JP2006234959A - 露光方法および露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】うねりや厚みの変動が大きい感光材料を用いた場合でもフォーカスレンジオーバーによるエラー発生を防止し、生産性を確保することができる露光方法および露光装置を提供する。
【解決手段】各露光ヘッド166の焦点調節範囲の中心位置をそれぞれP1〜P4としたとき、P1〜P4の平均となる焦点位置をD0とする。ステージ152上の感光材料150表面、すなわち被露光面56の変動範囲D56の中心位置、すなわち被露光面56の基準面である図中D560を前記D0に一致させるようにステージ152をZ方向すなわち光軸方向に移動させる。
【選択図】図8
【解決手段】各露光ヘッド166の焦点調節範囲の中心位置をそれぞれP1〜P4としたとき、P1〜P4の平均となる焦点位置をD0とする。ステージ152上の感光材料150表面、すなわち被露光面56の変動範囲D56の中心位置、すなわち被露光面56の基準面である図中D560を前記D0に一致させるようにステージ152をZ方向すなわち光軸方向に移動させる。
【選択図】図8
Description
本発明は、露光方法および露光装置に関し、特に、画像情報に応じて空間変調素子等により変調された光ビームで感光材料を露光する露光方法および露光装置に関する。
従来から、デジタル・マイクロミラー・デバイス(DMD)等の空間光変調素子(SLM)を利用し、画像データ(画像情報)に応じて変調された光ビームで画像露光を行う露光装置が種々提案されている。
例えば、DMDは、制御信号に応じて反射面の角度が変化する多数のマイクロミラーが、シリコン等の半導体基板上に2次元状に配列されたミラーデバイスであり、このDMDを用いた図9に示される従来のデジタル走査露光方式(マスクレス露光方式)の露光装置300では、レーザ光を照射する光源、光源から照射されたレーザ光をコリメートするレンズ系、レンズ系の略焦点位置に配置されたDMD、DMDで反射されたレーザ光を走査面上に結像するレンズ系、を備えた露光ヘッド(スキャナ)302により、画像データ等に応じて生成した制御信号によりDMDのマイクロミラーの各々をオンオフ制御してレーザ光を変調し、変調されたレーザ光で、ステージ304上にセットされ走査方向に沿って移動される感光材料306に対し画像露光を行っている。
また、この露光装置300は、感光材料306に対する露光位置ずれ(X,Y方向)を補正するアライメント機能、及び、感光材料306のうねりや厚さ(Z方向)のバラツキに追従して被露光面にレーザ光の焦点を合わせるオートフォーカス機能を備えており、感光材料306の位置(X,Y方向)を測定するためのアライメント用の基準部として、感光材料306に設けられたアライメントマークや基準孔等を検出するアライメント用のCCDカメラ308が配設され、露光ヘッド302の上流側に、感光材料306の被露光面との距離(Z方向)を測定するオートフォーカス用の変位センサ310が配設されている。
露光動作においては、露光前にCCDカメラ308による感光材料306の位置測定(アライメント基準部の検出)を行い、取得した測定情報に基づいてレーザ光による露光位置ずれの補正制御を行い、このアライメント測定の終了後に、変位センサ310による感光材料306の被露光面との距離測定(フォーカス測定)を行い、取得した測定情報に基づき、コントローラ390による制御を行い露光ヘッド302のレーザ光出射側に設けたフォーカス機構を駆動し、あるいは露光ヘッド302を光軸方向に移動調整するなどし、被露光面にレーザ光の焦点を一致させるようオートフォーカス制御を行いながら露光することにより、レーザ光による露光位置及び焦点位置の精度向上を図っている。
しかしながら、うねりや厚みの変動が大きい感光材料を用いた場合、上述した従来のデジタル走査露光方式の露光装置300に用いたようなオートフォーカス制御におけるフォーカス調整レンジを大きく取ると光学的な特性を維持することが難しく、高精細な露光が不可能となるため画質の劣化を招いてしまう。
このため高精細な露光が可能な範囲にフォーカス調整レンジを制限する必要がある。一方、このようにフォーカス調整レンジを制限すると、うねりや厚み変動の大きい露光対象に対して露光を行おうとした際、変位センサ310によるフォーカス測定を行い、感光材料306と露光ヘッド302との距離を検出した時点で、例えば露光対象306のうねりや厚みの変動幅Dが露光ヘッド302の最大フォーカスレンジD’を越えてしまった場合、フォーカスレンジオーバーによるエラーになり、結果として露光不可となる割合が多くなり、生産性が低下してしまうという問題がある。
特許第3305448号公報
本発明は上記事実を考慮し、うねりや厚みの変動が大きい感光材料を用いた場合でもフォーカスレンジオーバーによるエラー発生を防止し、生産性を確保することができる露光方法および露光装置を提供することを課題とする。
請求項1に記載の露光方法は、画像情報に応じて変調された光ビームにより感光材料を走査露光する複数の露光手段と、前記感光材料を載置し前記露光手段と前記感光材料とを走査方向に沿った方向へ相対移動させる移動手段と、前記複数の露光手段から射出された光ビームの焦点位置を検出するピント検出手段と、前記複数の露光手段と前記感光材料の被露光面との距離を測定する距離測定手段と、前記距離測定手段により測定された距離情報に基づいて前記複数の露光手段から射出された光ビームの焦点位置を前記被露光面に一致させるフォーカス制御を行う制御手段と、前記移動手段を前記露光手段のピント方向に移動させる露光面調整手段と、を有し前記ピント検出手段によって前記フォーカス制御における前記焦点位置調整範囲を前記複数の露光手段について検出し、前記複数の露光手段の焦点位置調整範囲の共通範囲を算出し、前記共通範囲の中心値と前記移動手段の表面とを前記露光面調整手段によって一致させて露光動作を行うことを特徴とする。
上記構成の発明では、露光手段のピント位置ばらつきを考慮しフォーカス調整レンジの中心に感光材料が載置されるように露光ステージを移動させ、レンジオーバーによるエラー発生を防ぐことで生産性低下を抑えることができる。
請求項2に記載の露光方法は、画像情報に応じて変調された光ビームにより感光材料を走査露光する複数の露光手段と、
前記感光材料を載置し前記露光手段と前記感光材料とを走査方向に沿った方向へ相対移動させる移動手段と、前記複数の露光手段から射出された光ビームの焦点位置を検出するピント検出手段と、前記複数の露光手段と前記感光材料の被露光面との距離を測定する距離測定手段と、前記距離測定手段により測定された距離情報に基づいて前記複数の露光手段から射出された光ビームの焦点位置を前記被露光面に一致させるフォーカス制御を行う制御手段と、前記移動手段を前記露光手段のピント方向に移動させる露光面調整手段と、を有し前記ピント検出手段によって前記フォーカス制御における前記焦点位置調整範囲を前記複数の露光手段について検出し、前記複数の露光手段の焦点位置調整範囲の共通範囲を算出し、前記共通範囲の中心値と前記移動手段の表面とを前記露光面調整手段によって一致させて露光動作を行うことを特徴とする。
前記感光材料を載置し前記露光手段と前記感光材料とを走査方向に沿った方向へ相対移動させる移動手段と、前記複数の露光手段から射出された光ビームの焦点位置を検出するピント検出手段と、前記複数の露光手段と前記感光材料の被露光面との距離を測定する距離測定手段と、前記距離測定手段により測定された距離情報に基づいて前記複数の露光手段から射出された光ビームの焦点位置を前記被露光面に一致させるフォーカス制御を行う制御手段と、前記移動手段を前記露光手段のピント方向に移動させる露光面調整手段と、を有し前記ピント検出手段によって前記フォーカス制御における前記焦点位置調整範囲を前記複数の露光手段について検出し、前記複数の露光手段の焦点位置調整範囲の共通範囲を算出し、前記共通範囲の中心値と前記移動手段の表面とを前記露光面調整手段によって一致させて露光動作を行うことを特徴とする。
上記構成の発明では、露光手段のピント位置ばらつきを考慮しフォーカス調整レンジの中心に感光材料の被露光面が位置するように露光ステージを移動させ、レンジオーバーによるエラー発生を防ぐことで生産性低下を抑えることができる。
請求項3に記載の露光装置は、画像情報に応じて変調された光ビームにより感光材料を走査露光する複数の露光手段と、前記感光材料を載置し前記露光手段と前記感光材料とを走査方向に沿った方向へ相対移動させる移動手段と、前記複数の露光手段から射出された光ビームの焦点位置を検出するピント検出手段と、前記複数の露光手段と前記感光材料の被露光面との距離を測定する距離測定手段と、前記距離測定手段により測定された距離情報に基づいて前記複数の露光手段から射出された光ビームの焦点位置を前記被露光面に一致させるフォーカス制御手段と、前記移動手段を前記露光手段のピント方向に移動させる露光面調整手段と、を備え前記ピント検出手段によって前記フォーカス制御手段における前記焦点位置調整範囲を前記複数の露光手段について検出し、前記複数の露光手段の焦点位置調整範囲の共通範囲を算出し、前記共通範囲の中心値と前記移動手段の表面とを前記露光面調整手段によって一致させて露光動作を行うことを特徴とする。
上記構成の発明では、露光手段のピント位置ばらつきを考慮しフォーカス調整レンジの中心に感光材料または感光材料の被露光面が載置されるように露光ステージを移動させ、レンジオーバーによるエラー発生を防ぐことで生産性低下を抑えることができる。
請求項4に記載の露光装置は、画像情報に応じて変調された光ビームにより感光材料を走査露光する複数の露光手段と、前記感光材料を載置し前記露光手段と前記感光材料とを走査方向に沿った方向へ相対移動させる移動手段と、前記複数の露光手段から射出された光ビームの焦点位置を検出するピント検出手段と、前記複数の露光手段と前記感光材料の被露光面との距離を測定する距離測定手段と、前記距離測定手段により測定された距離情報に基づいて前記複数の露光手段から射出された光ビームの焦点位置を前記被露光面に一致させるフォーカス制御手段と、前記移動手段を前記露光手段のピント方向に移動させる露光面調整手段と、を備え前記ピント検出手段によって前記フォーカス制御手段における前記焦点位置調整範囲を前記複数の露光手段について検出し、前記複数の露光手段の焦点位置調整範囲の共通範囲を算出し、前記共通範囲の中心値と前記被露光面とを前記露光面調整手段によって一致させて露光動作を行うことを特徴とする。
上記構成の発明では、露光手段のピント位置ばらつきを考慮しフォーカス調整レンジの中心に感光材料の被露光面が位置するように露光ステージを移動させ、レンジオーバーによるエラー発生を防ぐことで生産性低下を抑えることができる。
本発明は上記構成としたので、うねりや厚みの変動が大きい感光材料を用いた場合でもフォーカスレンジオーバーによるエラー発生を防止し、生産性を確保することができる露光方法および露光装置を提供することができた。
図1には本発明の第1の実施形態に係る露光装置が示されている。
図1に示すように、露光装置100は、4本の脚部154に支持された矩形厚板状の設置台156を備えている。設置台156の上面には、長手方向に沿って2本のガイド158が延設されており、これら2本のガイド158上には、矩形平盤状のステージ152が設けられている。ステージ152は、長手方向がガイド158の延設方向を向くよう配置され、ガイド158により設置台156上を往復移動可能に支持されており、図示しない駆動装置に駆動されてガイド158に沿って往復移動する。このステージ152の上面には、感光材料150が図示しない位置決め部により載置位置を決められた状態で吸着され保持される。
設置台156の中央部よりもステージ152の移動方向の上流側及び下流側には、ゲート160、161が所定の間隔で配置されている。ゲート160、161は、ステージ152の移動経路を跨ぐようコ字状に形成されており、両先端部が設置台156の両側面に固定されている。
ステージ152の移動方向の上流側に配置されたゲート160には、その上流側に向けられた前面の上部(ステージ152の移動経路の上方)に、3台の検出ユニット180がステージ152の移動方向と直交する方向に沿って所定の間隔で固定配置されている。検出ユニット180は、上流側に配置されたCCDカメラ182と下流側に配置された変位センサ184とが一体化されて略箱型とされており、CCDカメラ182のレンズ部186及び変位センサ184のセンサ部188は共に下方へ向けられている。
ステージ152の移動方向の下流側に配置されたゲート161には、その下流側に向けられた後面の上部(ステージ152の移動経路の上方)に、スキャナ162が固定配置されている。このスキャナ162と検出ユニット180との間隔は、スキャナ162に設けられた後述する露光ヘッド166による露光開始位置と、検出ユニット180のCCDカメラ182による撮影位置(レンズ部186の光軸中心)との距離が、感光材料150の長手方向の寸法よりも少し長くなるように設定されている。
また、ステージ152の駆動装置、スキャナ162及び検出ユニット180は、これらを制御するコントローラ190に接続されている。このコントローラ190により、後述する露光装置100の露光動作時には、ステージ152は所定の速度で移動するよう制御され、検出ユニット180は所定のタイミングで感光材料150を検出するよう制御され、露光ヘッド166は所定のタイミングで感光材料150を露光するよう制御される。
図2および図3には本発明の第1の実施形態に係る露光ヘッドが示されている。
スキャナ162は、図2及び図3(B)に示すように、m行n列(例えば、2行4列)の略マトリックス状に配列された複数(例えば、8個)の露光ヘッド166を備えている。
露光ヘッド166で露光される領域である露光エリア168は、図2に示すように、短辺が走査方向に沿った矩形状であり、走査方向に対し、所定の傾斜角θで傾斜している。そして、ステージ152の移動に伴い、感光材料150には露光ヘッド166毎に帯状の露光済み領域170が形成される。なお、図1及び図2に示すように、走査方向は、ステージ移動方向とは向きが反対である。
図3(A)及び(B)に示すように、露光ヘッド166はライン状に配列されている上に、帯状の露光済み領域170のそれぞれが、隣接する露光済み領域170と部分的に重なるように、配列方向に所定間隔(露光エリアの長辺の自然数倍、本実施の形態では1倍)ずらして配置されている。このため、たとえば、1行目の最も左側に位置する画像領域168Aと、画像領域168Aの右隣に位置する画像領域168Cとの間の露光できない部分は、2行目の最も左側に位置する画像領域168Bにより露光される。同様に、画像領域168Bと、画像領域168Bの右隣に位置する画像領域168Dとの間の露光できない部分は、画像領域168Cにより露光される。
図4および図5には本発明の第1の実施形態に係る露光ヘッドの光学系が示されている。
露光ヘッド166A〜166Hの各々は、図4(A)、(B)に示すように、入射された光ビームを画像データに応じて各画素毎に変調する空間光変調素子として、デジタル・マイクロミラー・デバイス(DMD)50を備えている。このDMD50は、データ処理部とミラー駆動制御部とを含むスキャナ制御部を備えた前述のコントローラ190に接続されている。このコントローラ190のデータ処理部では、入力された画像データに基づいて、各露光ヘッド166毎にDMD50の制御すべき領域内の各マイクロミラーを駆動制御する制御信号を生成する。
また、ミラー駆動制御部では、データ処理部で生成した制御信号に基づいて、各露光ヘッド166毎にDMD50の各マイクロミラーの反射面の角度を制御する。なお、反射面の角度の制御については後述する。
DMD50の光入射側には、光ファイバの出射端部(発光点)が露光エリア168の長辺方向と対応する方向に沿って一列に配列されたレーザ出射部を備えたファイバアレイ光源66、ファイバアレイ光源66から出射されたレーザ光を補正してDMD50上に集光させるレンズ系67、レンズ系67を透過したレーザ光をDMD50に向けて反射する反射鏡69がこの順に配置されている。
レンズ系67は、ファイバアレイ光源66から出射されたレーザ光を平行光化する1対の組合せレンズ71、平行光化されたレーザ光の光量分布が均一になるように補正する1対の組合せレンズ73、及び光量分布が補正されたレーザ光をDMD50上に集光する集光レンズ75で構成されている。組合せレンズ73は、レーザ出射端の配列方向に対しては、レンズの光軸に近い部分は光束を広げ且つ光軸から離れた部分は光束を縮め、且つこの配列方向と直交する方向に対しては光をそのまま通過させる機能を備えており、光量分布が均一となるようにレーザ光を補正する。
またDMD50の光反射側には、図5に示すようにDMD50で反射されたレーザ光を感光材料150の走査面(被露光面)56上に結像するレンズ系54、58、レンズ系54、58を透過したレーザ光の焦点距離を調整するフォーカス機構59がこの順に配置されている。
レンズ系54、58は、DMD50と被露光面56とが共役な関係となるように配置されており、本実施形態では、ファイバアレイ光源66から出射されたレーザ光が均一化され、DMD50に入射された後、各画素がこれらのレンズ系54、58によって約5倍に拡大され、集光されるように設定されている。
次に、上記のように構成された露光装置100による感光材料150に対する露光動作について図6および図7で説明する。
先ず、露光パターンに応じた画像データがコントローラ190に入力されると、コントローラ内のフレームメモリに一旦記憶される。この画像データは、画像を構成する各画素の濃度を2値(ドットの記録の有無)で表したデータである。
次に、感光材料150をステージ152にセットし、オペレータがコントローラ190の操作部から露光開始の入力操作を行う。なお、露光装置100により画像露光を行う感光材料150としては、プリント配線基板や液晶表示装置等のパターンを形成(画像露光)する材料としての基板やガラスプレート等の表面に、感光性エポキシ樹脂等のフォトレジストを塗布、又ドライフィルムの場合はラミネートしたものなどが挙げられる。
上記の入力操作により、露光装置100の露光動作が開始すると、コントローラ190は駆動装置を制御し、ステージ152が図1に示される原点位置からガイド158に沿って下流側に一定速度で移動開始する。このステージの移動開始に同期して、又は、感光材料150の先端が検出ユニット180のCCDカメラ182の真下に達する少し手前のタイミングで、各検出ユニット180はコントローラ190により制御されて作動する。
ステージ152の移動に伴い、感光材料150が検出ユニット180の下方を通過する際には、CCDカメラ182によるアライメント測定と、変位センサ184によるフォーカス測定とが同時に行われる。
先ず、図6および図7に示すように感光材料150が3台のCCDカメラ182の下方を通過する際には、各CCDカメラ182は感光材料150を撮影し、その撮影した画像データ(撮影データ)をコントローラ190のデータ処理部へ出力する。
データ処理部は、入力された撮影データから、アライメント用の基準部として感光材料150に設けられたアライメントマークや基準孔、あるいは感光材料150の縁部や角部等を検出して感光材料150の位置及び被露光面56に対する適正な露光位置を把握する。そしてスキャナ162による画像露光時に、フレームメモリに記憶されている露光パターンの画像データに基づいて生成する制御信号をその適正な露光位置に合わせ込んで画像露光する補正制御(アライメント)を行う。
また、感光材料150が変位センサ184の下方を通過する際には、各変位センサ184は感光材料150の先端と後端の検出(エッジ検出処理)を含む被露光面56との距離測定を行い(図7(A))、その測定した距離データ(フォーカス測定データ)をコントローラ190のスキャナ制御部へ出力する。
コントローラ190のスキャナ制御部は、入力されたフォーカス測定データに基づいて感光材料150の先端及び後端を認識すると共に、感光材料150のうねりや厚さ寸法誤差を把握するための演算処理を実行する。さらに、この処理結果に基づいて、各露光ヘッド166のフォーカス機構59を駆動制御する制御信号を生成してスキャナ162へ出力し、各露光ヘッド166から照射される光ビームの焦点位置を感光材料150の被露光面56に一致させるためのフォーカス制御を行う。この走査露光においては、フォーカス制御により走査に同期してレーザ光の焦点が被露光面56の形状に倣い滑らかに追従するよう被露光面56上に合わせられる。
このとき、通常コントローラ190のスキャナ制御部は、フォーカス測定データに基づいて作成されたマッピングデータ等からZ座標値(光軸方向)の最大値と最小値の差が予め設定されている閾値を超えたか否かを判別し、最大値と最小値の差が閾値を超えたと判定した場合には、感光材料150のうねり又は厚さ寸法誤差が大きく精度不良であると判断して、コントローラ190によりエラー制御を行う。エラー制御では、感光材料150が精度不良である判断されると、スキャナ162による画像露光には移行せず、露光動作を直ちに中止してステージ152を最上流側にある原点位置に戻す。そして、コントローラ190のモニタには露光動作を中止したことを報知する情報(エラー情報)を表示する。すなわち、該感光材料150に対しては露光を行わない。
何故ならばフォーカス制御により走査に同期してレーザ光の焦点が被露光面56の形状に倣い滑らかに追従するよう被露光面56上に合わせられる為には、感光材料150のうねり又は厚さ寸法誤差に起因する被露光面56の変動範囲がレーザ光の焦点調節範囲に収まっている必要があるからであり、また各露光ヘッド166のピント位置には個々に微少ながらズレがあり、これにより前記レーザ光の焦点調節範囲は狭まっている。さらに、ステージ152の表面にも光軸方向(ピント方向)に誤差があり、これによっても前記レーザ光の焦点調節範囲は狭まっている。
しかし上記のように感光材料150のうねり又は厚さ寸法誤差が大きい場合でも、Z座標値(光軸方向)の最大値と最小値の差がフォーカス制御すなわちレーザ光の焦点調節範囲の最大幅内に収まっていれば実際には露光可能であり、エラー扱いにする必要はなくなる。
つまり上記のように感光材料150のうねり又は厚さ寸法誤差が大きい場合でも感光材料150を載置するステージ152のピント方向位置によっては被露光面56の変動範囲がレーザ光の焦点調節範囲に収まるので、エラーの発生を防ぎ、生産性の低下を防ぐことができる。
本発明では、フォーカス制御により走査に同期してレーザ光の焦点が被露光面56の形状に倣い滑らかに追従するよう被露光面56上に合わせられるように各露光ヘッド166の焦点調節量を最小限にし、エラーの発生が起こりにくくすることで生産性を確保している。
図8には、本発明に掛かる露光装置と被露光面の関係が示されている。
例えば露光ヘッド166を4基用いた場合、各露光ヘッド166の焦点調節範囲の中心位置をそれぞれP1〜P4としたとき、P1〜P4の平均となる焦点位置をD0とする。
ここでステージ152上の感光材料150表面、すなわち被露光面56の変動範囲D56の中心位置、すなわち被露光面56の基準面である図中D560を前記D0に一致させるようにステージ152をZ方向すなわち光軸方向に移動させる。
具体的には図8に示すように設置台156に設けた昇降装置157を駆動し、ステージ152をZ方向すなわち光軸方向に移動させる。これによりステージ152上の感光材料150表面、すなわち被露光面56の基準位置はD0となる。
このため、感光材料150のうねり又は厚さ寸法誤差による被露光面56の変動範囲すなわち図中D56はD0を中心として、各露光ヘッド166においてオートフォーカス機構による焦点調節が行われることとなる。D0は各露光ヘッド166の焦点調節範囲すなわちP1〜P4の中心位置の平均であり、このD0に感光材料150表面、すなわち被露光面56の基準面(=ステージ156の表面高+感光材料150の厚み規格値)を合致させることで、感光材料150のうねり又は厚さ寸法誤差による被露光面56の変動範囲D56を各露光ヘッド166の焦点調節範囲であるD166に収め易くなり、結果としてエラーの発生を防ぎ生産性低下をも防ぐことができる。
ここでは昇降装置157は設置台156に設けられガイド158の高さを調節する機構となっているが、これに限定されず例えばガイド158とステージ152の間に設けられていてもよい。
従来の露光装置では、変位センサ184によって測定された感光材料150の被露光面56との距離の測定データが、感光材料150のうねりや反りによる被露光面56の凹凸や起伏形状等が大きい、あるいは感光材料150の厚さ寸法誤差が大きいなどにより、予め設定された閾値を超えた場合には、コントローラ190のスキャナ制御部は、感光材料150に対する露光を行わないようスキャナ162を制御していた。
このため露光処理を行えないと判断された感光材料150に対しては、セッティングに要した時間がロスになり生産性が低下する。また露光処理を行えないと判断された感光材料150そのものは使用できないため感材ロスとなり、コストも増大してしまう。
本発明においてはエラーの発生そのものを防ぐことで生産性低下を防ぎ、また感材ロスの発生をも防ぐことでコスト増大を抑えることができる。
56 被露光面
59 フォーカス機構(フォーカス手段)
100 露光装置
150 感光材料
152 ステージ(移動手段)
157 昇降装置
162 スキャナ(露光手段)
166 露光ヘッド(露光手段/露光ヘッド)
180 検出ユニット
182 CCDカメラ(基準部検出手段)
184 変位センサ(距離測定手段)
190 コントローラ(制御手段)
59 フォーカス機構(フォーカス手段)
100 露光装置
150 感光材料
152 ステージ(移動手段)
157 昇降装置
162 スキャナ(露光手段)
166 露光ヘッド(露光手段/露光ヘッド)
180 検出ユニット
182 CCDカメラ(基準部検出手段)
184 変位センサ(距離測定手段)
190 コントローラ(制御手段)
Claims (4)
- 画像情報に応じて変調された光ビームにより感光材料を走査露光する複数の露光手段と、
前記感光材料を載置し前記露光手段と前記感光材料とを走査方向に沿った方向へ相対移動させる移動手段と、
前記複数の露光手段から射出された光ビームの焦点位置を検出するピント検出手段と、
前記複数の露光手段と前記感光材料の被露光面との距離を測定する距離測定手段と、
前記距離測定手段により測定された距離情報に基づいて前記複数の露光手段から射出された光ビームの焦点位置を前記被露光面に一致させるフォーカス制御手段と、
前記移動手段を前記露光手段のピント方向に移動させる露光面調整手段と、を用い
前記ピント検出手段によって前記フォーカス制御手段における前記焦点位置調整範囲を前記複数の露光手段について検出し、前記複数の露光手段の焦点位置調整範囲の共通範囲を算出し、前記共通範囲の中心値と前記移動手段の表面とを前記露光面調整手段によって一致させて露光動作を行うことを特徴とする露光方法。
- 画像情報に応じて変調された光ビームにより感光材料を走査露光する複数の露光手段と、
前記感光材料を載置し前記露光手段と前記感光材料とを走査方向に沿った方向へ相対移動させる移動手段と、
前記複数の露光手段から射出された光ビームの焦点位置を検出するピント検出手段と、
前記複数の露光手段と前記感光材料の被露光面との距離を測定する距離測定手段と、
前記距離測定手段により測定された距離情報に基づいて前記複数の露光手段から射出された光ビームの焦点位置を前記被露光面に一致させるフォーカス制御手段と、
前記移動手段を前記露光手段のピント方向に移動させる露光面調整手段と、を用い
前記ピント検出手段によって前記フォーカス制御手段における前記焦点位置調整範囲を前記複数の露光手段について検出し、前記複数の露光手段の焦点位置調整範囲の共通範囲を算出し、前記共通範囲の中心値と前記被露光面とを前記露光面調整手段によって一致させて露光動作を行うことを特徴とする露光方法。
- 画像情報に応じて変調された光ビームにより感光材料を走査露光する複数の露光手段と、
前記感光材料を載置し前記露光手段と前記感光材料とを走査方向に沿った方向へ相対移動させる移動手段と、
前記複数の露光手段から射出された光ビームの焦点位置を検出するピント検出手段と、
前記複数の露光手段と前記感光材料の被露光面との距離を測定する距離測定手段と、
前記距離測定手段により測定された距離情報に基づいて前記複数の露光手段から射出された光ビームの焦点位置を前記被露光面に一致させるフォーカス制御手段と、
前記移動手段を前記露光手段のピント方向に移動させる露光面調整手段と、を備え
前記ピント検出手段によって前記フォーカス制御手段における前記焦点位置調整範囲を前記複数の露光手段について検出し、前記複数の露光手段の焦点位置調整範囲の共通範囲を算出し、前記共通範囲の中心値と前記移動手段の表面とを前記露光面調整手段によって一致させて露光動作を行うことを特徴とする露光装置。
- 画像情報に応じて変調された光ビームにより感光材料を走査露光する複数の露光手段と、
前記感光材料を載置し前記露光手段と前記感光材料とを走査方向に沿った方向へ相対移動させる移動手段と、
前記複数の露光手段から射出された光ビームの焦点位置を検出するピント検出手段と、
前記複数の露光手段と前記感光材料の被露光面との距離を測定する距離測定手段と、
前記距離測定手段により測定された距離情報に基づいて前記複数の露光手段から射出された光ビームの焦点位置を前記被露光面に一致させるフォーカス制御手段と、
前記移動手段を前記露光手段のピント方向に移動させる露光面調整手段と、を備え
前記ピント検出手段によって前記フォーカス制御手段における前記焦点位置調整範囲を前記複数の露光手段について検出し、前記複数の露光手段の焦点位置調整範囲の共通範囲を算出し、前記共通範囲の中心値と前記被露光面とを前記露光面調整手段によって一致させて露光動作を行うことを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005045911A JP2006234959A (ja) | 2005-02-22 | 2005-02-22 | 露光方法および露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005045911A JP2006234959A (ja) | 2005-02-22 | 2005-02-22 | 露光方法および露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006234959A true JP2006234959A (ja) | 2006-09-07 |
Family
ID=37042714
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005045911A Pending JP2006234959A (ja) | 2005-02-22 | 2005-02-22 | 露光方法および露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2006234959A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013520819A (ja) * | 2010-02-23 | 2013-06-06 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
WO2015052618A1 (ja) * | 2013-10-07 | 2015-04-16 | 株式会社オーク製作所 | 描画装置及び描画方法 |
CN112379575A (zh) * | 2020-11-13 | 2021-02-19 | 江苏富伟博智能科技有限公司 | 车载玻璃曝光z轴曲线运动训练方法 |
CN113900219A (zh) * | 2021-10-18 | 2022-01-07 | 合肥御微半导体技术有限公司 | 一种离轴自动调焦装置及方法 |
-
2005
- 2005-02-22 JP JP2005045911A patent/JP2006234959A/ja active Pending
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