JP5035405B2 - 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
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Description
前記内周側面を研磨する工程および前記内周面取り部を研磨する工程として、ガラス基板を複数枚積層し、ガラス基板の内周側面部分に遊離砥粒を含有した研磨液を供給するとともに、回転軸にブラシ毛が植毛された研磨ブラシを回転させた状態で内周側面および内周面取り部にブラシ毛を接触させて研磨するものであって、
前記研磨ブラシは、ブラシ毛が一定間隔のピッチ幅で回転軸に植毛されており、ブラシ毛が植毛された植毛部と、ブラシ毛が植毛されていない非植毛部から構成され、該植毛部の幅が、前記積層されたガラス基板同士の積層幅(ガラス基板の厚み、またはガラス基板とスペーサを合わせた厚み)の1.1〜2.2倍であり、前記非植毛部の幅は、3〜9mmであることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法である。
また、本発明は、前記内周側面及び前記内周面取り部を前記研磨ブラシにより研磨された前記磁気記録媒体用ガラス基板の表面をエッチング溶液を用いて5μmエッチングした後、光学顕微鏡を用いて観察される、直径または長径が10μm以上のピット欠陥数を検査する工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法である。
面取り部のピット欠陥数の評価は、ガラス基板の表面を、フッ酸や硝酸等を含む酸性のエッチング溶液を用いて5μmエッチングし、面取り部に残留する加工変質層(キズなど)を等方的にエッチングし、加工変質層を観察しやすいピット欠陥としてから行った。ガラス基板のエッチング量は、内周端面研磨の研磨量と同じ測定方法で測定した。
20:ガラス基板積層体、201:ガラス基板同士の積層幅、
30:スペーサ、
40:研磨ブラシ、401:ブラシ毛、402:回転軸、403:ブラシ毛の植毛長、404:チャンネル部品、405:研磨ブラシの外径、406:回転軸の直径、407:チャンネル部品の高さ、408:ブラシ毛の長さ、409:植毛部の幅、410:非植毛部の幅、411:ピッチ幅
Claims (5)
- 内周側面と、外周側面と、主平面とからなる、中心部に円孔を有する円盤状の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
該製造方法は、円盤状のガラス基板を作成して外周側面と主表面を形成する工程と、前記円盤の中心部に円孔を加工し内周側面を形成する工程と、前記外周側面のコーナ部を面取り加工して外周面取り部を形成する工程と、前記内周側面を面取り加工して内周面取り部を形成する工程と、前記外周側面を研磨する工程と、前記外周面取り部を研磨する工程と、前記内周側面を研磨する工程と、前記内周面取り部を研磨する工程と、ガラス基板の主平面を研磨する工程を含み、
前記内周側面を研磨する工程および前記内周面取り部を研磨する工程は、
ガラス基板を複数枚積層し、ガラス基板の内周側面部分に遊離砥粒を含有した研磨液を供給するとともに、回転軸にブラシ毛が植毛された研磨ブラシを回転させた状態で内周側面および内周面取り部に接触させて研磨するものであって、
前記研磨ブラシは、ブラシ毛が一定間隔のピッチ幅で回転軸に植毛されており、ブラシ毛が植毛された植毛部と、ブラシ毛が植毛されていない非植毛部から構成され、該植毛部の幅が、前記積層されたガラス基板同士の積層幅(ガラス基板とスペーサを合わせた厚み、または、スペーサを使用しないガラス基板積層体の場合はガラス基板の厚み。)の1.1〜2.2倍であり、前記非植毛部の幅は、3〜9mmであることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 前記研磨ブラシの外径がガラス基板の中心部に形成されている円孔の直径に対して1.03〜1.25倍大きい請求項1に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 前記回転軸の直径が、ガラス基板の中心部に形成されている円孔の直径の41%〜65%の直径である請求項1または2に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 前記研磨ブラシは、複数枚積層したガラス基板の積層方向に揺動させて内周側面および内周面取り部を研磨しており、前記研磨ブラシを揺動させる長さは、複数枚積層したガラス基板全体の長さTの15%以上である請求項1〜3の何れかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 前記内周側面及び前記内周面取り部を前記研磨ブラシにより研磨された前記磁気記録媒体用ガラス基板の表面をエッチング溶液を用いて5μmエッチングした後、光学顕微鏡を用いて観察される、直径または長径が10μm以上のピット欠陥数を検査する工程を有する請求項1〜4のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010260189A JP5035405B2 (ja) | 2009-11-26 | 2010-11-22 | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009268998 | 2009-11-26 | ||
JP2009268998 | 2009-11-26 | ||
JP2010260189A JP5035405B2 (ja) | 2009-11-26 | 2010-11-22 | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012070421A Division JP2012142084A (ja) | 2009-11-26 | 2012-03-26 | 磁気記録媒体用ガラス基板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011134432A JP2011134432A (ja) | 2011-07-07 |
JP5035405B2 true JP5035405B2 (ja) | 2012-09-26 |
Family
ID=44062307
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010260189A Expired - Fee Related JP5035405B2 (ja) | 2009-11-26 | 2010-11-22 | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
JP2012070421A Pending JP2012142084A (ja) | 2009-11-26 | 2012-03-26 | 磁気記録媒体用ガラス基板 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012070421A Pending JP2012142084A (ja) | 2009-11-26 | 2012-03-26 | 磁気記録媒体用ガラス基板 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20110123834A1 (ja) |
JP (2) | JP5035405B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101805415B1 (ko) * | 2016-03-17 | 2017-12-06 | (주)이티에스 | 적층시트 연마장치 |
KR101805414B1 (ko) * | 2017-02-15 | 2017-12-06 | (주)이티에스 | 연마대상시트 연마장치 및 연마대상시트 연마방법 |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108296901A (zh) | 2011-08-29 | 2018-07-20 | 旭硝子株式会社 | 玻璃板及玻璃板的制造方法 |
JP5335983B2 (ja) * | 2011-10-05 | 2013-11-06 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板および磁気記録媒体 |
JP5067498B1 (ja) * | 2011-10-13 | 2012-11-07 | 旭硝子株式会社 | 磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体 |
CN103128620A (zh) * | 2011-11-24 | 2013-06-05 | 高仲华 | 导光板打花装置和打花工艺 |
JP2015205779A (ja) * | 2012-02-29 | 2015-11-19 | 旭硝子株式会社 | 化学強化ガラス板及びその衝撃試験方法 |
JP2014113676A (ja) * | 2012-12-12 | 2014-06-26 | Yuichiro Niizaki | ロールブラシ |
JP6199047B2 (ja) * | 2013-02-28 | 2017-09-20 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
US10032472B2 (en) | 2014-03-31 | 2018-07-24 | Hoya Corporation | Magnetic-disk glass substrate |
CN210163336U (zh) * | 2015-06-12 | 2020-03-20 | Agc株式会社 | 玻璃板、显示装置和车辆用透明部件 |
MY168096A (en) | 2015-09-30 | 2018-10-11 | Hoya Corp | Magnetic-disk glass substrate, magnetic-disk glass substrate intermediate, and method for manufacturing magnetic-disk glass substrate |
JP7242363B2 (ja) * | 2019-03-19 | 2023-03-20 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨ブラシ及び研磨加工物の製造方法 |
JP7459725B2 (ja) * | 2020-08-27 | 2024-04-02 | 株式会社レゾナック | ダミー基板、およびその製造方法 |
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-
2010
- 2010-11-22 JP JP2010260189A patent/JP5035405B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-11-24 US US12/953,910 patent/US20110123834A1/en not_active Abandoned
-
2012
- 2012-03-26 JP JP2012070421A patent/JP2012142084A/ja active Pending
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011134432A (ja) | 2011-07-07 |
JP2012142084A (ja) | 2012-07-26 |
US20110123834A1 (en) | 2011-05-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111208 |
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A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
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RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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A975 | Report on accelerated examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150713 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150713 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |