JP2013174737A - 露光描画装置、プログラム及び露光描画方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 58
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 413
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 22
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 12
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 abstract description 85
- 230000002950 deficient Effects 0.000 abstract description 7
- 238000009530 blood pressure measurement Methods 0.000 abstract 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 58
- 230000008569 process Effects 0.000 description 46
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 20
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 19
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 11
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 11
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 11
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 10
- 230000006870 function Effects 0.000 description 7
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 6
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 5
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 5
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 4
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 230000036316 preload Effects 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000003708 edge detection Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
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Abstract
【解決手段】被露光基板を吸着して固定する第1固定部と、被露光基板の端部を狭持して固定する第2固定部と、被露光基板を露光することにより回路パターンを描画する露光部と、被露光基板の被露光面の高さを計測する圧力計測部と、第1固定部によって被露光基板を固定した状態で、第2固定部によって被露光基板を固定した後第2固定部による固定を解除した際の被露光面の高さが予め定められた範囲内の場合に(S217;Y)、第1固定部による被露光基板の固定を維持しかつ第2固定部による固定を解除した状態で露光を行う(S229)ように制御する制御手段と、を備えた。
【選択図】図9
Description
+ΔFD=+Δt−(+Δt)/n
−ΔFD=−Δt−(−Δt)/n
Claims (8)
- 被露光基板を吸着して固定する第1固定部と、
前記被露光基板の端部を狭持して固定する第2固定部と、
前記被露光基板を露光することにより回路パターンを描画する露光部と、
前記被露光基板の被被露光の高さを計測する高さ計測部と、
前記第1固定部によって前記被露光基板を固定した状態で、前記第2固定部によって前記被露光基板を固定した後前記第2固定部による固定を解除した際の前記高さ計測部によって計測された高さが予め定められた範囲内の場合に、前記第1固定部による前記被露光基板の固定を維持しかつ前記第2固定部による固定を解除した状態で前記露光部により前記被露光基板に対する露光を行うように制御する制御手段と、
を備えた露光描画装置。 - 前記制御手段は、前記第2固定部によって前記被露光基板を固定した状態で前記高さ計測部によって計測された高さが前記範囲内でかつ前記第2固定部による固定を解除した際の前記高さ計測部によって計測された高さが前記範囲外の場合に、前記第1固定部による前記被露光基板の固定を維持しかつ前記第2固定部によって前記被露光基板を固定した状態で前記露光部により前記被露光基板に対する露光を行うように制御する
請求項1記載の露光描画装置。 - 前記制御手段は、前記第1固定部によって前記被露光基板を固定した状態で前記高さ計測部によって計測された高さが前記範囲内の場合に、前記第2固定部による固定及び固定の解除を行うことなく、前記第1固定部による前記被露光基板の固定を維持した状態で前記露光部により前記被露光基板に対する露光を行うように制御する
請求項1または2記載の露光描画装置。 - 前記制御手段は、前記第2固定部によって前記被露光基板を固定した状態で前記高さ計測部によって計測された前記高さの変位量が前記範囲内に含まれる場合に、前記被露光基板の被露光面が前記範囲内に位置するように前記被露光基板の高さを調整して前記露光部により前記被露光基板に対する露光を行うように制御する
請求項6記載の露光描画装置。 - コンピュータを、
被露光基板を吸着して固定する第1固定部と、前記被露光基板の端部を狭持して固定する第2固定部と、前記第1固定部によって固定された前記被露光基板を露光することにより回路パターンを描画する露光部と、前記被露光基板の被露光面の高さを計測する高さ計測部とを有する露光描画装置において実行されるプログラムであって、
前記第1固定部によって前記被露光基板を固定した状態で、前記第2固定部によって前記被露光基板を固定した後前記第2固定部による固定を解除した際の高さを前記高さ計測部によって計測する第1制御手段と、
前記高さ計測手段によって計測された高さが予め定められた閾値以上の場合に、前記第1固定部による前記被露光基板の固定を維持しかつ前記第2固定部による固定を解除した状態で前記露光部により前記被露光基板に対する露光を行う第2制御手段と、
として機能させるためのプログラム。 - 前記第1制御手段は、前記第2固定部によって前記被露光基板を固定した状態でも前記高さ計測部によって高さを計測し、
前記第2制御手段は、前記第2固定部によって前記被露光基板を固定した状態で前記高さ計測部によって計測された高さが前記範囲内でかつ前記第2固定部による固定を解除した際の前記高さ計測部によって計測された高さが前記範囲外の場合に、前記第1固定部による前記被露光基板の固定を維持しかつ前記第2固定部によって前記被露光基板を固定した状態で前記露光部により前記被露光基板に対する露光を行う
請求項5記載のプログラム。 - 被露光基板を吸着して固定する第1固定部と、前記被露光基板の端部を狭持して固定する第2固定部と、前記第1固定部によって固定された前記被露光基板を露光することにより回路パターンを描画する露光部と、前記被露光基板の被露光面の高さを計測する高さ計測部とを有する露光描画装置における露光描画方法であって、
前記第1固定部によって前記被露光基板を固定した状態で、前記第2固定部によって前記被露光基板を固定した後前記第2固定部による固定を解除した際の高さを前記高さ計測部によって計測する第1制御ステップと、
前記第1制御ステップにて前記高さ計測手段によって計測された高さが予め定められた閾値以上の場合に、前記第1固定部による前記被露光基板の固定を維持しかつ前記第2固定部による固定を解除した状態で前記露光部により前記被露光基板に対する露光を行う第2制御ステップと、
を備えた露光描画方法。 - 前記第1制御ステップにて、前記第2固定部によって前記被露光基板を固定した状態でも前記高さ計測部によって高さを計測し、
前記第2制御ステップにて、前記第2固定部によって前記被露光基板を固定した状態で前記高さ計測部によって計測された高さが前記範囲内でかつ前記第2固定部による固定を解除した際の前記高さ計測部によって計測された高さが前記範囲外の場合に、前記第1固定部による前記被露光基板の固定を維持しかつ前記第2固定部によって前記被露光基板を固定した状態で前記露光部により前記被露光基板に対する露光を行う
請求項7記載の露光描画方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012039279A JP5908745B2 (ja) | 2012-02-24 | 2012-02-24 | 露光描画装置、プログラム及び露光描画方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013174737A true JP2013174737A (ja) | 2013-09-05 |
JP5908745B2 JP5908745B2 (ja) | 2016-04-26 |
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JP (1) | JP5908745B2 (ja) |
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