JP2012088249A5 - 光干渉断層撮像装置、光干渉断層撮像方法、補償方法およびプログラム - Google Patents

Claims (14)

1. 光源から照射された光を参照光と測定光とに分割し、前記測定光を被測定検体に照射し、当該被測定検体で反射された戻り光と前記参照光とを干渉させ、前記被測定検体の断層像を撮像する光干渉断層撮像装置であって、
   前記参照光を、波長帯域ごとに複数の参照光に分割する参照光分割手段と、
   前記複数の参照光のそれぞれに分散補償を施す分散補償手段と、
   を備えることを特徴とする光干渉断層撮像装置。
2. 前記参照光分割手段は、前記被測定検体の分散特性に応じた前記波長帯域ごとに、前記参照光を複数の参照光に分割することを特徴とする請求項１に記載の光干渉断層撮像装置。
3. 前記参照光分割手段は、ダイクロイックミラーであることを特徴とする請求項１または２に記載の光干渉断層撮像装置。
4. 前記複数の参照光のそれぞれの光路長を調整する調整手段をさらに備えることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の光干渉断層撮像装置。
5. 前記分散補償手段は、前記複数の参照光のそれぞれについて、前記波長帯域における代表波長に対応する分散補償を行うこと特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の光干渉断層撮像装置。
6. 前記代表波長は、前記波長帯域における平均波長であること特徴とする請求項５に記載の光干渉断層撮像装置。
7. 前記複数の参照光の光路それぞれに参照光を反射する参照物体が備えられ、前記分散補償手段は前記参照光分割手段と前記参照物体との間に備えられることを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の光干渉断層撮像装置。
8. 前記参照光分割手段によって生成された前記複数の参照光のそれぞれは前記分散補償手段を通過することを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載の光干渉断層撮像装置。
9. 前記分散補償手段はガラスまたはプラスチックであることを特徴とする請求項１乃至８の何れか１項に記載の光干渉断層撮像装置。
10. 前記複数の分散補償手段の厚みはそれぞれ異なることを特徴とする請求項１乃至９の何れか１項に記載の光干渉断層撮像装置。
11. 参照光分割手段と、分散補償手段とを備え、光源から照射された光を参照光と測定光とに分割し、前記測定光を被測定検体に照射し、当該被測定検体で反射された戻り光と前記参照光とを干渉させ、前記被測定検体の断層像を撮像する光干渉断層撮像装置における光干渉断層撮像方法であって、
    前記参照光分割手段が、前記参照光を、波長帯域ごとに複数の参照光に分割する参照光分割工程と、
    前記分散補償手段が、前記複数の参照光のそれぞれに分散補償を施す分散補償工程と、
    を備えることを特徴とする光干渉断層撮像方法。
12. 請求項１１に記載の光干渉断層撮像方法における各工程をコンピュータに実行させるためのプログラム。
13. 光源からの光を参照光と測定光とに分割し、
    前記参照光を波長帯域が異なる複数の参照光に分割し、
    前記複数の参照光それぞれに対して前記参照光の波長帯域に応じた分散補償手段で分散補償を行い、
    前記分散補償された参照光と前記測定光が照射された被検眼からの戻り光とを合波することを特徴とする補償方法。
14. 請求項１３に記載の補償方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。