JP5684628B2 - パターン検査装置及びパターン検査方法 - Google Patents
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- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims description 69
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 34
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 76
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 40
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 29
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 27
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 23
- 238000013461 design Methods 0.000 description 12
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 10
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 10
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 230000004044 response Effects 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 5
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 4
- 238000011161 development Methods 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000013139 quantization Methods 0.000 description 1
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Description
レーザ光を発生させる光源と、
パターンが形成された被検査試料にレーザ光を照明する照明光学系と、
前記光源と前記被検査試料との間に設けられ、光の一部を分岐してレーザ光の光量を測定する光量センサと、
被検査試料を透過或いは反射したレーザ光を受光して、パターンの光学画像を撮像する撮像センサと、
撮像センサの出力タイミングが光量センサの出力タイミングより早い場合に、撮像センサの出力タイミングと前記光量センサの出力タイミングとの時間差分の期間、前記撮像センサの出力データを一時的に記憶する第1の記憶装置と、
光量センサの出力タイミングが撮像センサの出力タイミングより早い場合に、撮像センサの出力タイミングと光量センサの出力タイミングとの時間差分の期間、光量センサの出力データを一時的に記憶する第2の記憶装置と、
撮像センサにより撮像された光学画像の階調値を時間差分ずらした時刻に光量センサから出力された光量値を用いて補正する補正部と、
比較対照となる参照画像を入力し、階調値が補正された光学画像と参照画像とを画素単位で比較する比較部と、
を備えたことを特徴とする。
ステージの移動方向と移動速度とのうち少なくとも一方の条件を可変にして得られた、撮像センサの出力タイミングと光量センサの出力タイミングとの複数の時間差を示す複数の時間差情報を記憶する第3の記憶装置と、
撮像する際の条件に応じて複数の時間差のうちの1つを選択する選択部と、
をさらに備え、
補正部は、選択された時間差分ずらした時刻に光量センサから出力された光量値を用いて撮像センサにより撮像された光学画像の階調値を補正すると好適である。
光量センサは、撮像センサが撮像する条件で、条件毎に、レーザ光の光量を測定し、
撮像された光学画像と測定された光量とを用いて、条件毎の時間差を演算する時間差演算部をさらに備えると好適である。
光源からレーザ光を発生させる工程と、
パターンが形成された被検査試料にレーザ光を照明する工程と、
光量センサを用いて、被検査試料に照明される前のレーザ光の光量を測定する工程と、
撮像センサを用いて、被検査試料を透過或いは反射したレーザ光を受光して、パターンの光学画像を撮像する工程と、
撮像センサの出力タイミングと光量センサの出力タイミングとの時間差分の期間、撮像センサにより撮像された光学画像のデータと光量センサより測定された光量のデータとのうち、出力タイミングが早い方のデータを一時的に記憶装置に記憶する工程と、
撮像された光学画像の階調値を時間差分ずらした時刻に光量センサから出力された光量値を用いて補正する工程と、
比較対照となる参照画像を入力し、階調値が補正された光学画像と前記参照画像とを画素単位で比較する工程と、
を備えたことを特徴とする。
撮像センサにより撮像された光学画像の階調値は、選択された時間差分ずらした時刻に光量センサから出力された光量値を用いて補正されるように構成すると好適である。
図1は、実施の形態1におけるパターン検査装置の構成を示す概念図である。図1において、マスク等の基板を試料として、かかる試料の欠陥を検査するパターン検査装置100は、光学画像取得部150と制御回路160を備えている。光学画像取得部150は、光源103、照明光学系170、ハーフミラー172、光量センサ144、XYθテーブル102(ステージ)、拡大光学系104、タイムディレイインテグレータ(TDI)センサ105、センサ回路106、レーザ測長システム122、及びオートローダ130を備えている。制御回路160では、コンピュータとなる制御計算機110が、データ伝送路となるバス120を介して、位置回路107、比較部の一例となる比較回路108、展開回路111、参照回路112、オートローダ制御回路113、テーブル制御回路114、記憶装置の一例となる磁気ディスク装置109、磁気テープ装置115、フレキシブルディスク装置(FD)116、CRT117、パターンモニタ118、プリンタ119、バッファ用の記憶装置140,142、バッファ制御回路145、積分回路146、補正回路148、測定回路180、時間差演算回路182、及び選択回路184に接続されている。
20,22 遮光部
100 パターン検査装置
101 フォトマスク
102 XYθテーブル
103 光源
104 拡大光学系
105 TDIセンサ
106 センサ回路
107 位置回路
108 比較回路
109 磁気ディスク装置
110 制御計算機
112 設計画像作成回路
115 磁気テープ装置
120 バス
140,142 記憶装置
144 光量センサ
145 バッファ制御回路
146 積分回路
148 補正回路
150 光学画像取得部
160 制御回路
170 照明光学系
172 ハーフミラー
180 測定回路
182 時間差演算回路
184 選択回路
Claims (3)
- レーザ光を発生させる光源と、
パターンが形成された被検査試料に前記レーザ光を照明する照明光学系と、
前記光源と前記被検査試料との間に設けられ、光の一部を分岐して前記レーザ光の光量を測定する光量センサと、
前記被検査試料を透過或いは反射したレーザ光を受光して、前記パターンの光学画像を撮像する撮像センサと、
前記撮像センサの出力タイミングが前記光量センサの出力タイミングより早い場合に、前記撮像センサの出力タイミングと前記光量センサの出力タイミングとの時間差分の期間、前記撮像センサの出力データを一時的に記憶する第1の記憶装置と、
前記光量センサの出力タイミングが前記撮像センサの出力タイミングより早い場合に、前記撮像センサの出力タイミングと前記光量センサの出力タイミングとの時間差分の期間、前記光量センサの出力データを一時的に記憶する第2の記憶装置と、
前記撮像センサにより撮像された光学画像の階調値を前記時間差分ずらした時刻に前記光量センサから出力された光量値を用いて補正する補正部と、
比較対照となる参照画像を入力し、階調値が補正された光学画像と前記参照画像とを画素単位で比較する比較部と、
前記被検査試料を載置する移動可能なステージと、
前記ステージの移動方向と移動速度とのうち少なくとも一方の条件を可変にして得られた、前記撮像センサの出力タイミングと前記光量センサの出力タイミングとの複数の時間差を示す複数の時間差情報を記憶する第3の記憶装置と、
撮像する際の条件に応じて前記複数の時間差のうちの1つを選択する選択部と、
を備え、
前記補正部は、選択された時間差分ずらした時刻に前記光量センサから出力された光量値を用いて前記撮像センサにより撮像された光学画像の階調値を補正することを特徴とするパターン検査装置。 - 前記撮像センサは、前記ステージの移動方向と移動速度とのうち少なくとも一方の条件を可変にして、条件毎に、前記パターンの光学画像を撮像し、
前記光量センサは、前記撮像センサが撮像する条件で、条件毎に、前記レーザ光の光量を測定し、
撮像された光学画像と測定された光量とを用いて、条件毎の前記時間差を演算する時間差演算部をさらに備えたことを特徴とする請求項1記載のパターン検査装置。 - 光源からレーザ光を発生させる工程と、
パターンが形成された被検査試料に前記レーザ光を照明する工程と、
光量センサを用いて、前記被検査試料に照明される前の前記レーザ光の光量を測定する工程と、
撮像センサを用いて、前記被検査試料を透過或いは反射したレーザ光を受光して、前記パターンの光学画像を撮像する工程と、
前記撮像センサの出力タイミングと前記光量センサの出力タイミングとの時間差分の期間、前記撮像センサにより撮像された光学画像のデータと前記光量センサより測定された光量のデータとのうち、出力タイミングが早い方のデータを一時的に記憶装置に記憶する工程と、
撮像された光学画像の階調値を前記時間差分ずらした時刻に前記光量センサから出力された光量値を用いて補正する工程と、
比較対照となる参照画像を入力し、階調値が補正された光学画像と前記参照画像とを画素単位で比較する工程と、
前記被検査試料を載置する移動可能なステージの移動方向と移動速度とのうち少なくとも一方の条件を可変にして得られた、前記撮像センサの出力タイミングと前記光量センサの出力タイミングとの複数の時間差を示す複数の時間差情報を記憶する記憶装置から複数の時間差情報を読み出し、撮像する際の条件に応じて前記複数の時間差のうちの1つを選択する工程と、
を備え、
前記撮像センサにより撮像された光学画像の階調値は、選択された時間差分ずらした時刻に前記光量センサから出力された光量値を用いて補正されることを特徴とするパターン検査方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011077812A JP5684628B2 (ja) | 2011-03-31 | 2011-03-31 | パターン検査装置及びパターン検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011077812A JP5684628B2 (ja) | 2011-03-31 | 2011-03-31 | パターン検査装置及びパターン検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012211834A JP2012211834A (ja) | 2012-11-01 |
JP5684628B2 true JP5684628B2 (ja) | 2015-03-18 |
Family
ID=47265912
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011077812A Active JP5684628B2 (ja) | 2011-03-31 | 2011-03-31 | パターン検査装置及びパターン検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5684628B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6546509B2 (ja) | 2015-10-28 | 2019-07-17 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | パターン検査方法及びパターン検査装置 |
JP6745152B2 (ja) | 2016-07-01 | 2020-08-26 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 合焦装置、合焦方法、及びパターン検査方法 |
WO2024134724A1 (ja) * | 2022-12-19 | 2024-06-27 | 株式会社日立ハイテク | 光学式異物検査装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005241290A (ja) * | 2004-02-24 | 2005-09-08 | Toshiba Corp | 画像入力装置及び検査装置 |
JP4740705B2 (ja) * | 2005-09-28 | 2011-08-03 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターン欠陥検査装置 |
-
2011
- 2011-03-31 JP JP2011077812A patent/JP5684628B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012211834A (ja) | 2012-11-01 |
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