JP2011253833A - 半導体部材製造方法及び粘着テープ - Google Patents
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Abstract
【課題】剥離性、転写性及ピックアップ性に優れた半導体部材製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、半導体部材に接着性樹脂を塗布し固定用冶具に仮固定した後、半導体部材を個片化する個片化工程と、個片化された半導体部材に粘着テープを貼り合わせる貼合工程と、個片化された半導体部材から接着性樹脂を剥離して半導体部材を粘着テープに転写する転写工程と、粘着テープ上の個片化された半導体部材をピックアップするピックアップ工程を有する。転写工程が接着性樹脂の接着性樹脂の接着力低下温度Xと、粘着テープの熱収縮温度Yの間の温度域の液体に浸漬させる工程である。
【選択図】図4
【解決手段】本発明は、半導体部材に接着性樹脂を塗布し固定用冶具に仮固定した後、半導体部材を個片化する個片化工程と、個片化された半導体部材に粘着テープを貼り合わせる貼合工程と、個片化された半導体部材から接着性樹脂を剥離して半導体部材を粘着テープに転写する転写工程と、粘着テープ上の個片化された半導体部材をピックアップするピックアップ工程を有する。転写工程が接着性樹脂の接着性樹脂の接着力低下温度Xと、粘着テープの熱収縮温度Yの間の温度域の液体に浸漬させる工程である。
【選択図】図4
Description
本発明は、半導体部材製造方法とこれら方法に用いる粘着テープに関する。
IC(IntegratedCircuit)カード、携帯電話、及びPDA(Personal Digital Assistants)等の電子機器は、回路パターンを形成したチップ状の電子部品を搭載している。
半導体部材は、シリコン又はガリウム−砒素等の半導体ウエハ、絶縁基板等に複数の回路パターンを形成した半導体部材を個々に分割することによって形成されるものであり(特許文献1)、電子機器の薄型化により、電子部品も薄型化が進んでいる。
しかし、薄くなった半導体部品をダイヤモンドの刃により個片化を行った場合、半導体部品の割れ等が生じる場合があった。
本発明は、半導体部材に接着性樹脂を塗布し固定用冶具に仮固定した後、半導体部材を個片化する個片化工程と、個片化された半導体部材に粘着テープを貼り合わせる貼合工程と、個片化された半導体部材から接着性樹脂と固定用冶具を剥離して半導体部材を粘着テープに転写する転写工程と、粘着テープ上の個片化された半導体部材をピックアップするピックアップ工程を有し、転写工程が接着性樹脂の接着力低下温度Xと、粘着テープの熱収縮温度Yの間の温度域の液体に浸漬させる半導体部材製造方法である。
この発明にあっては、転写工程で用いる液体の温度が40℃以上100℃以下であるのが好ましく、転写工程が、上から粘着テープ、半導体部材、接着性樹脂、固定用冶具という配置にし、この配置のまま液体に浸漬させる工程であるのが好ましい。転写工程は、さらに、上から粘着テープ、半導体部材、接着性樹脂、固定用冶具という配置であり、この配置のまま液体に浸漬させ、固定用冶具を接着性樹脂ごと自由落下させる工程であるのが好ましい。粘着テープの基材フィルムは、プロピレン系共重合体であるのが好ましい。粘着テープの粘着剤層は、(メタ)アクリル酸エステル共重合体100質量部、多官能イソシアネート系硬化剤0.5質量部以上20質量部以下、ビニル基を4個以上有するウレタンアクリレートオリゴマ20質量部以上200質量部以下、及びシリコーン変性アクリル樹脂0.1質量部以上10質量部以下を含有するのが好ましい。
本発明によれば、剥離性、転写性及ピックアップ性に優れた半導体部材製造方法を提供できる。
以下、本発明にかかる半導体部材製造方法の実施形態とこの方法に用いる粘着テープの実施形態について詳細に説明する。
本発明は、半導体部材に接着性樹脂を塗布し固定用冶具に仮固定した後、半導体部材を個片化する個片化工程と、個片化された半導体部材に粘着テープを貼り合わせる貼合工程と、個片化された半導体部材から接着性樹脂と固定用冶具を剥離して半導体部材を粘着テープに転写する転写工程と、粘着テープ上の個片化された半導体部材をピックアップするピックアップ工程を有し、転写工程が接着性樹脂の粘着力低下温度Xと、粘着テープで採用される粘着剤の粘着力低下温度Yの間の温度域の液体に浸漬させる半導体部材製造方法である。
(個片化工程)
半導体部材に接着性樹脂を塗布し固定用冶具に仮固定した後、半導体部材を個片化する個片化工程で用いられる半導体部材としては、円板状のシリコンウエハ、ガラス、ガリ砒素がある。接着性樹脂としては、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂がある。固定用冶具としては、ガラス、セラミックがある。半導体部材を個片化する方法としては、ダイヤモンドカッターにより切断、エッチングがある。
半導体部材に接着性樹脂を塗布し固定用冶具に仮固定した後、半導体部材を個片化する個片化工程で用いられる半導体部材としては、円板状のシリコンウエハ、ガラス、ガリ砒素がある。接着性樹脂としては、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂がある。固定用冶具としては、ガラス、セラミックがある。半導体部材を個片化する方法としては、ダイヤモンドカッターにより切断、エッチングがある。
(貼合工程)
個片化された半導体部材に粘着テープを貼り合わせる貼合工程は、例えば、個片化されたが接着性樹脂により全体的に円板状を維持した半導体部材の接着性樹脂が積層されていない面に粘着テープを貼る工程であり、貼り合わせる方法は、例えばロール圧着、真空圧着がある。
個片化された半導体部材に粘着テープを貼り合わせる貼合工程は、例えば、個片化されたが接着性樹脂により全体的に円板状を維持した半導体部材の接着性樹脂が積層されていない面に粘着テープを貼る工程であり、貼り合わせる方法は、例えばロール圧着、真空圧着がある。
(転写工程)
個片化された半導体部材から接着性樹脂と固定用冶具を剥離して半導体部材を粘着テープに転写する転写工程は、具体的には、接着性樹脂と固定用冶具を半導体部材から剥離することによって、半導体部材が粘着テープに転写することをいう。この剥離の方法としては、転写工程が接着性樹脂の接着力低下温度Xと、粘着テープの熱収縮温度Yの間の温度域の液体に浸漬させることによって達成できる。
接着性樹脂の接着力低下温度Xと、粘着テープの熱収縮温度Yは、X<Yの関係が必要であり、液体の温度Tは、X<T<Yの関係であることが必要である。接着力低下温度は、接着性樹脂と粘着テープの基材フィルムとして採用する合成樹脂に応じて異なり、液体の温度Tの設定値の下限が低いと接着性樹脂の接着力低下が生じにくい傾向にあり、設定値の上限が高いと粘着テープが収縮してしまう傾向にある。この液体の設定温度としては、具体的には、下限としては40℃、好ましくは75℃であり、上限としては120℃、好ましくは95℃である。液体としては、水、油があるが、半導体部材への影響を考えると水が好ましい。
個片化された半導体部材から接着性樹脂と固定用冶具を剥離して半導体部材を粘着テープに転写する転写工程は、具体的には、接着性樹脂と固定用冶具を半導体部材から剥離することによって、半導体部材が粘着テープに転写することをいう。この剥離の方法としては、転写工程が接着性樹脂の接着力低下温度Xと、粘着テープの熱収縮温度Yの間の温度域の液体に浸漬させることによって達成できる。
接着性樹脂の接着力低下温度Xと、粘着テープの熱収縮温度Yは、X<Yの関係が必要であり、液体の温度Tは、X<T<Yの関係であることが必要である。接着力低下温度は、接着性樹脂と粘着テープの基材フィルムとして採用する合成樹脂に応じて異なり、液体の温度Tの設定値の下限が低いと接着性樹脂の接着力低下が生じにくい傾向にあり、設定値の上限が高いと粘着テープが収縮してしまう傾向にある。この液体の設定温度としては、具体的には、下限としては40℃、好ましくは75℃であり、上限としては120℃、好ましくは95℃である。液体としては、水、油があるが、半導体部材への影響を考えると水が好ましい。
転写工程において、上から粘着テープ、半導体部材、接着性樹脂、固定用冶具という配置にして液体に浸漬させることが好ましい。この配置のまま浸漬させることにより、接着性樹脂は固定冶具との自重と接着性樹脂の粘着力の低下によって剥離させることができる。この配置による剥離を採用することによって、自重による自由落下なため、接着性樹脂付きの固定用冶具剥離時の負荷を抑制し、粘着テープへ個片化された半導体部材を移し替える際の個片化された半導体部材同士の間隔を変動させることなく、液体への浸漬時の個片化された半導体部材の割れ、欠けを防止することができるとともに、接着性樹脂への液体の浸透を促進し、転写時間を短縮することができた。接着性樹脂の接着力によっては、転写工程での剥離界面は、半導体部材・接着性樹脂間、又は接着性樹脂・固定用冶具間の2種類がある。後者の場合、接着性樹脂に剥がしテープを貼り合わせ、個片化された半導体部材から剥がしテープを接着性樹脂ごと剥離する。
(粘着テープ)
粘着テープは、基材と粘着剤層から構成され、接着性樹脂の粘着力低下温度より高い粘着力低下温度を有する粘着剤が積層されたものである。
粘着テープは、基材と粘着剤層から構成され、接着性樹脂の粘着力低下温度より高い粘着力低下温度を有する粘着剤が積層されたものである。
(粘着テープの基材)
粘着テープの基材としては、浸漬されても膨張、収縮等の変形をしない材料が好ましく、合成樹脂、金属がよい。形状としてはフィルム、シート、箔がある。
基材の厚みは、50μm以上250μm以下が良い。より好ましい下限は70μmであり、より好ましい上限は150μm以下である。基材の厚みが薄くなるとピックアップ工程におけるエキスパンド時に基材の切断が生じる傾向にあり、基材の厚みが厚くなるとエキスパンド性に劣る傾向にある。
粘着テープの基材としては、浸漬されても膨張、収縮等の変形をしない材料が好ましく、合成樹脂、金属がよい。形状としてはフィルム、シート、箔がある。
基材の厚みは、50μm以上250μm以下が良い。より好ましい下限は70μmであり、より好ましい上限は150μm以下である。基材の厚みが薄くなるとピックアップ工程におけるエキスパンド時に基材の切断が生じる傾向にあり、基材の厚みが厚くなるとエキスパンド性に劣る傾向にある。
合成樹脂としては、PVC(ポリ塩化ビニル)、ポリエチレン、PET(ポリエチレンテレフタレート)、EVA(エチレン−酢酸ビニル共重合体)、エチレン−エチルアクリレート共重合体、ポリプロピレン、プロピレン系共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、アイオノマ樹脂、ポリイミドがあり、この中で、PET、プロピレン系共重合体が好ましく、プロピレン系共重合体が更に好ましい。金属としては、ステンレス、銅、アルミニウムがある。基材として、これら合成樹脂の混合物、共重合体、合成樹脂同士の積層体、金属同士の積層体、合成樹脂と金属の積層体であってもよい。
基材としてプロピレン系共重合体を選択した場合、浸漬時の変形がなく、剥離時の半導体部材の変動が生じないと共に、次のピックアップ工程において、より良好なピックアップ性を得られるためである。このプロピレン系共重合体としては、例えばプロピレンと他成分とのランダム共重合体、プロピレンと他成分とのブロック共重合体、プロピレンと他成分の交互共重合体がある。他成分としては、エチレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン等のα−オレフィン、少なくとも2種以上のα−オレフィンからなる共重合体、スチレン−ジエン共重合体等が挙げられる。これらの中でも1−ブテンが好ましい。これにより、半導体部材を切断する際に発生する切り屑を特に抑制することができる。
(粘着テープの粘着剤)
粘着剤としては、アクリル酸、メタクリル酸及びそれらのエステルモノマーを重合させたポリマー、これらモノマーと共重合可能な不飽和単量体(例えば、酢酸ビニル、スチレン、アクリロニトリル)とを共重合させたコポリマーがあり、これら粘着剤のうち、(メタ)アクリル酸エステル共重合体が好ましい。粘着剤層には、紫外線又は放射線のいずれか又は照射によって三次元網状化しうる分子内に光重合性炭素−炭素二重結合を分子内に少なくとも2個以上有する低分子量化合物、例えばアクリレート化合物又はウレタンアクリレートオリゴマ等を用いた光硬化型感圧性粘着剤も採用できる。
粘着剤としては、アクリル酸、メタクリル酸及びそれらのエステルモノマーを重合させたポリマー、これらモノマーと共重合可能な不飽和単量体(例えば、酢酸ビニル、スチレン、アクリロニトリル)とを共重合させたコポリマーがあり、これら粘着剤のうち、(メタ)アクリル酸エステル共重合体が好ましい。粘着剤層には、紫外線又は放射線のいずれか又は照射によって三次元網状化しうる分子内に光重合性炭素−炭素二重結合を分子内に少なくとも2個以上有する低分子量化合物、例えばアクリレート化合物又はウレタンアクリレートオリゴマ等を用いた光硬化型感圧性粘着剤も採用できる。
((メタ)アクリル酸エステル共重合体)
本発明で使用する(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、特に限定されないが、(メタ)アクリル酸エステルの主単量体と、その他のビニル化合物単量体を共重合したものである。ビニル化合物単量体は、ヒドロキシル基、カルボキシル基、エポキシ基、アミド基、アミノ基、メチロール基、スルホン酸基、スルファミン酸基、及び(亜)リン酸エステル基からなる官能基群の1種以上を有する官能基含有単量体を用いることが好ましい。
本発明で使用する(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、特に限定されないが、(メタ)アクリル酸エステルの主単量体と、その他のビニル化合物単量体を共重合したものである。ビニル化合物単量体は、ヒドロキシル基、カルボキシル基、エポキシ基、アミド基、アミノ基、メチロール基、スルホン酸基、スルファミン酸基、及び(亜)リン酸エステル基からなる官能基群の1種以上を有する官能基含有単量体を用いることが好ましい。
(メタ)アクリル酸エステルの主単量体としては、例えばブチル(メタ)アクリレート、2−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、ミリスチル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボロニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシメチル(メタ)アクリレート、及びエトキシ−n−プロピル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
官能基含有単量体としては、例えば官能基としてヒドロキシル基、カルボキシル基、エポキシ基、アミド基、アミノ基、メチロール基、スルホン酸基、スルファミン酸基、(亜)リン酸エステル基を有するビニル化合物が挙げられる。
ヒドロキシル基を有する単量体としては、例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、及び2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
カルボキシル基を有する単量体としては、例えば(メタ)アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、フマール酸、アクリルアミドN−グリコール酸、及びケイ皮酸等が挙げられる。
エポキシ基を有する単量体としては、例えばアリルグリシジルエーテル、及び(メタ)アクリル酸グリシジルエーテル等が挙げられる。
アミド基を有する単量体としては、例えば(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。
アミノ基を有する単量体としては、例えばN,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
メチロール基を有する単量体としては、例えばN−メチロールアクリルアミド等が挙げられる。
(メタ)アクリル酸エステル共重合体の製造方法は、乳化重合、溶液重合等の公知の方法が使用できる。放射線照射後に粘着テープが半導体部材と容易に剥離できるように、乳化重合により製造できるアクリルゴムが好ましい。
(多官能イソシアネート硬化剤)
多官能イソシアネート硬化剤はイソシアネート基を2個以上有する点以外に特に限定されず、例えば芳香族ポリイソシアネート、脂肪族ポリイソシアネート、脂環族ポリイソシアネート等が挙げられる。
多官能イソシアネート硬化剤はイソシアネート基を2個以上有する点以外に特に限定されず、例えば芳香族ポリイソシアネート、脂肪族ポリイソシアネート、脂環族ポリイソシアネート等が挙げられる。
芳香族ポリイソシアネートは特に限定されず、例えば1,3−フェニレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、4,4’−トルイジンジイソシアネート、2,4,6−トリイソシアネートトルエン、1,3,5−トリイソシアネートベンゼン、ジアニシジンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルエーテルジイソシアネート、4,4’,4”−トリフェニルメタントリイソシアネート、ω,ω’−ジイソシアネート−1,3−ジメチルベンゼン、ω,ω’−ジイソシアネート−1,4−ジメチルベンゼン、ω,ω’−ジイソシアネート−1,4−ジエチルベンゼン、1,4−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、及び1,3−テトラメチルキシリレンジイソシアネート等が挙げられる。
脂肪族ポリイソシアネートは特に限定されず、例えばトリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、1,2−プロピレンジイソシアネート、2,3−ブチレンジイソシアネート、1,3−ブチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネート、及び2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられる。
脂環族ポリイソシアネートは特に限定されず、例えば3−イソシアネートメチル−3,5,5−トリメチルシクロヘキシルイソシアネート、1,3−シクロペンタンジイソシアネート、1,3−シクロヘキサンジイソシアネート、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、メチル−2,4−シクロヘキサンジイソシアネート、メチル−2,6−シクロヘキサンジイソシアネート、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、1,4−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、及び1,4−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン等が挙げられる。
ポリイソシアネートのうち、1,3−フェニレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、4,4’−トルイジンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートが好適に用いられる。
多官能イソシアネート硬化剤の配合比は((メタ)アクリル酸エステル共重合体)100質量部に対して0.1質量部以上20質量部以下が好ましく、下限としては0.5質量部以上、上限としては10質量部以下がより好ましい。多官能イソシアネート硬化剤が0.1質量部以上であれば、粘着力が強すぎないので、ピックアップ不良の発生を抑制することができる。また、多官能イソシアネート硬化剤が20質量部以下であれば、粘着力が低下せず、液体浸漬時の転写工程における個片化された半導体部品の保持性が維持されるので好ましい。
(ビニル基を4個以上有するウレタンアクリレートオリゴマ)
ビニル基を4個以上有するウレタンアクリレートオリゴマ(以下、単に「ウレタンアクリレートオリゴマ」という。)とは、ビニル基を4個以上有し、分子内にウレタン結合を有する(メタ)アクリレートオリゴマであれば特に限定されない。
ビニル基を4個以上有するウレタンアクリレートオリゴマ(以下、単に「ウレタンアクリレートオリゴマ」という。)とは、ビニル基を4個以上有し、分子内にウレタン結合を有する(メタ)アクリレートオリゴマであれば特に限定されない。
ウレタンアクリレートオリゴマの製造方法は特に限定されないが、例えば水酸基と複数の(メタ)アクリレート基を含有する(メタ)アクリレート化合物と、複数のイソシアネート基を有する化合物(例えばジイソシアネート化合物)を反応させてウレタンアクリレートオリゴマとする方法が挙げられる。複数の水酸基末端を有するポリオールオリゴマに、複数のイソシアネート基を有する化合物(例えばジイソシアネート化合物)を過剰に添加して反応させて複数のイソシアネート末端を有するオリゴマとし、更に水酸基と複数の(メタ)アクリレート基を含有する(メタ)アクリレート化合物と反応させてウレタンアクリレートオリゴマとしてもよい。
水酸基と複数の(メタ)アクリレート基を含有する(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、ヒドロキシプロピル化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトール−ヒドロキシ−ペンタアクリレート、ビス(ペンタエリスリトール)−テトラアクリレート、テトラメチロールメタン−トリアクリレート、グリシドール−ジアクリレートや、これらのアクリレート基の一部又は全部をメタアクリレート基とした化合物等が挙げられる。
複数のイソシアネート基を有するイソシアネートとしては、例えば、芳香族イソシアネート、脂環族イソシアネート、及び脂肪族イソシアネート等が挙げられる。これらのイソシアネートのうち、複数のイソシアネート基を有する、芳香族イソシアネート又は脂環族イソシアネートが好適に用いられる。イソシアネート成分の形態としては単量体、二量体、三量体があり、三量体が好適に用いられる。
芳香族ジイソシアネートとしては、例えば、トリレンジイソシアネート、4,4−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネートなどがある。
脂環族ジイソシアネートとしては、例えば、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)などが挙げられる。
脂肪ジイソシアネートとしては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられる。
ポリオール成分としては、例えば、ポリ(プロピレンオキサイド)ジオール、ポリ(プロピレンオキサイド)トリオール、コポリ(エチレンオキサイド−プロピレンオキサイド)ジオール、ポリ(テトラメチレンオキサイド)ジオール、エトキシ化ビスフェノールA、エトキシ化ビスフェノールSスピログリコール、カプロラクトン変性ジオール、カーボネートジオール等が挙げられる。
ビニル基を有するウレタンアクリレートオリゴマのビニル基の数が4個以上であれば、放射線照射後の粘着テープの半導体部材からの剥離が容易なので、ピックアップ性を向上させることができる。
ビニル基を4個以上有するウレタンアクリレートオリゴマの配合量は特に限定されないが、(メタ)アクリル酸エステル共重合体100質量部に対して20質量部以上200質量部以下とすることが好ましい。ビニル基を4個以上有するウレタンアクリレートオリゴマの配合量が20質量部以上であれば、放射線照射後の粘着テープの半導体部材からの剥離が容易となり、ピックアップ性の問題の発生を抑制することができる。また、ビニル基を4個以上有するウレタンアクリレートオリゴマの配合量が200質量部以下であれば、液体への浸漬時の転写工程における個片化された半導体部品の保持性が維持されることができる。
(シリコーン変性アクリル樹脂)
シリコーン変性アクリル樹脂は、(メタ)アクリル単量体とポリジメチルシロキサン結合の末端にビニル基を有する単量体(以下、「シリコーン系マクロモノマ」という)の重合物であり、ポリジメチルシロキサン結合の末端にビニル基を有する単量体に由来する単量体単位を有する点以外は特に限定されず、例えばシリコーン系マクロモノマのホモポリマーや、シリコーン系マクロモノマと他のビニル化合物を重合してなるビニル重合体が挙げられる。シリコーン系マクロモノマは、ポリジメチルシロキサン結合の末端が(メタ)アクリロイル基またはスチリル基等のビニル基となっている化合物が好適に用いられる(例えば、特開2000−080135号公報等参照)。
シリコーン変性アクリル樹脂は、(メタ)アクリル単量体とポリジメチルシロキサン結合の末端にビニル基を有する単量体(以下、「シリコーン系マクロモノマ」という)の重合物であり、ポリジメチルシロキサン結合の末端にビニル基を有する単量体に由来する単量体単位を有する点以外は特に限定されず、例えばシリコーン系マクロモノマのホモポリマーや、シリコーン系マクロモノマと他のビニル化合物を重合してなるビニル重合体が挙げられる。シリコーン系マクロモノマは、ポリジメチルシロキサン結合の末端が(メタ)アクリロイル基またはスチリル基等のビニル基となっている化合物が好適に用いられる(例えば、特開2000−080135号公報等参照)。
(メタ)アクリル単量体としては、アルキル(メタ)アクリレートの他に、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、変性ヒドロキシ(メタ)アクリレート、及び(メタ)アクリル酸等が挙げられる。
アルキル(メタ)アクリレートとしては、例えばメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、及びイソボルニル(メタ)アクリレート、及びヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートとしては、例えばヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、及びヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
変性ヒドロキシ(メタ)アクリレートとしては、例えばエチレンオキシド変性ヒドロキシ(メタ2)アクリレート、及びラクトン変性ヒドロキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
(メタ)アクリル酸を用いた場合、シリコーン変性アクリル樹脂を合成した後、エポキシ基を有するグリシジル(メタ)アクリレート等を用いアクリル酸と反応させ、ビニル基を有する重合物を得る。
パーティクルと呼ばれる微小な糊残りを防止するため、反応性を有するヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、又は変性ヒドロキシ(メタ)アクリレート、及びビニル基を少なくとも一つ有するシリコーン変性アクリル樹脂が好適に用いられる。
シリコーン変性アクリル樹脂のシリコーン系マクロモノマ単位の割合は特に限定されないが、シリコーン変性アクリル樹脂100質量部中、シリコーン系マクロモノマ単位を15質量部以上50質量部以下とすることが好ましい。シリコーン系マクロモノマ単位の含有量が15質量部以上であれば、放射線照射後の粘着テープを半導体部材から容易に剥離でき、ピックアップ性を向上させることができる。また、シリコーン系マクロモノマ単位の含有量が50質量部以下であれば、液体への浸漬時の転写工程における個片化された半導体部品の保持性が維持されることができる。
シリコーン変性アクリル樹脂の配合量は特に限定されないが、(メタ)アクリル酸エステル重合体100質量部に対して0.1質量部以上10質量部以下とすることが好ましい。シリコーン変性アクリル樹脂の配合量が0.1質量部以上であれば、放射線照射後の粘着テープを半導体部材から容易に剥離でき、ピックアップ性を向上させることができる。また、シリコーン変性アクリル樹脂の配合量が10質量部以下であれば、液体への浸漬時の転写工程における個片化された半導体部品の保持性が維持されることができる。
粘着剤層には、例えば、重合開始剤、軟化剤、老化防止剤、充填剤、紫外線吸収剤、及び光安定剤等の各種添加剤を添加してもよい。
粘着剤層の厚みは特に限定されるものではないが、一般に5μm以上100μm以下程度であり、5μm以上40μm以下程度であるのが好ましい。
基材フィルム上に粘着剤層を形成して粘着テープとする方法は特に限定されず、例えばグラビアコーター、コンマコーター、バーコーター、ナイフコーター、又はロールコーター等のコーターで基材上に粘着剤を直接塗布する方法が挙げられる。凸版印刷、凹版印刷、平版印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、又はスクリーン印刷等で基材フィルム上に粘着剤層を印刷してもよい。
(接着性樹脂)
接着性樹脂は、その粘着力低下温度Xが粘着テープの収縮温度Yに対してX<Yの関係を備え、液体の温度Tより低い、X<T<Yの関係であることが必要であり、好ましくは、接着性樹脂が水と接触しても膨潤による半導体部材に対して位置ずれを生じさせないものが良い。具体的には、疎水性を有するか、水と接触しても大きく膨潤しないもの又は溶解しないものであるのが好ましい。この性質を有する接着性樹脂としては、アクリル系樹脂、ウレタン系接着剤、エポキシ系接着剤があり、アクリル系樹脂が好ましい。
接着性樹脂は、その粘着力低下温度Xが粘着テープの収縮温度Yに対してX<Yの関係を備え、液体の温度Tより低い、X<T<Yの関係であることが必要であり、好ましくは、接着性樹脂が水と接触しても膨潤による半導体部材に対して位置ずれを生じさせないものが良い。具体的には、疎水性を有するか、水と接触しても大きく膨潤しないもの又は溶解しないものであるのが好ましい。この性質を有する接着性樹脂としては、アクリル系樹脂、ウレタン系接着剤、エポキシ系接着剤があり、アクリル系樹脂が好ましい。
接着性樹脂は、さらに好ましくは、疎水性を有する(A)多官能(メタ)アクリレート、(B)単官能(メタ)アクリレート及び(C)重合開始剤からなるものが良い。より好ましくは、これらの配合を(A)多官能(メタ)アクリレートと(B)単官能(メタ)アクリレートの合計量100質量部に対して、(B)単官能(メタ)アクリレートを50〜97質量部、(C)重合開始剤0.1〜20質量部含有させたものがよい。
(A)多官能(メタ)アクリレートの添加量は、(A)多官能(メタ)アクリレート及び(B)単官能(メタ)アクリレートの合計量100質量部中、3〜50質量部が好ましい。(A)多官能(メタ)アクリレートの添加量が少ないと、接着性樹脂の硬化体を昇温した時に半導体部材から剥離する性質(以下、単に「剥離性」という)が発揮されない傾向にあり、多いと、初期の接着性が低下する傾向にあるためである。
((A)多官能(メタ)アクリレート)
(A)多官能(メタ)アクリレートとしては、オリゴマー/ポリマー末端又は側鎖に2個以上(メタ)アクロイル化された多官能(メタ)アクリレートオリゴマー/ポリマーや2個以上の(メタ)アクロイル基を有するモノマーを使用することができる。
(A)多官能(メタ)アクリレートとしては、オリゴマー/ポリマー末端又は側鎖に2個以上(メタ)アクロイル化された多官能(メタ)アクリレートオリゴマー/ポリマーや2個以上の(メタ)アクロイル基を有するモノマーを使用することができる。
多官能(メタ)アクリレートオリゴマー/ポリマーとしては、例えば、1,2−ポリブタジエン末端ウレタン(メタ)アクリレート(例えば、日本曹達社製TE−2000、TEA−1000)、1,2−ポリブタジエン末端ウレタン(メタ)アクリレート水素添加物(例えば、日本曹達社製TEAI−1000)、1,4−ポリブタジエン末端ウレタン(メタ)アクリレート(例えば、大阪有機化学社製BAC−45)、ポリイソプレン末端(メタ)アクリレート、ポリエステル系ウレタン(メタ)アクリート、ポリエーテル系ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ビスA型エポキシ(メタ)アクリレート(例えば、大阪有機化学社製ビスコート#540、昭和高分子社製ビスコートVR−77)が挙げられる。
2官能(メタ)アクリレートモノマーとして、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、2−エチル−2−ブチル−プロパンジオール(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリストールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシジエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシプロポキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシテトラエトキシフェニル)プロパン等が挙げられる。3官能(メタ)アクリレートモノマーとしては、トメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス[(メタ)アクリロイキシエチル]イソシアヌレート等が挙げられる。4官能以上の(メタ)アクリレートモノマーとしては、ジメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリストールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリストールヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる
((B)単官能(メタ)アクリレートモノマー)
(B)単官能(メタ)アクリレートモノマーとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニロキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、メトキシ化シクロデカトリエン(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、t−ブチルアミノエチル(メタ)アクリレート、エトキシカルボニルメチル(メタ)アクリレート、フェノールエチレンオキサイド変性アクリレート、フェノール(エチレンオキサイド2モル変性)アクリレート、フェノール(エチレンオキサイド4モル変性)アクリレート、パラクミルフェノールエチレンオキサイド変性アクリレート、ノニルフェノールエチレンオキサイド変性アクリレート、ノニルフェノール(エチレンオキサイド4モル変性)アクリレート、ノニルフェノール(エチレンオキサイド8モル変性)アクリレート、ノニルフェノール(プロピレンオキサイド2.5モル変性)アクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、エチレンオキシド変性フタル酸(メタ)アクリレ−ト、エチレンオキシド変性コハク酸(メタ)アクリレート、トリフロロエチル(メタ)アクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸ダイマー、β−(メタ)アクロイルオキシエチルハイドロジェンサクシネート、n−(メタ)アクリロイルオキシアルキルヘキサヒドロフタルイミド等が挙げられる。
(B)単官能(メタ)アクリレートモノマーとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニロキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、メトキシ化シクロデカトリエン(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、t−ブチルアミノエチル(メタ)アクリレート、エトキシカルボニルメチル(メタ)アクリレート、フェノールエチレンオキサイド変性アクリレート、フェノール(エチレンオキサイド2モル変性)アクリレート、フェノール(エチレンオキサイド4モル変性)アクリレート、パラクミルフェノールエチレンオキサイド変性アクリレート、ノニルフェノールエチレンオキサイド変性アクリレート、ノニルフェノール(エチレンオキサイド4モル変性)アクリレート、ノニルフェノール(エチレンオキサイド8モル変性)アクリレート、ノニルフェノール(プロピレンオキサイド2.5モル変性)アクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、エチレンオキシド変性フタル酸(メタ)アクリレ−ト、エチレンオキシド変性コハク酸(メタ)アクリレート、トリフロロエチル(メタ)アクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸ダイマー、β−(メタ)アクロイルオキシエチルハイドロジェンサクシネート、n−(メタ)アクリロイルオキシアルキルヘキサヒドロフタルイミド等が挙げられる。
(C)重合開始剤は、可視光線や紫外線の活性光線により増感させて接着性樹脂の光硬化を促進するために配合するものが好ましく、公知の各種光重合開始剤が使用可能である。
(C)重合開始剤の添加量は、(A)多官能(メタ)アクリレート及び(B)単官能(メタ)アクリレートとの合計100質量部に対して、0.1〜20質量部が好ましい。より好ましくは3〜20質量部である。0.1質量部以上であれば、硬化促進の効果が確実に得られるし、20質量部以下で充分な硬化速度を得ることができる。より好ましい形態として(C)成分を3質量部以上添加することで、光照射量に依存なく硬化可能となり、さらに接着性樹脂の硬化体の架橋度が高くなり、切削加工時に位置ずれ等を起こさなくなる点や剥離性が向上する点でより好ましい。
(C)重合開始剤としては、具体的にはベンゾフェノン及びその誘導体、ベンジル及びその誘導体、エントラキノン及びその誘導体、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン誘導体、ジエトキシアセトフェノン、4−t−ブチルトリクロロアセトフェノン等のアセトフェノン誘導体、2−ジメチルアミノエチルベンゾエート、p−ジメチルアミノエチルベンゾエート、ジフェニルジスルフィド、チオキサントン及びその誘導体、カンファーキノン、7,7−ジメチル−2,3−ジオキソビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−カルボン酸、7,7−ジメチル−2,3−ジオキソビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−カルボキシ−2−ブロモエチルエステル、7,7−ジメチル−2,3−ジオキソビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−カルボキシ−2−メチルエステル、7,7−ジメチル−2,3−ジオキソビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−カルボン酸クロライド等のカンファーキノン誘導体、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1等のα−アミノアルキルフェノン誘導体、ベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシポスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジメトキシフェニルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジエトキシフェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド誘導体等が挙げられる。光重合開始剤は1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明においては、極性有機溶媒を接着性樹脂中に共に用いても良い。極性有機溶媒を共に用いることにより、樹脂層が液体と接触して容易に膨潤し接着強度を低下させることができる。
極性有機溶媒の添加量は、(A)多官能(メタ)アクリレート及び(B)単官能(メタ)アクリレートとの合計量100質量部に対して、0.5〜10質量部が好ましい。0.5質量部以上であれば剥離性が確保でき、10質量部以下であれば、初期の接着性が低下する恐れもなく、接着性樹脂がフィルム状に剥離できる傾向にある。
極性有機溶媒は、接着性樹脂が液体と接触して接着強度が低下する現象をより一層確実に発現ため、その沸点を30℃以上200℃以下とするのが好ましい。このような極性有機溶媒としては、例えば、アルコール、ケトン、エステルがあり、好ましくはアルコールが良い。
アルコールとしては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、第二ブタノール、第三ブタノール、n−アミルアルコール、イソアミルアルコール、2−エチルブチルアルコール等が挙げられる。さらに、前記アルコールの中でも、好ましくは沸点が120℃以下であるメタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、第二ブタノール、第三ブタノールが好ましく、その中でもメタノ−ル、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノールが一層好ましい。
本発明においては、(A)多官能(メタ)アクリレート及び(B)単官能(メタ)アクリレート及び(C)重合開始剤に溶解しない粒状物質を共に用いても良い。これにより、樹脂層が一定の厚みを保持できるため、厚み精度が向上する。
粒状物質の添加量は、(A)多官能(メタ)アクリレート及び(B)単官能(メタ)アクリレートの合計量100質量部に対して、0.1〜20質量部が好ましく、特に0.1〜10質量部が好ましい。0.1質量部以上であれば接着性樹脂の膜厚がほぼ一定であり、20質量部以下であれば、初期の接着性が低下する恐れもない。
粒状物質の材質は、一般的に使用される有機粒子、無機粒子がある。具体的には、有機粒子としては、ポリエチレン粒子、ポリポリプロピレン粒子、架橋ポリメタクリル酸メチル粒子、架橋ポリスチレン粒子など挙げられ、無機粒子としては、ガラス、シリカ、アルミナ、チタンなどセラミック粒子が挙げられる。
粒状物質の材質は、接着性樹脂の膜厚を均一に制御する観点から、球状で粒径が一定であり、粒子の変形が少なく、粒径のバラツキが少ないものが好ましい。この条件を具備する好ましい有機粒子としては、メタクリル酸メチルモノマー、スチレンモノマーと架橋性モノマーとの公知の乳化重合法により単分散粒子として得られる架橋ポリメタクリル酸メチル粒子、架橋ポリスチレン粒子や無機粒子としては球状シリカがある。これら粒状物質の中でも、さらに粒子の沈降等の貯蔵安定性や組成物の反応性の観点から、架橋ポリメタクリル酸メチル粒子、架橋ポリスチレン粒子がより一層好ましい。
本発明の接着性樹脂は、本発明の目的を損なわない範囲で、一般に使用されているアクリルゴム、ウレタンゴム、ABS(アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンゴム)などの各種エラストマー、無機フィラー、溶剤、増量材、補強材、可塑剤、増粘剤、染料、顔料、難燃剤、重合禁止剤、シランカップリング剤及び界面活性剤等の添加剤を使用してもよい。
(接着性樹脂の塗布方法)
接着性樹脂の塗布方法は、バーコート、スプレーガン、スピンコートなどを採用できる。
接着性樹脂の塗布方法は、バーコート、スプレーガン、スピンコートなどを採用できる。
(剥がしテープ)
剥がしテープは、基材と粘着剤層から構成され、接着性樹脂・剥がしテープ間の粘着力は、半導体部材・接着性樹脂間の粘着力より高いものである。
剥がしテープは、基材と粘着剤層から構成され、接着性樹脂・剥がしテープ間の粘着力は、半導体部材・接着性樹脂間の粘着力より高いものである。
(剥がしテープの基材)
剥がしテープの基材としては、合成樹脂がよい。形状としてはフィルム、シートがある。基材の厚みは、50μm以上250μm以下が良い。より好ましい下限は70μmであり、より好ましい上限は150μmである。
剥がしテープの基材としては、合成樹脂がよい。形状としてはフィルム、シートがある。基材の厚みは、50μm以上250μm以下が良い。より好ましい下限は70μmであり、より好ましい上限は150μmである。
合成樹脂としては、PVC(ポリ塩化ビニル)、ポリエチレン、PET(ポリエチレンテレフタレート)、EVA(エチレン−酢酸ビニル共重合体)、エチレン−エチルアクリレート共重合体、ポリプロピレン、プロピレン系共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、アイオノマ樹脂、ポリイミドがあり、この中で、EVA(エチレン−酢酸ビニル共重合体)エチレン−エチルアクリレート共重合体が好ましい。基材として、これら合成樹脂の混合物、共重合体、合成樹脂同士の積層体であってもよい。
(剥がしテープの粘着剤)
粘着剤としては、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤などがよく、アクリル系粘着剤が好ましい。アクリル系粘着剤としては、アクリル酸、メタクリル酸及びそれらのエステルモノマーを重合させたポリマー、これらモノマーと共重合可能な不飽和単量体(例えば、酢酸ビニル、スチレン、アクリロニトリル)とを共重合させたコポリマーがあり、これら粘着剤のうち(メタ)アクリル酸エステル共重合体が好ましい。粘着剤層には、紫外線又は放射線のいずれか又は照射によって三次元網状化しうる分子内に光重合性炭素−炭素二重結合を分子内に少なくとも2個以上有する低分子量化合物、例えばアクリレート化合物又はウレタンアクリレートオリゴマ等を用いた光硬化型感圧性粘着剤も採用できる。
粘着剤としては、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤などがよく、アクリル系粘着剤が好ましい。アクリル系粘着剤としては、アクリル酸、メタクリル酸及びそれらのエステルモノマーを重合させたポリマー、これらモノマーと共重合可能な不飽和単量体(例えば、酢酸ビニル、スチレン、アクリロニトリル)とを共重合させたコポリマーがあり、これら粘着剤のうち(メタ)アクリル酸エステル共重合体が好ましい。粘着剤層には、紫外線又は放射線のいずれか又は照射によって三次元網状化しうる分子内に光重合性炭素−炭素二重結合を分子内に少なくとも2個以上有する低分子量化合物、例えばアクリレート化合物又はウレタンアクリレートオリゴマ等を用いた光硬化型感圧性粘着剤も採用できる。
粘着剤層には、例えば、重合開始剤、軟化剤、老化防止剤、充填剤、紫外線吸収剤、及び光安定剤等の各種添加剤を添加してもよい。
粘着剤層の厚みは特に限定されるものではないが、一般に5μm以上100μm以下程度であり、下限として5μm、上限として40μmであるのが好ましい。
基材フィルム上に粘着剤層を形成して粘着テープとする方法は特に限定されず、例えばグラビアコーター、コンマコーター、バーコーター、ナイフコーター、又はロールコーター等のコーターで基材上に粘着剤を直接塗布する方法が挙げられる。凸版印刷、凹版印刷、平版印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、又はスクリーン印刷等で基材フィルム上に粘着剤層を印刷してもよい。
(固定用冶具)
固定用冶具としては、半導体部材を接着性樹脂を介して固定するものであるので、半導体部材が板状であれば、平滑な材料がよく、板状体又はフィルム状体の単独または2種以上の積層体を採用できる。固定用冶具の素材は、ステンレス、アルミニウム、鉄等の金属板状体、アクリル、ポリカーボネート、ABS(アクリロニトリルブタジエンスチレン)、PET、ナイロン、ウレタン、ポリイミド、ポリオレフィンやPVC等の合成樹脂、ガラス、セラミックス等がある。本発明にあっては、固定用冶具は、365nmの波長を20%以上透過するものが好ましい。365nmの波長を20%以上透過するものであるならば接着性樹脂を硬化させるのに時間が掛かりすぎることもなく良好である。固定用冶具の厚さは、上記条件を満足するものであれば特に限定されないが、100μm〜10mmが好ましく、さらには2〜5mmが好ましい。透過率の測定は、測定機器としてトプコン社製UVR−2を採用し、波長365nmの透過率に基づく。
固定用冶具としては、半導体部材を接着性樹脂を介して固定するものであるので、半導体部材が板状であれば、平滑な材料がよく、板状体又はフィルム状体の単独または2種以上の積層体を採用できる。固定用冶具の素材は、ステンレス、アルミニウム、鉄等の金属板状体、アクリル、ポリカーボネート、ABS(アクリロニトリルブタジエンスチレン)、PET、ナイロン、ウレタン、ポリイミド、ポリオレフィンやPVC等の合成樹脂、ガラス、セラミックス等がある。本発明にあっては、固定用冶具は、365nmの波長を20%以上透過するものが好ましい。365nmの波長を20%以上透過するものであるならば接着性樹脂を硬化させるのに時間が掛かりすぎることもなく良好である。固定用冶具の厚さは、上記条件を満足するものであれば特に限定されないが、100μm〜10mmが好ましく、さらには2〜5mmが好ましい。透過率の測定は、測定機器としてトプコン社製UVR−2を採用し、波長365nmの透過率に基づく。
本発明の半導体部材製造方法における実施例について、図を用いて説明する。
本実施例における半導体部材製造方法は、個片化工程、貼合工程、転写工程、ピックアップ工程を有するものである。以下、個々の工程について説明する。なお、図1から図10は、模式的に示したもので、実際の縮尺とは異なるものである。
本実施例における半導体部材製造方法は、個片化工程、貼合工程、転写工程、ピックアップ工程を有するものである。以下、個々の工程について説明する。なお、図1から図10は、模式的に示したもので、実際の縮尺とは異なるものである。
<個片化工程>
個片化工程は、直径8インチ、厚み725μmの半導体部材1としてのシリコンウエハに、接着性樹脂2をスピンコートにより20μm塗布し、さらに厚さ700μmの固定用冶具3としてのガラス板を貼り合わせ、均一な面がでるように10kgを加重し、ブラックライトを用いて、365nm波長で300mJ/cm2の条件にて接着性樹脂を硬化させ、その後、ダイシングしたものである。ダイシングは、DISCO社製DAD341(図示省略)、ダイシングブレードDISCO社製NBC−ZH205O−27HEEE(図示省略)を用い、7.2mm×14.4mmのチップサイズで行った。ガラス板は波長365nmの光を80%透過するものである。個片化工程後の状態を図1に示す。
個片化工程は、直径8インチ、厚み725μmの半導体部材1としてのシリコンウエハに、接着性樹脂2をスピンコートにより20μm塗布し、さらに厚さ700μmの固定用冶具3としてのガラス板を貼り合わせ、均一な面がでるように10kgを加重し、ブラックライトを用いて、365nm波長で300mJ/cm2の条件にて接着性樹脂を硬化させ、その後、ダイシングしたものである。ダイシングは、DISCO社製DAD341(図示省略)、ダイシングブレードDISCO社製NBC−ZH205O−27HEEE(図示省略)を用い、7.2mm×14.4mmのチップサイズで行った。ガラス板は波長365nmの光を80%透過するものである。個片化工程後の状態を図1に示す。
<貼合工程>
貼合工程は、無電極放電ランプを使用したフュージョン社製硬化装置(図示省略)により、365nm波長で16000mJ/cm2の条件にて接着性樹脂を更に硬化させた後、個片化工程後の半導体部材1としての分割したチップ面にリングフレーム5を介して粘着テープ4をロールマウンター用いて貼り合わせたものである。貼合工程後の状態を図2に示す。
貼合工程は、無電極放電ランプを使用したフュージョン社製硬化装置(図示省略)により、365nm波長で16000mJ/cm2の条件にて接着性樹脂を更に硬化させた後、個片化工程後の半導体部材1としての分割したチップ面にリングフレーム5を介して粘着テープ4をロールマウンター用いて貼り合わせたものである。貼合工程後の状態を図2に示す。
<転写工程>
転写工程は、貼合工程後の状態のまま、90℃の温水6に浸漬した後、半導体部材1から接着性樹脂2及び固定用冶具3を自由落下させ剥離させたものである。図3に浸漬した状態、図4に自由落下後の状態を示す。この転写工程における温水6の温度を90℃にして、接着性樹脂2の接着力低下温度Xを90℃より低く設定し、粘着テープ4の熱収縮温度Yを90℃より高く設定したものであり、これにより、半導体部材1と粘着テープ4の界面、接着性樹脂2と固定用冶具3の界面でなく、半導体部材1と接着性樹脂2の界面で剥離させることができた。なお、図3における符号7はリングフレーム5を支える支柱、符号9は温水6を入れた容器である。
転写工程は、貼合工程後の状態のまま、90℃の温水6に浸漬した後、半導体部材1から接着性樹脂2及び固定用冶具3を自由落下させ剥離させたものである。図3に浸漬した状態、図4に自由落下後の状態を示す。この転写工程における温水6の温度を90℃にして、接着性樹脂2の接着力低下温度Xを90℃より低く設定し、粘着テープ4の熱収縮温度Yを90℃より高く設定したものであり、これにより、半導体部材1と粘着テープ4の界面、接着性樹脂2と固定用冶具3の界面でなく、半導体部材1と接着性樹脂2の界面で剥離させることができた。なお、図3における符号7はリングフレーム5を支える支柱、符号9は温水6を入れた容器である。
<ピックアップ工程>
転写工程後、リングフレーム5に接着されている粘着テープ4を半導体部材1ごと引き上げ(図5参照)、粘着テープ4の基材フィルム面側(図5の下側)からウシオ電機社製高圧水銀灯にて150mJ/cm2の条件にて紫外線を照射し、粘着テープ4の粘着剤層を硬化させた後、図示外のキヤノンマシナリー製CAP-300IIを用い、ニードルピンハイト0.3mmの条件で行った。ピックアップ時の状態を図6に示す。
転写工程後、リングフレーム5に接着されている粘着テープ4を半導体部材1ごと引き上げ(図5参照)、粘着テープ4の基材フィルム面側(図5の下側)からウシオ電機社製高圧水銀灯にて150mJ/cm2の条件にて紫外線を照射し、粘着テープ4の粘着剤層を硬化させた後、図示外のキヤノンマシナリー製CAP-300IIを用い、ニードルピンハイト0.3mmの条件で行った。ピックアップ時の状態を図6に示す。
図7は他の実施例の転写工程を示す断面の模式図である。
この実施例は、半導体部材1を、その表面(接着性樹脂2との接触面)にポリイミド蒸着膜(図示省略)を形成したシリコンウエハに変更した以外は前述の実施例と同じ構成である。本実施例にあっては、半導体部材1の表面(接着性樹脂2との接触面)にポリイミド蒸着膜を形成したシリコンウエハにしたため、転写工程において半導体部材1と粘着テープ4の界面、接着性樹脂2と固定用冶具3の界面でなく、接着性樹脂2と固定用冶具3の界面で剥離させたものである。
この実施例は、半導体部材1を、その表面(接着性樹脂2との接触面)にポリイミド蒸着膜(図示省略)を形成したシリコンウエハに変更した以外は前述の実施例と同じ構成である。本実施例にあっては、半導体部材1の表面(接着性樹脂2との接触面)にポリイミド蒸着膜を形成したシリコンウエハにしたため、転写工程において半導体部材1と粘着テープ4の界面、接着性樹脂2と固定用冶具3の界面でなく、接着性樹脂2と固定用冶具3の界面で剥離させたものである。
この転写工程後、図8に示す温水6から引き上げた状態から、剥がしテープ8を接着性樹脂2の表面に貼り(図9参照)、剥がしテープ8を接着性樹脂2ごと引き剥がした(図10参照)。その後は、図5、図6に示したとおりである。
以下、上述の実施例で用いた粘着テープ、接着性樹脂について、表1を用いて説明する。
(粘着テープ)
粘着テープは、次の基材を用いた。
基材A:プロピレン系共重合体(プロピレン、エチレン、1−ブテンを重合成分として含有、MFR(メルトフローレート)値7.5g/10分、密度0.89g/cm3(サンアロマー社製、X500F))。厚さ80μm。
基材B:エチレンと酢酸ビニルのランダム共重合体(MFR値2.5g/10分、酢酸ビニル含有量12%、密度0.93g/cm3(三井デュポンポリケミカル社製)。厚さ80μm。
基材C:PET、厚さ38μm。
粘着テープは、次の基材を用いた。
基材A:プロピレン系共重合体(プロピレン、エチレン、1−ブテンを重合成分として含有、MFR(メルトフローレート)値7.5g/10分、密度0.89g/cm3(サンアロマー社製、X500F))。厚さ80μm。
基材B:エチレンと酢酸ビニルのランダム共重合体(MFR値2.5g/10分、酢酸ビニル含有量12%、密度0.93g/cm3(三井デュポンポリケミカル社製)。厚さ80μm。
基材C:PET、厚さ38μm。
(粘着テープの粘着剤)
粘着剤として次のものを採用した。表1中の数字は質量部である。
(メタ)アクリル酸エステル共重合体:エチルアクリレート54%、ブチルアクリレート19%、メトキシエチルアクリレート24%の共重合体からなり、乳化重合により得られたもの(当社重合品)。
多官能イソシアネート硬化剤:ヘキサメチレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体の市販品(日本ポリウレタン社製、製品名コロネートHL)。
ウレタンアクリレートオリゴマA:ポリ(プロピレンオキサイド)ジオールの末端にヘキサメチレンジイソシアネート(脂肪族ジイソシアネート)の三量体を反応させてなる末端イソシアネートオリゴマに、更にジペタエリスリトールペンタアクリレートを反応させてなる末端アクリレートオリゴマであって、数平均分子量(Mn)が3,700でアクリレート官能基数15個のウレタンアクリレートオリゴマ(当社重合品)。
ウレタンアクリレートオリゴマB:ポリ(プロピレンオキサイド)ジオールの末端に2−ヒドロキシエチルアクリレートを反応させてなる末端イソシアネートオリゴマに、更に2−ヒドロキシエチルアクリレートを反応させてなる末端アクリレートオリゴマであって、数平均分子量(Mn)が3,400、ビニル基数は1分子あたり2個のウレタンアクリレートオリゴマ(当社重合品)。
シリコーン変性アクリル樹脂:シリコーン分子鎖の末端に(メタ)アクリロイル基を有するシリコーン系オリゴマ、及びメチルメタアクリレート等からなるアクリルビニル単位を重合してなるシリコーン系グラフト共重合体の市販品(綜研化学社製、製品名アクトフローUTMM−LS2)。
表1には記載しなかったが、粘着テープの粘着剤には、光重合開始剤(ベンジルジメチルケタール、市販品)を6質量部配合した。
粘着剤として次のものを採用した。表1中の数字は質量部である。
(メタ)アクリル酸エステル共重合体:エチルアクリレート54%、ブチルアクリレート19%、メトキシエチルアクリレート24%の共重合体からなり、乳化重合により得られたもの(当社重合品)。
多官能イソシアネート硬化剤:ヘキサメチレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体の市販品(日本ポリウレタン社製、製品名コロネートHL)。
ウレタンアクリレートオリゴマA:ポリ(プロピレンオキサイド)ジオールの末端にヘキサメチレンジイソシアネート(脂肪族ジイソシアネート)の三量体を反応させてなる末端イソシアネートオリゴマに、更にジペタエリスリトールペンタアクリレートを反応させてなる末端アクリレートオリゴマであって、数平均分子量(Mn)が3,700でアクリレート官能基数15個のウレタンアクリレートオリゴマ(当社重合品)。
ウレタンアクリレートオリゴマB:ポリ(プロピレンオキサイド)ジオールの末端に2−ヒドロキシエチルアクリレートを反応させてなる末端イソシアネートオリゴマに、更に2−ヒドロキシエチルアクリレートを反応させてなる末端アクリレートオリゴマであって、数平均分子量(Mn)が3,400、ビニル基数は1分子あたり2個のウレタンアクリレートオリゴマ(当社重合品)。
シリコーン変性アクリル樹脂:シリコーン分子鎖の末端に(メタ)アクリロイル基を有するシリコーン系オリゴマ、及びメチルメタアクリレート等からなるアクリルビニル単位を重合してなるシリコーン系グラフト共重合体の市販品(綜研化学社製、製品名アクトフローUTMM−LS2)。
表1には記載しなかったが、粘着テープの粘着剤には、光重合開始剤(ベンジルジメチルケタール、市販品)を6質量部配合した。
粘着剤は、(メタ)アクリル酸エステル共重合体A100質量部、多官能イソシアネート硬化剤A3質量部、ウレタンアクリレートオリゴマA100質量部、シリコーン変性アクリル樹脂A2質量部、光重合開始剤6質量部を配合したものである。
粘着テープは、表1記載の配合の粘着剤をPET製のセパレーターフィルム上に塗布し、乾燥後の粘着剤層の厚みが10μmとなるように塗工し、基材に積層したものである。
(接着性樹脂)
接着性樹脂は、(A)多官能(メタ)アクリレート、(B)単官能(メタ)アクリレート及び(C)重合開始剤を配合したものを採用した。具体的には、(A)多官能(メタ)アクリレートとして、ウレタンアクリレート(日本合成化学社製「UV−3000B」)8質量部、ジシクロペンタニルジアクリレート(日本化薬社製「KAYARAD R−684」)12質量部の合計20質量部、(B)単官能(メタ)アクリレートとして、2−(1,2−シクロヘキサカルボキシイミド)エチルアクリレート(東亜合成社製「アロニックスM−140」)30質量部、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート(ローム&ハース社製「QM−657」)50質量部の合計80質量部、(C)重合開始剤として2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「IRGACURE907」)2質量部、重合禁止剤として2,2−メチレン−ビス(4−メチル−6−ターシャリーブチルフェノール)0.1質量部を添加して接着性樹脂を作成した。
接着性樹脂は、(A)多官能(メタ)アクリレート、(B)単官能(メタ)アクリレート及び(C)重合開始剤を配合したものを採用した。具体的には、(A)多官能(メタ)アクリレートとして、ウレタンアクリレート(日本合成化学社製「UV−3000B」)8質量部、ジシクロペンタニルジアクリレート(日本化薬社製「KAYARAD R−684」)12質量部の合計20質量部、(B)単官能(メタ)アクリレートとして、2−(1,2−シクロヘキサカルボキシイミド)エチルアクリレート(東亜合成社製「アロニックスM−140」)30質量部、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート(ローム&ハース社製「QM−657」)50質量部の合計80質量部、(C)重合開始剤として2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「IRGACURE907」)2質量部、重合禁止剤として2,2−メチレン−ビス(4−メチル−6−ターシャリーブチルフェノール)0.1質量部を添加して接着性樹脂を作成した。
(剥がしテープ)
剥がしテープは、次の基材、粘着剤を用いた。
基材:エチレンと酢酸ビニルのランダム共重合体(MFR値2.5g/10分、酢酸ビニル含有量12%、密度0.93g/cm3、三井デュポンポリケミカル社製)を厚さ100μmに形成したものを採用した。
粘着剤:次の配合素材を配合したものであり、この粘着剤をPET製のセパレーターフィルム上に塗布し乾燥後の粘着剤層の厚みが20μmとなるように塗工し、基材に積層したもの。
<配合素材>
(メタ)アクリル酸エステル共重合体:エチルアクリレート54%、ブチルアクリレート19%、メトキシエチルアクリレート24%の共重合体であり、乳化重合により得られたもの(当社重合品)100質量部
多官能イソシアネート硬化剤:2,4−トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体の市販品(日本ポリウレタン社製、製品名コロネートHL)3質量部
ウレタンアクリレートオリゴマ:ポリ(プロピレンオキサイド)ジオールの末端にヘキサメチレンジイソシアネート(脂肪族ジイソシアネート)の三量体を反応させてなる末端イソシアネートオリゴマに、更にジペタエリスリトールペンタアクリレートを反応させてなる末端アクリレートオリゴマであって、数平均分子量(Mn)が3,700でアクリレート官能基数15個のウレタンアクリレートオリゴマ(当社重合品)100質量部
光重合開始剤:ベンジルジメチルケタール(市販品)6質量部
剥がしテープは、次の基材、粘着剤を用いた。
基材:エチレンと酢酸ビニルのランダム共重合体(MFR値2.5g/10分、酢酸ビニル含有量12%、密度0.93g/cm3、三井デュポンポリケミカル社製)を厚さ100μmに形成したものを採用した。
粘着剤:次の配合素材を配合したものであり、この粘着剤をPET製のセパレーターフィルム上に塗布し乾燥後の粘着剤層の厚みが20μmとなるように塗工し、基材に積層したもの。
<配合素材>
(メタ)アクリル酸エステル共重合体:エチルアクリレート54%、ブチルアクリレート19%、メトキシエチルアクリレート24%の共重合体であり、乳化重合により得られたもの(当社重合品)100質量部
多官能イソシアネート硬化剤:2,4−トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体の市販品(日本ポリウレタン社製、製品名コロネートHL)3質量部
ウレタンアクリレートオリゴマ:ポリ(プロピレンオキサイド)ジオールの末端にヘキサメチレンジイソシアネート(脂肪族ジイソシアネート)の三量体を反応させてなる末端イソシアネートオリゴマに、更にジペタエリスリトールペンタアクリレートを反応させてなる末端アクリレートオリゴマであって、数平均分子量(Mn)が3,700でアクリレート官能基数15個のウレタンアクリレートオリゴマ(当社重合品)100質量部
光重合開始剤:ベンジルジメチルケタール(市販品)6質量部
(固定用冶具)
固定用冶具は、波長365nmの光を80%透過する厚さ700μmのガラス板を使用した。
固定用冶具は、波長365nmの光を80%透過する厚さ700μmのガラス板を使用した。
粘着テープ、接着性樹脂、剥がしテープ、固定用冶具及び半導体部材としてシリコンウエハを用い、以下に示す方法で本発明の転写工程を実施し、評価した。評価結果を表1に示す。なお、実施例21のみ、剥がしテープを使用し、個片化された半導体部材から接着性樹脂を剥離した。
(剥離性)
直径8インチ、厚み725μmのシリコンウエハに接着性樹脂をスピンコートにより20μm塗布、厚さ700μmのガラス板を貼り合わせ、均一な面がでるように10kgを加重する。その後、ブラックライトを用いて、365nm波長で300mJ/cm2の条件にて接着性樹脂を硬化させる。ダイシングは、DISCO社製DAD341、ダイシングブレードDISCO社製NBC−ZH205O−27HEEEを用い、7.2mm×14.4mmのチップサイズで行い、無電極放電ランプを使用したフュージョン社製硬化装置により、365nm波長で16000mJ/cm2の条件にて接着性樹脂を更に硬化させた後、分割したチップ面にリングフレームを介して粘着テープをロールマウンター用いて貼り合わせ、90℃の液体に半導体部材を下向きにして浸漬し、半導体部材から接着性樹脂およびガラスを固定用冶具から自由落下させ剥離させた。剥離時に接着性樹脂およびガラスからチップが1分以内に剥離できたものを◎、30分以内に剥離できたものを○、30分以上で剥離できなかった場合を×とした。尚、90℃の液体に半導体部材を下向きにして浸漬した際、ガラスだけが半導体部材から剥離し、半導体部材上に接着性樹脂が付着した場合、乾燥後、接着性樹脂に剥がしテープを貼り合わせ、個片化された半導体部材から剥がしテープを接着性樹脂ごと剥離した。
直径8インチ、厚み725μmのシリコンウエハに接着性樹脂をスピンコートにより20μm塗布、厚さ700μmのガラス板を貼り合わせ、均一な面がでるように10kgを加重する。その後、ブラックライトを用いて、365nm波長で300mJ/cm2の条件にて接着性樹脂を硬化させる。ダイシングは、DISCO社製DAD341、ダイシングブレードDISCO社製NBC−ZH205O−27HEEEを用い、7.2mm×14.4mmのチップサイズで行い、無電極放電ランプを使用したフュージョン社製硬化装置により、365nm波長で16000mJ/cm2の条件にて接着性樹脂を更に硬化させた後、分割したチップ面にリングフレームを介して粘着テープをロールマウンター用いて貼り合わせ、90℃の液体に半導体部材を下向きにして浸漬し、半導体部材から接着性樹脂およびガラスを固定用冶具から自由落下させ剥離させた。剥離時に接着性樹脂およびガラスからチップが1分以内に剥離できたものを◎、30分以内に剥離できたものを○、30分以上で剥離できなかった場合を×とした。尚、90℃の液体に半導体部材を下向きにして浸漬した際、ガラスだけが半導体部材から剥離し、半導体部材上に接着性樹脂が付着した場合、乾燥後、接着性樹脂に剥がしテープを貼り合わせ、個片化された半導体部材から剥がしテープを接着性樹脂ごと剥離した。
(転写性)
上記方法で転写させたチップの間隔を縦方向、横方向で各1列測定し、転写前のチップ間隔と比較した。転写前のチップ間隔からの最大変動量が10μm未満のものを◎、10μm以上20μm未満のものを○、20μm以上のものを×とした。
上記方法で転写させたチップの間隔を縦方向、横方向で各1列測定し、転写前のチップ間隔と比較した。転写前のチップ間隔からの最大変動量が10μm未満のものを◎、10μm以上20μm未満のものを○、20μm以上のものを×とした。
(ピックアップ性)
上記方法で転写させた後、粘着テープの基材フィルム面からウシオ電機社製高圧水銀灯にて150mJ/cm2の条件にて紫外線を照射し、粘着剤層を硬化させた後、キヤノンマシナリー製CAP-300IIを用い、ニードルピンハイト0.3mmの条件で評価を行い、チップを100%ピックアップできた場合を◎、90%以上100%未満の場合を○、90%未満の場合を×とした。
上記方法で転写させた後、粘着テープの基材フィルム面からウシオ電機社製高圧水銀灯にて150mJ/cm2の条件にて紫外線を照射し、粘着剤層を硬化させた後、キヤノンマシナリー製CAP-300IIを用い、ニードルピンハイト0.3mmの条件で評価を行い、チップを100%ピックアップできた場合を◎、90%以上100%未満の場合を○、90%未満の場合を×とした。
本発明の半導体部材製造方法により、剥離性、転写性及ピックアップ性に優れた半導体部材製造方法を提供する。
1 半導体部材
2 接着性樹脂
3 固定用冶具
4 粘着テープ
5 リングフレーム
6 温水
7 支柱
8 剥がしテープ
9 容器
2 接着性樹脂
3 固定用冶具
4 粘着テープ
5 リングフレーム
6 温水
7 支柱
8 剥がしテープ
9 容器
本発明は、半導体部材に接着性樹脂を塗布し固定用冶具に仮固定した後、半導体部材を個片化する個片化工程と、個片化された半導体部材に粘着テープを貼り合わせる貼合工程と、個片化された半導体部材から接着性樹脂と固定用冶具を剥離して半導体部材を粘着テープに転写する転写工程と、粘着テープ上の個片化された半導体部材をピックアップするピックアップ工程を有し、転写工程が接着性樹脂の粘着力低下温度Xと、粘着テープの熱収縮温度Yの間の温度域の液体に浸漬させる半導体部材製造方法である。
転写工程において、上から粘着テープ、半導体部材、接着性樹脂、固定用冶具という配置にして液体に浸漬させることが好ましい。この配置のまま浸漬させることにより、接着性樹脂は固定冶具との自重と接着性樹脂の接着力の低下によって剥離させることができる。この配置による剥離を採用することによって、自重による自由落下なため、接着性樹脂付きの固定用冶具剥離時の負荷を抑制し、粘着テープへ個片化された半導体部材を移し替える際の個片化された半導体部材同士の間隔を変動させることなく、液体への浸漬時の個片化された半導体部材の割れ、欠けを防止することができるとともに、接着性樹脂への液体の浸透を促進し、転写時間を短縮することができた。接着性樹脂の接着力によっては、転写工程での剥離界面は、半導体部材・接着性樹脂間、又は接着性樹脂・固定用冶具間の2種類がある。後者の場合、接着性樹脂に剥がしテープを貼り合わせ、個片化された半導体部材から剥がしテープを接着性樹脂ごと剥離する。
(粘着テープ)
粘着テープは、基材と粘着剤層から構成され、接着性樹脂の接着力低下温度より高い温度でも粘着テープの熱収縮をしないものである。
粘着テープは、基材と粘着剤層から構成され、接着性樹脂の接着力低下温度より高い温度でも粘着テープの熱収縮をしないものである。
(接着性樹脂)
接着性樹脂は、その接着力低下温度Xが粘着テープの収縮温度Yに対してX<Yの関係を備え、液体の温度Tより低い、X<T<Yの関係であることが必要であり、好ましくは、接着性樹脂が水と接触しても膨潤による半導体部材に対して位置ずれを生じさせないものが良い。具体的には、疎水性を有するか、水と接触しても大きく膨潤しないもの又は溶解しないものであるのが好ましい。この性質を有する接着性樹脂としては、アクリル系樹脂、ウレタン系接着剤、エポキシ系接着剤があり、アクリル系樹脂が好ましい。
接着性樹脂は、その接着力低下温度Xが粘着テープの収縮温度Yに対してX<Yの関係を備え、液体の温度Tより低い、X<T<Yの関係であることが必要であり、好ましくは、接着性樹脂が水と接触しても膨潤による半導体部材に対して位置ずれを生じさせないものが良い。具体的には、疎水性を有するか、水と接触しても大きく膨潤しないもの又は溶解しないものであるのが好ましい。この性質を有する接着性樹脂としては、アクリル系樹脂、ウレタン系接着剤、エポキシ系接着剤があり、アクリル系樹脂が好ましい。
Claims (7)
- 半導体部材に接着性樹脂を塗布し固定用冶具に仮固定した後、半導体部材を個片化する個片化工程と、
個片化された半導体部材に粘着テープを貼り合わせる貼合工程と、
個片化された半導体部材から接着性樹脂と固定用冶具を剥離して半導体部材を粘着テープに転写する転写工程と、
粘着テープ上の個片化された半導体部材をピックアップするピックアップ工程を有し、
転写工程が接着性樹脂の接着力低下温度Xと、粘着テープの熱収縮温度Yの間の温度域の液体に浸漬させる半導体部材製造方法。 - 転写工程で用いる液体の温度が40℃以上100℃以下である請求項1記載の半導体部材製造方法。
- 転写工程が、上から粘着テープ、半導体部材、接着性樹脂、固定用冶具という配置にし、この配置のまま液体に浸漬させる工程である請求項1又は2記載の半導体部材製造方法。
- 転写工程が、上から粘着テープ、半導体部材、接着性樹脂、固定用冶具という配置であり、この配置のまま液体に浸漬させ、半導体部材を粘着テープを介して液体中に浮かせることによって、固定用冶具を接着性樹脂ごと自由落下させる工程である請求項3記載の半導体部材製造方法。
- 半導体部材に接着性樹脂を塗布し固定用冶具に仮固定した後、半導体部材を個片化する個片化工程と、
個片化された半導体部材に粘着テープを貼り合わせる貼合工程と、
半導体部材を粘着テープに転写する転写工程と、
接着性樹脂から固定用冶具を剥離する剥離工程と、
接着性樹脂に剥がしテープを貼り合わせる第二貼り合わせ工程と、
個片化された半導体部材から剥がしテープを接着性樹脂ごと剥離する第二剥離工程と、
粘着テープ上の個片化された半導体部材をピックアップするピックアップ工程を有し、
転写工程が接着性樹脂の接着力低下温度Xと、粘着テープの熱収縮温度Yの間の温度域の液体に浸漬させる半導体部材製造方法。 - 粘着テープの基材フィルムが、プロピレン系共重合体である請求項1ないし5のいずれか記載の半導体部材製造方法。
- 粘着テープの粘着剤層が、(メタ)アクリル酸エステル共重合体100質量部、多官能イソシアネート系硬化剤0.5質量部以上20質量部以下、ビニル基を4個以上有するウレタンアクリレートオリゴマ20質量部以上200質量部以下、及びシリコーン変性アクリル樹脂0.1質量部以上10質量部以下、を含有することを特徴とする請求項1ないし6のいずれか記載の半導体部材製造方法。
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---|---|---|---|---|
JP2013135146A (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-08 | Hitachi Chemical Co Ltd | ダイシング・ダイボンディング一体型テープ |
KR20160019421A (ko) * | 2013-06-14 | 2016-02-19 | 덴카 주식회사 | 반도체 검사용 내열성 점착 시트 |
WO2017179439A1 (ja) * | 2016-04-15 | 2017-10-19 | デンカ株式会社 | 半導体加工用粘着テープ、及びそれを用いた半導体チップ又は半導体部品の製造方法 |
JP2021031594A (ja) * | 2019-08-26 | 2021-03-01 | 三菱ケミカル株式会社 | 活性エネルギー線硬化性剥離型粘着剤組成物および剥離型粘着シート |
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JP3438369B2 (ja) * | 1995-01-17 | 2003-08-18 | ソニー株式会社 | 部材の製造方法 |
JP3398245B2 (ja) * | 1995-02-16 | 2003-04-21 | 三井化学株式会社 | 半導体ウエハ表面保護用粘着テープの使用方法 |
JPH09326380A (ja) * | 1996-06-06 | 1997-12-16 | Toagosei Co Ltd | 基材表面上のパーティクルの除去方法 |
JPH10240439A (ja) * | 1997-02-28 | 1998-09-11 | Canon Inc | マウスパッド作成用記録媒体、これを含むマウスパッド作成用キット及びこれを用いたマウスパッドの作成方法 |
TWI241674B (en) * | 2001-11-30 | 2005-10-11 | Disco Corp | Manufacturing method of semiconductor chip |
JP2005116610A (ja) * | 2003-10-03 | 2005-04-28 | Nitto Denko Corp | 半導体ウエハの加工方法および半導体ウエハ加工用粘着シート |
JP2007291147A (ja) * | 2005-04-19 | 2007-11-08 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 粘着剤、それを用いた粘着シート、粘着シートを用いた電子部品製造方法。 |
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013135146A (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-08 | Hitachi Chemical Co Ltd | ダイシング・ダイボンディング一体型テープ |
KR20160019421A (ko) * | 2013-06-14 | 2016-02-19 | 덴카 주식회사 | 반도체 검사용 내열성 점착 시트 |
KR102216458B1 (ko) | 2013-06-14 | 2021-02-17 | 덴카 주식회사 | 반도체 검사용 내열성 점착 시트 |
WO2017179439A1 (ja) * | 2016-04-15 | 2017-10-19 | デンカ株式会社 | 半導体加工用粘着テープ、及びそれを用いた半導体チップ又は半導体部品の製造方法 |
JPWO2017179439A1 (ja) * | 2016-04-15 | 2019-02-28 | デンカ株式会社 | 半導体加工用粘着テープ、及びそれを用いた半導体チップ又は半導体部品の製造方法 |
JP2021031594A (ja) * | 2019-08-26 | 2021-03-01 | 三菱ケミカル株式会社 | 活性エネルギー線硬化性剥離型粘着剤組成物および剥離型粘着シート |
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