JP5556800B2 - 研磨ブラシ、ガラス基板の端面研磨方法、およびガラス基板の製造方法 - Google Patents
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Description
フロート法、フュージョン法、ダウンドロー法またはプレス成形法で成形されたガラス原板を、中央部に円孔を有する円盤形状に加工する。
(2)面取り工程
円盤形状のガラス基板の内周側面部および外周側面部と両主平面との交差部に、それぞれ内周面取り部および外周面取り部を形成する。
(3)内周端面研磨工程
ガラス基板の内周端面(内周側面部および内周面取り部)を、研磨ブラシを用いて研磨する。
(4)外周端面研磨工程
ガラス基板の外周端面(外周側面部および外周面取り部)を、研磨ブラシを用いて研磨する。
(5)主平面研磨工程
ガラス基板の両主平面を、砥粒を含有する研磨液と発泡樹脂製等の研磨パッドを使用して研磨する。
(6)精密洗浄工程
研磨後のガラス基板を精密洗浄する。
(5)主平面研磨工程は、1次研磨のみでもよく、1次研磨と2次研磨を行ってもよい。また、2次研磨の後に3次研磨(仕上げ研磨)を行ってもよい。さらに、磁気記録媒体用ガラス基板に高い機械的強度が求められる場合は、ガラス基板の表面に強化層を形成する強化工程(例えば、化学強化工程)を、(5)主平面研磨工程の前、または(5)主平面研磨工程の後、あるいは(5)主平面研磨工程で多段階(2次〜3次)の研磨を行う場合は1次〜3次の研磨工程の間で実施してもよい。
本発明の製造方法により得られた磁気記録媒体用ガラス基板では、面取り部の加工変質層等に起因するピット欠陥等の欠陥がほとんどないため、ガラス基板の機械的強度の低下が抑えられる。また、面取り部の凹凸を平滑化して十分に鏡面に仕上げられているため、凹部に捕捉された異物が主平面の異物欠陥増加の原因となる問題がなくなる。
端面研磨後のガラス基板の外周面取り部と内周面取り部のピット欠陥数、および外周面取り部と内周面取り部の研磨前後の角度変化の測定は、以下に示すようにして行った。
ガラス基板の外周面取り部または内周面取り部を、フッ酸や硝酸等を含む酸性のエッチング溶液を用いて深さ方向に5μmエッチングして、加工変質層のキズを観察しやすいピット欠陥とし、洗浄と乾燥を行った後、さらにピット欠陥数を評価しやすいサイズにガラス基板を切断した。こうして、外周面取り部を含むピット欠陥数観察試料、または内周面取り部を含むピット欠陥数観察試料を作製した。なお、ガラス基板の表面のエッチング深さは、端面研磨の研磨量の測定と同じ方法で測定した。
端面研磨前後における外周面取り部または内周面取り部の主平面とのなす角度(チャンファ角度:CA)をそれぞれ測定し、外周面取り部または内周面取り部の角度変化ΔCAを、以下の式から求めた。
ΔCA=(端面研磨後のCA)−(端面研磨前のCA)
ΔCAが0°に近いほど、外周面取り部または内周面取り部において均一な研磨ができていることを示す。
フロート法で成形されたSiO2を主成分とするガラス原板を、外径65mm、内径20mm、板厚0.635mmの磁気記録媒体用ガラス基板が得られるような、中央部に円孔を有する円盤形状(ドーナツ形状)に加工した。
ここで、Xは、ガラス基板積層体における1枚のガラス基板のチャンファ長さと、ガラス基板積層体に介挿されたスペーサの厚さの1/2との合計値を示す。例1〜例8の外周端面研磨においては、チャンファ長さが0.2mm、スペーサの厚さが0.4mmであるので、Xの値は0.4mmとなる。
例1〜8と同様に形状加工され、次いで面取り加工がなされたガラス基板の両主平面を、アルミナ砥粒(平均粒径7〜7.5μm)を用いて研削(ラッピング)した後、砥粒を洗浄・除去した。
ここで、Xは、ガラス基板積層体における1枚のガラス基板のチャンファ長さと、ガラス基板積層体に介挿されたスペーサの厚さの1/2との合計値を示す。例9〜例16の内周端面研磨においては、チャンファ長さが0.2mm、スペーサの厚さが0.2mmであるので、Xの値は0.3mmとなる。
(内周端面の研磨量)=[(研磨後ガラス基板の円孔の直径)−(研磨前ガラス基板の円孔の直径)]
Claims (4)
- 回転軸とその周りに植設されたブラシ毛とを備え、側面部と面取り部とを含む端面を有するガラス基板の複数枚を直接またはスペーサを介して複数枚積層してなるガラス基板積層体の、前記端面を研磨するための研磨ブラシであって、
前記ブラシ毛は、先端に前記ブラシ毛の軸に対して傾斜した傾斜平面により欠切された平面形状部を有し、前記平面形状部の前記ブラシ毛の軸方向の長さは、該ブラシ毛の全長に対して3〜50%の割合であり、
かつ、前記ブラシ毛は、前記平面形状部の前記傾斜平面が前記回転軸の軸に垂直な面に対して60°〜120°となるように植設されており、前記平面形状部以外の部分における直径dが、前記ガラス基板の面取り部の積層方向の長さと、前記スペーサの厚さの1/2との合計であるXに対し、Xの1/3より大きくXより小さい(X/3<d<X)ことを特徴とする研磨ブラシ。 - 前記ガラス基板は、中央部に円孔を有する円盤形状の磁気記録媒体用ガラス基板である、請求項1に記載の研磨ブラシ。
- 側面部と面取り部とを含む端面を有するガラス基板を複数枚積層してなるガラス基板積層体の前記端面を、砥粒を含有する研磨液を供給しながら、請求項1または2に記載の研磨ブラシを用いて研磨することを特徴とするガラス基板の端面研磨方法。
- 側面部と面取り部とを含む端面を有するガラス基板を準備する工程と、
前記ガラス基板を複数枚積層してガラス基板積層体を形成する工程と、
前記ガラス基板積層体の前記端面を、砥粒を含有する研磨液を供給しながら研磨ブラシを用いて研磨する端面研磨工程を備え、
前記研磨ブラシが、請求項1または2に記載の研磨ブラシであることを特徴とするガラス基板の製造方法。
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