磨する場合、通常、複数の円盤形状ガラス基板を、円形孔(径方向)の位置をあわせて重ね合わせて、ガラス基板積層体を形成する。
本発明の端面研磨ブラシを使用して研磨する際の、研磨液としては、特に制限されない。一例を挙げると、下記で挙げる砥粒を、水又は水溶性有機溶媒に、分散させて得る。研磨液には、必要に応じて、分散剤、pH調整剤、粘度調整剤、キレート化剤などを添加できる。
以下、本発明の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法について説明する。
(1)ガラス素基板を、中央部に円形孔を有する円盤形状に加工した後、内周側面と外周側面を面取り加工する形状付与工程、
(2)ガラス基板の外周端面を研磨する外周端面研磨工程、
(3)ガラス基板の内周端面を研磨する。内周端面研磨工程、
(4)ガラス基板の上下両主平面を研磨する主平面研磨工程、
(5)ガラス基板を精密洗浄して乾燥し、磁気記録媒体用ガラス基板を得る洗浄工程、
等の工程により製造される。本発明は上記方法に限定されないが、(2)の外周端面研磨工程では、本発明の支持治具を用いてガラス基板の外周端面を研磨する。
以下に実施例及び比較例を挙げて本発明を更に説明するが、本発明はこれにより何ら制限されるものではない。
使用した支持治具は、支持軸のヤング率が199GPaであり、支持軸の最大たわみ量が140μmであるものを使用した以外は、実施例1と同様の工程で研磨を行った。
使用した支持治具は、支持軸のヤング率が199GPaであり、支持軸の最大たわみ量が60μmであり、支持軸の長さが350mmであるものを使用し、ガラス基板積層体を形成する際の、ガラス基板の重ね合わせ枚数を100枚とし、研磨ブラシの回転速度を800rpmとした以外は、実施例1と同様の工程で研磨を行った。
使用した支持治具は、支持軸のヤング率が101GPaであり、支持軸の最大たわみ量が270μmであるものを使用した以外は、実施例1と同様の工程で研磨を行った。
使用した支持治具は、支持軸のヤング率が69GPaであり、支持軸の最大たわみ量が390μmであるものを使用した以外は、実施例1と同様の工程で研磨を行った。
(研磨量の差)
研磨量は、端面研磨前のガラス基板と、端面研磨後に得られたガラス基板とを、洗浄、乾燥した後、高精度2次元寸法測定機(キーエンス社製、製品名:VM8040)を用いて測定した。具体的には、端面研磨前後のガラス基板の外径差を研磨量とした。
研磨後のガラス基板の外周端面を、フッ酸と硝酸を含む酸性のエッチング溶液を用いて、ガラス基板を深さ方向に5μmエッチングする。これにより、加工変質層(キズ等)を、観察しやすいピット欠陥とすることができる。この後、洗浄と乾燥を行う。最後に、ガラス基板を切断して、ピット欠陥数を評価しやすいサイズにして、外周側面部5及び外周面取り部6を含むピット欠陥数観察試料を作製した。
2 主表面
3 円形孔
4 外周端面
5 外周側面部
6 外周面取り部
7 内周端面
8 内周側面部
9 内周面取り部
10 支持治具
11 支持軸
12 保持部
13 固定部
14 スペーサ
15 ダミープレート
Claims (1)
- 内周側面と、外周側面と、主平面とを有し、中心部に円形孔を有する円盤状のガラス基板を形成する形状付与工程と、
前記ガラス基板の前記外周側面と前記主平面との交差部に外周面取り部を形成する外周面取り工程と、
前記外周側面と前記外周面取り部を研磨する外周端面研磨工程と、
ガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程と、を備え、
前記外周端面研磨工程は、
円柱状の支持軸を有する支持治具に、前記支持軸を複数の前記ガラス基板の前記円形孔に挿入して、前記ガラス基板の径方向の位置を合わせることにより、ガラス基板積層体を形成する工程と、
前記ガラス基板積層体の外周側面及び外周面取り部に遊離砥粒を含有した研磨液を供給するとともに、研磨ブラシを回転させた状態で前記外周側面及び前記外周面取り部に接触させて研磨する工程と、
を含み、
前記支持軸は、ヤング率が150GPa以上であり、
前記支持軸の軸方向の両端から10mm内側を支持し、前記支持軸の軸方向の中心部に98Nの荷重を印加した場合の、前記中心部の移動距離である最大たわみ量が260μm以下である、
磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
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