JP2007213724A - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板、及び磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、中心部に円孔12を有する円板状のガラス基板10を準備する基板準備工程と、ガラス基板10の内径を支持する内径支持棒をガラス基板10の円孔12に挿入することにより、ガラス基板10の位置合わせを行い、ガラス基板10の内周端面14及び外周端面16の少なくとも一方を研磨する端面研磨工程とを備え、ガラス基板の内周端面14と接触すべき内径支持棒の表面は、表面粗さが算術平均表面粗さRaで5μm以下である。
【選択図】図1
Description
(構成1)磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、中心部に円孔を有する円板状のガラス基板を準備する基板準備工程と、ガラス基板の内径を支持する内径支持棒をガラス基板の円孔に挿入することにより、ガラス基板の位置合わせを行い、ガラス基板の内周端面及び外周端面の少なくとも一方を研磨する端面研磨工程とを備え、ガラス基板の内周端面と接触すべき内径支持棒の表面は、表面粗さが算術平均表面粗さRaで5μm以下である。
図1は、本発明の一実施形態に係るガラス基板10を切断してみたときの斜視図である。ガラス基板10は、例えば2.5インチ径の磁気ディスク用ガラス基板であり、中心部を貫通する円孔12を有する。ガラス基板10において、主表面、内周端面14、及び外周端面16は、鏡面研磨されている。内周端面14及び外周端面16は、面取りした面取り部と、側壁部とをそれぞれ含む。
(実施例1)
以下の工程を経て、実施例1に係るガラス基板を製造した。
(1)基板準備工程
以下の工程により、円孔を有するガラス基板を準備した。最初に、ダウンドロー法で形成したシートガラスから、研削砥石で直径66mmφ、厚さ1.5mmの円盤状にそれぞれ切り出したアルミノシリケイトガラスからなるガラス基板を、比較的粗いダイヤモンド砥石で研削加工して、直径65mm(2.5インチ)φ、厚さ0.6mmに成形した。この場合、ダウンドロー法の代わりに、溶融ガラスを、上型、下型、胴型を用いてダイレクト・プレスして、円盤状のガラス基板を得てもよい。アルミノシリケイトガラスとしては、モル%表示で、SiO2を57〜74%、ZrO2を0〜2.8%、Al2O3を3〜15%、LiO2を7〜16%、Na2Oを4〜14%を主成分として含有する化学強化用ガラスを使用した。
図2を用いて説明した方法により、ガラス基板の内周端面を鏡面研磨した。回転ブラシをガラス基板10の円孔12に挿入して、円孔12内に研磨液を供給しつつ回転ブラシを回転させた。研磨液としては、酸化セリウム研磨砥粒を含む研磨液を用いた。内周端面の表面粗さを算術平均表面粗さRaで0.5μm以下、最大高さRmaxで0.5μm以下にした。
図3を用いて説明した方法により、ガラス基板の外周端面を、回転ブラシを用いて鏡面研磨した。また、径以外は内周端面研磨用の内径支持棒と同様の内径支持棒を用いた。内径支持棒の断面の径は、19.967〜19.980mm(中央値19.974mm)である。
まず、第一研磨工程を施した。この第一研磨工程は、上述した砂掛け工程で残留した傷や歪みの除去を目的とするもので、研磨装置を用いて行った。詳しくは、ポリシャ(研磨パッド、研磨布)として硬質ポリシャ(セリウムパッドMHC15:スピードファム社製)を用い、以下の研磨条件で第一研磨工程を実施した。
研磨液:酸化セリウム+水
荷重:300g/cm2(L=238kg)
研磨時間:15分
除去量:30μm
下定盤回転数:40rpm
上定盤回転数:35rpm
内ギア回転数:14rpm
外ギア回転数:29rpm
次に、ガラス基板に化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を400℃に加熱し、300℃に予熱された洗浄済みのガラス基板を約3時間浸漬して行った。この浸漬の際に、ガラス基板の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保持されるようにホルダーに収納した状態で行った。
内周端面研磨工程及び外周端面研磨工程のぞれぞれで用いる内径支持棒として、セラミック部の表面粗さが算術平均表面粗さRaで5μmよりも大きなものを用いて、ガラス基板を製造した。
実施例1においては、内径支持棒の表面の表面粗さを低減することにより、摩擦係数を0.5以下に低減できた。そのため、内径支持棒の挿入時にガラス基板の内周端面が内径支持棒に引っかかることはなかった。そのため、実施例1においては、製造されるガラス基板の端面品質を高い水準に保つことができた。また、これにより、実施例1においては、内周端面研磨工程及び外周端面研磨工程の歩留まりを99%以上に保つことができた。また、内径支持棒の表面は、十分な硬さを有しているため、実施例1の内径支持棒は、表面が傷つき難い構成となった。また、例え衝撃を受けたとしても、表面にカケが生じることはなく、衝撃を受けた部分が凹むのみであった。凹みが生じるのみであり、その後の研磨においてガラス基板の内周端面に傷が生じることはない。
Claims (9)
- 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
中心部に円孔を有する円板状のガラス基板を準備する基板準備工程と、
前記ガラス基板の内径を支持する内径支持棒を前記ガラス基板の前記円孔に挿入することにより、前記ガラス基板の位置合わせを行い、前記ガラス基板の内周端面及び外周端面の少なくとも一方を研磨する端面研磨工程と
を備え、
前記ガラス基板の前記内周端面と接触すべき前記内径支持棒の表面は、表面粗さが算術平均表面粗さRaで5μm以下であることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
中心部に円孔を有する円板状のガラス基板を準備する基板準備工程と、
前記ガラス基板の内径を支持する内径支持棒を前記ガラス基板の前記円孔に挿入することにより、前記ガラス基板の位置合わせを行い、前記ガラス基板の内周端面及び外周端面の少なくとも一方を研磨する端面研磨工程と
を備え、
前記ガラス基板の前記内周端面と接触すべき前記内径支持棒の表面は、セラミックで形成されていることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記内径支持棒の前記表面は、表面粗さが算術平均表面粗さRaで5μm以下であることを特徴とする請求項2に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記内径支持棒の前記表面の摩擦係数は、0.5以下であることを特徴とする請求項1から3の何れか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記内径支持棒の表面は、前記ガラス基板を構成するガラスよりも硬度の高い材料で形成されていることを特徴とする請求項1から4の何れか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記内径支持棒の表面は、酸化アルミニウム又は酸化クロムを主成分とするセラミックで形成されていることを特徴とする請求項1から5の何れか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記内径支持棒は、
金属の棒状部と、
前記棒状部の表面にセラミックコーティングされたセラミック部と
を備えることを特徴とする請求項1から6の何れか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 請求項1から7の何れか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法で製造されたことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
- 請求項8に記載の磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁気記録層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
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