JP2010167253A5 - 光断層撮像装置および撮像装置 - Google Patents

Description

本発明は、光断層撮像装置および撮像装置に関し、特に眼科診療、皮膚の断層観察、内視鏡やカテーテルとして構成して消化器、循環器の壁面断層撮影等に用いられる光断層撮像装置に関するものである。

本発明は、上記課題を解決し、複数のビームを用いたＯＣＴ装置を構成するに当たり、解像度、感度などのばらつきを抑制し、光学特性を等しくするための部品点数を減らしてコストダウンを図ることが可能となる光断層撮像装置および撮像装置の提供を目的とする。

本発明は、つぎのように構成した光断層撮像装置および撮像装置を提供するものである。
本発明の光断層撮像装置は、複数の測定光を照射した被検査物からの複数の戻り光と前記複数の測定光に対応する複数の参照光とによる複数の干渉光に基づいて、前記被検査物の断層画像を撮る光断層撮像装置であって、
前記複数の測定光を前記被検査物に照射する照射手段と、
前記複数の測定光、前記複数の参照光、前記複数の干渉光のうち少なくとも一つの複数の光の光学特性を調整する光学特性調整手段と、を備え、
前記複数の測定光は複数のグループに分類され、
前記複数のグループにおける各グループは前記複数の測定光のうち前記照射手段の光軸からの距離が略同じ距離にある測定光群を含み、
前記光学特性調整手段は、前記測定光群、前記測定光群に対応する参照光群、前記測定光群を照射した前記被検査物からの戻り光群と前記参照光群とによる干渉光群のうち少なくとも一つの光群を含むグループにおいて同じ調整方法を適用し、
前記複数のグループのうち前記グループとは異なるグループに対して異なる調整方法を適用することを特徴とする。

また、本発明の光断層撮像装置は、複数の測定光を照射した被検眼からの複数の戻り光と該複数の測定光に対応する複数の参照光とを合波した複数の合波光に基づいて、該被検眼の断層画像を撮る光断層撮像装置であって、
前記複数の測定光を前記被検眼の前眼部に照射する照射手段と、
前記照射手段により前記前眼部に前記複数の測定光を照射する位置及び角度に基づいて該複数の測定光に対応する光学特性を調整する調整手段と、
を有することを特徴とする。
また、本発明の光断層撮像装置は、干渉光を分光処理部で処理し、被検査物の断層画像を撮像する光断層撮像装置であって、
前記分光処理部で計算処理を行うことにより分散補償を行うことを特徴とする。
また、本発明の光断層撮像装置は、複数の測定光を照射した被検査物からの複数の戻り光と該複数の測定光に対応する複数の参照光とを合波した複数の合波光に基づいて、該被検査物の断層画像を撮る光断層撮像装置であって、
前記複数の測定光を前記被検査物に照射する照射手段と、
前記複数の測定光のうち前記照射手段の光軸からの距離に基づいて分類された測定光群に対応する参照光群の光路に設けられた単一の光学手段と、
を有することを特徴とする。
また、本発明の撮像装置は、複数の測定光を照射した被検査物からの複数の戻り光に基づいて、該被検査物の画像を撮る撮像装置であって、
前記複数の測定光を前記被検査物に照射する照射手段と、
前記複数の測定光のうち前記照射手段の光軸からの距離に基づいて分類された測定光群の光路に設けられ、該測定光群の光量を変更する単一の光量変更手段と、
を有することを特徴とする。

本発明によれば、複数のビームを用いたＯＣＴ装置を構成するに当たり、解像度、感度などのばらつきを抑制し、光学特性を等しくするための部品点数を減らしてコストダウンを図ることが可能となる光断層撮像装置および撮像装置を実現することができる。

つぎに、本発明の実施形態について説明する。
本実施形態においては、つぎのような光断層撮像装置（以下、これを光断層画像撮像装置と記す。）を構成することにより、解像度、感度などのばらつきを抑制し、光学特性を等しくするための部品点数を減らしてコストダウンを図るようにしたものである。
その基本構成として、光源から出射され複数に分割された光を、該分割された複数の光からなる測定光と参照光とに更に分割し、
該複数の光からなる測定光を被測定対象である被検査物の異なる位置に照射する照射光学系を介して該被検査物に導くと共に、前記複数の光からなる参照光を参照ミラーに導き、
前記被検査物によって反射あるいは散乱された前記複数の光からなる測定光による戻り光と、前記参照ミラーによって反射された前記複数の光からなる参照光とによる干渉光を分光処理部で処理し、前記被検査物の断層画像を撮像するように構成される。
そして、前記複数の光からなる、測定光、参照光、または干渉光のうちの、少なくともいずれか一つにおける光学特性を調整する光学特性調整手段を備えた構成とされる。
その際、この光学特性調整手段は、前記複数の光からなる測定光における、前記照射光学系の光軸からの距離が略同距離にあるもの同士によるグループ毎に共有される構成とされている。

Claims (17)

1. 複数の測定光を照射した被検査物からの複数の戻り光と前記複数の測定光に対応する複数の参照光とによる複数の干渉光に基づいて、前記被検査物の断層画像を撮る光断層撮像装置であって、
   前記複数の測定光を前記被検査物に照射する照射手段と、
   前記複数の測定光、前記複数の参照光、前記複数の干渉光のうち少なくとも一つの複数の光の光学特性を調整する光学特性調整手段と、を備え、
   前記複数の測定光は複数のグループに分類され、
   前記複数のグループにおける各グループは前記複数の測定光のうち前記照射手段の光軸からの距離が略同じ距離にある測定光群を含み、
   前記光学特性調整手段は、前記測定光群、前記測定光群に対応する参照光群、前記測定光群を照射した前記被検査物からの戻り光群と前記参照光群とによる干渉光群のうち少なくとも一つの光群を含むグループにおいて同じ調整方法を適用し、
   前記複数のグループのうち前記グループとは異なるグループに対して異なる調整方法を適用することを特徴とする光断層撮像装置。
2. 前記光学特性調整手段が、前記複数の参照光の光路に配置され、前記複数の測定光と前記複数の参照光との光路長差を調整する手段であることを特徴とする請求項１に記載の光断層撮像装置。
3. 前記光学特性調整手段が、前記複数の参照光の光路に配置され、前記複数の測定光の光路における波長と前記複数の参照光の光路における波長との波長分散の違いを補償する手段であることを特徴とする請求項１に記載の光断層撮像装置。
4. 前記光学特性調整手段が、前記複数の測定光の光路に配置され、収差を調整する手段であることを特徴とする請求項１に記載の光断層撮像装置。
5. 前記光学特性調整手段が、前記複数の参照光の光路、前記複数の測定光の光路、光源が配置された光路、前記複数の干渉光を分光処理する分光処理部が配置された光路のいずれかの光路に配置され、前記複数の光の光量を調整する手段であることを特徴とする請求項１に記載の光断層撮像装置。
6. 前記分光処理部が、前記光軸からの距離が略同距離にあるもの同士によるグループ毎に、前記光学特性を補正するパラメータを用いてデータ処理を行うデータ処理部であることを特徴とする請求項５に記載の光断層撮像装置。
7. 前記データ処理部が、前記光軸からの距離が略同距離にあるもの同士によるグループ毎に、分散補償のパラメータを共有してデータ処理を行う手段を含んでいることを特徴とする請求項６に記載の光断層撮像装置。
8. 前記光源からの光を前記測定光と前記参照光とに分割される位置まで導く光路と、
   前記測定光を前記被検査物まで導く光路と、
   前記参照光を参照ミラーまで導く光路と、
   前記測定光による戻り光と、前記参照ミラーによって反射された前記参照光とによる干渉光 を、前記分光処理部まで導く光路と、
   による各光路が、光ファイバーまたはバルクによって構成されていることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の光断層撮像装置。
9. 複数の測定光を照射した被検眼からの複数の戻り光と該複数の測定光に対応する複数の参照光とを合波した複数の合波光に基づいて、該被検眼の断層画像を撮る光断層撮像装置であって、
   前記複数の測定光を前記被検眼の前眼部に照射する照射手段と、
   前記照射手段により前記前眼部に前記複数の測定光を照射する位置及び角度に基づいて該複数の測定光に対応する光学特性を調整する調整手段と、
   を有することを特徴とする光断層撮像装置。
10. 前記照射手段が、前記複数の測定光を前記前眼部に対物レンズを介して照射し、
    前記対物レンズの光軸と前記複数の測定光が該対物レンズを通過する領域との距離が、前記位置及び角度に対応していることを特徴とする請求項９に記載の光断層撮像装置。
11. 前記調整手段が、
    前記対物レンズの光軸からの距離に基づいて分類された前記複数の測定光の一部である測定光群に対応する参照光群の光路に共通に設けられ、該参照光群に対する前記戻り光群の分散を補償する分散補償手段を更に有することを特徴とする請求項１０に記載の光断層撮像装置。
12. 前記調整手段が、前記照射手段により前記前眼部に前記複数の測定光を照射する位置及び角度に基づいて前記複数の戻り光の分散を補償する分散補償手段であることを特徴とする請求項９乃至１１のいずれか１項に記載の光断層撮像装置。
13. 干渉光を分光処理部で処理し、被検査物の断層画像を撮像する光断層撮像装置であって、
    前記分光処理部で計算処理を行うことにより分散補償を行うことを特徴とする光断層撮像装置。
14. 複数の測定光を照射した被検査物からの複数の戻り光と該複数の測定光に対応する複数の参照光とを合波した複数の合波光に基づいて、該被検査物の断層画像を撮る光断層撮像装置であって、
    前記複数の測定光を前記被検査物に照射する照射手段と、
    前記複数の測定光のうち前記照射手段の光軸からの距離に基づいて分類された測定光群に対応する参照光群の光路に設けられた単一の光学手段と、
    を有することを特徴とする光断層撮像装置。
15. 前記複数の測定光のうち前記測定光群とは異なる測定光群に対応する参照光群の光路に設けられ、前記単一の光学手段とは異なる第２の単一の光学手段を更に有することを特徴とする請求項１４に記載の光断層撮像装置。
16. 前記単一の光学手段は、
    前記測定光群を照射した前記被検査物からの戻り光群の分散を補償する単一の分散補償手段と、
    前記参照光群の光路長を変更する単一の光路長変更手段と、
    前記参照光群の光量を変更する単一の光量変更手段と、
    のうちいずれかを含むことを特徴とする請求項１４または１５に記載の光断層撮像装置。
17. 複数の測定光を照射した被検査物からの複数の戻り光に基づいて、該被検査物の画像を撮る撮像装置であって、
    前記複数の測定光を前記被検査物に照射する照射手段と、
    前記複数の測定光のうち前記照射手段の光軸からの距離に基づいて分類された測定光群の光路に設けられ、該測定光群の光量を変更する単一の光量変更手段と、
    を有することを特徴とする撮像装置。