JP2010067964A - リソグラフィ装置及び位置合わせ方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】基板が熱的に安定化する前に基板の一部の位置合わせ及び露光を行う場合に生じ得る基板の熱的歪みに起因する基板に適用されるパターンのゆがみを防止でき、これにより、基板に適用されるパターンの位置合わせ及びオーバーレイを改善する。
【解決手段】この方法は、基板、又は、リソグラフィ装置の若しくはリソグラフィ装置内の部分がある限度内で熱的に安定化するまで、リソグラフィ装置の位置合わせ機構の部分を用いて基板の部分又はパターニングデバイスの部分の上で位置合わせ手順の部分を実行するステップを含む。
【選択図】図2
Description
− 放射ビームPB(例えばUV放射、DUV放射、EUV放射、又はEUV外放射)を調節する照明システム(イルミネータ)ILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持し、アイテムPLに対してパターニングデバイスを正確に位置決めする第一ポジショナデバイスPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持し、アイテムPLに対して基板を正確に位置決めするための第二ポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
− パターニングデバイスMAによって放射ビームPBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)にイメージを形成するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズ)PLとを含む。
Claims (12)
- 基板又はパターニングデバイスのための位置合わせ方法であって、
基板、又は、リソグラフィ装置の若しくはリソグラフィ装置内の部分がある限度内で熱的に安定化するまで、前記リソグラフィ装置の位置合わせ機構の部分を用いて前記基板の部分又はパターニングデバイスの部分の上で位置合わせ手順の部分を実行するステップを含む、
方法。 - 前記基板、又は、前記リソグラフィ装置の若しくは前記リソグラフィ装置内の前記部分が前記限度内で熱的に安定化したことが判定された場合、前記基板にパターンを適用するために前記基板の前記部分を放射に露呈させるステップを更に含む、
請求項1に記載の位置合わせ方法。 - 前記位置合わせ手順の前記部分をある回数だけ繰り返すステップを更に含み、
前記回数が、前記基板又は前記リソグラフィ装置の若しくは前記リソグラフィ装置内の前記部分が前記限度内で熱的に安定化するために前記位置合わせ手順の前記部分を実行しなければならない回数である、
請求項2に記載の位置合わせ方法。 - 前記基板の前記部分又は前記パターニングデバイスの前記部分の位置合わせを少なくとも示す情報を確定するために、前記位置合わせ手順の前記部分の最終的な繰り返しの間に、前記リソグラフィ装置の部分に対して前記基板の前記部分又は前記パターニングデバイスの前記部分を位置合わせするステップを更に含む、
請求項3に記載の位置合わせ方法。 - 前記位置合わせ手順の前記部分が、前記基板の前記部分又は前記パターニングデバイスの前記部分の前記位置合わせを少なくとも示す情報を確定することを含む、
請求項1〜4のいずれかに記載の位置合わせ方法。 - 前記位置合わせ手順の前記部分が、前記リソグラフィ装置の部分に対して前記基板の前記部分又は前記パターニングデバイスの前記部分を位置合わせして前記基板の前記部分又は前記パターニングデバイスの前記部分の前記位置合わせを少なくとも示す情報を確定することを含む、
請求項1〜5のいずれかに記載の位置合わせ方法。 - 前記基板の前記部分又は前記パターニングデバイスの前記部分の前記位置合わせを少なくとも示す前記情報が前記限度内となるまで前記位置合わせ手順の前記部分を繰り返すステップを更に含み、
前記限度内にある前記情報が、少なくとも、前記基板、又は、前記リソグラフィ装置の若しくは前記リソグラフィ装置内の前記部分が前記限度内で熱的に安定化していることの指示である、
請求項4〜6のいずれかに記載の位置合わせ方法。 - ある繰り返しにおいて取得された前記情報と別の繰り返しにおいて取得された前記情報との間の差が前記限度内となるまで前記位置合わせ手順の前記部分を繰り返すステップを更に含み、
前記限度内にある前記情報の前記差が、少なくとも、前記基板、又は、前記リソグラフィ装置の若しくは前記リソグラフィ装置内の前記部分が前記限度内で熱的に安定化していることの指示である、
請求項7に記載の位置合わせ方法。 - 前記情報が、前記基板の前記部分又は前記パターニングデバイスの前記部分の平行移動、対称及び非対称の回転、対称及び非対称の膨張、又は傾斜に関するものであり、
または、前記情報が、前記基板の前記部分上に又は前記パターニングデバイスの前記部分によって投影された画像の画像焦点に関するものである、
請求項4〜8のいずれかに記載の位置合わせ方法。 - 前記基板の前記部分又は前記パターニングデバイスの前記部分の上で位置合わせ手順の部分を実行することが、
前記基板の前記部分又は前記パターニングデバイスの前記部分を移動させるステップと、
前記基板の前記部分又は前記パターニングデバイスの前記部分の上の位置合わせマークを照明するステップと、
前記基板の前記部分又は前記パターニングデバイスの前記部分を位置合わせするステップと、
前記基板の前記部分又は前記パターニングデバイスの前記部分のダミーの位置合わせを実行するステップと、
から選択された1つ以上のステップを含む、
請求項1〜9のいずれかに記載の位置合わせ方法。 - 前記リソグラフィ装置の若しくは前記リソグラフィ装置内の前記部分が、パターニングデバイスである、
請求項1〜10のいずれかに記載の位置合わせ方法。 - リソグラフィ装置であって、
放射ビームの断面にパターンを与えるように構成されたパターニングデバイスを保持するように構成された支持構造と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記基板のターゲット部分上に前記パターニングされた放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
前記リソグラフィ装置の部分に対して前記基板の部分又は前記パターニングデバイスの部分を位置合わせするように構成された位置合わせ機構と、
前記位置合わせ機構の部分を制御するように構成されると共に、基板、又は、前記リソグラフィ装置の若しくは前記リソグラフィ装置内の部分がある限度内で熱的に安定化するまで前記基板の部分又は前記パターニングデバイスの部分の上で位置合わせ手順の部分を実行するために前記位置合わせ機構の部分を制御するように構成された、位置合わせ機構コントローラと、
を含むリソグラフィ装置。
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