JP2010137183A - Method for manufacturing particle and conductive particle obtained from the same - Google Patents
Method for manufacturing particle and conductive particle obtained from the same Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010137183A JP2010137183A JP2008317524A JP2008317524A JP2010137183A JP 2010137183 A JP2010137183 A JP 2010137183A JP 2008317524 A JP2008317524 A JP 2008317524A JP 2008317524 A JP2008317524 A JP 2008317524A JP 2010137183 A JP2010137183 A JP 2010137183A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- particles
- mother liquor
- raw material
- strong dispersion
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
Description
本発明は、高い分散性を有する粒子を製造する方法に関する。また本発明は、この方法によって製造された粒子を原料とする導電性粒子に関する。 The present invention relates to a method for producing particles having high dispersibility. Moreover, this invention relates to the electroconductive particle which uses the particle | grains manufactured by this method as a raw material.
本出願人は先に、芯材粒子の表面に酸化錫層が形成された導電性粉末及びその製造方法を提案した（特許文献１参照）。同文献で提案されている製造方法は、以下の工程を含むものである。先ず芯材を水中に分散させたスラリーが仕込まれた反応槽中に水溶性錫化合物を添加後、酸又はアルカリを用いて中和反応を行う。これによって、芯材の表面に酸化錫水和物からなる被覆層が形成された導電性粉末前駆体を、反応槽中に生成させる。この前駆体を含むスラリーの少なくとも一部を、中和の際又は中和の後に、反応槽とは別に設置した強分散装置において強分散処理し、強分散処理した液を反応槽のスラリー中に戻す。その後、スラリー中の前駆体を洗浄・乾燥した後、非酸化性雰囲気中２００〜１２００℃で焼成する。これによって目的とする酸化錫層が形成された導電性粉末が得られる。 The present applicant has previously proposed a conductive powder having a tin oxide layer formed on the surface of core material particles and a method for producing the same (see Patent Document 1). The manufacturing method proposed in this document includes the following steps. First, a water-soluble tin compound is added to a reaction tank in which a slurry in which a core material is dispersed in water is added, and then a neutralization reaction is performed using an acid or an alkali. Thereby, the conductive powder precursor in which the coating layer made of tin oxide hydrate is formed on the surface of the core material is generated in the reaction vessel. At least a part of the slurry containing the precursor is subjected to strong dispersion treatment in a strong dispersion apparatus installed separately from the reaction tank during or after neutralization, and the strongly dispersed liquid is put into the slurry of the reaction tank. return. Thereafter, the precursor in the slurry is washed and dried, and then fired at 200 to 1200 ° C. in a non-oxidizing atmosphere. As a result, a conductive powder in which a target tin oxide layer is formed is obtained.
上述の方法で製造された導電性粉末は、導電性が高く、また分散性に優れ、良好な白色度を有するものとなる。したがって、この導電性粉末を、例えば紙、プラスチック、ゴム、樹脂、塗料等に配合することで、これらの材料からなる製品に導電性を容易に付与することができる。しかも、これらの材料の色が損なわれることもない。 The conductive powder produced by the above method has high conductivity, excellent dispersibility, and good whiteness. Therefore, by adding this conductive powder to, for example, paper, plastic, rubber, resin, paint, etc., conductivity can be easily imparted to products made of these materials. Moreover, the color of these materials is not impaired.
しかし、上述の方法は、芯材粒子の表面に導電層を設けた粒子からなる導電層被覆粒子粉末が得られるに過ぎない。 However, the above-described method only provides a conductive layer-coated particle powder composed of particles in which a conductive layer is provided on the surface of core material particles.
本発明の目的は、前述した従来技術の粒子よりも凝集が更に抑制され、分散性が更に向上した粒子を製造し得る方法、及び該粒子を原料とする導電性粒子を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a method capable of producing particles that are further suppressed in agglomeration and further improved in dispersibility as compared with the aforementioned prior art particles, and conductive particles using the particles as raw materials.
本発明は、第１の原料物質を含む母液を循環させつつ、循環経路の一部に設けられた強分散装置に第２の原料物質を供給し、
該強分散装置において該母液を強分散させた状態下に第１の原料物質と第２の原料物質とを反応させて、粒子を生成させることを特徴とする、粒子の製造方法を提供するものである。
The present invention supplies the second raw material to the strong dispersion device provided in a part of the circulation path while circulating the mother liquor containing the first raw material.
Provided is a method for producing particles, characterized in that particles are produced by reacting a first raw material and a second raw material in a state where the mother liquor is strongly dispersed in the strongly dispersing apparatus. It is.
また本発明は、第１の原料物質を含む母液を循環させつつ、循環経路の一部に設けられた超音波反応装置に第２の原料物質を供給し、
該超音波反応装置において該母液を強分散させた状態下に第１の原料物質と第２の原料物質とを反応させて、粒子を生成させることを特徴とする、粒子の製造方法を提供するものである。
Further, the present invention supplies the second raw material to the ultrasonic reaction apparatus provided in a part of the circulation path while circulating the mother liquor containing the first raw material.
Provided is a method for producing particles, characterized in that particles are produced by reacting a first raw material and a second raw material in a state in which the mother liquor is strongly dispersed in the ultrasonic reaction device. Is.
更に本発明は、前記の製造方法によって得られた粒子を含む反応終了後のスラリーを、洗浄及び乾燥させた後に焼成して得られたことを特徴とする導電性粒子を提供するものである。 The present invention further provides conductive particles obtained by washing and drying a slurry after completion of the reaction containing particles obtained by the above production method, followed by firing.
本発明によれば、凝集が抑制され、高い分散性を有する粒子を高い量産性で容易に製造することができる。 According to the present invention, aggregation is suppressed and particles having high dispersibility can be easily produced with high mass productivity.
以下本発明を、その好ましい実施形態に基づき図面を参照しながら説明する。本発明の一実施形態として、以下の説明においては、水酸化錫粒子を製造する方法を例に挙げる。この粒子は、その後の工程で焼成されて、最終目的物の導電性粒子として酸化錫粒子となる。図１には、水酸化錫粒子の製造に好適に用いられる製造装置の一例の模式図が示されている。 The present invention will be described below based on preferred embodiments with reference to the drawings. As an embodiment of the present invention, in the following description, a method for producing tin hydroxide particles will be described as an example. These particles are baked in the subsequent process to become tin oxide particles as conductive particles of the final target product. FIG. 1 shows a schematic diagram of an example of a production apparatus suitably used for producing tin hydroxide particles.
図１に示す製造装置１０は、母液槽１１、母液槽１１の底部から延びる第１循環配管１２、第１循環配管１２の出口側に接続された強分散装置１３、強分散装置１３の出口側に接続され、且つ母液槽１１へ帰還する第２循環配管１４とを備えている。これらの部材によって、装置１０には循環経路が形成される。第１循環配管１２の途中には第１ポンプ１５が設置されている。また第２循環配管１４の途中には第２ポンプ１６が設置されている。
1 includes a
母液槽１１内には攪拌翼１１ａが設置されている。攪拌翼１１ａはシャフト１１ｂを介して槽外に設置されたモータ１１ｃに接続している。攪拌翼１１ａは、モータ１１ｃを駆動源として一定方向に回転するようになっている。
A
強分散装置１３内には、攪拌部１３ａが設置されている。攪拌部１３ａはシャフト１３ｂを介してモータ１３ｃに接続している。攪拌部１３ａは、モータ１３ｃを駆動源として一定方向に回転するようになっている。更に強分散装置１３には、被覆層形成用の反応物を供給する供給部１３ｄが設けられている。強分散装置１３としてはその容積が、母液層１１の容積よりも十分に小さいものが用いられる。
A
以上の装置１０を用いた粒子の製造方法について説明すると、先ず母液槽１１内に母液２０を充填する。母液２０は、第１の原料物質及び媒体を含むものである。媒体としては、第１の原料物質の種類に応じて適切な液体が選択される。一般的には第１の原料物質の溶解が可能なものが用いられる。例えば水酸化錫粒子を製造する場合であれば、第１の原料物質として水溶性の錫化合物を用いることができ、媒体として水を用いればよい。以下の説明においては、水溶性錫化合物を用いた例について述べるが、第１の原料物質としては、単一の原材料を用いてもよく、あるいは最終的に得られる導電性粒子の特性改善等を目的として、複数の原材料を用いてもよい。
The particle production method using the
母液２０中には水溶性錫化合物が添加されている。水溶性錫化合物は、本実施形態における目的物である水酸化錫の粒子を形成するための反応物の一つである。水溶性錫化合物としては、後述する第２の原料物質と反応して水酸化錫の粒子を形成し得るものが用いられる。そのような水溶性錫化合物としては、錫酸ナトリウム及び四塩化錫等が挙げられる。これらの水溶液錫化合物は水への溶解が容易なので好適に用いられる。
A water-soluble tin compound is added to the
母液２０中における水溶性錫化合物の水溶液濃度は、Ｓｎに換算して１〜２０重量％、特に３〜１０重量％であることが好ましい。水溶液濃度がこの範囲内にあると、水酸化錫の粒子が容易に形成されるからである。
The aqueous solution concentration of the water-soluble tin compound in the
母液槽１１内に所定量の母液２０が充填されたら、母液槽１１の攪拌翼１１ａの回転を開始する。次いで、第１ポンプ１５、強分散装置１３及び第２ポンプ１６を起動して、装置１０に形成された循環経路内に母液２０を通し、これを循環させる。
When the
循環経路内での母液２０の循環が安定したら、強分散装置１３の供給部１３ｄを通じて強分散装置１３内に、第２の原料物質を供給する。強分散装置１３内に供給する第２の原料物質として、本実施形態においては酸又はアルカリを用いる。酸及びアルカリは、母液２０に添加されている水溶性錫化合物を中和させて、水酸化錫の粒子を生成させる。
When the circulation of the
酸又はアルカリによる水溶性錫化合物の中和反応は、非常に迅速に進行する。したがって、例えば非常に大容量の反応槽を用い、これに水溶性錫化合物の水溶液を充填しておき、その中に酸又はアルカリを添加して中和反応を起こさせようとすると、反応槽内を攪拌したとしても、酸又はアルカリを添加した部分において中和反応が局所的に生じてしまい、均一な粒径の粒子を得ることができない。また、水酸化錫は軟質の物質なので、中和反応の最中に粒子どうしが付着して凝集が起こってしまう。これに対して本実施形態によれば、強分散装置１３は、上述のとおり母液槽１１よりもはるかに小容量のものであり、しかも母液２０を高速攪拌するものであるから、局所的な中和反応が生ずることが防止され、均一な粒径の水酸化錫の粒子を形成することができる。また、粒子が極めて分散した状態になるので、粒子の凝集を効果的に防止することができる。このことは、特に凝集の起こりやすい小粒径の粒子（例えば粒径が０．０１〜１μｍのもの）を生成させる場合に有効である。しかも母液２０は、循環経路内を循環しているので、強分散装置１３に供給する酸又はアルカリの量及び／又は濃度を低くして中和反応を徐々に行うことができる。以上の作用によって、均一な粒径の水酸化錫の粒子を生成させることができるのみならず、粒子の凝集を防止することができる。
The neutralization reaction of the water-soluble tin compound with acid or alkali proceeds very rapidly. Therefore, for example, when a very large capacity reaction tank is used and an aqueous solution of a water-soluble tin compound is filled therein, and an acid or alkali is added therein to cause a neutralization reaction, Even if the mixture is stirred, a neutralization reaction locally occurs in the portion where the acid or alkali is added, and particles having a uniform particle size cannot be obtained. In addition, since tin hydroxide is a soft substance, particles adhere to each other during the neutralization reaction, causing aggregation. On the other hand, according to the present embodiment, the
背景技術の項で述べた本出願人の先の出願に係る特開２００５−１０８７３４号公報においては、本実施形態と異なり、母液槽に芯材粒子、水溶性錫化合物、及び酸又はアルカリを添加して中和反応を起こさせ、中和後の液を強分散装置で分散させている。この中和反応は、上述のとおり非常に迅速に進行するので、強分散装置を使用する時点で中和反応が既に完結している。したがって、粒子の生成プロセスが相違するのみならず、凝集を確実に防止することは容易でない。また、母液槽中に強分散装置を設置し、該強分散装置によって液を強分散しながら該母液槽中で中和反応を行った場合であっても、一般に強分散装置の容積に比して母液槽の容積の方が非常に大きいので、反応は不均一に進行し、粒子の凝集を確実に防止することはやはり容易でない。要するに、本実施形態においては母液槽とは独立した強分散装置が設置された容器内において中和反応が行われるのに対し、前記の特開２００５−１０８７３４号公報に記載の技術は、母液槽において中和反応を行う点で、本実施形態と全く相違するものである。 In Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-108734 related to the earlier application of the present applicant described in the background art section, unlike this embodiment, core material particles, a water-soluble tin compound, and an acid or an alkali are added to a mother liquor tank. Thus, a neutralization reaction is caused, and the neutralized liquid is dispersed with a strong dispersion device. Since the neutralization reaction proceeds very rapidly as described above, the neutralization reaction has already been completed when the strong dispersion apparatus is used. Therefore, not only is the particle production process different, but it is not easy to reliably prevent agglomeration. Even if a strong dispersion apparatus is installed in the mother liquor tank and the neutralization reaction is carried out in the mother liquor tank while strongly dispersing the liquid with the strong dispersion apparatus, it is generally compared with the volume of the strong dispersion apparatus. Since the volume of the mother liquor is much larger, the reaction proceeds non-uniformly and it is still not easy to reliably prevent the particles from aggregating. In short, in the present embodiment, the neutralization reaction is performed in a container provided with a strong dispersion device independent of the mother liquor tank, whereas the technique described in the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-108734 uses the mother liquor tank. This is completely different from the present embodiment in that a neutralization reaction is performed.
水溶性錫化合物と酸又はアルカリとの反応は強分散装置１３において瞬時に完了するので、強分散装置１３に供給された酸又はアルカリが未反応のまま循環経路中に流出することや、循環する母液中に酸又はアルカリが蓄積して、強分散装置１３以外の箇所において中和反応が生ずることはほとんど起こり得ないか、又は起こったとしても、目的物の品質に影響を及ぼさない程度でしかない。つまり、水溶性錫化合物と酸又はアルカリとの反応は、実質的に強分散装置１３のみにおいて生じる。
Since the reaction between the water-soluble tin compound and the acid or alkali is instantaneously completed in the
局所的な中和反応が生じることを効果的に防止する観点から、強分散装置１３の容積はできるだけ小さいことが好ましい。一方、十分な処理量を確保する観点からは、強分散装置１３の容積Ｖ２は大きいことが好ましい。これらのバランスを考慮すると、強分散装置１３の容積Ｖ２は１〜１０００ｃｍ3、特に１０〜５００ｃｍ3であることが好ましい。
From the viewpoint of effectively preventing a local neutralization reaction from occurring, the volume of the
同様の観点から、強分散装置１３における攪拌部１３ａによる攪拌速度は５０００ｒｐｍ以上、特に１００００ｒｐｍ以上であることが好ましい。攪拌部１３ａによる攪拌速度の上限値に特に制限はなく高ければ高いほど好ましいが、１６０００ｒｐｍ程度に高速攪拌すれば、局所的な中和反応が生じることを効果的に防止することができる。
From the same viewpoint, the stirring speed by the stirring
上述の容積及び攪拌速度を有する強分散装置１３として好ましいものとしては、ホモジナイザやビーズミル等が挙げられる。これらのうちホモジナイザは、低コストで実設備に組み込み易いので特に好ましい。
Preferable examples of the
強分散装置１３内における母液２０及び酸又はアルカリの滞留時間は、短ければ短いほど、局所的な中和反応の防止の観点から好ましい。具体的には、母液槽１１から流出し強分散装置１３に流入する母液２０の流速をＳ１（ｃｍ3／ｍｉｎ）とし、強分散装置１３に供給される酸又はアルカリの速度をＳ３（ｃｍ3／ｍｉｎ）とした場合、強分散装置１３の容積Ｖ２（ｃｍ3）との関係で、Ｖ２／（Ｓ１＋Ｓ３）の値が１〜６０秒、特に３０〜６０秒であることが好ましい。
The shorter the residence time of the
強分散装置１３に流入する母液の量と酸又はアルカリの量との割合は、強分散装置１３における局所的な中和反応の防止に関連している。具体的には、強分散装置１３に供給される酸又はアルカリの速度Ｓ３と、母液槽１１から流出し強分散装置１３に流入する母液２０の流速Ｓ１との比であるＳ３／Ｓ１が０．０１〜０．０５、特に０．０３〜０．０５となるように両者の速度を調整することが好ましい。換言すれば、単位時間当たりの母液２０の供給量に対して、酸又はアルカリの供給量を圧倒的に少なくすることが好ましい。酸又はアルカリの供給量を少なくすることは、局所的な中和反応の防止の点からは非常に有効であるが、その反面、水酸化錫の粒子の生成速度の観点からはマイナスに作用する。このマイナスの点を、本実施形態においては、母液２０を循環することで解決している。
The ratio of the amount of mother liquor flowing into the
処理量にもよるが、母液２０の流速Ｓ１が例えば１０〜１０００ｃｍ3／ｍｉｎである場合には、酸又はアルカリの速度Ｓ３は０．３〜５０ｃｍ3／ｍｉｎであることが好ましい。
Although depending on the amount of treatment, when the flow rate S1 of the
強分散装置１３における局所的な中和反応を防止する観点からは、酸又はアルカリの供給量を少なくすることに代えて、又はそれに加えて、供給する酸又はアルカリの濃度を低くすることも有効である。この観点から、酸又はアルカリの濃度は、母液２０に含まれる水溶性錫化合物の濃度が上述の範囲であることを条件として、規定度で表して１〜２５Ｎ、特に５〜２０Ｎであることが好ましい。
From the viewpoint of preventing local neutralization reaction in the
強分散装置１３に供給される酸としては、例えば硫酸、硝酸、酢酸などの水溶液が用いられる。アルカリとしては、例えば水酸化ナトリウム水溶液やアンモニア水などが用いられる。
As the acid supplied to the
強分散装置１３に供給される酸及びアルカリは連続的でもよく、或いは断続的でもよい。一層均一な粒径の水酸化錫の粒子を形成する観点からは、酸又はアルカリを連続供給することが好ましい。供給には、例えばプランジャーポンプ等を用いることができる。
The acid and alkali supplied to the
酸又はアルカリは、循環の時間経過と共にその供給量（供給速度）及び／又は濃度を変化（例えば漸増又は漸減）させてもよい。例えば、供給量を変化させる場合には、容積が数百ｃｍ3〜数ｍ3の母液槽１１を用いたときには該供給量を０．１〜１０Ｌ／ｍｉｎの範囲で漸増又は漸減させることができる。一方、濃度を変化させる場合には、１〜５０重量％の範囲で漸増又は漸減させることができる。この操作によって、反応の終期における局所的な中和反応を効果的に防止することができる。
The acid or alkali may change (for example, gradually increase or decrease) its supply amount (supply rate) and / or concentration over time. For example, when changing the supply amount, when the
母液の循環時間に特に制限はなく、所望の粒径の粒子が形成されるまで循環を行えばよい。本発明者らの検討の結果、循環開始から循環終了までの時間をＴ（ｍｉｎ）としたとき、上述のＳ１及びＶ１との関係で、Ｓ１Ｔ／Ｖ１の値が５以上、特に１０以上となるように循環を行うことで、満足すべき粒径の粒子が形成されることが判明した。Ｓ１Ｔ／Ｖ１の上限値は、数百程度であれば満足すべき結果が得られる。 There is no particular limitation on the circulation time of the mother liquor, and circulation may be performed until particles having a desired particle size are formed. As a result of the study by the present inventors, when the time from the start of circulation to the end of circulation is defined as T (min), the value of S1T / V1 is 5 or more, particularly 10 or more in relation to S1 and V1 described above. Thus, it was found that particles having a satisfactory particle diameter were formed by circulation. If the upper limit of S1T / V1 is about several hundreds, satisfactory results can be obtained.
本実施形態の変形例として、図２（ａ）及び（ｂ）に示す実施形態が挙げられる。図２（ａ）に示す実施形態は、図１に示す装置１０において、強分散装置１３を複数個用い、それらを循環流路に対して並列に設けた例である。この実施形態によれば処理量の増大を図れる。したがって、この実施形態は、各強分散装置１３の容積Ｖ２が小さい場合に特に有効である。
As a modification of the present embodiment, the embodiment shown in FIGS. 2A and 2B can be cited. The embodiment shown in FIG. 2A is an example in which a plurality of
図２（ｂ）に示す実施形態は、図１に示す装置１０における、強分散装置１３を複数個用い、それらを循環流路に対して直列に設けた例である。この実施形態によれば、母液の強分散の増強を図ることができるので、母液２０の循環の回数を減らすことが可能になる。
The embodiment shown in FIG. 2B is an example in which a plurality of
更に本実施形態においては、強分散装置１３に加えて、又は強分散装置１３に代えて、超音波反応装置を用いて母液２０と酸又はアルカリとを強分散させることができる。例えば図３に示すように、強分散装置１３に加えて、母液槽１１内に超音波反応装置１７Ａを設置することができる。この場合、第２の原料物質である酸又はアルカリは、強分散装置１３に供給される。また、図４に示すように、強分散装置１３を用いず、循環経路の一部である循環配管に超音波反応装置１７Ｂを設置し、かつ母液槽１１内に超音波反応装置１７Ａを設置することができる。この場合には、超音波反応装置１７Ｂに酸又はアルカリが供給される。図４に示す実施形態においては、超音波反応装置１７Ｂの体積やそこに供給される酸又はアルカリの量を、上述した強分散装置１３の場合と同様にすることが好ましい。これらの図に示す実施形態を採用することによっても、凝集が抑制され、高い分散性を有する粒子を高い量産性で容易に製造することが可能となる。
Furthermore, in this embodiment, the
超音波反応装置１７Ａ，１７Ｂは、１又は２以上の振動子（超音波ホーン）を備えている。振動子を循環配管１２，１４や母液槽１１内に設置し、これを超音波振動させることで、母液２０と酸又はアルカリとを強分散させる。超音波反応装置１７Ａ，１７Ｂとしては、例えば新科産業有限会社から販売されている超音波反応装置ＳＲ４０Ｌ型等を用いることができる。
The
超音波反応装置１７Ａ，１７Ｂにおける振動子の運転条件としては、例えば超音波周波数を１０〜４０ｋＨｚとし、超音波出力を３００〜２０００Ｗとすることが好ましい。
As operating conditions of the vibrator in the
以上の方法によって、水酸化錫からなる粒子が得られる。この粒子においては、粒径が均一になっている。また凝集した粒子の数が極めて少なくなっている。その結果、この粒子は、その粒度分布がシャープなものになっている。具体的には、粒度分布の指標であるＤ50／Ｄ90の値が好ましくは０．５〜１、特に０．６〜１となる。なお、本明細書においてＤ50及びＤ90の値は、レーザー回折散乱法で求められる。 By the above method, particles made of tin hydroxide are obtained. These particles have a uniform particle size. Also, the number of aggregated particles is extremely small. As a result, the particles have a sharp particle size distribution. Specifically, the value of D 50 / D 90 that is an index of the particle size distribution is preferably 0.5 to 1, particularly 0.6 to 1. In the present specification, the values of D 50 and D 90 are determined by a laser diffraction scattering method.
このようにして得られた粒子は、反応系から分離され、洗浄及び乾燥工程を経た後に焼成工程に付される。それによって酸化錫からなる導電性粒子が得られる。その後、必要に応じて粉砕工程に付され、所望の粒径に調整される。この酸化錫の粒子においては、焼成前の粒子のシャープな粒度分布が維持されており、凝集が少なくなっている。具体的には、酸化錫の粒子は、粒度分布の指標であるＤ50／Ｄ90の値が、焼成前と同様に、好ましくは０．５〜１、特に０．６〜１となる。 The particles thus obtained are separated from the reaction system and subjected to a firing step after washing and drying steps. Thereby, conductive particles made of tin oxide are obtained. Thereafter, it is subjected to a pulverization step as necessary, and adjusted to a desired particle size. In the tin oxide particles, the sharp particle size distribution of the particles before firing is maintained, and aggregation is reduced. Specifically, the tin oxide particles have a value of D 50 / D 90 which is an index of particle size distribution, preferably 0.5 to 1, particularly 0.6 to 1, as before firing.
前記の焼成工程は、非酸化性雰囲気中で行うことが好ましい。非酸化性雰囲気としては、例えば窒素雰囲気、水素を含有した窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等が挙げられる。これらのうち、水素を含有した窒素雰囲気は安価なので、工業的観点から好ましい。また、水素を含有した窒素雰囲気を用いる場合、水素の含有量は、好ましくは０．１〜１０体積％、更に好ましくは１〜３体積％である。水素の含有量がこの範囲内にあると、錫を金属に還元させることなく、酸素欠損を有する導電性の酸化錫の被覆層を形成しやすいからである。 The firing step is preferably performed in a non-oxidizing atmosphere. Examples of the non-oxidizing atmosphere include a nitrogen atmosphere, a nitrogen atmosphere containing hydrogen, and an argon atmosphere. Among these, a nitrogen atmosphere containing hydrogen is preferable from an industrial viewpoint because it is inexpensive. Moreover, when using nitrogen atmosphere containing hydrogen, content of hydrogen becomes like this. Preferably it is 0.1-10 volume%, More preferably, it is 1-3 volume%. This is because, when the hydrogen content is within this range, it is easy to form a conductive tin oxide coating layer having oxygen vacancies without reducing tin to metal.
前記の焼成工程における焼成温度は、好ましくは２００〜１２００℃、更に好ましくは４００〜６００℃である。焼成時間は、好ましくは５〜１８０分、更に好ましくは１０〜１２０分である。焼成温度及び時間がこれらの範囲内にあると、酸素欠損を生じさせるのに十分であり、且つ凝集を起こし難いからである。この焼成工程を行うことにより導電性粒子が得られる。 The firing temperature in the firing step is preferably 200 to 1200 ° C, more preferably 400 to 600 ° C. The firing time is preferably 5 to 180 minutes, more preferably 10 to 120 minutes. This is because if the firing temperature and time are within these ranges, it is sufficient to cause oxygen vacancies and hardly cause aggregation. Conductive particles are obtained by performing this firing step.
このようにして得られた導電性粒子は、例えば紙、プラスチック、ゴム、樹脂、塗料等に添加してこれらに導電性を付与する導電性フィラーとして使用される。また、電池等の電極改質剤として使用される。 The conductive particles thus obtained are used, for example, as a conductive filler that is added to paper, plastic, rubber, resin, paint, etc. to impart conductivity to them. It is also used as an electrode modifier for batteries and the like.
以上、本発明をその好ましい実施形態に基づき説明したが、本発明は前記実施形態に制限されない。例えば前記の実施形態で用いられた製造装置１０に代えて、図５に示す装置１０’を用いることもできる。図５に示す装置１０’においては、母液槽１１の底部に強分散装置１３が直接取り付けられている。同図に示す装置１０’を用いても、図１に示す装置１０と同様の有利な効果が奏される。
As mentioned above, although this invention was demonstrated based on the preferable embodiment, this invention is not restrict | limited to the said embodiment. For example, instead of the
また前記実施形態は、本発明を、水酸化錫からなる粒子を生成させる方法に適用した例であるが、本発明はこれ以外の粒子の製造方法にも同様に適用できる。例えば、水溶性金属塩を酸又はアルカリで中和して得られる金属水酸化物の粒子の製造方法に本発明を適用することができる。具体的には、水酸化亜鉛粒子を生成させる方法に、本発明を適用することもできる。この場合には、母液中に塩化亜鉛等の亜鉛源となる水溶性亜鉛化合物を含有させておき、強分散装置に水酸化ナトリウム等のアルカリを供給すればよい。このようにして得られた粒子を大気中で焼成することによって、酸化亜鉛粒子を得ることができる。更に、インジウム及び錫の水酸化物粒子を生成させる方法に、本発明を適用することもできる。この場合には、母液中に硝酸インジウム等のインジウム源となる水溶性インジウム化合物及び塩化錫等の錫源となる水溶性錫化合物を含有させておき、強分散装置に水酸化ナトリウム等のアルカリを供給すればよい。このようにして得られた粒子を還元雰囲気中で焼成することによって、インジウム及び錫の複合酸化物（ＩＴＯ）粒子を得ることができる。別法として、無電解還元法によって金属粒子を生成させる方法に本発明を適用することができる。この場合には、母液中に無電解還元の金属源となる化合物を含有させておき、強分散装置に還元剤を供給すればよい。 Moreover, although the said embodiment is an example which applied this invention to the method of producing | generating the particle | grains which consist of tin hydroxide, this invention is applicable similarly to the manufacturing method of other particle | grains. For example, the present invention can be applied to a method for producing metal hydroxide particles obtained by neutralizing a water-soluble metal salt with an acid or an alkali. Specifically, the present invention can be applied to a method of generating zinc hydroxide particles. In this case, a water-soluble zinc compound serving as a zinc source such as zinc chloride may be contained in the mother liquor, and an alkali such as sodium hydroxide may be supplied to the strong dispersion device. Zinc oxide particles can be obtained by firing the particles thus obtained in the air. Furthermore, the present invention can also be applied to a method for producing indium and tin hydroxide particles. In this case, the mother liquor contains a water-soluble indium compound serving as an indium source such as indium nitrate and a water-soluble tin compound serving as a tin source such as tin chloride, and an alkali such as sodium hydroxide is added to the strong dispersion device. What is necessary is just to supply. By firing the particles thus obtained in a reducing atmosphere, composite oxide (ITO) particles of indium and tin can be obtained. Alternatively, the present invention can be applied to a method of generating metal particles by an electroless reduction method. In this case, the mother liquor may contain a compound that becomes an electroless reduction metal source, and the reducing agent may be supplied to the strong dispersion device.
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。しかしながら本発明の範囲はかかる実施例に制限されない。特に断らない限り、「％」は「重量％」を意味する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the scope of the present invention is not limited to such examples. Unless otherwise specified, “%” means “% by weight”.
〔実施例１〕
図１に示す装置を用い、水酸化錫粒子を製造した。母液槽中に純水９０００ｃｍ3を投入し、そこに１６００ｇの錫酸ナトリウムを投入して５パス循環させた。このようにして母液を得た。この母液を、母液槽から流出する流速Ｓ１が２００ｃｍ3となるように循環させながら、強分散装置としてのホモジナイザ（ＩＫＡジャパン株式会社製のＴ５０（商品名））に２０％硫酸を供給した。供給速度Ｓ３は９．２ｃｍ3／ｍｉｎであった。ホモジナイザの容積は５００ｃｍ3、攪拌速度は１６０００ｒｐｍであった。循環を１５分間行い、その間硫酸を連続的にホモジナイザに供給した。このようにして、水酸化錫粒子を得た。
[Example 1]
Tin hydroxide particles were produced using the apparatus shown in FIG. 9000 cm 3 of pure water was put into the mother liquor tank, and 1600 g of sodium stannate was put therein and circulated for 5 passes. A mother liquor was thus obtained. While this mother liquor was circulated so that the flow rate S1 flowing out of the mother liquor was 200 cm 3 , 20% sulfuric acid was supplied to a homogenizer (T50 (trade name) manufactured by IKA Japan Co., Ltd.) as a strong dispersion device. The supply speed S3 was 9.2 cm 3 / min. The volume of the homogenizer was 500 cm 3 and the stirring speed was 16000 rpm. Circulation was carried out for 15 minutes, during which time sulfuric acid was continuously fed to the homogenizer. In this way, tin hydroxide particles were obtained.
得られた粒子を含むスラリーを、その導電率が６００μＳ／ｃｍ以下となるまでリパルプ洗浄した後、ヌッチェ濾過を行い、ケーキを得た。このケーキを大気中、１５０℃で１０時間乾燥させた。次いで乾燥ケーキを粉砕し、その粉砕粉を１体積％Ｈ2／Ｎ2雰囲気下で４５０℃、３０分間還元焼成した。これによって、酸化錫粒子を得た。 The slurry containing the obtained particles was repulp washed until the conductivity became 600 μS / cm or less, and then subjected to Nutsche filtration to obtain a cake. This cake was dried in air at 150 ° C. for 10 hours. Next, the dried cake was pulverized, and the pulverized powder was reduced and fired at 450 ° C. for 30 minutes in a 1% by volume H 2 / N 2 atmosphere. Thereby, tin oxide particles were obtained.
〔実施例２〕
図５に示す装置を用い、水酸化錫粒子を製造した。母液槽中に純水９０００を投入し、そこに９００ｇの錫酸ナトリウムを投入して５パス循環させた。このようにして母液を得た。この母液を、母液槽から流出する流速Ｓ１が２００ｃｍ3となるように循環させながら、強分散装置としてのホモジナイザ（ＩＫＡジャパン株式会社製のｍａｇｉｃ ＬＡＢ（商品名））に２０％硫酸を供給した。供給速度Ｓ３は９．２ｃｍ3／ｍｉｎであった。ホモジナイザの容積は２０ｃｍ3、攪拌速度は１６０００ｒｐｍであった。循環を１５分間行い、その間硫酸を連続的にホモジナイザに供給した。このようにして、水酸化錫粒子を得た。
[Example 2]
Tin hydroxide particles were produced using the apparatus shown in FIG. Pure water 9000 was charged into the mother liquor, and 900 g of sodium stannate was charged therein for circulation in 5 passes. A mother liquor was thus obtained. While this mother liquor was circulated so that the flow rate S1 flowing out from the mother liquor was 200 cm 3 , 20% sulfuric acid was supplied to a homogenizer (magic LAB (trade name) manufactured by IKA Japan Co., Ltd.) as a strong dispersion device. The supply speed S3 was 9.2 cm 3 / min. The volume of the homogenizer was 20 cm 3 and the stirring speed was 16000 rpm. Circulation was carried out for 15 minutes, during which time sulfuric acid was continuously fed to the homogenizer. In this way, tin hydroxide particles were obtained.
得られた粒子を含むスラリーを、その導電率が６００μＳ／ｃｍ以下となるまでリパルプ洗浄した後、ヌッチェ濾過を行い、ケーキを得た。このケーキを大気中、１５０℃で１０時間乾燥させた。次いで乾燥ケーキを粉砕し、その粉砕粉を１体積％Ｈ2／Ｎ2雰囲気下で４５０℃、３０分間還元焼成した。これによって、酸化錫粒子を得た。 The slurry containing the obtained particles was repulp washed until the conductivity became 600 μS / cm or less, and then subjected to Nutsche filtration to obtain a cake. This cake was dried in air at 150 ° C. for 10 hours. Next, the dried cake was pulverized, and the pulverized powder was reduced and fired at 450 ° C. for 30 minutes in a 1% by volume H 2 / N 2 atmosphere. Thereby, tin oxide particles were obtained.
〔実施例３〕
図１に示す装置を用い、水酸化亜鉛粒子を製造した。母液槽中に純水９０００ｃｍ3を投入し、そこに１０００ｇの無水塩化亜鉛を投入して５パス循環させた。このようにして母液を得た。この母液を、母液槽から流出する流速Ｓ１が１０Ｌ／ｍｉｎとなるように循環させながら、強分散装置としてのホモジナイザ（ＩＫＡジャパン株式会社製のＴ５０（商品名））に２０％水酸化ナトリウム水溶液を供給した。供給速度Ｓ３は９．２ｃｍ3／ｍｉｎであった。ｐＨは５．０とした。ホモジナイザの容積は５００ｃｍ3、攪拌速度は１６０００ｒｐｍであった。循環を１５分間行い、その間硫酸を連続的にホモジナイザに供給した。このようにして、水酸化亜鉛粒子を得た。
Example 3
Using the apparatus shown in FIG. 1, zinc hydroxide particles were produced. 9000 cm 3 of pure water was put into the mother liquor tank, 1000 g of anhydrous zinc chloride was put therein and circulated for 5 passes. A mother liquor was thus obtained. While this mother liquor is circulated so that the flow rate S1 flowing out from the mother liquor is 10 L / min, a 20% aqueous sodium hydroxide solution is added to a homogenizer (T50 (trade name) manufactured by IKA Japan Co., Ltd.) as a strong dispersion device. Supplied. The supply speed S3 was 9.2 cm 3 / min. The pH was 5.0. The volume of the homogenizer was 500 cm 3 and the stirring speed was 16000 rpm. Circulation was carried out for 15 minutes, during which time sulfuric acid was continuously fed to the homogenizer. In this way, zinc hydroxide particles were obtained.
得られた粒子を含むスラリーを、その導電率が６００μＳ／ｃｍ以下となるまでリパルプ洗浄した後、ヌッチェ濾過を行い、ケーキを得た。このケーキを大気中、１５０℃で１０時間乾燥させた。次いで乾燥ケーキを粉砕し、その粉砕粉を大気中、４５０℃で、４５分還元焼成した。これによって、酸化亜鉛粒子を得た。 The slurry containing the obtained particles was repulp washed until the conductivity became 600 μS / cm or less, and then subjected to Nutsche filtration to obtain a cake. This cake was dried in air at 150 ° C. for 10 hours. Next, the dried cake was pulverized, and the pulverized powder was reduced and fired at 450 ° C. for 45 minutes in the air. Thus, zinc oxide particles were obtained.
〔実施例４〕
図１に示す装置を用い、インジウム及び錫の水酸化物粒子を製造した。母液槽中に純水９０００ｃｍ3を投入し、そこに５ｇの塩化スズ塩酸溶液（４４％）及び９７６ｇの硝酸インジウム水溶液（１００ｇ／１０００ｃｍ3、比重１．６ｇ／ｃｍ3）の錫酸ナトリウムを投入して５パス循環させた。このようにして母液を得た。この母液を、母液槽から流出する流速Ｓ１が１０Ｌ／ｍｉｎとなるように循環させながら、強分散装置としてのホモジナイザ（ＩＫＡジャパン株式会社製のＴ５０（商品名））に２０％水酸化ナトリウムを供給した。供給速度Ｓ３は９．２ｃｍ3／ｍｉｎであった。ｐＨは３．０とした。ホモジナイザの容積は５００ｃｍ3、攪拌速度は１６０００ｒｐｍであった。循環を１５分間行い、その間硫酸を連続的にホモジナイザに供給した。このようにして、インジウム及び錫の水酸化物粒子を得た。
Example 4
Indium and tin hydroxide particles were produced using the apparatus shown in FIG. 9000 cm 3 of pure water was put into the mother liquor, and 5 g of tin chloride hydrochloric acid solution (44%) and 976 g of indium nitrate aqueous solution (100 g / 1000 cm 3 , specific gravity 1.6 g / cm 3 ) of sodium stannate were put into it. Then, 5 passes were circulated. A mother liquor was thus obtained. While this mother liquor is circulated so that the flow rate S1 flowing out from the mother liquor tank is 10 L / min, 20% sodium hydroxide is supplied to a homogenizer (T50 (trade name) manufactured by IKA Japan Co., Ltd.) as a strong dispersion device. did. The supply speed S3 was 9.2 cm 3 / min. The pH was 3.0. The volume of the homogenizer was 500 cm 3 and the stirring speed was 16000 rpm. Circulation was carried out for 15 minutes, during which time sulfuric acid was continuously fed to the homogenizer. In this way, indium and tin hydroxide particles were obtained.
得られた粒子を含むスラリーを、その導電率が６００μＳ／ｃｍ以下となるまでリパルプ洗浄した後、ヌッチェ濾過を行い、ケーキを得た。このケーキを大気中、１５０℃で１０時間乾燥させた。次いで乾燥ケーキを粉砕し、その粉砕粉を１体積％Ｈ2／Ｎ2雰囲気下で４５０℃、４５分還元焼成した。これによって、インジウム及び錫の複合酸化物（ＩＴＯ）粒子を得た。 The slurry containing the obtained particles was repulp washed until the conductivity became 600 μS / cm or less, and then subjected to Nutsche filtration to obtain a cake. This cake was dried in air at 150 ° C. for 10 hours. Next, the dried cake was pulverized, and the pulverized powder was reduced and fired at 450 ° C. for 45 minutes in a 1% by volume H 2 / N 2 atmosphere. Thus, indium and tin composite oxide (ITO) particles were obtained.
〔実施例５〕
図３に示す装置を用い、水酸化錫粒子を製造した。母液槽中に純水９０００ｃｍ3を投入し、そこに１６００ｇの錫酸ナトリウムを投入して５パス循環させた。このようにして母液を得た。この母液を、母液槽から流出する流速Ｓ１が２００ｃｍ3となるように循環させながら、強分散装置としてのホモジナイザ（ＩＫＡジャパン株式会社製のＴ５０（商品名））に２０％硫酸を供給した。供給速度Ｓ３は９．２ｃｍ3／ｍｉｎであった。ホモジナイザの容積は５００ｃｍ3、攪拌速度は１６０００ｒｐｍであった。また、超音波反応装置１７Ａとして新科産業有限会社製のＳＲ４０Ｌ型を用いた。この装置の運転条件は、２０００Ｗ、２５ｋＨｚとした。循環を１５分間行い、その間硫酸を連続的にホモジナイザに供給した。このようにして、水酸化錫粒子を得た。
Example 5
Tin hydroxide particles were produced using the apparatus shown in FIG. 9000 cm 3 of pure water was put into the mother liquor tank, and 1600 g of sodium stannate was put therein and circulated for 5 passes. A mother liquor was thus obtained. While this mother liquor was circulated so that the flow rate S1 flowing out of the mother liquor was 200 cm 3 , 20% sulfuric acid was supplied to a homogenizer (T50 (trade name) manufactured by IKA Japan Co., Ltd.) as a strong dispersion device. The supply speed S3 was 9.2 cm 3 / min. The volume of the homogenizer was 500 cm 3 and the stirring speed was 16000 rpm. In addition, SR40L manufactured by Shinshin Sangyo Co., Ltd. was used as the
得られた粒子を含むスラリーを、その導電率が６００μＳ／ｃｍ以下となるまでリパルプ洗浄した後、ヌッチェ濾過を行い、ケーキを得た。このケーキを大気中、１５０℃で１０時間乾燥させた。次いで乾燥ケーキを粉砕し、その粉砕粉を１体積％Ｈ2／Ｎ2雰囲気下で４５０℃、３０分間還元焼成した。これによって、酸化錫粒子を得た。 The slurry containing the obtained particles was repulp washed until the conductivity became 600 μS / cm or less, and then subjected to Nutsche filtration to obtain a cake. This cake was dried in air at 150 ° C. for 10 hours. Next, the dried cake was pulverized, and the pulverized powder was reduced and fired at 450 ° C. for 30 minutes in a 1% by volume H 2 / N 2 atmosphere. Thereby, tin oxide particles were obtained.
〔実施例６〕
図４に示す装置を用い、水酸化錫粒子を製造した。母液槽中に純水９０００ｃｍ3を投入し、そこに１６００ｇの錫酸ナトリウムを投入して５パス循環させた。このようにして母液を得た。この母液を、母液槽から流出する流速Ｓ１が２００ｃｍ3となるように循環させながら、強分散装置としての超音波反応装置１７Ｂ（新科産業有限会社製のＳＲＴ４０−０１Ｔｙｐｅ）に２０％硫酸を供給した。供給速度Ｓ３は９．２ｃｍ3／ｍｉｎであった。超音波反応装置１７Ｂの容積は５００ｃｍ3であった。運転条件は、１０００Ｗ、４０ｋＨｚであった。また、超音波反応装置１７Ａとして新科産業有限会社製のＳＲ４０Ｌ型を用いた。この装置の運転条件は、２０００Ｗ、２５ｋＨｚとした。循環を１５分間行い、その間硫酸を連続的に超音波反応装置１７Ｂに供給した。このようにして、水酸化錫粒子を得た。
Example 6
Tin hydroxide particles were produced using the apparatus shown in FIG. 9000 cm 3 of pure water was put into the mother liquor tank, and 1600 g of sodium stannate was put therein and circulated for 5 passes. A mother liquor was thus obtained. While this mother liquor was circulated so that the flow rate S1 flowing out of the mother liquor was 200 cm 3 , 20% sulfuric acid was supplied to the
得られた粒子を含むスラリーを、その導電率が６００μＳ／ｃｍ以下となるまでリパルプ洗浄した後、ヌッチェ濾過を行い、ケーキを得た。このケーキを大気中、１５０℃で１０時間乾燥させた。次いで乾燥ケーキを粉砕し、その粉砕粉を１体積％Ｈ2／Ｎ2雰囲気下で４５０℃、３０分間還元焼成した。これによって、酸化錫粒子を得た。 The slurry containing the obtained particles was repulp washed until the conductivity became 600 μS / cm or less, and then subjected to Nutsche filtration to obtain a cake. This cake was dried in air at 150 ° C. for 10 hours. Next, the dried cake was pulverized, and the pulverized powder was reduced and fired at 450 ° C. for 30 minutes in a 1% by volume H 2 / N 2 atmosphere. Thereby, tin oxide particles were obtained.
〔実施例７〕
実施例６において超音波反応装置１７Ａを用いなかった。また超音波反応装置１７Ｂの運転条件として１０００Ｗ、４０ｋＨｚを採用した。これら以外は実施例６と同様にして酸化錫粒子を得た。
Example 7
In Example 6, the
〔比較例１〕
攪拌槽中に純水９０００ｃｍ3を投入し、そこに９３０ｇの錫酸ナトリウムを投入して４０℃で１時間攪拌した。このスラリーを７０℃に昇温した後、２０％硫酸を１３００ｃｍ3供給し、スラリーのｐＨを３にした。その後、更に１時間攪拌を行った。このようにして水酸化錫粒子を得た。
[Comparative Example 1]
9000 cm 3 of pure water was put into a stirring tank, and 930 g of sodium stannate was put therein and stirred at 40 ° C. for 1 hour. After raising the temperature of the slurry to 70 ° C., 1300
得られた粒子を含むスラリーを、その導電率が６００μＳ／ｃｍ以下となるまでリパルプ洗浄した後、ヌッチェ濾過を行い、ケーキを得た。このケーキを大気中、１５０℃で１０時間乾燥させた。次いで乾燥ケーキを粉砕し、その粉砕粉を１体積％Ｈ2／Ｎ2雰囲気下で４５０℃、３０分間還元焼成した。これによって、酸化錫粒子を得た。 The slurry containing the obtained particles was repulp washed until the conductivity became 600 μS / cm or less, and then subjected to Nutsche filtration to obtain a cake. This cake was dried in air at 150 ° C. for 10 hours. Next, the dried cake was pulverized, and the pulverized powder was reduced and fired at 450 ° C. for 30 minutes in a 1% by volume H 2 / N 2 atmosphere. Thereby, tin oxide particles were obtained.
〔比較例２〕
母液槽中にホモジナイザ（ＩＫＡジャパン製 Ｔ−５０）を取り付けた装置を用い、水酸化錫粒子を製造した。母液槽中に純水３５１０ｃｍ3を投入し、次にホモジナイザを用いて水を強分散しながら錫酸ナトリウム５７６ｇを投入し、これを溶解させた。Ｓｎの濃度は４１％であった。引き続きホモジナイザにて強分散処理しながら、２０％硫酸を液のｐＨが２．５になるまで添加して中和した。中和を開始してから終了するまで９８分間にわたり強分散処理を行い続けた。この間、ホモジナイザは４５００ｒｐｍで攪拌させた。このようにして水酸化錫粒子を得た。その後は実施例１と同様にして、酸化錫粒子を得た。
[Comparative Example 2]
Tin hydroxide particles were produced using an apparatus equipped with a homogenizer (T-50 manufactured by IKA Japan) in the mother liquor tank. 3510 cm 3 of pure water was charged into the mother liquor, and then 576 g of sodium stannate was charged while strongly dispersing the water using a homogenizer to dissolve it. The concentration of Sn was 41%. Subsequently, while strongly dispersing with a homogenizer, 20% sulfuric acid was added until the pH of the solution reached 2.5 to neutralize. The strong dispersion treatment was continued for 98 minutes from the start to the end of neutralization. During this time, the homogenizer was stirred at 4500 rpm. In this way, tin hydroxide particles were obtained. Thereafter, in the same manner as in Example 1, tin oxide particles were obtained.
〔評価〕
実施例及び比較例について、反応後でかつ洗浄前の粒子について、粒度分布（Ｄ50、Ｄ90）を以下の方法で測定した。また、焼成後の導電性粒子についても、粒度分布（Ｄ50、Ｄ90）を測定した。更に焼成後の導電性粒子について、比表面積及び体積抵抗を以下の方法で測定した。それらの結果を以下の表１に示す。
[Evaluation]
For Examples and Comparative Examples, the reaction after the and before washing the particles, the particle size distribution (D 50, D 90) were measured by the following method. As for the conductive particles after firing was measured particle size distribution (D 50, D 90). Furthermore, the specific surface area and volume resistance of the conductive particles after firing were measured by the following methods. The results are shown in Table 1 below.
〔粒度分布の測定〕
２００ｃｍ3のサンプル容器に試料約０．１ｇを採り、これに０．２ｇ／ｌのヘキサメタリン酸ソーダを１０ｃｍ3添加混合し、引き続き純水９０ｃｍ3を添加した。日本精機株式会社製の超音波分散機であるＵＳ−３００Ｔを用いて試料を１０分間分散しサンプル液を調製した。このサンプル液を用い、日機装株式会社製マイクロトラックＨＲＡを用いて分散粒度Ｄ50及びＤ90を測定した。
(Measurement of particle size distribution)
About 0.1 g of a sample was placed in a 200 cm 3 sample container, and 10 cm 3 of 0.2 g / l sodium hexametaphosphate was added and mixed thereto, followed by addition of 90 cm 3 of pure water. A sample solution was prepared by dispersing the sample for 10 minutes using US-300T, an ultrasonic disperser manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd. Using this sample solution, the dispersed particle sizes D 50 and D 90 were measured using Microtrac HRA manufactured by Nikkiso Co., Ltd.
〔比表面積の測定〕
ユアサアイオニクス株式会社製モノソーブを用い、ＢＥＴ比表面積を測定した。
[Measurement of specific surface area]
The BET specific surface area was measured using a monosorb manufactured by Yuasa Ionics Co., Ltd.
〔体積抵抗率の測定〕
三菱化学株式会社製ロレスタＰＡＰＤ−４１を用い、試料を５００ｋｇｆ／ｃｍ2に加圧した状態下に、同社製ロレスタＡＰを用い体積抵抗率を測定した。
(Measurement of volume resistivity)
Using a Loresta PAPD-41 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, the volume resistivity was measured using Loresta AP manufactured by the same company under the condition that the sample was pressurized to 500 kgf / cm 2 .
表１に示す結果から明らかなように、実施例で得られた粒子は、粒度分布がシャープであり、粒子の凝集の程度が低いことが判る。また、体積抵抗が低く、粒子の分散性が良好であることが判る。特に、ホモジナイザと超音波反応装置とを併用した実施例５においては、焼成前の粒子はそのＤ50／Ｄ90の値が大きくなり、シャープな粒度分布を有していることが判る。 As is apparent from the results shown in Table 1, the particles obtained in the examples have a sharp particle size distribution and a low degree of particle aggregation. Moreover, it turns out that volume resistance is low and the dispersibility of particle | grains is favorable. In particular, in Example 5 in which a homogenizer and an ultrasonic reaction device are used in combination, the particle before firing has a large D 50 / D 90 value, which indicates that it has a sharp particle size distribution.
１０ 製造装置
１１ 母液槽
１２ 第１循環配管
１３ 強分散装置
１４ 第２循環配管
２０ 母液
DESCRIPTION OF
Claims (8)
該強分散装置において該母液を強分散させた状態下に第１の原料物質と第２の原料物質とを反応させて、粒子を生成させることを特徴とする、粒子の製造方法。 While circulating the mother liquor containing the first source material, supplying the second source material to the strong dispersion device provided in a part of the circulation path,
A method for producing particles, characterized in that particles are produced by reacting a first raw material and a second raw material in a state where the mother liquor is strongly dispersed in the strong dispersion apparatus.
第２の原料物質が酸又はアルカリである請求項１ないし３の何れかに記載の粒子の製造方法。 The mother liquor contains 1) a water-soluble tin compound, 2) a water-soluble zinc compound, or 3) a water-soluble indium compound and a water-soluble tin compound as the first raw material,
The method for producing particles according to any one of claims 1 to 3, wherein the second raw material is an acid or an alkali.
該超音波反応装置において該母液を強分散させた状態下に第１の原料物質と第２の原料物質とを反応させて、粒子を生成させることを特徴とする、粒子の製造方法。 While circulating the mother liquor containing the first source material, supplying the second source material to the ultrasonic reaction device provided in a part of the circulation path,
A method for producing particles, characterized in that particles are produced by reacting a first raw material and a second raw material in a state where the mother liquor is strongly dispersed in the ultrasonic reaction device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008317524A JP5155840B2 (en) | 2008-12-12 | 2008-12-12 | Method for producing metal hydroxide particles |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008317524A JP5155840B2 (en) | 2008-12-12 | 2008-12-12 | Method for producing metal hydroxide particles |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010137183A true JP2010137183A (en) | 2010-06-24 |
| JP5155840B2 JP5155840B2 (en) | 2013-03-06 |
Family
ID=42347783
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008317524A Expired - Fee Related JP5155840B2 (en) | 2008-12-12 | 2008-12-12 | Method for producing metal hydroxide particles |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5155840B2 (en) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012098948A1 (en) * | 2011-01-19 | 2012-07-26 | 三井金属鉱業株式会社 | Tin oxide particles and method for producing same |
| JP2013151383A (en) * | 2012-01-24 | 2013-08-08 | Tsukishima Kikai Co Ltd | Method for manufacturing aggregated particle of metal, method for manufacturing positive electrode active material for lithium ion battery, method for manufacturing lithium ion battery, and lithium ion battery |
| JP2014125415A (en) * | 2012-12-27 | 2014-07-07 | Mitsubishi Materials Corp | ITO powder |
| JP6142295B1 (en) * | 2016-06-07 | 2017-06-07 | 株式会社田中化学研究所 | Positive electrode active material for secondary battery |
| EP3327508A1 (en) | 2016-11-24 | 2018-05-30 | Konica Minolta, Inc. | Electrophotographic photoreceptor |
| WO2022202489A1 (en) | 2021-03-26 | 2022-09-29 | 月島機械株式会社 | Crystallization device, crystallization system, and crystallization method |
| WO2022230420A1 (en) * | 2021-04-28 | 2022-11-03 | 月島機械株式会社 | Crystallization method, crystallization device, and crystallization system |
| WO2023176146A1 (en) * | 2022-03-15 | 2023-09-21 | 月島機械株式会社 | Crystallization system and crystallization method |
Citations (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56136904A (en) * | 1980-03-31 | 1981-10-26 | Toshiba Corp | Production of platinum group particle |
| JPH04154605A (en) * | 1990-10-16 | 1992-05-27 | Agency Of Ind Science & Technol | Inorganic uniform fine sphere and preparation thereof |
| JPH08318153A (en) * | 1995-05-24 | 1996-12-03 | Nikki Kagaku Kk | Precipitate forming method adjusting precipitate particle diameter |
| JP2003119023A (en) * | 2001-10-12 | 2003-04-23 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | Method for producing ito powder, and ito powder |
| JP2003164745A (en) * | 2001-11-29 | 2003-06-10 | Yamatake Corp | Microreactor |
| JP2004533912A (en) * | 2001-03-07 | 2004-11-11 | アンシャン ユニバーシティ オブ サイエンス アンド テクノロジー | Method for producing nanometer-sized fine particles |
| JP2005036316A (en) * | 2003-06-23 | 2005-02-10 | Mitsubishi Materials Corp | Metal particulate and production method therefor |
| JP2005506174A (en) * | 2001-10-17 | 2005-03-03 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | Rotor stator apparatus and method for particle formation |
| JP2005108734A (en) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | Conductive powder and its producing method |
| JP2006265086A (en) * | 2005-02-24 | 2006-10-05 | Toyota Motor Corp | Method and apparatus for manufacturing nickel hydroxide particles |
| JP2006297379A (en) * | 2005-03-25 | 2006-11-02 | Asahi Kasei Chemicals Corp | Ultrasonic reactor apparatus |
| JP2007031799A (en) * | 2005-07-28 | 2007-02-08 | Toda Kogyo Corp | Method for producing metal nanoparticle |
| JP2007204298A (en) * | 2006-01-31 | 2007-08-16 | Ymc Co Ltd | Apparatus for producing fine particle and microchannel substrate |
| JP2007291515A (en) * | 2006-03-31 | 2007-11-08 | Taiyo Nippon Sanso Corp | Particulate, and method and apparatus for producing the same |
-
2008
- 2008-12-12 JP JP2008317524A patent/JP5155840B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56136904A (en) * | 1980-03-31 | 1981-10-26 | Toshiba Corp | Production of platinum group particle |
| JPH04154605A (en) * | 1990-10-16 | 1992-05-27 | Agency Of Ind Science & Technol | Inorganic uniform fine sphere and preparation thereof |
| JPH08318153A (en) * | 1995-05-24 | 1996-12-03 | Nikki Kagaku Kk | Precipitate forming method adjusting precipitate particle diameter |
| JP2004533912A (en) * | 2001-03-07 | 2004-11-11 | アンシャン ユニバーシティ オブ サイエンス アンド テクノロジー | Method for producing nanometer-sized fine particles |
| JP2003119023A (en) * | 2001-10-12 | 2003-04-23 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | Method for producing ito powder, and ito powder |
| JP2005506174A (en) * | 2001-10-17 | 2005-03-03 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | Rotor stator apparatus and method for particle formation |
| JP2003164745A (en) * | 2001-11-29 | 2003-06-10 | Yamatake Corp | Microreactor |
| JP2005036316A (en) * | 2003-06-23 | 2005-02-10 | Mitsubishi Materials Corp | Metal particulate and production method therefor |
| JP2005108734A (en) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | Conductive powder and its producing method |
| JP2006265086A (en) * | 2005-02-24 | 2006-10-05 | Toyota Motor Corp | Method and apparatus for manufacturing nickel hydroxide particles |
| JP2006297379A (en) * | 2005-03-25 | 2006-11-02 | Asahi Kasei Chemicals Corp | Ultrasonic reactor apparatus |
| JP2007031799A (en) * | 2005-07-28 | 2007-02-08 | Toda Kogyo Corp | Method for producing metal nanoparticle |
| JP2007204298A (en) * | 2006-01-31 | 2007-08-16 | Ymc Co Ltd | Apparatus for producing fine particle and microchannel substrate |
| JP2007291515A (en) * | 2006-03-31 | 2007-11-08 | Taiyo Nippon Sanso Corp | Particulate, and method and apparatus for producing the same |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012098948A1 (en) * | 2011-01-19 | 2012-07-26 | 三井金属鉱業株式会社 | Tin oxide particles and method for producing same |
| JP2012148928A (en) * | 2011-01-19 | 2012-08-09 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | Tin oxide particle, and method for producing the same |
| US8916070B2 (en) | 2011-01-19 | 2014-12-23 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | Tin oxide particles and method for producing same |
| JP2013151383A (en) * | 2012-01-24 | 2013-08-08 | Tsukishima Kikai Co Ltd | Method for manufacturing aggregated particle of metal, method for manufacturing positive electrode active material for lithium ion battery, method for manufacturing lithium ion battery, and lithium ion battery |
| JP2014125415A (en) * | 2012-12-27 | 2014-07-07 | Mitsubishi Materials Corp | ITO powder |
| JP2017220359A (en) * | 2016-06-07 | 2017-12-14 | 株式会社田中化学研究所 | Positive electrode active material for secondary battery |
| JP6142295B1 (en) * | 2016-06-07 | 2017-06-07 | 株式会社田中化学研究所 | Positive electrode active material for secondary battery |
| EP3327508A1 (en) | 2016-11-24 | 2018-05-30 | Konica Minolta, Inc. | Electrophotographic photoreceptor |
| WO2022202489A1 (en) | 2021-03-26 | 2022-09-29 | 月島機械株式会社 | Crystallization device, crystallization system, and crystallization method |
| KR20230162609A (en) | 2021-03-26 | 2023-11-28 | 츠키시마 기카이 가부시키가이샤 | Crystallization apparatus, crystallization system, and crystallization method |
| WO2022230420A1 (en) * | 2021-04-28 | 2022-11-03 | 月島機械株式会社 | Crystallization method, crystallization device, and crystallization system |
| JP2022170211A (en) * | 2021-04-28 | 2022-11-10 | 月島機械株式会社 | Crystallization method, crystallization device and crystallization system |
| JP7214782B2 (en) | 2021-04-28 | 2023-01-30 | 月島機械株式会社 | Crystallization method, crystallizer, and crystallizer system |
| WO2023176146A1 (en) * | 2022-03-15 | 2023-09-21 | 月島機械株式会社 | Crystallization system and crystallization method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP5155840B2 (en) | 2013-03-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5155840B2 (en) | Method for producing metal hydroxide particles | |
| KR101510369B1 (en) | Process for producing copper powder and copper powder | |
| JP5144022B2 (en) | Copper powder manufacturing method and copper powder obtained by the manufacturing method | |
| TWI574761B (en) | Silver powder and its manufacturing method | |
| JP6201875B2 (en) | Silver powder and method for producing the same | |
| WO2013133103A1 (en) | Silver powder and method for producing same | |
| JP5438956B2 (en) | Method for producing particles having coating layer | |
| JP5344099B2 (en) | Silver powder and method for producing the same | |
| KR20100024431A (en) | Spherical copper fine powder and process for production of the same | |
| JP5857703B2 (en) | Silver powder | |
| JP2006045655A (en) | Silver nanoparticle and production method therefor | |
| JP4540091B2 (en) | Conductive powder and method for producing the same | |
| JP6252275B2 (en) | Silver powder and method for producing the same | |
| JP2015228352A (en) | Conductive particle | |
| WO2014087728A1 (en) | Silver powder | |
| JP2009256776A (en) | Method for producing silver fine particle | |
| JP6115405B2 (en) | Silver powder manufacturing method | |
| US20130272949A1 (en) | Transition metal compound particles and methods of production | |
| JP5053925B2 (en) | Silver oxide powder | |
| US20100048741A1 (en) | Fabrication Method of CaCO3 Nanoparticles Using Beads Milling | |
| JP2018053342A (en) | Production method of silver powder and production apparatus of silver powder | |
| JP2011137189A (en) | Silver particulate having high sphericity, and method for producing the same | |
| JP2016138310A (en) | Silver powder and production method therefor, and photosensitive silver paste | |
| WO2019135306A1 (en) | Copper nano ink production method and copper nano ink | |
| JP5884708B2 (en) | Silver powder manufacturing method and manufacturing apparatus thereof |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110927 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120224 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120403 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120528 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121113 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121207 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151214 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5155840 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |