JP2010071843A - マスク検査装置及びマスク検査方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】マスクを保持したステージをX方向及びY方向に移動させ、レーザ干渉計の測定結果を用いながら、マスクに描画されたパターンの光学画像を取得する(S100)。予め測定した光学画像の位置ずれ量をフィッティングした多項式を用いて、取得した光学画像の位置ずれを補正する(S102)。多項式補正後に残存する位置ずれを、予め測定した位置ずれ量を記述したマップを用いて補正する(S104)。マップ補正後の光学画像と参照画像を比較する(S108)。
【選択図】図7
Description
Δx=a0+a1x+a2y+a3x2+a4xy+a5y2+a6x3+a7x2y+a8xy2+a9y3 ・・・(1)
Δy=b0+b1x+b2y+b3x2+b4xy+b5y2+b6x3+b7x2y+b8xy2+b9y3 ・・・(2)
Δxi+sj+t=Δxi,j(1−s)(1−t)+Δxi+1,js(1−t)+Δxi,j+1(1−s)t+Δxi+1,j+1st ・・・(3)
Δyi+sj+t=Δyi,j(1−s)(1−t)+Δyi+1,js(1−t)+Δyi,j+1(1−s)t+Δyi+1,j+1st ・・・(4)
101 マスク
102 ステージ
111、113 ミラー
112 X軸レーザ干渉計
114 Y軸レーザ干渉計
110 透過光検出部
116 光学画像入力部
118 位置ずれ量記憶部
120 位置ずれ補正部
124 画像比較部
150 制御部
Claims (5)
- 第1のミラーと第2のミラーを有し、マスクを保持した状態でX方向及びY方向に移動可能なステージと、
前記第1のミラーにレーザ光を照射してその反射光を受光することにより、前記ステージのX方向の位置を測定する第1のレーザ干渉計と、
前記第2のミラーにレーザ光を照射してその反射光を受光することにより、前記ステージのY方向の位置を測定する第2のレーザ干渉計と、
前記ステージをX方向及びY方向に移動させ、前記第1及び第2のレーザ干渉計の測定結果を用いながら、前記マスクに描画されたパターンの光学画像を取得する光学画像取得部と、
予め測定された前記マスクの撓み並びに前記第1及び第2のミラーの曲がりに起因する光学画像の位置ずれ量を記憶する位置ずれ量記憶部と、
前記位置ずれ量記憶部に記憶された位置ずれ量に基づいて、前記光学画像取得部により取得された光学画像の位置ずれを補正する位置ずれ補正部と、
前記位置ずれ補正部により補正された光学画像と、所定の参照画像とを比較する画像比較部とを備えたことを特徴とするマスク検査装置。 - 前記位置ずれ量記憶部は、予め測定された位置ずれ量を多項式にフィッティングして求めたパラメータと、予め測定された位置ずれ量を記述したマップとを記憶し、
前記位置ずれ補正部は、前記パラメータ及び前記マップを用いて、前記光学画像取得部により取得された光学画像の位置ずれを補正するように構成されたことを特徴とする請求項1記載のマスク検査装置。 - マスクを保持したステージをX方向及びY方向に移動させ、このステージのX方向及びY方向の位置をレーザ干渉計により測定し、その測定結果を用いながら前記マスクに描画されたパターンの光学画像を取得する取得ステップと、
予め記憶された前記マスクの撓み及び前記レーザ干渉計から照射されたレーザ光を反射するミラーの曲がりに起因する光学画像の位置ずれ量を読み出し、読み出した位置ずれ量に基づいて、前記取得ステップで取得された光学画像の位置ずれを補正する補正ステップと、
前記補正ステップで補正された光学画像と、所定の参照画像とを比較するステップとを含むことを特徴とするマスク検査方法。 - 前記補正ステップは、予め測定された前記位置ずれ量を多項式にフィッティングして求めたパラメータを読み出し、このパラメータを用いて前記取得ステップで取得された光学画像の位置ずれを補正する多項式補正ステップを有することを特徴とする請求項3記載のマスク検査方法。
- 前記補正ステップは、予め測定された前記位置ずれ量を記述したマップを読み出し、このマップを用いて前記多項式補正ステップの実行後に残存する光学画像の位置ずれを補正するマップ補正ステップを更に有することを特徴とする請求項4記載のマスク検査方法。
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