JP2013535675A - 対象物の距離特性および/または輝度特性を測定する装置および方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】1以上の対象物の輝度特性および/または距離特性を測定する装置は、所定周波数の変調信号を放射する信号源を備え、対象物に第1変調信号を照射する照明手段を備え、1以上の画素を有するセンサを備え、センサは後方散乱信号と第2変調信号との画素における相関をサンプリングしてサンプル相関信号を生成し、複数の測定を用いてサンプル相関信号を比較することによって、画素における反射成分の距離特性/輝度特性を決定するプロセッサを備え、測定は、(a)2以上の異なる変調周波数、(b)異なる変調周波数および相関の波形のオフセット、(c)他の異なる変調周波数、および、反射信号対距離のゼロ番目の空間周波数もしくは反射信号対距離のゼロ番目の空間周波数の近似のいずれか1つ、から選択した1以上の特性を有する第1変調信号および第2変調信号を含む。
【選択図】図1
Description
本発明の一実施形態において、少なくとも1つの対象物の距離特性および輝度特性の少なくとも1つを測定する装置は、信号源、照明手段、センサおよびプロセッサを備える。
少なくとも1つの対象物の距離特性および輝度特性の少なくとも1つを測定する該装置において、
前記信号源は1以上の周波数の少なくとも第1変調信号および第2変調信号を放射するものであり、
前記照明手段は前記少なくとも1つの対象物に前記第1変調信号を照射し、前記第1変調信号は前記少なくとも1つの対象物から後方散乱されて第1後方散乱信号を生じ、
前記センサは少なくとも1つの画素を有し、かつ、前記センサは前記第1後方散乱信号と前記第2変調信号との相関を前記少なくとも1つの画素内でサンプリングすることによりサンプル相関信号を生成し、
前記プロセッサは1以上の測定を用いてサンプル相関信号を比較することによって、前記少なくとも1つの画素における1以上の反射成分の前記距離特性および輝度特性の少なくとも1つを決定し、
前記1以上の測定は、下記(a)、(b)、(c):
(a)2以上の異なる変調周波数、
(b)第1の1以上の異なる変調周波数および前記相関の波形のオフセット、
(c)第2の1以上の異なる変調周波数、および、前記反射信号対距離のゼロ番目の空間周波数もしくは反射信号対距離のゼロ番目の空間周波数の近似値のいずれか1つの周波数、
から成る一群から選択した1以上の特性を有する第1変調信号および第2変調信号を含む。
、または、同等のLUTもしくは数学的モデルによって計算してもよい。この相対位相の上限(ないし下限)は、低周波数側の測定の位相により
を非正規化することによって絶対位相の上限(ないし下限)に変換することができる。したがって、主要な反射成分の位相は、未補正の生の測定の位相と絶対位相の上限(ないし下限)との間に存在することが分かる。2つの反射の場合の反射成分の絶対値の和の最大値に対する上限は、最低周波数の測定または同等のLUTもしくは数学的モデルの輝度により
を非正規化することによって計算することができる。反射成分の絶対値の和の最小値に対する同様の下限も、χを入力とする数学的モデルを用いて推定することができる。例えば、
の値に適した、近似的な経験的に導かれた下限は、最低周波数の測定により
を非正規化すること、または、この形式の任意の類似のモデルによって計算することができる。他の周波数比への拡張も可能である。段落[0033]ないし[0039]に記載するように、他の上限(ないし下限)も推定することができる。
の場合、最も明るい成分に対する2番目に明るい成分の比の位相の絶対値の下限は、次の式で計算することができる。
は、相対周波数
で行われる。その他の測定
は、対応する相対周波数
で行われる。位相、振幅および距離分布(ないし広がり、射距離差、range spread)パラメータを決定するために、次の連立方式を解く。
ここで、
は測定番号であり
(
については1、など)、
は反射成分の総数であり、
は反射のインデックスであり、
は測定番号
の相対周波数であり、
は反射成分
の輝度を表し、
は反射成分
の位相(すなわち、距離)を表し、
は反射成分が距離に対してどのように分布しているかについての情報を表す(例えば、反射成分が霧によって引き起こされた場合、離散的な点源というよりはむしろ1メートルに亘って広がり得る。)。これらの連立方程式は、数値的に、または、閉じた形の反転(closed form inversion)を見出すことによって解くことができる。そのような閉じた形の反転の例を、次の段落で与える。
である場合、2次方程式への代入により
を
について評価することによって
および
を求める(その他の有効な方法または近似方法でも十分である)。次に、解の1つを
に代入して
を決定する。次に、これらの値を
に代入する。最後に、
は
を用いて同様に決定される。このようにして、近接する周波数での4つの測定を用いて、2つの反射成分に対する位相、振幅および射距離差パラメータを決定することができる。
最も明るい反射の最大位相摂動=acos(正規化された振幅)
同様に、最も明るい成分に対する2番目に明るい成分の相対的な位相の下限は、次式によって推定することができる。
最小相対位相 = acos(2 * (正規化された振幅)^2 - 1)
または、最も明るい成分の輝度に対する割合としての2番目に明るい成分の相対輝度の下限は、次式で計算することができる。
輝度の下限 = (1 - (正規化された振幅)) / (1 + (正規化された振幅))
での測定
によって正規化され得る、相対変調周波数
での測定
が存在すると仮定することができる。与えられた例では振幅と位相の正規化がいずれも同一の測定に対して行われるが、振幅を1つの測定に対して正規化するとともに位相を別の測定に対して正規化してもよい。正規化した値を
と表すことができる。対応する非正規化の場合、入力値は
であり、出力は
であり、正規化のために使用した値と同一の値
が必要となる。ルックアップテーブルまたはモデル(y)から出力される値とアルゴリズム(z)から出力される最終的な出力は、相対周波数
における値である。正規化動作、非正規化動作およびLUTマッピングの動作は、段落[0080]ないし[0113]において数学的に記述する。
および
が存在する場合、
により
を位相および振幅について正規化して
を生成し、υはインデックス値として定義される。
自身により
を正規化することにより
が得られるが、何の情報も含んでおらず、次元が低下することになる。スケーリング関数
を利用することで、正規化した振幅の無限の領域を、ルックアップテーブルでの使用に適した有限の領域に削減してもよい。あるいは、極限値を切り捨ててもよい。以下のスケーリング関数の一例は、複素数の絶対値を
から
にマッピングする。
とする。図4についても、同一の表記を使用する。図3では、特定のインデックス値について、補間を用いて解集合を計算することができるように、各反射成分に対するテーブルが存在する。図4は、2:1の相対周波数での換算された極マッピングの位相および輝度を示す。図4は、LUTに含まれる同一の情報を、図3とは異なる方法で表す。
の分岐点の周りにアンラップすることで、接続テーブルを必要とするカット(cuts)を用いず、同一の連続的な多様体上で両反射成分を表現することができる。これは、次のことを意味する。すなわち、特定のインデックス値に対して、第1反射成分は当該インデックス値におけるLUTの値に相当し、第2反射成分はアンラップされた位相次元(図4のx軸、段落[0111]の2つ目の次元)において
のオフセットを有する当該インデックス値におけるLUTの値に相当する。言い換えると、換算された極マッピングの角度/アンラップされた位相成分は、一方の反射成分をスイープしてから他方の反射成分をスイープすることから、テーブルのアンラップされた位相次元は大きさ
となる。接続性の観点から、アンラップされた位相はループを形成する。図4において、y軸は任意のスケーリング関数を使用してスケールされているが、分かりやすくするために射影されていない値を用いてラベルが付されている。
本発明の一実施形態において、少なくとも1つの対象物の距離特性および輝度特性の少なくとも1つを測定する装置は、信号源、照明手段、センサおよびプロセッサを備える。
少なくとも1つの対象物の距離特性および輝度特性の少なくとも1つを測定する該装置において、
前記信号源は1以上の周波数の少なくとも第1変調信号および第2変調信号を放射するものであり、
前記照明手段は前記少なくとも1つの対象物に前記第1変調信号を照射し、前記第1変調信号は前記少なくとも1つの対象物から後方散乱されて第1後方散乱信号を生じ、
前記センサは少なくとも1つの画素を有し、かつ、前記センサは前記第1後方散乱信号と前記第2変調信号との相関を前記少なくとも1つの画素内でサンプリングすることによりサンプル相関信号を生成し、
前記プロセッサは1以上の測定を用いてサンプル相関信号を比較することによって、前記少なくとも1つの画素における1以上の反射成分の前記距離特性および輝度特性の少なくとも1つを決定し、
前記1以上の測定は、下記(a)、(b)、(c):
(a)2以上の異なる変調周波数、
(b)第1の1以上の異なる変調周波数および前記相関の波形のオフセット、
(c)第2の1以上の異なる変調周波数、および、前記反射信号対距離のゼロ番目の空間周波数もしくは反射信号対距離のゼロ番目の空間周波数の近似値のいずれか1つの周波数、
から成る一群から選択した1以上の特性を有する第1変調信号および第2変調信号を含む。
本発明の第1の視点に係る装置は、
少なくとも1つの対象物の距離特性および輝度特性の少なくとも1つを測定する装置であって、
1以上の周波数の少なくとも第1変調信号および第2変調信号を放射する信号源を備え、
前記少なくとも1つの対象物に前記第1変調信号を照射する照明手段を備え、前記第1変調信号は前記少なくとも1つの対象物から後方散乱されて第1後方散乱信号を生じ、
少なくとも1つの画素を有するセンサを備え、前記センサは前記第1後方散乱信号と前記第2変調信号との相関を前記少なくとも1つの画素内でサンプリングすることによりサンプル相関信号を生成し、
1以上の第1測定を用いてサンプル相関信号を比較することによって、前記少なくとも1つの画素における1以上の反射成分の前記距離特性および輝度特性の少なくとも1つを決定するプロセッサを備え、
前記1以上の第1測定は、下記(a)、(b)、(c):
(a)2以上の異なる変調周波数、
(b)第1の1以上の異なる変調周波数および前記相関の波形のオフセット、
(c)第2の1以上の異なる変調周波数、および、前記第1後方散乱信号対距離のゼロ番目の空間周波数もしくは前記第1後方散乱信号対距離のゼロ番目の空間周波数の近似値から成る一群から選択した1つの周波数のいずれか1つの周波数、
から成る一群から選択した1以上の特性を有する第1変調信号および第2変調信号を含む。
本発明の第2の視点に係る方法は、
少なくとも1つの対象物の距離特性および輝度特性の少なくとも1つを測定する方法であって、
1以上の周波数の少なくとも第1変調信号および第2変調信号を放射する工程を含み、
前記少なくとも1つの対象物に前記第1変調信号を照射する工程を含み、前記第1変調信号は前記少なくとも1つの対象物によって後方散乱されて第1後方散乱信号を生じ、
前記第1後方散乱信号と前記第2変調信号との相関を少なくとも1つの画素内でサンプリングすることによりサンプル相関信号を生成する工程と、
1以上の第1測定を用いてサンプル相関信号を比較することにより、前記少なくとも1との画素における1以上の反射成分の前記距離特性および輝度特性の少なくとも1つを決定する工程とを含み、
前記1以上の第1測定は、下記(a)、(b)、(c):
(a)2以上の異なる変調周波数、
(b)第1の1以上の異なる変調周波数および前記相関の波形のオフセット、
(c)第2の1以上の異なる変調周波数、および、前記第1後方散乱信号対距離のゼロ番目の空間周波数もしくは前記第1後方散乱信号対距離のゼロ番目の空間周波数の近似値のいずれか1つの周波数、
から成る一群から選択した1以上の特性を有する第1変調信号および第2変調信号を含む。
Claims (20)
- 少なくとも1つの対象物の距離特性および輝度特性の少なくとも1つを測定する装置であって、
1以上の周波数の少なくとも第1変調信号および第2変調信号を放射する信号源を備え、
前記少なくとも1つの対象物に前記第1変調信号を照射する照明手段を備え、前記第1変調信号は前記少なくとも1つの対象物から後方散乱されて第1後方散乱信号を生じ、
少なくとも1つの画素を有するセンサを備え、前記センサは前記第1後方散乱信号と前記第2変調信号との相関を前記少なくとも1つの画素内でサンプリングすることによりサンプル相関信号を生成し、
1以上の測定を用いてサンプル相関信号を比較することによって、前記少なくとも1つの画素における1以上の反射成分の前記距離特性および輝度特性の少なくとも1つを決定するプロセッサを備え、
前記1以上の測定は、下記(a)、(b)、(c):
(a)2以上の異なる変調周波数、
(b)第1の1以上の異なる変調周波数および前記相関の波形のオフセット、
(c)第2の1以上の異なる変調周波数、および、前記反射信号対距離のゼロ番目の空間周波数もしくは前記反射信号対距離のゼロ番目の空間周波数の近似値から成る一群から選択した1つの周波数のいずれか1つの周波数、
から成る一群から選択した1以上の特性を有する第1変調信号および第2変調信号を含む、装置。 - 前記プロセッサは、さらに、整数の周波数比を有する複数の変調周波数での2以上の測定を用いて、前記少なくとも1つの画素における2以上の反射成分の前記距離特性および輝度特性の少なくともいずれかを決定する、請求項1に記載の装置。
- 前記プロセッサは、さらに、非ゼロ変調周波数での前記1以上の測定を用いるとともに、前記ゼロ番目の空間周波数の測定、前記ゼロ番目の空間周波数の測定の近似、および、前記ゼロ番目の空間周波数の測定と同等の測定から成る一群から選択した1つを用いて、前記少なくとも1つの画素における1以上の反射成分の前記距離特性および輝度特性の少なくともいずれかを決定する、請求項1に記載の装置。
- 前記プロセッサは、さらに、1以上の第2測定によって、1以上の前記第1測定を位相および振幅の少なくともいずれかについて正規化する、請求項1に記載の装置。
- 前記プロセッサは、さらに、参照データ行列、数学的モデルおよび関数から成る一群から選択された1つに対して、1以上の前記正規化された測定を適用することによって、参照値を求める、請求項4に記載の装置。
- 前記プロセッサは、さらに、前記1以上の第2測定を用いて、前記参照値を位相および振幅の少なくともいずれかについて非正規化することによって、解集合を生成する、請求項5に記載の装置。
- 前記プロセッサは、さらに、前記非正規化された測定値、前記解集合、および、前記参照値の少なくともいずれかに基づいて、前記少なくとも1つの画素における1以上の反射成分の前記距離特性および輝度特性の少なとも1つの近似を与える、請求項6に記載の装置。
- 前記1以上の第1測定は第1非ゼロ変調周波数の変調信号を含み、前記1以上の第2測定は第2非ゼロ変調周波数の変調信号を含み、前記第1非ゼロ変調周波数および前記第2非ゼロ変調周波数は整数の周波数比であり、
前記プロセッサは、さらに、前記第2非ゼロ変調周波数の変調信号に対する前記第2測定により、前記第1非ゼロ変調周波数の変調信号に対する前記第1測定を、位相または振幅について正規化することによって、インデックス値を求め、
前記プロセッサは、さらに、前記インデックス値を参照データ行列に適用することによって参照値を求め、
前記プロセッサは、さらに、前記第2非ゼロ変調周波数の変調信号に対する前記第2測定によって、前記参照値を位相および振幅について非正規化することによって、前記1以上の反射成分の前記距離特性および前記輝度特性の少なくとも1つを求める、請求項4に記載の装置。 - 前記1以上の第1測定は第1非ゼロ変調周波数の変調信号を含み、1以上の第2測定は(1)全積分輝度、(2)全積分輝度から環境光の寄与を差し引いたもの、(3)前記反射信号のゼロ番目の空間周波数、(4)非常に低い変調周波数の変調信号、(5)全積分輝度と同等のもの、から成る一群から選択した1つを含み、
前記プロセッサは、さらに、前記1以上の第2測定の絶対値により前記1以上の第1測定の絶対値を正規化することによって、インデックス値を求め、
前記プロセッサは、さらに、参照データ行列、数学関数および演算子から成る一群から選択した1つに対して、前記インデックス値を適用することによって、モデル参照値を求め、
前記プロセッサは、さらに、前記少なくとも1つの画素における最も明るい反射成分の位相摂動の範囲(上限ないし下限)、前記少なくとも1つの画素における1以上の反射成分の位相、前記少なくとも1つの画素における1以上の反射成分の位相の関係、前記少なくとも1つの画素における1以上の反射成分の輝度の関係、前記少なくとも1つの画素における1以上の反射成分の輝度、および、前記少なくとも1つの画素における反射成分の混合度の指標、から成る一群から選択された少なくとも1つを、前記参照値を用いて求める、請求項4に記載の装置。 - 前記1以上の第1測定は相対周波数2の変調信号を含み、前記1以上の第2測定は相対周波数1の変調信号を含み、
前記プロセッサは、さらに、(1)前記1以上の第2測定によって、前記1以上の第1測定を位相および輝度について正規化した値
、(2)前記1以上の第2測定によって
を位相および輝度について非正規化した値
の少なくとも1つを求め、
前記プロセッサは、さらに、
および
を1以上含む関数を用いて、(1)前記少なくとも1つの画素における1以上の反射成分の絶対位相、前記少なくとも1つの画素における1以上の反射成分の相対位相、前記少なくとも1つの画素における1以上の反射成分の輝度、前記少なくとも1つの画素における1以上の反射成分の相対輝度のうちの少なくとも1つの範囲、(2)前記少なくとも1つの画素における混合度の指標、のうちの少なくとも1つを求める、請求項1に記載の装置。 - 振幅変調連続波(Amplitude Modulated Continuous Wave)距離画像化(range imaging)システムをさらに備える、請求項1に記載の装置。
- 少なくとも1つの対象物の距離特性および輝度特性の少なくとも1つを測定する方法であって、
1以上の周波数の少なくとも第1変調信号および第2変調信号を放射する工程を含み、
前記少なくとも1つの対象物に前記第1変調信号を照射する工程を含み、前記第1変調信号は前記少なくとも1つの対象物によって後方散乱されて第1後方散乱信号を生じ、
前記第1後方散乱信号と前記第2変調信号との相関を少なくとも1つの画素内でサンプリングすることによりサンプル相関信号を生成する工程と、
1以上の測定を用いてサンプル相関信号を比較することにより、前記少なくとも1との画素における1以上の反射成分の前記距離特性および輝度特性の少なくとも1つを決定する工程とを含み、
前記1以上の測定は、下記(a)、(b)、(c):
(a)2以上の異なる変調周波数、
(b)第1の1以上の異なる変調周波数および前記相関の波形のオフセット、
(c)第2の1以上の異なる変調周波数、および、前記反射信号対距離のゼロ番目の空間周波数もしくは前記反射信号対距離のゼロ番目の空間周波数の近似値のいずれか1つの周波数、
から成る一群から選択した1以上の特性を有する第1変調信号および第2変調信号を含む、方法。 - 前記少なくとも1つの画素における2以上の反射成分の前記距離特性および輝度特性の少なくともいずれかを決定する工程において、さらに、
整数の周波数比を有する複数の変調周波数での2以上の測定を行う、請求項13に記載の方法。 - 前記少なくとも1つの画素における1以上の反射成分の前記距離特性および輝度特性の少なくともいずれかを決定する工程において、さらに、非ゼロ変調周波数での前記1以上の第1測定を行うとともに、前記ゼロ番目の空間周波数の測定、前記ゼロ番目の空間周波数の測定の近似、および、前記ゼロ番目の空間周波数の測定と同等の測定から成る一群から選択した1つを行う、請求項13に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの画素における1以上の反射成分の前記距離特性および輝度特性の少なくともいずれかを決定する工程において、さらに、1以上の第2測定によって、1以上の前記第1測定を位相または振幅の少なくともいずれかについて正規化する、請求項13に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの画素における1以上の反射成分の前記距離特性および輝度特性の少なくともいずれかを決定する工程において、さらに、参照データ行列、数学的モデルおよび関数から成る一群から選択された1つに対して、1以上の前記正規化された測定を適用することによって、参照値を求める、請求項16に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの画素における1以上の反射成分の前記距離特性および輝度特性の少なくともいずれかを決定する工程において、さらに、前記1以上の第2測定を用いて、前記参照値を位相および振幅の少なくともいずれかについて非正規化することによって解集合を生成する、請求項17に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの画素における1以上の反射成分の前記距離特性および輝度特性の少なくともいずれかを決定する工程において、さらに、前記非正規化された測定値、前記解集合、および、前記参照値の少なくともいずれかに基づいて、前記少なくとも1つの画素における1以上の反射成分の前記距離特性および輝度特性の少なとも1つの近似を与える、請求項18に記載の方法。
- 前記1以上の第1測定は第1非ゼロ変調周波数の変調信号を含み、1以上の第2測定は第2非ゼロ変調周波数の変調信号を含み、前記第1非ゼロ変調周波数および前記第2非ゼロ変調周波数は整数の周波数比であり、
前記少なくとも1つの画素における1以上の反射成分の前記距離特性および輝度特性の少なくともいずれかを決定する工程において、さらに、前記第2非ゼロ変調周波数の変調信号に対する前記第2測定により、前記第1非ゼロ変調周波数の変調信号に対する前記第1測定を、位相および振幅について正規化することによって、インデックス値を求め、
前記少なくとも1つの画素における1以上の反射成分の前記距離特性および輝度特性の少なくともいずれかを決定する工程において、さらに、前記インデックス値を参照データ行列に適用することによって参照値を求め、
前記少なくとも1つの画素における1以上の反射成分の前記距離特性および輝度特性の少なくともいずれかを決定する工程において、さらに、前記第2非ゼロ変調周波数の変調信号に対する前記第2測定によって、前記参照値を位相および振幅について非正規化する、請求項16に記載の方法。
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