JP2009302439A - Light transmissive electromagnetic shield material and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の前面フィルタや、病院などの電磁波シールドを必要とする建築物の窓に用いられ得る貼着用シート等として有用な光透過性電磁波シールド材に関する。 The present invention relates to a light-transmitting electromagnetic wave shielding material useful as a sticking sheet or the like that can be used for a front filter of a plasma display panel (PDP), a building window requiring an electromagnetic wave shield such as a hospital.
近年、ＯＡ機器や通信機器等の普及にともない、これらの機器から発生する電磁波によりもたらされる人体への影響が懸念されている。また、携帯電話等の電磁波により精密機器の誤作動などを起こす場合もあり、電磁波は問題視されている。 In recent years, with the spread of OA equipment, communication equipment, etc., there is a concern about the influence on the human body caused by electromagnetic waves generated from these equipment. In addition, electromagnetic waves from a mobile phone or the like may cause malfunction of precision equipment, and electromagnetic waves are regarded as a problem.
そこで、ＯＡ機器のＰＤＰの前面フィルタとして、電磁波シールド性および光透過性を有する光透過性電磁波シールド材が開発され、実用に供されている。このような光透過性電磁波シールド材はまた電磁波から精密機器を保護するために、病院や研究室等の精密機器設置場所の窓材としても利用されている。 Therefore, a light-transmitting electromagnetic wave shielding material having an electromagnetic wave shielding property and a light transmitting property has been developed and put into practical use as a front filter for a PDP of an OA device. Such a light-transmitting electromagnetic wave shielding material is also used as a window material for installation of precision equipment such as hospitals and laboratories in order to protect precision equipment from electromagnetic waves.
この光透過性電磁波シールド材では、光透過性と電磁波シールド性を両立させることが必要である。そのために、光透過性電磁波シールド材には、例えば、透明基板の一方の面に、金属線又は導電性繊維を網状にした導電性メッシュからなる電磁波シールド層が設けられたものが使用される。この導電性のメッシュの部分によって電磁波がシールドされ、開口部によって光の透過が確保される。この他にも、透明基板上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けることにより、透明基板上に導電性メッシュからなる電磁波シールド層を設けられた光透過性電磁波シールド材なども使用されている。 In this light-transmitting electromagnetic wave shielding material, it is necessary to make both light transmittance and electromagnetic wave shielding properties compatible. For this purpose, for example, a light-transmitting electromagnetic wave shielding material is used in which an electromagnetic wave shielding layer made of a conductive mesh in which a metal wire or a conductive fiber is made into a net is provided on one surface of a transparent substrate. Electromagnetic waves are shielded by the conductive mesh portion, and light transmission is ensured by the opening. In addition to this, a light-transmitting electromagnetic wave shielding material provided with an electromagnetic wave shielding layer made of a conductive mesh on a transparent substrate by etching a layer of copper foil or the like on a transparent substrate into a net shape and providing an opening. Etc. are also used.
このように電磁波シールド層において、優れた光透過性と電磁波シールド性を両立させるには、導電性メッシュにおいて線幅を極めて細くし、非常に微細なパターンとする必要がある。しかしながら、上記した従来の光透過性電磁波シールド材を発光パネル上に配置すると、発光パネルにおける画素ピッチと導電性メッシュとの周期的なパターンが重ね合わさることにより、モアレ（干渉縞）が発生し、この現象によって画像が非常に見難いものとなる。 As described above, in the electromagnetic wave shielding layer, in order to achieve both excellent light transmittance and electromagnetic wave shielding properties, it is necessary to make the line width very small in the conductive mesh to form a very fine pattern. However, when the above-described conventional light-transmitting electromagnetic wave shielding material is disposed on the light-emitting panel, the periodic pattern of the pixel pitch and the conductive mesh in the light-emitting panel is overlapped to generate moire (interference fringes). This phenomenon makes the image very difficult to see.
したがって、モアレの発生を減少するために、特許文献１では、導電性メッシュとして、線径１〜２００μｍ、開口率３０〜９９．９％の金属繊維よりなるものを用いた光透過性電磁波シールド材が開示されている。また、特許文献２では、メッシュを構成する線の幅が３〜１８μｍであり、かつ、メッシュを構成する線の交点における交点太り率が２．０以下である導電性メッシュを用いた光透過性電磁波シールド材が開示されている。
Therefore, in order to reduce the occurrence of moire,
上述の通り、光透過性電磁波シールド材におけるモアレの発生を減少させるために、従来では導電性メッシュにおける線径や間隔、網目形状などを調整する手段などが用いられている。しかしながら、格子状など一定の周期を有する導電性メッシュでは、モアレ発生の減少には限界があり、十分にモアレ発生を抑制することができなかった。そのため、発光パネルにおける画素ピッチに対して導電性メッシュのパターンを決定する、発光パネルと導電性メッシュとの重ねる角度を調整するなどの手段を用いてモアレが可能な限り見えないように調整する必要が生じ、生産性の低下を招くなどの問題もあった。 As described above, in order to reduce the occurrence of moire in the light-transmitting electromagnetic wave shielding material, conventionally, means for adjusting the wire diameter, spacing, mesh shape, etc. of the conductive mesh have been used. However, in a conductive mesh having a certain period such as a lattice shape, there is a limit to the reduction in the generation of moire, and the generation of moire could not be sufficiently suppressed. Therefore, it is necessary to adjust the pattern so that the moire is not visible as much as possible by determining the pattern of the conductive mesh with respect to the pixel pitch in the light-emitting panel and adjusting the overlapping angle of the light-emitting panel and the conductive mesh. As a result, there was a problem that productivity was lowered.
そこで、本発明は、モアレの発生がなく、光透過性及び電磁波シールド性に優れる光透過性電磁波シールド材を提供することを目的とする。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a light-transmitting electromagnetic wave shielding material that is free from moire and has excellent light transmission and electromagnetic wave shielding properties.
また、本発明は、前記光透過性電磁波シールド材の製造方法を提供することを目的とする。 Another object of the present invention is to provide a method for producing the light transmissive electromagnetic wave shielding material.
本発明では、電磁波シールド層の形状を海島構造とし、光の透過を確保するための開口部を不規則に配置することによって、上記課題を解決できることを見出した。 In this invention, it discovered that the said subject could be solved by making the shape of an electromagnetic wave shield layer into a sea island structure, and arrange | positioning the opening part for ensuring the transmission of light irregularly.
すなわち、本発明は、透明基板と、前記透明基板上に設けられた電磁波シールド層とを有する光透過性電磁波シールド材であって、
前記電磁波シールド層の平面視形状が海島構造を示し、そして前記海島構造における海領域に前記電磁波シールド層が形成されており、多数の島領域には開口部が形成されており、且つ前記島領域の形状が相互に異なることを特徴とする光透過性電磁波シールド材により上記課題を解決する。
That is, the present invention is a light-transmitting electromagnetic wave shielding material having a transparent substrate and an electromagnetic wave shielding layer provided on the transparent substrate,
The electromagnetic shielding layer has a sea-island structure in plan view, and the electromagnetic shielding layer is formed in a sea region in the sea-island structure, and a plurality of island regions have openings, and the island region The above-mentioned problems are solved by a light-transmitting electromagnetic wave shielding material characterized in that the shapes of these are different from each other.
本発明の光透過性電磁波シールド材の好ましい態様を以下に列記する。 Preferred embodiments of the light transmissive electromagnetic wave shielding material of the present invention are listed below.
（１）前記島領域が不規則に折れ曲がった及び／又は分岐した形状を有する。
（２）前記島領域の平均幅が、５〜２００μｍである。
（３）前記海領域の平均幅が、５〜２００μｍである。
（４）前記海領域の厚さが、０．１〜４０μｍである。
（５）前記電磁波シールド層の開口率が４０〜９５％である。
（６）前記電磁波シールド層は、ＦＭスクリーニングにより得られる画像データに基づき作製されたものである。
（７）前記電磁波シールド層が、銀、銅及びアルミニウムよりなる群から選択される少なくとも一種を含む金属からなる。
（８）上記光透過性電磁波シールド材を用いたディスプレイ用光学フィルタ。
（９）上記ディスプレイ用光学フィルタを画像表示ガラス板の表面に貼り合わせたディスプレイ。
(1) The island region has an irregularly bent and / or branched shape.
(2) The average width of the island region is 5 to 200 μm.
(3) The average width of the sea region is 5 to 200 μm.
(4) The sea region has a thickness of 0.1 to 40 μm.
(5) The aperture ratio of the electromagnetic wave shielding layer is 40 to 95%.
(6) The electromagnetic wave shielding layer is produced based on image data obtained by FM screening.
(7) The electromagnetic wave shielding layer is made of a metal including at least one selected from the group consisting of silver, copper, and aluminum.
(8) An optical filter for display using the light transmissive electromagnetic wave shielding material.
(9) A display in which the optical filter for display is bonded to the surface of an image display glass plate.
本発明の光透過性電磁波シールド材は、電磁波シールド層が海島構造を有する。このように電磁波シールド層が不規則なパターンを有することにより、電磁波シールド性及び光透過性に優れ、さらにはモアレの発生頻度が大幅に減少している。したがって前記光透過性電磁波シールド材は、発光パネルにおける画素ピッチなどを考慮せずに作製することができ、さらには設置対象の筐体に対して容易に組み込むことができるため、生産性にも優れる。 In the light transmissive electromagnetic wave shielding material of the present invention, the electromagnetic wave shielding layer has a sea-island structure. Thus, when the electromagnetic wave shielding layer has an irregular pattern, the electromagnetic wave shielding property and the light transmittance are excellent, and the frequency of occurrence of moire is greatly reduced. Therefore, the light-transmitting electromagnetic wave shielding material can be manufactured without considering the pixel pitch in the light-emitting panel, and can be easily incorporated into a housing to be installed. .
まず、本発明の光透過性電磁波シールド材を図１を用いて説明する。図１（Ａ）は本発明の光透過性電磁波シールド材の断面図であり、図１（Ｂ）は前記光透過性電磁波シールド材の電磁波シールド層が有する海島構造の凹凸形状の平面図である。 First, the light transmissive electromagnetic wave shielding material of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1A is a cross-sectional view of the light transmissive electromagnetic wave shielding material of the present invention, and FIG. 1B is a plan view of a concavo-convex shape of a sea island structure possessed by the electromagnetic wave shielding layer of the light transmissive electromagnetic wave shielding material. .
本発明の光透過性電磁波シールド材は、図１（Ａ）に示すように、透明基板１１０と、前記透明基板１１０上に設けられた電磁波シールド層１２０とを有する。さらに、前記電磁波シールド層１２０は、図１（Ｂ）に示すように、平面視形状が海島構造を示し、前記海島構造における海領域に電磁波シールド層１２０が形成されており、多数の島領域には開口部１２１が形成されており、且つ前記島領域の形状が相互に異なる構造を有する。
The light transmissive electromagnetic wave shielding material of the present invention includes a
このように本発明の光透過性電磁波シールド材は、電磁波シールド層が海島構造の海領域に形成され、島領域に形成された開口部の形状が相互に異なっている周期性を持たないパターンを有する。これにより、発光パネルにおける画素ピッチとの光の干渉で生じるモアレの発生を高く抑制することができる。さらに、海領域によって高い電磁波シールド性が得られるとともに、開口部からなる島領域によって高い光透過性を確保することができる。したがって、本発明の光透過性電磁波シールド材は、モアレの発生がなく、優れた光透過性及び電磁波シールド性を有する。 Thus, the light-transmitting electromagnetic wave shielding material of the present invention has a pattern having no periodicity in which the electromagnetic wave shielding layer is formed in the sea region of the sea-island structure, and the shapes of the openings formed in the island region are different from each other. Have. Thereby, it is possible to highly suppress the occurrence of moire caused by light interference with the pixel pitch in the light-emitting panel. Furthermore, high electromagnetic shielding properties can be obtained by the sea region, and high light transmittance can be ensured by the island region including the opening. Therefore, the light transmissive electromagnetic wave shielding material of the present invention does not cause moire and has excellent light transmissive properties and electromagnetic wave shielding properties.
（電磁波シールド層）
前記島領域は、すなわち電磁波シールド層における開口部は、不規則に折れ曲がった及び／又は分岐した形状を有するのが好ましい。これにより前記海領域に形成される電磁波シールド層も不規則に折れ曲がった及び／又は分岐した形状を有することになり、海領域と島領域とがランダムに折れ曲がって入り組んだ海島構造とすることができる。したがって、一定の周期を有しない電磁波シールド層とすることができ、モアレの発生をより高く抑制することができる。
(Electromagnetic wave shielding layer)
The island region, that is, the opening in the electromagnetic wave shielding layer, preferably has an irregularly bent and / or branched shape. Accordingly, the electromagnetic shielding layer formed in the sea region also has an irregularly bent and / or branched shape, and a sea island structure in which the sea region and the island region are randomly bent and complicated can be obtained. . Therefore, it can be set as the electromagnetic wave shielding layer which does not have a fixed period, and generation | occurrence | production of a moire can be suppressed more highly.
また、前記開口部を形成する島領域は、海領域において独立して存在していてもよいが、図１（Ｂ）に示すように複数の島領域が相互に結合して連続的に繋がっていてもよい。 Moreover, although the island area which forms the said opening part may exist independently in the sea area, as shown to FIG. 1 (B), several island areas couple | bond together and are connected continuously. May be.
前記海島構造における島領域の平均幅、すなわち開口部の平均幅は、５〜２００μｍ、特に５０〜２００μｍとするのが好ましい。これにより十分な光透過性を有し、視認性に優れる電磁波シールド層とすることができる。 The average width of the island regions in the sea-island structure, that is, the average width of the openings is preferably 5 to 200 μm, particularly 50 to 200 μm. Thereby, it can be set as the electromagnetic wave shielding layer which has sufficient light transmittance and is excellent in visibility.
前記海島構造における海領域の平均幅、すなわち電磁波シールド層の平均幅は５〜２００μｍ、特に５〜５０μｍとするのが好ましい。これにより、十分な電磁波シールド性を有する電磁波シールド層とすることができる。 The average width of the sea region in the sea-island structure, that is, the average width of the electromagnetic wave shielding layer is preferably 5 to 200 μm, particularly preferably 5 to 50 μm. Thereby, it can be set as the electromagnetic wave shielding layer which has sufficient electromagnetic wave shielding property.
なお、本発明において、前記海領域の平均幅及び前記島領域の平均幅は、光透過性電磁波シールド材における電磁波シールド層を電子顕微鏡（好ましくは透過型電子顕微鏡）により倍率１００万倍程度で観察し、前記海領域又は前記島領域の幅を任意に少なくとも１００箇所測定し、その平均値とする。 In the present invention, the average width of the sea region and the average width of the island region are obtained by observing the electromagnetic wave shielding layer in the light transmissive electromagnetic wave shielding material with a magnification of about 1,000,000 times with an electron microscope (preferably a transmission electron microscope). Then, the width of the sea area or the island area is arbitrarily measured at least 100 locations, and the average value is obtained.
前記海領域の厚さ、すなわち電磁波シールド層の厚さは、０．１〜２０μｍ、特に１〜８μｍとするのが好ましい。これにより優れた電磁波シールド性を確保することができる。 The thickness of the sea region, that is, the thickness of the electromagnetic wave shielding layer is preferably 0.1 to 20 μm, particularly 1 to 8 μm. Thereby, the excellent electromagnetic wave shielding property can be ensured.
前記電磁波シールド層の開口率は、十分な電磁波シールド性及び光透過性を確保するためには、４０〜９５％、特に５０〜６０％とするのがよい。なお、電磁波シールド層の開口率とは、当該電磁波シールド層の投影面積における開口部が占める面積割合を言う。 The aperture ratio of the electromagnetic wave shielding layer is preferably 40 to 95%, particularly 50 to 60% in order to ensure sufficient electromagnetic wave shielding properties and light transmittance. The aperture ratio of the electromagnetic shielding layer refers to the area ratio occupied by the opening in the projected area of the electromagnetic shielding layer.
上述した構造を有する電磁波シールド層は、好ましくはＦＭ（Ｆｒｅｇｕｅｎｃｙ Ｍｏｄｕｌａｔｉｏｎ；周波数変調）スクリーンニングにより得られたＦＭスクリーンからなる画像データに基づき作製されたものである。ＦＭスクリーンは、濃淡階調表現として、ランダムに配置されたドットの個数を用いたものである。前記ＦＭスクリーンでは、複数個のドットが集合体となるようにＦＭスクリーンプログラムを用いたＦＭスクリーンニングにより濃淡階調度を調整することができ、図１（Ｂ）に示すような海島構造を容易に形成することができる。 The electromagnetic wave shielding layer having the above-described structure is preferably produced based on image data including an FM screen obtained by FM (Frequency Modulation) screening. The FM screen uses the number of dots arranged at random as grayscale expression. In the FM screen, the gradation level can be adjusted by FM screening using an FM screen program so that a plurality of dots are aggregated, and the sea-island structure as shown in FIG. Can be formed.
なお、電磁波シールド層における島領域及び海領域の平均幅は、ＦＭスクリーンにおけるドットの大きさ及び個数により調整することができる。 In addition, the average width of the island region and the sea region in the electromagnetic wave shield layer can be adjusted by the size and number of dots on the FM screen.
電磁波シールド層は、優れた電磁波シールド性を得るために導電性を有する必要があるため、導電性材料からなるのが好ましい。前記導電性材料としては、従来の光透過性電磁波シールド層における電磁波シールド層に用いられているものを用いることができる。例えば、金属の他、バインダ樹脂中に導電性粒子が分散されたものなどが挙げられる。 Since the electromagnetic wave shielding layer needs to have conductivity in order to obtain excellent electromagnetic wave shielding properties, the electromagnetic wave shielding layer is preferably made of a conductive material. As said electroconductive material, what is used for the electromagnetic wave shield layer in the conventional light transmissive electromagnetic wave shield layer can be used. For example, in addition to a metal, a conductive resin dispersed in a binder resin can be used.
前記導電性材料としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、炭素或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルなどの金属からなるものが挙げられる。これらの金属なかでも、ＦＭスクリーンによって電磁波シールド層を容易に形成でき、高い電磁波シールド性を確保できることから、銀、銅及びアルミニウムよりなる群から選択される少なくとも一種を含む金属を用いるのが特に好ましい。 Examples of the conductive material include copper, stainless steel, aluminum, nickel, titanium, tungsten, tin, lead, iron, silver, carbon, or alloys thereof, preferably those made of metals such as copper, stainless steel, and nickel. Among these metals, it is particularly preferable to use a metal containing at least one selected from the group consisting of silver, copper and aluminum because an electromagnetic wave shielding layer can be easily formed by an FM screen and high electromagnetic wave shielding properties can be secured. .
また、導電性材料としてバインダ樹脂中に導電性粒子が分散されたものを用いることもできる。前記導電性粒子を構成する無機化合物としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金；或いはＩＴＯ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ、いわゆるインジウムドープ酸化スズ）、酸化スズ−酸化アンチモン（ＡＴＯ、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ）、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＺＡＯ；いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛）等の導電性酸化物等を挙げることができる。特に、ＩＴＯが好ましい。平均粒径は１０〜１００００ｎｍ、特に１０〜５０ｎｍが好ましい。 Alternatively, a conductive material in which conductive particles are dispersed in a binder resin can be used. Examples of the inorganic compound constituting the conductive particles include metals, alloys such as aluminum, nickel, indium, chromium, gold, vanadium, tin, cadmium, silver, platinum, copper, titanium, cobalt, and lead; or ITO, Indium oxide, tin oxide, zinc oxide, indium oxide-tin oxide (ITO, so-called indium-doped tin oxide), tin oxide-antimony oxide (ATO, so-called antimony-doped tin oxide), zinc oxide-aluminum oxide (ZAO; so-called aluminum dope) Examples thereof include conductive oxides such as zinc oxide). In particular, ITO is preferable. The average particle size is preferably 10 to 10,000 nm, particularly 10 to 50 nm.
前記バインダ樹脂としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。 Examples of the binder resin include acrylic resin, polyester resin, epoxy resin, urethane resin, phenol resin, maleic acid resin, melamine resin, urea resin, polyimide resin, and silicon-containing resin. Furthermore, it is preferable that it is a thermosetting resin among these resins.
（金属めっき層）
本発明の光透過性電磁波シールド材では、電磁波シールド層をさらに低い抵抗値にして電磁波シールド性を向上させたい場合は、電磁波シールド層上にさらに金属めっき層を有するのが好ましい。
(Metal plating layer)
In the light-transmitting electromagnetic wave shielding material of the present invention, when it is desired to improve the electromagnetic wave shielding property by further reducing the electromagnetic wave shielding layer, it is preferable to further have a metal plating layer on the electromagnetic wave shielding layer.
金属めっき層は、公知の電解めっき法、無電解めっき法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、これらは単独で使用しても、２種以上の合金として使用しても良い。好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。 The metal plating layer can be formed by a known electrolytic plating method or electroless plating method. Generally, copper, copper alloy, nickel, silver, gold, zinc or tin can be used as the metal used for plating. These can be used alone or as two or more kinds of alloys. You may do it. Copper, copper alloy, silver, or nickel is preferable, and copper or copper alloy is particularly preferably used from the viewpoint of economy and conductivity.
（黒化処理層）
また、電磁波シールド層には防眩性能を付与させても良い。そのため、本発明では、電磁波シールド層及び／又は金属めっき層に黒化処理を行うことにより、電磁波シールド層及び／又は金属めっき層上に黒化処理層を設けても良い。前記黒化処理は、酸化処理、硫化処理、クロム合金等の黒色メッキ、又は黒もしくは暗色系のインクの塗布等により行うことができる。
(Blackening treatment layer)
Further, the electromagnetic wave shielding layer may be provided with antiglare performance. Therefore, in this invention, you may provide a blackening process layer on an electromagnetic wave shield layer and / or a metal plating layer by performing a blackening process to an electromagnetic wave shield layer and / or a metal plating layer. The blackening treatment can be performed by oxidation treatment, sulfurization treatment, black plating such as chromium alloy, or application of black or dark ink.
黒化処理層の厚さは、特に制限されないが、０．０１〜１μｍ、好ましくは０．０１〜０．５μｍとするのがよい。前記厚さが、０．０１μｍ未満であると、光の防眩効果が充分でない恐れがあり、１μｍを超えると、斜視した際の見かけ上の開口率が低下する恐れがある。 The thickness of the blackening treatment layer is not particularly limited, but is 0.01 to 1 μm, preferably 0.01 to 0.5 μm. If the thickness is less than 0.01 μm, the antiglare effect of light may not be sufficient, and if it exceeds 1 μm, the apparent aperture ratio when viewed from the perspective may be reduced.
（透明基板）
上述した海島構造を有する電磁波シールド層が形成される透明基板としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はないが、一般にプラスチックフィルムが使用される。例えば、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。特に、ＰＥＴが、加工性に優れているので好ましい。
(Transparent substrate)
The transparent substrate on which the electromagnetic shielding layer having the sea-island structure described above is formed is not particularly limited as long as it is transparent (meaning “transparent to visible light”), but a plastic film is generally used. For example, polyester {eg, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate}, polymethyl methacrylate (PMMA), acrylic resin, polycarbonate (PC), polystyrene, triacetate resin, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyethylene, Examples thereof include ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, metal ion crosslinked ethylene-methacrylic acid copolymer, polyurethane, cellophane and the like. Among these, polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), etc. are highly resistant to loads during processing (heat, solvent, bending, etc.) and particularly highly transparent. preferable. In particular, PET is preferable because it has excellent processability.
透明基板の厚さは、光透過性電磁波シールド材の用途等によっても異なるが、一般に１μｍ〜１０ｍｍ、１μｍ〜５ｍｍ、特に２５〜２５０μｍが好ましい。 The thickness of the transparent substrate varies depending on the use of the light-transmitting electromagnetic wave shielding material or the like, but is generally 1 μm to 10 mm, 1 μm to 5 mm, particularly preferably 25 to 250 μm.
（光学フィルタ）
本発明の光透過性電磁波シールド材は用途に合わせてさらなる機能層を積層することによりディスプレイ用光学フィルタとすることができる。前記機能層としては、例えば、近赤外線吸収層、ハードコート層、反射防止層及び色調調整層などが挙げられる。ディスプレイ用光学フィルタにおけるこれらの機能層の積層順序は、用途に合わせて決定すればよい。
(Optical filter)
The light-transmitting electromagnetic wave shielding material of the present invention can be used as an optical filter for display by laminating further functional layers according to applications. Examples of the functional layer include a near infrared absorption layer, a hard coat layer, an antireflection layer, and a color tone adjustment layer. What is necessary is just to determine the lamination | stacking order of these functional layers in the optical filter for displays according to a use.
また、前記ディスプレイ用光学フィルタは、電子ディスプレイに接着するための透明粘着剤層を有していてもよい。 The display optical filter may have a transparent adhesive layer for adhering to an electronic display.
なお、上述した近赤外線吸収層、ハードコート層、反射防止層、色調調整層及び透明粘着剤層については、従来公知のディスプレイ用光学フィルタに用いられているものと同様であるためここでは詳細な説明を省略する。 The near-infrared absorbing layer, hard coat layer, antireflection layer, color tone adjusting layer and transparent pressure-sensitive adhesive layer described above are the same as those used in conventionally known optical filters for displays, and are detailed here. Description is omitted.
前記ディスプレイ用光学フィルタは、ディスプレイの画像表示ガラス板の表面に貼り合わされて使用される。ディスプレイとしては、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、及びＣＲＴディスプレイなどが挙げられる。 The display optical filter is used by being bonded to the surface of the image display glass plate of the display. The display includes a field emission display (FED) including a surface electric field display (SED), a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), a flat panel display (FPD) such as an EL display, and a CRT display. Can be mentioned.
本発明の光透過性電磁波シールド材は、以下の方法を用いて上述した海島構造を有する電磁波シールド層を透明基板上に形成することにより製造することができる。 The light transmissive electromagnetic wave shielding material of the present invention can be produced by forming an electromagnetic wave shielding layer having the above-described sea-island structure on a transparent substrate using the following method.
（第一の製造方法）
本発明の光透過性電磁波シールド材の第一の製造方法として、フォトレジスト法を用いた方法を図２を参照しながら説明する。具体的には；
平面視形状が海島構造を示し、そして前記海島構造における海領域に前記電磁波シールド層が形成されており、多数の島領域には開口部が形成されており、且つ前記島領域の形状が相互に異なる電磁波シールド層を、透明基板上に形成された光透過性電磁波シールド材の製造方法であって、
透明基板２１０上に金属膜２２２を形成した後、前記金属膜２２２上の前記海領域に対応する部分にエッチング保護層２３０を形成する工程（Ａ）、
前記エッチング保護層２３０が形成されずに露出している金属膜２２２をエッチングする工程（Ｂ）、及び
前記エッチング保護層２３０を除去する工程（Ｃ）、
を含む方法を用いて光透過性電磁波シールド材を製造することができる。
(First manufacturing method)
As a first method for producing the light-transmitting electromagnetic wave shielding material of the present invention, a method using a photoresist method will be described with reference to FIG. In particular;
The shape in plan view shows a sea-island structure, and the electromagnetic shielding layer is formed in the sea region in the sea-island structure, and openings are formed in a number of island regions, and the shape of the island regions is mutually A different electromagnetic shielding layer is a method for producing a light transmissive electromagnetic shielding material formed on a transparent substrate,
A step (A) of forming an etching
A step (B) of etching the exposed
A light-transmitting electromagnetic wave shielding material can be produced using a method including:
工程（Ａ）において、透明基板上に金属膜を形成するには、特に制限されないが、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等の気相製膜法、電解めっき又は無電解めっきなどの液相製膜法などを用いて行うことができる。 In the step (A), the formation of the metal film on the transparent substrate is not particularly limited, but vapor deposition methods such as sputtering, ion plating, electron beam evaporation, vacuum evaporation, and chemical vapor deposition, It can be performed using a liquid phase film forming method such as electrolytic plating.
なお、透明基板については、光透過性電磁波シールド材において上述したものが用いられる。また、金属膜を構成する金属についても、光透過性電磁波シールド材の電磁波シールド層において上述したものが用いられる。金属膜の厚さは、得られる電磁波シールド層の厚さを考慮して決定すればよい。 In addition, about a transparent substrate, what was mentioned above in the light transmissive electromagnetic wave shielding material is used. Moreover, what was mentioned above in the electromagnetic wave shielding layer of a transparent electromagnetic wave shielding material is used also about the metal which comprises a metal film. The thickness of the metal film may be determined in consideration of the thickness of the obtained electromagnetic wave shielding layer.
工程（Ａ）において、電磁波シールド層からなる海領域に対応する部分にエッチング保護層を形成する。これにより、図２に示すように、金属膜上の電磁波シールド層における開口部からなる島領域に対応する部分には、エッチング保護層が形成されずに、開口部２３１が形成される。このようなエッチング保護層としては、（ｉ）エッチング液に対して耐性を有するインクを金属膜上に特定のパターンに印刷することにより形成された層、（ｉｉ）光硬化性樹脂を金属膜上に塗布して形成されたフォトレジスト膜を特定のパターンに露光及び現像することにより形成された層などを用いることができる。なかでも、微細なパターンを精度良く形成できることから、後者の（ｉｉ）の層を用いるのが好ましい。
In the step (A), an etching protective layer is formed in a portion corresponding to the sea region composed of the electromagnetic wave shielding layer. As a result, as shown in FIG. 2, the
前記光硬化性樹脂としては、従来の感光性レジストがある。感光性レジストとしては、ネガ型が使用され、露光部が硬化し、非露光部は硬化しないので、非露光部は溶剤等の現像液で除去することにより現像される。このような感光性レジストは、一般に、ポリ桂皮酸ビニル（溶剤現像）、環化イソプレンとビスアジド（溶剤現像）、ポリシンナミリデンアセテート（溶剤現像）、ジアリルフタレートのポリマー（溶剤現像）、環化ポリブタジエン系（溶剤現像）、アクリル系（例、アクリロイル基を有するモノマー、オリゴマー）等がある。アクリル系は、バインダ（例、ポリ（ＭＭＡ−ＨＥＭＡ）、ＡＢＳ樹脂、トリアセチルセルロース、ポリアセタール）と、（メタ）アクリロイル基等のエチレン性二重結合を有する単官能或いは多官能性モノマー、オリゴマー、ポリマー（例、アクリル化共重合体）に、光重合開始剤が添加された組成物が使用される。或いは、エチレン性二重結合等の光反応性基を有する水溶性又はアルカリ可溶性ポリマーに、上記モノマー等を加えて、光照射により不溶性にすることができる組成物も挙げることができる。 As the photocurable resin, there is a conventional photosensitive resist. As the photosensitive resist, a negative type is used, and the exposed portion is cured and the non-exposed portion is not cured. Therefore, the non-exposed portion is developed by removing with a developer such as a solvent. Such photosensitive resists generally include polyvinyl cinnamate (solvent development), cyclized isoprene and bisazide (solvent development), polycinnamylidene acetate (solvent development), diallyl phthalate polymer (solvent development), cyclization There are polybutadiene type (solvent development), acrylic type (eg, monomer and oligomer having acryloyl group), and the like. Acrylics are binders (eg, poly (MMA-HEMA), ABS resin, triacetyl cellulose, polyacetal) and monofunctional or polyfunctional monomers, oligomers having ethylenic double bonds such as (meth) acryloyl groups, A composition in which a photopolymerization initiator is added to a polymer (eg, an acrylate copolymer) is used. Or the composition which can be made insoluble by light irradiation by adding the said monomer etc. to the water-soluble or alkali-soluble polymer which has photoreactive groups, such as an ethylenic double bond, can also be mentioned.
前記光硬化性樹脂は、塗布で形成する場合は一般に有機溶剤に溶解して使用し、透明基板上に貼り付ける場合はシート状のものを使用する。 The photo-curable resin is generally used by dissolving in an organic solvent when formed by coating, and a sheet-like one is used when pasting on a transparent substrate.
前記フォトレジスト膜の厚さは０．１〜２０μｍ、特に０．５〜５μｍとすることが好ましい。０．１μｍより薄いと硬化性が劣り、２０μｍより厚いと細線が得られ難い。 The thickness of the photoresist film is preferably 0.1 to 20 μm, particularly preferably 0.5 to 5 μm. If it is thinner than 0.1 μm, the curability is inferior, and if it is thicker than 20 μm, it is difficult to obtain a thin line.
上記の通りにして作製したフォトレジスト膜には、露光及び現像することにより、電磁波シールド層の開口部からなる島領域に対応する部分に、すなわち、電磁波シールド層の開口部からなる島領域と平面視形状及び位置が同一の開口部が形成される。これにより、金属膜上の電磁波シールド層からなる海領域に対応する部分に、すなわち電磁波シールド層からなる海領域と平面視形状及び位置が同一のめっき保護層を形成される。 The photoresist film produced as described above is exposed and developed to a portion corresponding to the island region formed of the opening of the electromagnetic wave shielding layer, that is, the island region and the plane formed of the opening of the electromagnetic wave shielding layer. Openings having the same visual shape and position are formed. As a result, a plating protective layer having the same shape and position in plan view as that of the sea region made of the electromagnetic wave shielding layer is formed in a portion corresponding to the sea region made of the electromagnetic wave shielding layer on the metal film.
例えば、ネガ型の感光性レジストを用いてフォトレジスト膜を金属膜上に作製した場合、前記フォトレジスト膜を、上述した電磁波シールド層の海島構造における海領域に対応する部分を露光部とし、前記島領域に対応する部分を非露光部として露光した後、非露光部のフォトレジスト膜を除去する方法などが用いられる。 For example, when a photoresist film is formed on a metal film using a negative photosensitive resist, the photoresist film is a portion corresponding to the sea region in the sea-island structure of the electromagnetic wave shielding layer described above, For example, a method of removing the photoresist film in the non-exposed portion after exposing the portion corresponding to the island region as the non-exposed portion is used.
電磁波シールド層における海島構造については上述した通りであるが、電磁波シールド層の開口部からなる島領域の形状は、不規則に折れ曲がった及び／又は分岐した形状を有するのが好ましいことから、エッチング保護層における開口部の形状も不規則に折れ曲がった及び／又は分岐した形状を有するのが好ましい。 Although the sea-island structure in the electromagnetic wave shielding layer is as described above, it is preferable that the shape of the island region formed of the opening of the electromagnetic wave shielding layer has an irregularly bent and / or branched shape. The shape of the opening in the layer is also preferably irregularly bent and / or branched.
したがって、このような特定のパターンを有する開口部が形成されたエッチング保護層を作製するには、金属膜上に形成したフォトレジスト膜をＦＭスクリーンニングにより得られる画像データに基づいて画像様に露光及び現像することにより作製するのが好ましい。このようにＦＭスクリーンからなる画像データを用いることにより図１（Ｂ）に示す海島構造を有する電磁波シールド層を容易且つ高精度で形成することができる。 Therefore, in order to produce an etching protective layer in which an opening having such a specific pattern is formed, a photoresist film formed on a metal film is exposed imagewise based on image data obtained by FM screening. And it is preferable to produce by developing. As described above, by using the image data including the FM screen, the electromagnetic wave shielding layer having the sea-island structure shown in FIG. 1B can be easily and highly accurately formed.
フォトレジスト膜への露光は、例えば、コンピューターによりＦＭスクリーニングプログラム用いて周波数変調されたＦＭスクリーンからなる画像データに基づき、レーザー光源などでフォトレジスト膜に画像様に直接露光する手段などを用いて行われるのが好ましい。また、ＦＭスクリーンからなる画像データに基づき形成された光透過部を有するフォトマスクを介して、レーザー光源などでフォトレジスト膜に画像様に露光する手段を用いるのも好ましい。 The photoresist film is exposed using, for example, a means for directly exposing the photoresist film imagewise with a laser light source or the like based on image data composed of an FM screen frequency-modulated by a computer using an FM screening program. Are preferred. It is also preferable to use a means for exposing the photoresist film imagewise with a laser light source or the like through a photomask having a light transmission portion formed on the basis of image data composed of an FM screen.
ＦＭスクリーンとしては、Ｓｔａｃｃａｔｏ（ＣＲＥＯ社製）、Ｒａｎｄｏｔ（大日本スクリーン社製）、ＲａｎｄｏｔＸ（大日本スクリーン社製）、Ｓｔａｉｎ Ｓｃｒｅｅｎｉｎｇ（Ｈｅｉｄｅｌｂｅｌｇ社製）、Ｃｒｉｓｔａｌ Ｒａｓｔｅｒ（Ａｇｆａ社製）など、市販されているものを用いることもできる。 FM screens such as Staccato (manufactured by CREO), Randot (manufactured by Dainippon Screen), RandotX (manufactured by Dainippon Screen), Stain Screening (manufactured by Heidelberg), and Crystal Raster (manufactured by Agfa) are commercially available. You can also use what you have.
図１（Ｂ）に示すような海島構造を有する電磁波シールド層を形成するためには、周波数変調させる際にＦＭスクリーニングプログラムに必要な数値入力を行うことにより、ドットをランダムに発生させ、さらにこのドットを濃淡階調度に対応して密集させて、複数個のドットが繋がるように調整してＦＭスクリーンを得るのがよい。 In order to form an electromagnetic wave shield layer having a sea-island structure as shown in FIG. 1B, dots are randomly generated by inputting numerical values necessary for the FM screening program when frequency modulation is performed. It is preferable to obtain an FM screen by adjusting the dots so that the dots are connected in a dense manner corresponding to the gray scale and connecting a plurality of dots.
ＦＭスクリーンを構成するドットの形状は、三角形及び四角形などの多角形、円形、楕円形などいずれの形状であってもよい。なかでも、四角形、特に正方形であるのが好ましい。 The shape of the dots constituting the FM screen may be any shape such as a polygon such as a triangle and a quadrangle, a circle, and an ellipse. Of these, a quadrangle, particularly a square is preferable.
前記ＦＭスクリーンを構成するドットは、一辺の長さが、２〜３０μｍ、特に１５〜３０μｍである四角形であるのが好ましい。ＦＭスクリーンにおいて、ドット部分が光を透過せず、ドット以外の部分が光を透過させる。したがって、ＦＭスクリーンにおいてドット部分、好ましくは複数個のドットの集合体部分が、フォトレジスト膜における開口部を形成することになる。ゆえに、ＦＭスクリーンを構成するドットの形状を上記のものにすることにより、電磁波シールド層が有する開口部から形成される島領域に対応する部位に開口部を有するエッチング保護層を形成することができる。 The dots constituting the FM screen are preferably quadrangles having a side length of 2 to 30 μm, particularly 15 to 30 μm. In the FM screen, the dot portion does not transmit light, and the portion other than the dot transmits light. Therefore, a dot portion, preferably an aggregate portion of a plurality of dots in the FM screen forms an opening in the photoresist film. Therefore, by making the shape of the dots constituting the FM screen as described above, it is possible to form an etching protective layer having an opening at a site corresponding to the island region formed from the opening of the electromagnetic wave shielding layer. .
また、ＦＭスクリーンの全面積に対するドットの総面積は、２０〜６０％、特に４０〜５０％とするのが好ましい。前記総面積を、２０％以上とすることにより複数個の島領域が繋がった海島構造を有する電磁波シールド層を容易に形成することができ、６０％以下とすることにより電磁波シールド層の高い開口率を確保することができる。 Further, the total area of dots with respect to the total area of the FM screen is preferably 20 to 60%, particularly preferably 40 to 50%. By setting the total area to 20% or more, an electromagnetic shielding layer having a sea-island structure in which a plurality of island regions are connected can be easily formed. By setting the total area to 60% or less, a high aperture ratio of the electromagnetic shielding layer is achieved. Can be secured.
露光に用いられる光源としては、紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば、超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等が挙げられる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。 As a light source used for exposure, many light emitting in the ultraviolet to visible range can be adopted, for example, ultra-high pressure, high pressure, low pressure mercury lamp, chemical lamp, xenon lamp, halogen lamp, mercury lamp, carbon arc lamp, incandescent A lamp, a laser beam, etc. are mentioned. The irradiation time cannot be determined unconditionally depending on the type of lamp and the intensity of the light source, but is about several seconds to several minutes.
前記フォトレジスト層をＦＭスクリーンを用いて画像様に露光した後、現像することにより非露光部分のフォトレジスト膜を除去することができる。前記現像は、従来公知の方法を用いて行うことができ、例えば、透明基板、金属膜及びフォトレジスト層からなる積層体全体を炭酸ソーダ水溶液などのフォトレジスト除去用処理液中に浸漬する手段などを用いることができる。 The photoresist layer is exposed imagewise using an FM screen and then developed to remove the unexposed photoresist film. The development can be performed using a conventionally known method, for example, a means for immersing the entire laminate including a transparent substrate, a metal film, and a photoresist layer in a photoresist removal treatment solution such as a sodium carbonate aqueous solution. Can be used.
上述の通りにして得られたフォトレジスト層は、図１（Ｂ）に示すのと同様の海島構造とするのが好ましい。また、フォトレジスト層及び前記フォトレジスト層が有する開口部の幅、並びにフォトレジスト層における開口率は、それぞれ所望の電磁波シールド層が得られるように決定すればよい。 The photoresist layer obtained as described above preferably has a sea-island structure similar to that shown in FIG. Further, the width of the photoresist layer, the opening of the photoresist layer, and the aperture ratio in the photoresist layer may be determined so that a desired electromagnetic wave shielding layer can be obtained.
また、エッチング保護層として（ｉ）エッチング液に対して耐性を有するインクを金属膜上に特定のパターンに印刷することにより形成された層を用いる場合には、前記インクを、上述した（ｉｉ）の層と同様にＦＭスクリーンニングにより得られる画像データに基づいて画像様に印刷することにより行うのが好ましい。前記印刷方法としては、例えば、インクジェット法などを用いて行うことができる。また、前記ＦＭスクリーンニングにより得られる画像データとしては、上述した（ｉｉ）の層と同様のものが用いられる。 In the case of using a layer formed by printing (i) an ink resistant to an etching solution on a metal film in a specific pattern as an etching protective layer, the ink is used as described in (ii) above. It is preferable to perform image-like printing based on image data obtained by FM screening as in the case of the above layer. As the printing method, for example, an inkjet method can be used. As the image data obtained by the FM screening, the same data as the layer (ii) described above is used.
次に、工程（Ｂ）において、前記エッチング保護層の開口部において露出している金属膜をエッチングする。 Next, in the step (B), the metal film exposed in the opening of the etching protective layer is etched.
前記エッチングは、従来公知の方法を用いて行うことができる。例えば、例えば塩化鉄、塩化銅、加硫酸アンモニア、アンモニアアルカリ、クロム硫酸、硝酸等のエッチング液を用いて行うことができる。 The etching can be performed using a conventionally known method. For example, it can be performed using an etchant such as iron chloride, copper chloride, ammonia sulfate, ammonia alkali, chromium sulfate, nitric acid, or the like.
次に、工程（Ｃ）においてエッチング保護層を除去する。これにより、図２に示すように、透明基板２１０上に海島構造の海領域に金属からなる電磁波シールド層２２０が形成され、海領域には開口部２２１が相互に異なっている形状で形成されてなる本発明の光透過性電磁波シールド材が得られる。
Next, the etching protective layer is removed in step (C). As a result, as shown in FIG. 2, an electromagnetic
フォトレジスト層の除去は、例えば、水酸化ナトリウム水溶液などを用いて行うことができる。 The removal of the photoresist layer can be performed using, for example, an aqueous sodium hydroxide solution.
（第二の製造方法）
本発明の光透過性電磁波シールド材の製造方法としては、上述した方法の他にも、以下の第二の製造方法を用いることもできる。以下に、前記方法を図３を用いながら説明する。具体的には；
平面視形状が海島構造を示し、そして前記海島構造における海領域に前記電磁波シールド層が形成されており、多数の島領域には開口部が形成されており、且つ前記島領域の形状が相互に異なる電磁波シールド層を、透明基板上に形成された光透過性電磁波シールド材の製造方法であって、
溶剤に対して可溶な材料を含む印刷インクを印刷することにより、透明基板３１０の前記島領域に対応する部分上にマスク層３４０を形成する工程（Ａ）と、
前記マスク層３４０を有する透明基板３１０上に、前記溶剤に対して不溶な導電材料を含む導電材料層３２２を形成する工程（Ｂ）と、
前記溶剤により、前記マスク層３４０及び前記マスク層３４０上の導電材料層３４４を除去することにより、前記電磁波シールド層３２０を形成する工程（Ｃ）と、
を含む方法である。
(Second manufacturing method)
As a manufacturing method of the light-transmitting electromagnetic wave shielding material of the present invention, the following second manufacturing method can be used in addition to the above-described method. The method will be described below with reference to FIG. In particular;
The shape in plan view shows a sea-island structure, and the electromagnetic shielding layer is formed in the sea region in the sea-island structure, and openings are formed in a number of island regions, and the shape of the island regions is mutually A different electromagnetic shielding layer is a method for producing a light transmissive electromagnetic shielding material formed on a transparent substrate,
A step (A) of forming a
Forming a
(C) forming the electromagnetic
It is a method including.
前記工程（Ａ）において用いられる印刷インクにおいて、溶剤に対して可溶な材料は、後の除去に用いる溶剤に応じて選択される。例えば、溶剤として水系溶剤を用いる場合には水溶性物質が用いられ、溶剤として油系溶剤を用いる場合には油溶性物質が用いられる。前記溶剤としては、公知の有機溶媒等も挙げられるが、安価で、環境への影響を考慮すると、水が特に好ましい。水は、通常の水のほか、水に可溶な有機溶剤（例、メタノール、エタノール等のアルコール）、酸、アルカリ又は界面活性剤を含んだ水溶液であってもよい。水とメタノールとの組見合わせが好ましく、その割合は質量比で５：９５〜５０：５０が好ましい。 In the printing ink used in the step (A), the material soluble in the solvent is selected according to the solvent used for the subsequent removal. For example, when an aqueous solvent is used as the solvent, a water-soluble substance is used, and when an oil-based solvent is used as the solvent, an oil-soluble substance is used. Examples of the solvent include known organic solvents, but water is particularly preferable in consideration of the low cost and the influence on the environment. The water may be an aqueous solution containing an organic solvent soluble in water (eg, alcohol such as methanol or ethanol), an acid, an alkali, or a surfactant in addition to normal water. A combination of water and methanol is preferable, and the ratio is preferably 5:95 to 50:50 by mass ratio.
前記溶剤が水である場合、前記溶剤に対して可溶な材料としては、ポリビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレンオキサイド、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン等の水溶性樹脂などの水溶性高分子材料が好ましく、特に、良好な水溶性を有する点で、ポリビニルアルコールが好ましい。水溶性樹脂の分子量としては、一般に１００００〜１０００００（ＧＰＣによる数平均分子量）、特に２９０００〜４００００が好ましい。特に、ポリビニルアルコールを用いる場合、その重合度は一般に３００〜１５００、特に５００〜１０００であることが好ましく、また鹸化度は８５〜９０であることが好ましい。このパターンの形成に用いる材質には、所望により、仕上がり状況を確認し易くするために顔料や染料等を混合してもよい。顔料として、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、シリカ、マイカ、クレー等を挙げることができるが、硫酸バリウムが好ましい。顔料は樹脂に対して２０〜２００質量％の範囲、２０〜１５０質量％の範囲が好ましい。 When the solvent is water, the material soluble in the solvent includes water-soluble polymer materials such as water-soluble resins such as polyvinyl alcohol, hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, polyethylene oxide, polyacrylamide, and polyvinylpyrrolidone. In particular, polyvinyl alcohol is preferable in that it has good water solubility. The molecular weight of the water-soluble resin is generally 10,000 to 100,000 (number average molecular weight by GPC), particularly preferably 29000 to 40,000. In particular, when polyvinyl alcohol is used, the polymerization degree is generally 300 to 1500, particularly 500 to 1000, and the saponification degree is preferably 85 to 90. If desired, the material used for forming this pattern may be mixed with a pigment, a dye or the like in order to make it easy to confirm the finished state. Examples of the pigment include barium sulfate, calcium carbonate, silica, mica, and clay, but barium sulfate is preferable. The pigment is preferably in the range of 20 to 200% by mass and 20 to 150% by mass with respect to the resin.
印刷インクにおける溶剤に対して可溶な材料の濃度は、５〜５０質量％程度とすればよい。また、印刷インクには、溶剤としては水が用いられるのが好ましいが、乾燥調製の目的でアルコール類、好ましくはエチルアルコール、イソプロピルアルコール、ノルマルプロピルアルコール等の低級アルコールを併用しても良い。 The density | concentration of the material soluble with respect to the solvent in printing ink should just be about 5-50 mass%. In the printing ink, water is preferably used as a solvent, but alcohols, preferably lower alcohols such as ethyl alcohol, isopropyl alcohol, and normal propyl alcohol may be used in combination for the purpose of drying preparation.
工程（Ａ）において、上述した印刷インクを印刷することにより、透明基板上の電磁波シールド層における開口部から形成される島領域に対応する部分上にマスク層を形成する。このようなマスク層を作製するには、従来公知の方法を適宜、用いて行うことができる。例えば、（ｉ）凹部のパターンが島領域に対応している凹板、又は（ｉｉ）開口部のパターンが島領域に対応しているスクリーン印刷版を用いて、印刷インクを印刷する方法などが好ましく用いられる。 In the step (A), a mask layer is formed on a portion corresponding to the island region formed from the opening in the electromagnetic wave shielding layer on the transparent substrate by printing the above-described printing ink. In order to produce such a mask layer, a conventionally known method can be appropriately used. For example, there is a method of printing a printing ink using (i) a concave plate in which a concave pattern corresponds to an island region, or (ii) a screen printing plate in which an opening pattern corresponds to an island region. Preferably used.
（ｉ）凹部のパターンが島領域に対応している凹板を作製するには、例えば、図４に示すように、
印刷版用基材４７０上に、島領域に対応する部分に開口部４８１が形成されているパターンを有するフォトレジスト層４８０を形成する工程（１）、及び
前記開口部４８１において露出している印刷版用基材４７０の一部をエッチングした後、前記フォトレジスト層４８０を除去することにより、インク収容セル４６１を有する印刷版を形成する工程（２）、
を含む方法などを用いることができる。
(I) To produce a concave plate in which the pattern of the concave portion corresponds to the island region, for example, as shown in FIG.
A step (1) of forming a
A method including the above can be used.
前記工程（１）において、使用される印刷版用基材としては、従来のグラビア印刷などの印刷方法において公知のものであれば制限なく用いることができる。例えば、図４に示すように、鋼製、アルミニウム製又は鉄製の金属製基材上に銅メッキ膜が形成されたものなど、金属製基材４５０上に金属膜４６０が形成されたものなどが挙げられる。また、印刷版用基材の形状は、平板状又はシリンダー状など公知の形状であればよいが、グラビア印刷を用いる場合には一般的にはシリンダー状を有する。
In the said process (1), if it is a well-known thing in printing methods, such as the conventional gravure, as a printing plate base material used, it can be used without a restriction | limiting. For example, as shown in FIG. 4, a
印刷版用基材上に、上述した特定のパターンを有するフォトレジスト層を形成するには、例えば、フォトレジスト膜を露光及び現像する方法を用いて行うこともできる。前記方法を用いて行う場合、前記工程（１）は、
（１−１）前記印刷用基材上に、フォトレジスト膜を形成する工程、及び
（１−２）前記フォトレジスト膜を、電磁波シールド層により形成される海領域に対応する部分を露光部とし、前記電磁波シールド層における開口部から形成される島領域に対応する部分を非露光部として露光した後、非露光部のフォトレジスト膜を除去する工程、により行うことができる。
In order to form the photoresist layer having the above-mentioned specific pattern on the printing plate substrate, for example, a method of exposing and developing the photoresist film can be used. When performed using the method, the step (1) includes:
(1-1) a step of forming a photoresist film on the printing substrate; and (1-2) a portion corresponding to the sea region formed by the electromagnetic wave shielding layer is used as an exposed portion of the photoresist film. The step corresponding to the island region formed from the opening in the electromagnetic wave shield layer is exposed as a non-exposed portion, and then the photoresist film in the non-exposed portion is removed.
なお、前記フォトレジスト膜については、光透過性電磁波シールド材の第一の製造方法として上述した方法におけるフォトレジスト膜と同様のものが用いられるため、ここでは詳細な説明を省略する。 In addition, about the said photoresist film, since the thing similar to the photoresist film in the method mentioned above is used as a 1st manufacturing method of a light transmissive electromagnetic wave shielding material, detailed description is abbreviate | omitted here.
フォトレジスト層における上述した特定のパターンは、ＦＭスクリーニングにより得られた画像データに基づいて形成するのが好ましい。このようにＦＭスクリーンを用いることにより図１（Ｂ）に示す海島構造を有する電磁波シールド層を容易且つ高精度で形成することができる。したがって、前記工程（１−２）におけるフォトレジスト膜の露光は、例えば、ＦＭスクリーニングにより得られたＦＭスクリーンからなる画像データに基づいて行うのが好ましい。前記フォトレジスト膜の露光及び現像についても、光透過性電磁波シールド材の第一の製造方法として上述した工程（Ｂ）と同様の方法が用いられるためここでは詳細な説明を省略する。 The specific pattern described above in the photoresist layer is preferably formed based on image data obtained by FM screening. By using the FM screen in this manner, the electromagnetic wave shielding layer having the sea-island structure shown in FIG. 1B can be formed easily and with high accuracy. Therefore, the exposure of the photoresist film in the step (1-2) is preferably performed based on image data including an FM screen obtained by FM screening, for example. Also for the exposure and development of the photoresist film, since the same method as the above-mentioned step (B) is used as the first manufacturing method of the light-transmitting electromagnetic wave shielding material, detailed description is omitted here.
ＦＭスクリーンを構成するドットの形状は、三角形及び四角形などの多角形、円形、楕円形などいずれの形状であってもよい。なかでも、四角形、特に正方形であるのが好ましい。 The shape of the dots constituting the FM screen may be any shape such as a polygon such as a triangle and a quadrangle, a circle, and an ellipse. Of these, a quadrangle, particularly a square is preferable.
前記ＦＭスクリーンを構成するドットは、一辺の長さが、２〜３０μｍ、特に１５〜３０μｍである四角形であるのが好ましい。ＦＭスクリーンにおいて、ドット部分が光を透過せず、ドット以外の部分が光を透過させる。したがって、ＦＭスクリーンにおいてドット部分、好ましくは複数個のドットの集合体部分が、フォトレジスト層における開口部を形成することになる。ゆえに、ＦＭスクリーンを構成するドットの形状を上記のものにすることにより、電磁波シールド層が有する開口部から形成される島領域に対応する部位に開口部を有するフォトレジスト層を形成することができる。 The dots constituting the FM screen are preferably quadrangles having a side length of 2 to 30 μm, particularly 15 to 30 μm. In the FM screen, the dot portion does not transmit light, and the portion other than the dot transmits light. Therefore, the dot portion in the FM screen, preferably an aggregate portion of a plurality of dots, forms an opening in the photoresist layer. Therefore, by making the shape of the dots constituting the FM screen as described above, it is possible to form a photoresist layer having an opening in a portion corresponding to the island region formed from the opening of the electromagnetic wave shielding layer. .
また、ＦＭスクリーンの全面積に対するドットの総面積は、２０〜６０％、特に４０〜５０％とするのが好ましい。前記総面積を、２０％以上とすることにより複数個の島領域が繋がった海島構造を有する電磁波シールド層を容易に形成することができ、６０％以下とすることにより電磁波シールド層の高い開口率を確保することができる。 Further, the total area of dots with respect to the total area of the FM screen is preferably 20 to 60%, particularly preferably 40 to 50%. By setting the total area to 20% or more, an electromagnetic shielding layer having a sea-island structure in which a plurality of island regions are connected can be easily formed. By setting the total area to 60% or less, a high aperture ratio of the electromagnetic shielding layer is achieved. Can be secured.
次に、前記工程（２）において、まず、フォトレジスト層における開口部において露出している印刷版用基材の一部をエッチングするには、従来公知の方法を用いて行うことができる。例えば、例えば塩化鉄、塩化銅、加硫酸アンモニア、アンモニアアルカリ、クロム硫酸、硝酸等のエッチング液を用いて行うことができる。 Next, in the step (2), first, a part of the printing plate substrate exposed at the opening in the photoresist layer can be etched using a conventionally known method. For example, it can be performed using an etchant such as iron chloride, copper chloride, ammonia sulfate, ammonia alkali, chromium sulfate, nitric acid, or the like.
前記工程（２）において、前記エッチングを行った後、パターニングされたフォトレジスト層を除去するには、例えば、水酸化ナトリウム水溶液などを用いて行うことができる。 In the step (2), after the etching, the patterned photoresist layer can be removed using, for example, an aqueous sodium hydroxide solution.
前記工程（２）により、凹部のパターンが電磁波シールド層における開口部である島領域に対応している凹板を形成することができる。また、前記凹板における開口部が、インク収容セルとして機能する。なお、当該方法において、このようにパターニングされた凹板の平面視形状は、図１（Ｂ）に示すような海島構造と同様の構造を有するのが好ましい。当該第二の方法では、凹板における開口部が、後工程で作製するマスク層及び電磁波シールド層における開口部からなる島領域に対応する。また、フォトレジスト層及び前記フォトレジスト層が有する開口部からなる島領域の幅、並びにフォトレジスト層における開口率は、それぞれ所望の電磁波シールド層が得られるように決定すればよい。 According to the step (2), a concave plate having a concave pattern corresponding to an island region which is an opening in the electromagnetic wave shielding layer can be formed. The opening in the concave plate functions as an ink containing cell. In the method, it is preferable that the shape of the concave plate patterned in this way has a structure similar to the sea-island structure as shown in FIG. In the second method, the opening in the concave plate corresponds to an island region made up of the opening in the mask layer and the electromagnetic wave shielding layer produced in a later step. Further, the width of the island region formed of the photoresist layer and the opening of the photoresist layer, and the aperture ratio in the photoresist layer may be determined so that a desired electromagnetic wave shielding layer can be obtained.
上記の通りに作製した凹版を用いて、溶剤に対して可溶な材料を含む印刷インクを透明基板上に印刷することにより、透明基板の前記島領域に対応する部分上にマスク層を形成するには、従来公知のグラビア印刷法などの印刷方法と同様に行えばよい。例えば、溶剤に対して可溶な材料を含む印刷インクを前記凹版に塗布した後、これと透明基板を接触させることにより、凹版の凹部に収容された印刷インクを透明基板上に転写させることにより行われる。 Using the intaglio plate produced as described above, a printing ink containing a material soluble in a solvent is printed on the transparent substrate, thereby forming a mask layer on a portion corresponding to the island region of the transparent substrate. In this case, a printing method such as a conventionally known gravure printing method may be used. For example, after printing ink containing a material soluble in a solvent is applied to the intaglio, the printing ink contained in the depression of the intaglio is transferred onto the transparent substrate by bringing the ink into contact with the transparent substrate. Done.
このように、凹版を用いて印刷インクを透明基板上に印刷することにより、透明基板上に印刷インクが若干ではあるものの濡れ広がり得られるマスク層の幅が広くなり、これによって後工程で形成される電磁波シールド層の幅を微細にすることができる。 In this way, by printing the printing ink on the transparent substrate using the intaglio, the width of the mask layer that can be wet and spread although the printing ink is slightly on the transparent substrate is widened, thereby forming in a later process. The width of the electromagnetic wave shielding layer can be made fine.
また、工程（Ａ）において用いられる（ｉｉ）開口部のパターンが島領域に対応しているスクリーン印刷版を作製するには、島領域に対応する部分にメッシュ基材が露出している開口部を有するパターンを有するフォトレジスト層をメッシュ基材上に形成する方法などが用いられる。 In addition, (ii) in order to produce a screen printing plate in which the pattern of the opening used in the step (A) corresponds to the island region, the opening in which the mesh substrate is exposed in the portion corresponding to the island region For example, a method of forming a photoresist layer having a pattern having a pattern on a mesh substrate is used.
このような特定のパターンを有するフォトレジスト層を形成するには、上述した凹板と同様の方法が用いられる。 In order to form a photoresist layer having such a specific pattern, a method similar to the above-described concave plate is used.
前記メッシュ基材としては、スクリーン印刷において用いられている従来公知のものであれば、特に制限なく用いられる。シルクやナイロン、ポリエステル等の樹脂繊維、ステンレスメッシュがあるが、印刷精度が要求される場合には、伸び縮みが少なく、寸法精度が良いステンレスメッシュが用いられる。例えば、ＳＳ３８０−１４と表記される線径１４μｍのステンレス鋼素線を２５．４ｍｍ（１インチ）当り３８０本の密度で平織り状の網目を形成しているものを使用する。 The mesh base material is not particularly limited as long as it is a conventionally known material used in screen printing. There are resin fibers such as silk, nylon, and polyester, and a stainless mesh, but when printing accuracy is required, a stainless mesh with little expansion and contraction and good dimensional accuracy is used. For example, a stainless steel wire having a wire diameter of 14 μm expressed as SS380-14 and having a density of 380 per 25.4 mm (1 inch) and a plain weave mesh is used.
上記の通りに作製したスクリーン印刷版を用いて、溶剤に対して可溶な材料を含む印刷インクを透明基板上に印刷することにより、透明基板の前記島領域に対応する部分上にマスク層を形成するには、従来公知のスクリーン印刷法と同様に行えばよい。 Using the screen printing plate produced as described above, a printing layer containing a solvent-soluble material is printed on the transparent substrate, whereby a mask layer is formed on the portion corresponding to the island region of the transparent substrate. The formation may be performed in the same manner as a conventionally known screen printing method.
また、工程（Ａ）における印刷インクの印刷方法としては、上述した凹板又はスクリーン印刷版を用いた方法の他にも、前記印刷インクを、上述した凹板又はスクリーン印刷版と同様にＦＭスクリーンニングにより得られる画像データに基づいて画像様に印刷することにより行うこともできる。前記印刷方法としては、例えば、インクジェット法などを用いて行うことができる。 Further, as a printing method of the printing ink in the step (A), in addition to the above-described method using the concave plate or the screen printing plate, the printing ink is used for the FM screen in the same manner as the concave plate or the screen printing plate described above. It is also possible to perform image-like printing based on the image data obtained by the ning. As the printing method, for example, an inkjet method can be used.
前記工程（Ａ）において、前記透明基板上に印刷した印刷インクは、乾燥させるのが好ましい。前記乾燥は、室温に放置することにより行われてもよい他、９０〜１３０℃、２〜１０秒で加熱することにより行われてもよい。これにより、透明基板上に印刷インクを用いて形成されたマスク層が得られる。マスク層の厚さは、０．１〜５μｍ程度とすればよい。 In the step (A), the printing ink printed on the transparent substrate is preferably dried. The drying may be performed by leaving at room temperature, or may be performed by heating at 90 to 130 ° C. for 2 to 10 seconds. Thereby, the mask layer formed using the printing ink on the transparent substrate is obtained. The thickness of the mask layer may be about 0.1 to 5 μm.
本発明の方法では、上述した通り、工程（Ａ）において透明基板上にマスク層を形成するが、マスク層と透明基板との接着性を向上させるために、透明基板上に接着剤層を形成し、当該接着剤層上にマスク層を形成するのが好ましい。 In the method of the present invention, as described above, the mask layer is formed on the transparent substrate in the step (A). In order to improve the adhesion between the mask layer and the transparent substrate, the adhesive layer is formed on the transparent substrate. It is preferable to form a mask layer on the adhesive layer.
前記接着剤層は、透明基板と、後工程で形成するマスク層及び電磁波シールド層との接着性を向上させるための層である。前記接着剤層は、例えば、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂又はエポキシウレタン共重合樹脂等一般的な接着剤を使用することができるが、熱硬化型の接着剤を用いることが好ましい。 The said adhesive layer is a layer for improving the adhesiveness of a transparent substrate, the mask layer formed in a post process, and an electromagnetic wave shield layer. For the adhesive layer, for example, a general adhesive such as an epoxy resin, a polyester resin, an acrylic resin, a urethane resin, or an epoxy urethane copolymer resin can be used, but a thermosetting adhesive is preferably used. .
前記接着剤層を透明基板上に形成するには、溶剤中に接着剤を分散又は溶解させた溶液をコーターなどの適当な塗布機で透明基板上に塗布した後に乾燥させるなどすればよい。 In order to form the adhesive layer on the transparent substrate, a solution obtained by dispersing or dissolving the adhesive in a solvent may be applied to the transparent substrate with a suitable coater such as a coater and then dried.
接着剤層の厚さは、３〜１０μｍ、特に４〜８μｍとするのが好ましい。これにより、十分な接着性を確保することができる。 The thickness of the adhesive layer is preferably 3 to 10 μm, particularly 4 to 8 μm. Thereby, sufficient adhesiveness can be ensured.
次に、本発明の方法では、マスク層を有する透明基板上に、溶剤に対して不溶な導電材料を含む導電材料層を形成する工程（Ｂ）を実施する。前記導電材料としては、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、すず、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属又は合金或いはＩＴＯ等の導電性金属酸化物が好適である。この導電材料層の厚さは、薄過ぎると電磁波シールド性能が不足するので好ましくなく、厚過ぎると得られる光透過性電磁波シールド材の厚さに影響を及ぼすと共に、視野角を狭くしてしまうことから、０．５〜１００μｍ程度とするのが好ましい。 Next, in the method of the present invention, the step (B) of forming a conductive material layer containing a conductive material insoluble in a solvent on a transparent substrate having a mask layer is performed. The conductive material is preferably a metal or alloy such as aluminum, nickel, indium, chromium, gold, vanadium, tin, cadmium, silver, platinum, copper, titanium, cobalt, lead, or a conductive metal oxide such as ITO. is there. If the thickness of the conductive material layer is too thin, the electromagnetic shielding performance is insufficient, which is not preferable. If the thickness is too thick, the thickness of the light-transmitting electromagnetic shielding material obtained is affected and the viewing angle is narrowed. Therefore, the thickness is preferably about 0.5 to 100 μm.
導電材料層の形成手法としては、スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、化学蒸着などの蒸着法（気相メッキ法）や、液相メッキ（電解めっき、無電解めっき等）、印刷、塗布などが例示されるが、広義の気相メッキ（スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、化学蒸着）又は液相メッキが好適である。 Methods for forming the conductive material layer include sputtering methods, ion plating methods, vacuum deposition methods, chemical vapor deposition methods and the like (vapor phase plating methods), liquid phase plating methods (electrolytic plating, electroless plating, etc.), printing, and coating. As exemplified, vapor phase plating (sputtering, ion plating, vacuum deposition, chemical vapor deposition) or liquid phase plating in a broad sense is suitable.
導電材料層を塗布で形成する場合、不溶な導電材料として、粒径が１μｍ以下の金属及び／又は金属化合物粒子（好ましくは、金属及び／又は金属化合物粒子が、特に酸化銀粒子又は有機銀粒子）を用い、これらを含む塗布液を塗布、乾燥することにより得られる。 When the conductive material layer is formed by coating, as an insoluble conductive material, metal and / or metal compound particles having a particle size of 1 μm or less (preferably metal and / or metal compound particles, particularly silver oxide particles or organic silver particles) ), And a coating solution containing these is applied and dried.
次に、本発明の方法では、溶剤により、マスク層及びマスク層上の導電材料層を除去することにより、電磁波シールド層を形成する工程（Ｃ）を実施する。 Next, in the method of the present invention, the step (C) of forming the electromagnetic wave shielding layer is performed by removing the mask layer and the conductive material layer on the mask layer with a solvent.
マスク層と接触させる溶剤としては、マスク層の形成に用いた溶剤に対して可溶な材料が可溶な溶剤を用いればよく、有機溶剤又は水、好ましくは水である。 As the solvent to be brought into contact with the mask layer, a solvent in which a material soluble in the solvent used for forming the mask layer may be used, and an organic solvent or water, preferably water.
マスク層が形成された透明基板を溶剤に浸漬させるか、マスク層が形成された透明基板に溶剤を塗布した後、好ましくはスポンジ又はブラシなどを用いてマスク層表面を擦ることにより、マスク層を除去することができる。 After immersing the transparent substrate on which the mask layer is formed in a solvent, or after applying the solvent to the transparent substrate on which the mask layer is formed, the mask layer is preferably rubbed with a sponge or a brush to rub the mask layer. Can be removed.
（第三の製造方法）
本発明の光透過性電磁波シールド材の製造方法としては、上述した方法の他にも、以下の第三の製造方法を用いることもできる。以下に、前記方法を図５を用いながら説明する。具体的には；
平面視形状が海島構造を示し、そして前記海島構造における海領域に前記電磁波シールド層が形成されており、多数の島領域には開口部が形成されており、且つ前記島領域の形状が相互に異なる電磁波シールド層を、透明基板上に無電解めっき触媒層を介して形成された光透過性電磁波シールド材の製造方法であって、
透明基板５１０上に無電解めっき触媒層５９０を作製する工程（Ａ）と、
合成樹脂を含む印刷インクを塗布することにより、前記無電解めっき触媒層５９０の前記島領域に対応する部分上に、めっき保護層５４０を形成する工程（Ｂ）と、
前記めっき保護層５４０が形成されずに露出している無電解めっき触媒層５９０上に、無電解めっきすることにより電磁波シールド層５２０を形成する工程（Ｃ）と、
を含む方法を用いることができる。
(Third production method)
As a manufacturing method of the light-transmitting electromagnetic wave shielding material of the present invention, the following third manufacturing method can be used in addition to the above-described method. Below, the said method is demonstrated, using FIG. In particular;
The shape in plan view shows a sea-island structure, and the electromagnetic shielding layer is formed in the sea region in the sea-island structure, and openings are formed in a number of island regions, and the shape of the island regions is mutually A method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shielding material in which different electromagnetic wave shielding layers are formed on a transparent substrate via an electroless plating catalyst layer,
A step (A) of producing an electroless
A step (B) of forming a plating
A step (C) of forming an electromagnetic
Can be used.
前記工程（Ａ）において、無電解めっき触媒層を作製するには、無電解めっき触媒インクを、透明基板の少なくとも一面の全面上に塗布及び乾燥する手段が用いられる。 In the step (A), in order to produce the electroless plating catalyst layer, means for applying and drying the electroless plating catalyst ink on the entire surface of at least one surface of the transparent substrate is used.
前記無電解めっき触媒インクとしては、シランカップリング剤とアゾール系化合物との混合物または反応生成物、及び貴金属化合物を含むものが用いられる。 As the electroless plating catalyst ink, an ink containing a mixture or reaction product of a silane coupling agent and an azole compound and a noble metal compound is used.
前記無電解めっき触媒インクに用いられる前記シランカップリング剤は、一分子中に金属補足能を持つ官能基を有するものを用いるのが好ましい。これにより、無電解めっき触媒である貴金属化合物の活性を効果的に発現する電子状態、配向とすることが可能となり、被メッキ材との高い密着性が得られる。 As the silane coupling agent used in the electroless plating catalyst ink, it is preferable to use a silane coupling agent having a functional group having a metal capturing ability in one molecule. This makes it possible to achieve an electronic state and orientation that effectively expresses the activity of the noble metal compound that is the electroless plating catalyst, and high adhesion to the material to be plated is obtained.
前記シランカップリング剤として、エポキシ基含有シラン化合物を挙げることができる。前記エポキシ基含有シラン化合物としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等を挙げることができる。これらは、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。特に、得られる無電解めっき触媒層が高い光透過性を有することから、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシランが好ましく挙げられる。 An example of the silane coupling agent is an epoxy group-containing silane compound. Examples of the epoxy group-containing silane compound include γ-glycidoxypropyltrialkoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, and 3-glycidoxypropyltriethoxysilane. , 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. In particular, γ-glycidoxypropyltrialkoxysilane is preferably used because the obtained electroless plating catalyst layer has high light transmittance.
次に、前記無電解めっき触媒インクに用いられる前記アゾール系化合物としては、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、セレナゾール、ピラゾール、イソオキサゾール、イソチアゾール、トリアゾール、オキサジアゾール、チアジアゾール、テトラゾール、オキサトリアゾール、チアトリアゾール、ベンダゾール、インダゾール、ベンズイミダゾール、ベンゾトリアゾール、インダゾールなどが挙げられる。これらに制限されるものではないが、シランカップリング剤が有するエポキシ基などの官能基および貴金属化合物との反応性に優れることから、イミダゾールが特に好ましい。 Next, as the azole compound used in the electroless plating catalyst ink, imidazole, oxazole, thiazole, selenazole, pyrazole, isoxazole, isothiazole, triazole, oxadiazole, thiadiazole, tetrazole, oxatriazole, thiatriazole , Benzazole, indazole, benzimidazole, benzotriazole, indazole and the like. Although not limited to these, imidazole is particularly preferable because it is excellent in reactivity with a functional group such as an epoxy group of the silane coupling agent and a noble metal compound.
前記無電解めっき触媒インクにおいて、前記シランカップリング剤および前記アゾール系化合物は単に混合されているだけでもよいが、これらを予め反応させて反応生成物を形成してもよい。これにより、貴金属化合物を無電解めっき触媒層中に原子レベルでより高分散できるとともに、得られる無電解めっき触媒層の光透過性を向上させることができる。 In the electroless plating catalyst ink, the silane coupling agent and the azole compound may be simply mixed, or may be reacted in advance to form a reaction product. Thereby, while being able to disperse | distribute a noble metal compound more highly in an atomic level in an electroless-plating catalyst layer, the light transmittance of the obtained electroless-plating catalyst layer can be improved.
前記シランカップリング剤と前記アゾール系化合物とを反応させるには、例えば、８０〜２００℃でアゾール系化合物１モルに対して０．１〜１０モルのシランカップリング剤を混合して５分〜２時間反応させるのが好ましい。その際、溶媒は特に不要であるが、水の他、クロロホルム、ジオキサンメタノール、エタノール等の有機溶媒を用いてもよい。このようにして得られた前記シランカップリング剤と前記アゾール系化合物との反応生成物に、貴金属化合物を混合することで、前記無電解めっき触媒インクが得られる。 In order to react the silane coupling agent with the azole compound, for example, 0.1 to 10 mol of silane coupling agent is mixed with 1 mol of azole compound at 80 to 200 ° C. for 5 minutes to It is preferable to react for 2 hours. At that time, a solvent is not particularly required, but an organic solvent such as chloroform, dioxanemethanol, ethanol or the like may be used in addition to water. The electroless plating catalyst ink is obtained by mixing a noble metal compound with the reaction product of the silane coupling agent and the azole compound thus obtained.
次に、前記無電解めっき触媒インクに用いられる前記貴金属化合物は、無電解めっき液から銅やアルミニウムなどの金属を選択的に析出・成長させることができる触媒効果を示すものである。具体的には、高い触媒活性が得られることから、パラジウム、銀、白金及び金などの金属原子を含む化合物を用いるのが好ましい。前記化合物としては、前記金属原子の塩化物、水酸化物、酸化物、硫酸塩、アンモニウム塩などのアンミン錯体などが用いられるが、特にパラジウム化合物、中でも塩化パラジウムが好ましい。 Next, the noble metal compound used in the electroless plating catalyst ink exhibits a catalytic effect capable of selectively depositing and growing a metal such as copper or aluminum from the electroless plating solution. Specifically, it is preferable to use a compound containing a metal atom such as palladium, silver, platinum and gold because high catalytic activity is obtained. Examples of the compound include chlorides, hydroxides, oxides, sulfates, ammonium salts, and the like of the metal atom, and palladium compounds, particularly palladium chloride is preferable.
前記無電解めっき触媒インクは、前記アゾール系化合物および前記シランカップリング剤に対し、前記貴金属化合物を、好ましくは０．００１〜５０ｍｏｌ％、より好ましくは０．１〜２０ｍｏｌ％含むのがよい。前記貴金属化合物の濃度が、０．００１ｍｏｌ％未満では十分な触媒活性が得られずに所望する厚さを有する電磁波シールド層を形成できない恐れがあり、５０ｍｏｌ％を超えると添加量の増加に見合った貴金属化合物による触媒効果が得られない恐れがある。 The electroless plating catalyst ink preferably contains 0.001 to 50 mol%, more preferably 0.1 to 20 mol% of the noble metal compound with respect to the azole compound and the silane coupling agent. If the concentration of the noble metal compound is less than 0.001 mol%, sufficient catalytic activity may not be obtained, and an electromagnetic wave shielding layer having a desired thickness may not be formed. There is a risk that the catalytic effect of the noble metal compound cannot be obtained.
また、前記無電解めっき触媒インクは、適当な溶媒を含んでいてもよい。前記溶媒としては、水、メチルアルコール、エチルアルコール、２−プロパノール、アセトン、トルエン、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサンなどが挙げられる。これらは、１種単独で用いられてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。 The electroless plating catalyst ink may contain a suitable solvent. Examples of the solvent include water, methyl alcohol, ethyl alcohol, 2-propanol, acetone, toluene, ethylene glycol, polyethylene glycol, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, and dioxane. These may be used individually by 1 type and may be used in mixture of 2 or more types.
前記無電解めっき触媒インクには、必要に応じて界面活性剤などの添加剤をさらに含有させてもよい。 The electroless plating catalyst ink may further contain an additive such as a surfactant as necessary.
無電解めっき触媒インクを、透明基板の少なくとも一面の全面上に塗布する方法としては、グラビアリバース、グラビアコート、マイクログラビアコート、リップコート、ロールリバースコート、ワイヤーバーコート、キスコート、ダイコート、ロールコート、スピンコート、エアスプレー、エアレススプレー、浸漬、刷毛塗りなどの方法が一般的であるが、これに限定されるものではない。 As a method of applying the electroless plating catalyst ink on at least one entire surface of the transparent substrate, gravure reverse, gravure coat, micro gravure coat, lip coat, roll reverse coat, wire bar coat, kiss coat, die coat, roll coat, Methods such as spin coating, air spraying, airless spraying, dipping, and brushing are common, but are not limited thereto.
透明基板上に転写した無電解めっき触媒インクの乾燥は、好ましくは８０〜１６０℃、より好ましくは１２０〜１４０℃に加熱して行うのが好ましい。加熱温度が８０℃未満では、水分の蒸発速度が遅く十分な成膜性が得られない恐れがある。一方、１６０℃を超えると無電解めっき触媒層形成材料の熱分解が生じて密着性が低下し、また変色して光透過性が低下する恐れがある。また、乾燥時間は１秒〜５分が好ましい。 The electroless plating catalyst ink transferred onto the transparent substrate is preferably dried by heating to 80 to 160 ° C, more preferably 120 to 140 ° C. When the heating temperature is less than 80 ° C., the evaporation rate of water is slow and there is a possibility that sufficient film forming properties cannot be obtained. On the other hand, if the temperature exceeds 160 ° C., the electroless plating catalyst layer forming material may be thermally decomposed to reduce adhesion, and may be discolored to reduce light transmittance. The drying time is preferably 1 second to 5 minutes.
次に、本発明の方法では、合成樹脂を含む印刷インクを印刷することにより、前記無電解めっき触媒層の島領域に対応する部分上に、すなわち、記無電解めっき触媒層の島領域と平面視形状及び位置が同一のめっき保護層を形成する工程（Ｂ）を実施する。 Next, in the method of the present invention, by printing a printing ink containing a synthetic resin, on the portion corresponding to the island region of the electroless plating catalyst layer, that is, the island region and the plane of the electroless plating catalyst layer Step (B) of forming a plating protective layer having the same visual shape and position is performed.
前記印刷インクの印刷は、従来公知の方法を用いて行うことができる。例えば、（ｉ）凹部のパターンが前記島領域に対応している凹板、又は（ｉｉ）開口部のパターンが前記島領域に対応しているスクリーン印刷版を用いて、印刷インクを印刷する方法などが好ましく用いられる。 The printing ink can be printed using a conventionally known method. For example, a printing ink is printed using (i) a concave plate in which a concave pattern corresponds to the island region, or (ii) a screen printing plate in which an opening pattern corresponds to the island region. Etc. are preferably used.
当該工程（Ｂ）は、溶剤に対して可溶な材料を含む印刷インクに代えて合成樹脂を含む印刷インクを用いて、これを透明基板上に印刷する以外は、上述した本発明の第二の方法における工程（Ａ）と同様に実施することができるため、ここでは詳細な説明を省略する。 The step (B) is the second of the present invention described above, except that a printing ink containing a synthetic resin is used instead of a printing ink containing a material soluble in a solvent, and this is printed on a transparent substrate. Since it can implement similarly to the process (A) in this method, detailed description is abbreviate | omitted here.
前記印刷インクに用いられる合成樹脂としては、無電解めっき液に耐性があり且つ透明性を有するものであればよい。例えば、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、およびポリスチレン樹脂よりなる群から選択される少なくとも１種が好ましく挙げられる。これらは、１種単独で用いられてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。 The synthetic resin used for the printing ink may be any resin that is resistant to electroless plating solution and has transparency. For example, at least one selected from the group consisting of an acrylic resin, a polyester resin, a vinyl chloride resin, and a polystyrene resin is preferable. These may be used individually by 1 type and may be used in mixture of 2 or more types.
前記印刷インクは、前記合成樹脂を、５〜５０質量％、より好ましくは１０〜４０質量％含んでいるのがよい。前記合成樹脂の濃度が、５質量％未満では所望する厚さを有するめっき保護層を形成できない恐れがあり、５０質量％を超えると得られるめっき保護層の光透過性が低下する恐れがある。 The printing ink may contain 5 to 50% by mass, more preferably 10 to 40% by mass of the synthetic resin. If the concentration of the synthetic resin is less than 5% by mass, a plating protective layer having a desired thickness may not be formed, and if it exceeds 50% by mass, the light transmittance of the obtained plating protective layer may be reduced.
前記印刷インクに用いられる溶剤としては、前記樹脂を溶解でき、成膜性に優れるものであればよい。具体的には、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸２−エトキシエチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、２−ヘプタノン、１，４−ジオキサン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、トルエン、酢酸エチル、酢酸ブチル等が挙げられる。 Any solvent can be used for the printing ink as long as it can dissolve the resin and has excellent film formability. Specifically, dichloromethane, tetrahydrofuran, cyclohexanone, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, methyl lactate, ethyl lactate, 2-ethoxyethyl acetate, methyl pyruvate, pyruvate Ethyl, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, 2-heptanone, 1,4- Dioxane, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, toluene, vinegar Ethyl and butyl acetate.
前記レジストインキには、印刷仕上がりなどを向上させるため、透明なフィラーや高分子系増粘剤をさらに含ませてもよい。 The resist ink may further contain a transparent filler or a polymer thickener in order to improve the printing finish.
無電解めっき触媒層上に転写された印刷インクの乾燥は、好ましくは７０〜１２０℃、より好ましくは９０〜１１０℃で、５秒〜５分程度行われればよい。 The printing ink transferred onto the electroless plating catalyst layer is preferably dried at 70 to 120 ° C., more preferably 90 to 110 ° C., for about 5 seconds to 5 minutes.
次に、本発明の方法では、前記めっき保護層５４０が形成されずに露出している無電解めっき触媒層５９０上に、無電解めっきすることにより電磁波シールド層５２０を形成する工程（Ｃ）する。しかしながら、前記工程（Ｃ）の前に、前記めっき保護層により被覆されずに露出している前記無電解めっき触媒層に還元処理を行う工程を実施するのが好ましい。前記還元処理により、無電解めっき触媒層に含まれる貴金属化合物を還元して金属化でき、触媒活性を向上させることができる。
Next, in the method of the present invention, the step (C) of forming the electromagnetic
前記還元処理は、無電解めっき触媒層に含まれる貴金属化合物を還元して金属化できる方法であれば特に制限されない。具体的には、（ｉ）前記無電解めっき触媒層が形成された透明基板を、還元剤を含む溶液を用いて処理する液相還元法、（ｉｉ）前記無電解めっき触媒層が形成された透明基板を、還元性ガスと接触させる気相還元法などが好ましく用いられる。 The reduction treatment is not particularly limited as long as it is a method that can reduce and metallize the noble metal compound contained in the electroless plating catalyst layer. Specifically, (i) a liquid phase reduction method in which the transparent substrate on which the electroless plating catalyst layer is formed is treated with a solution containing a reducing agent, and (ii) the electroless plating catalyst layer is formed. A vapor phase reduction method in which a transparent substrate is brought into contact with a reducing gas is preferably used.
前記液相還元法において還元剤を含む溶液を用いて処理する方法として、具体的には、前記無電解めっき触媒層が形成された透明基板を、還元剤を含む溶液中に浸漬させる方法、前記透明基板の前記無電解めっき触媒層が形成された面に還元剤を含む溶液をスプレーする方法などが用いられる。 As a method of treating with a solution containing a reducing agent in the liquid phase reduction method, specifically, a method of immersing the transparent substrate on which the electroless plating catalyst layer is formed in a solution containing a reducing agent, A method of spraying a solution containing a reducing agent on the surface of the transparent substrate on which the electroless plating catalyst layer is formed is used.
前記還元剤を含む溶液は、所定の還元剤を水などの溶媒に分散又は溶解させて調製されるものである。前記還元剤としては、特に制限されないが、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルアクリルアミド、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、ブドウ糖、アミノボラン、ジメチルアミンボラン（ＤＭＡＢ）、トリメチルアミンボラン（ＴＭＡＢ）、ヒドラジン、ジエチルアミンボラン、ホルムアルデヒド、グリオキシル酸、イミダゾール、アスコルビン酸、ヒドロキシルアミン、硫酸ヒドロキシルアミン、塩酸ヒドロキシルアミン、次亜リン酸、次亜リン酸ナトリウムなどの次亜リン酸塩、硫酸ヒドロキシルアミン、亜硫酸ナトリウムなどの亜硫酸塩、ハイドロサルファイト（Ｎａ2Ｓ2Ｏ4：亜二チオン酸ナトリウムともいう）等が挙げられる。前記還元剤は、後工程で用いる無電解めっき浴中に含まれる還元剤と同一のものを用いると、還元処理後の前記透明基板を水洗処理することなく無電解めっきを行うことができ、また無電解めっき浴の組成を変化させる恐れも少ない。 The solution containing the reducing agent is prepared by dispersing or dissolving a predetermined reducing agent in a solvent such as water. The reducing agent is not particularly limited, but formamide, dimethylformamide, diethylformamide, dimethylacetamide, dimethylacrylamide, sodium borohydride, potassium borohydride, glucose, aminoborane, dimethylamineborane (DMAB), trimethylamineborane (TMAB) ), Hydrazine, diethylamine borane, formaldehyde, glyoxylic acid, imidazole, ascorbic acid, hydroxylamine, hydroxylamine sulfate, hydroxylamine hydrochloride, hypophosphorous acid, hypophosphite such as sodium hypophosphite, hydroxylamine sulfate, Examples thereof include sulfites such as sodium sulfite, hydrosulfite (Na 2 S 2 O 4 : also referred to as sodium dithionite), and the like. If the reducing agent is the same as the reducing agent contained in the electroless plating bath used in the subsequent step, electroless plating can be performed without washing the transparent substrate after the reduction treatment, There is little risk of changing the composition of the electroless plating bath.
前記還元剤としては、貴金属化合物の高い還元性が得られることから、アミノボラン、ジメチルアミンボラン、次亜リン酸ナトリウム、硫酸ヒドロキシルアミン、ハイドロサルファイト、及びホルマリンを用いるのが好ましい。 As the reducing agent, aminoborane, dimethylamine borane, sodium hypophosphite, hydroxylamine sulfate, hydrosulfite, and formalin are preferably used because the high reducibility of the noble metal compound can be obtained.
前記還元剤を含む溶液における還元剤の含有量は、０．０１〜２００ｇ／Ｌ、特に０．１〜１００ｇ／Ｌとするのが好ましい。還元剤の濃度が低すぎる場合には十分に還元処理を行うのに所要時間が長くなる恐れがあり、還元剤の濃度が高すぎる場合には析出させた貴金属が脱落する恐れがある。 The content of the reducing agent in the solution containing the reducing agent is preferably 0.01 to 200 g / L, particularly preferably 0.1 to 100 g / L. If the concentration of the reducing agent is too low, it may take a long time to sufficiently perform the reduction treatment, and if the concentration of the reducing agent is too high, the precipitated noble metal may fall off.
前記液相還元法において還元剤を含む溶液を用いて処理する方法としては、無電解めっき触媒層に含まれる貴金属化合物の高い還元性が得られることから、前記無電解めっき触媒層が形成された透明基板を還元剤を含む溶液中に浸漬させる方法を用いるのが好ましい。 In the liquid phase reduction method, the electroless plating catalyst layer is formed because the precious metal compound contained in the electroless plating catalyst layer is highly reducible as a method of using a solution containing a reducing agent. It is preferable to use a method of immersing the transparent substrate in a solution containing a reducing agent.
前記透明基板を浸漬させる場合、前記還元剤を含む溶液の温度は、２０〜９０℃、特に５０〜８０℃とするのが好ましい。また、浸漬時間は、少なくとも１分以上、好ましくは１〜１０分程度とすればよい。 When the transparent substrate is immersed, the temperature of the solution containing the reducing agent is preferably 20 to 90 ° C, particularly 50 to 80 ° C. Further, the immersion time may be at least 1 minute or more, preferably about 1 to 10 minutes.
一方、前記気相還元法を用いて還元処理を行う場合、前記還元性ガスとしては、水素ガス、ジボランガスなど、還元性を有する気体であれば特に制限されない。還元ガスを用いた還元処理時の反応温度および反応時間は、使用する還元ガスの種類などに応じて適宜決定すればよい。 On the other hand, when the reduction treatment is performed using the gas phase reduction method, the reducing gas is not particularly limited as long as it is a reducing gas such as hydrogen gas or diborane gas. What is necessary is just to determine suitably the reaction temperature and reaction time at the time of the reduction process using reducing gas according to the kind etc. of reducing gas to be used.
次に、前記工程（Ｃ）において還元された無電解めっき触媒層上に無電解めっきするには、無電解めっき浴を用いて常法に従って行うことができる。即ち、メッキ金属塩、キレート剤、ｐＨ調整剤、還元剤などを基本組成として含むメッキ液を建浴したものにメッキ基材を浸漬して行うか、上記構成メッキ液を２液以上と分けて添加方式でメッキ処理を施すなど適宜選択すれば良い。 Next, the electroless plating on the electroless plating catalyst layer reduced in the step (C) can be performed according to a conventional method using an electroless plating bath. That is, it is performed by immersing a plating base material in a plating solution containing a plating metal salt, a chelating agent, a pH adjusting agent, a reducing agent, etc. as a basic composition, or dividing the above-described plating solution into two or more solutions. What is necessary is just to select suitably, such as performing a plating process by an addition system.
メッキ金属としては、本発明の光透過性電磁波シールド材における電磁波シールド層を構成する金属として上述したものを用いることができる。 As the plating metal, those described above as the metal constituting the electromagnetic wave shielding layer in the light transmissive electromagnetic wave shielding material of the present invention can be used.
無電解めっきは公知であり、適宜薬品を選定調液して常法に従い、常温または加温下で行えばよい。無電解めっきとして一例を挙げると、Ｃｕからなる電磁波シールド層を形成する場合、硫酸銅等の水溶性銅塩１〜１００ｇ／Ｌ、特に５〜５０ｇ／Ｌ、ホルムアルデヒド等の還元剤０．５〜１０ｇ／Ｌ、特に１〜５ｇ／Ｌ、ＥＤＴＡ等の錯化剤２０〜１００ｇ／Ｌ、特に３０〜７０ｇ／Ｌを含み、ｐＨ１２〜１３．５、特に１２．５〜１３に調整した溶液に、無電解めっき触媒層が形成された透明基板を５０〜９０℃、３０秒〜６０分浸漬する方法を採用することができる。
Electroless plating is well known, and may be carried out at room temperature or under warming according to a conventional method by appropriately selecting and preparing chemicals. As an example of electroless plating, when an electromagnetic shielding layer made of Cu is formed, a water-soluble copper salt such as
また、無電解めっきをする際に、メッキされる基板を揺動、回転させたり、その近傍を空気撹拌させたりしてもよい。 Further, when performing electroless plating, the substrate to be plated may be rocked and rotated, or the vicinity thereof may be agitated with air.
なお、上述した本発明の第三の方法により得られる光透過性電磁波シールド材では、電磁波シールド層中の開口部にめっき保護層が形成されている。このめっき保護層は、アクリル樹脂などの合成樹脂などが用いられ、透明性に優れることから、光透過性電磁波シールド材の電磁波シールド層における開口部とみなすことができる。 In the light-transmitting electromagnetic wave shielding material obtained by the third method of the present invention described above, a plating protective layer is formed in the opening in the electromagnetic wave shielding layer. This plating protective layer is made of synthetic resin such as acrylic resin and is excellent in transparency. Therefore, it can be regarded as an opening in the electromagnetic wave shielding layer of the light transmissive electromagnetic wave shielding material.
（第四の製造方法）
本発明の光透過性電磁波シールド材の製造方法としては、上述した方法の他にも、以下の第四の製造方法を用いることもできる。以下に、前記方法を図６を用いながら説明する。具体的には；
平面視形状が海島構造を示し、そして前記海島構造における海領域に前記電磁波シールド層が形成されており、多数の島領域には開口部が形成されており、且つ前記島領域の形状が相互に異なる電磁波シールド層を、透明基板上に形成された光透過性電磁波シールド材の製造方法であって、
無電解めっき触媒インクを印刷することにより、透明基板６１０の前記海領域に対応する部分上に、無電解めっき触媒層６９０を形成する工程（Ａ）と、
前記無電解めっき触媒層６９０上に、無電解めっきすることにより、電磁波シールド層６２０を形成する工程（Ｂ）と、
を含む方法が用いられる。
(Fourth manufacturing method)
As a method for producing the light-transmitting electromagnetic wave shielding material of the present invention, the following fourth production method can be used in addition to the method described above. Below, the said method is demonstrated, using FIG. In particular;
The shape in plan view shows a sea-island structure, and the electromagnetic shielding layer is formed in the sea region in the sea-island structure, and openings are formed in a number of island regions, and the shape of the island regions is mutually A different electromagnetic shielding layer is a method for producing a light transmissive electromagnetic shielding material formed on a transparent substrate,
A step (A) of forming an electroless plating catalyst layer 690 on a portion corresponding to the sea region of the
(B) forming an electromagnetic
The method including is used.
前記工程（Ａ）において用いられる無電解めっき触媒インクとしては、本発明の第３の方法において用いられるものと同様のものが用いられる。 The electroless plating catalyst ink used in the step (A) is the same as that used in the third method of the present invention.
前記工程（Ａ）においては、無電解めっき触媒インクを印刷することにより、透明基板の電磁波シールド層からなる海領域に対応する部分上に、すなわち、電磁波シールド層からなる海領域と平面視形状及び位置が同一の無電解めっき触媒層を形成する。このような無電解めっき触媒層を形成するには、例えば、前記無電解めっき触媒インクを、（ｉ）凹部のパターンが電磁波シールド層からなる海領域に対応している凹板、又は（ｉｉ）開口部のパターンが電磁波シールド層からなる海領域に対応しているスクリーン印刷版を用いて印刷するのが好ましい。 In the step (A), by printing the electroless plating catalyst ink, on the portion corresponding to the sea area composed of the electromagnetic wave shielding layer of the transparent substrate, that is, the sea area composed of the electromagnetic wave shielding layer and the plan view shape; An electroless plating catalyst layer having the same position is formed. In order to form such an electroless plating catalyst layer, for example, (i) a concave plate in which the pattern of the concave portion corresponds to the sea region formed by the electromagnetic wave shielding layer, or (ii) It is preferable to print using a screen printing plate in which the pattern of the opening corresponds to the sea region composed of the electromagnetic wave shielding layer.
（ｉ）凹部のパターンが電磁波シールド層からなる海領域に対応している凹板を作製するには、例えば、図７に示すように、
印刷版用基材７７０上に、電磁波シールド層から形成される海領域に対応する部分に開口部７８１が形成されているパターンを有するフォトレジスト層７８０を形成する工程（１）、及び
前記開口部７８１において露出している印刷版用基材７７０の一部をエッチングした後、前記フォトレジスト層７８０を除去することにより、開口部７６１を有する印刷版を形成する工程（２）、
を含む方法などを用いることができる。
(I) In order to produce a concave plate in which the pattern of the concave portion corresponds to the sea region composed of the electromagnetic wave shielding layer, for example, as shown in FIG.
A step (1) of forming a
A method including the above can be used.
前記工程（１）において、使用される印刷版用基材としては、従来のグラビア印刷などの印刷方法において公知のものであれば制限なく用いることができる。例えば、図７に示すように、鋼製、アルミニウム製又は鉄製の金属製基材上に銅メッキ膜が形成されたものなど、金属製基材７５０上に金属膜７６０が形成されたものなどが挙げられる。また、印刷版用基材の形状は、平板状又はシリンダー状など公知の形状であればよいが、グラビア印刷を用いる場合には一般的にはシリンダー状を有する。
In the said process (1), if it is a well-known thing in printing methods, such as the conventional gravure, as a printing plate base material used, it can be used without a restriction | limiting. For example, as shown in FIG. 7, a
印刷版用基材上に、上述した特定のパターンを有するフォトレジスト層を形成するには、例えば、フォトレジスト膜を露光及び現像する方法を用いて行うこともできる。前記方法を用いて行う場合、前記工程（１）は、
（１−１）前記印刷用基材上に、フォトレジスト膜を形成する工程、及び
（１−２）前記フォトレジスト膜を、電磁波シールド層により形成される海領域に対応する部分を非露光部とし、前記電磁波シールド層における開口部から形成される島領域に対応する部分を露光部として露光した後、非露光部のフォトレジスト膜を除去する工程、により行うことができる。
In order to form the photoresist layer having the above-mentioned specific pattern on the printing plate substrate, for example, a method of exposing and developing the photoresist film can be used. When performed using the method, the step (1) includes:
(1-1) a step of forming a photoresist film on the printing substrate; and (1-2) a portion corresponding to the sea region formed by the electromagnetic wave shielding layer of the photoresist film is a non-exposed portion. Then, after exposing the portion corresponding to the island region formed from the opening in the electromagnetic wave shield layer as an exposed portion, the step of removing the photoresist film in the non-exposed portion can be performed.
なお、前記フォトレジスト膜については、光透過性電磁波シールド材の第一の製造方法として上述した方法におけるフォトレジスト膜と同様のものが用いられるため、ここでは詳細な説明を省略する。 In addition, about the said photoresist film, since the thing similar to the photoresist film in the method mentioned above is used as a 1st manufacturing method of a light transmissive electromagnetic wave shielding material, detailed description is abbreviate | omitted here.
フォトレジスト層における上述した特定のパターンは、ＦＭスクリーニングにより得られた画像データに基づいて形成するのが好ましい。このようにＦＭスクリーンを用いることにより図１（Ｂ）に示す海島構造を有する電磁波シールド層を容易且つ高精度で形成することができる。したがって、前記工程（１−２）におけるフォトレジスト膜の露光は、例えば、ＦＭスクリーニングにより得られたＦＭスクリーンからなる画像データに基づいて行うのが好ましい。前記フォトレジスト膜の露光及び現像についても、光透過性電磁波シールド材の第一の製造方法として上述した工程（Ｂ）と同様の方法が用いられるためここでは詳細な説明を省略する。 The specific pattern described above in the photoresist layer is preferably formed based on image data obtained by FM screening. By using the FM screen in this manner, the electromagnetic wave shielding layer having the sea-island structure shown in FIG. 1B can be formed easily and with high accuracy. Therefore, the exposure of the photoresist film in the step (1-2) is preferably performed based on image data including an FM screen obtained by FM screening, for example. Also for the exposure and development of the photoresist film, since the same method as the above-mentioned step (B) is used as the first manufacturing method of the light-transmitting electromagnetic wave shielding material, detailed description is omitted here.
ＦＭスクリーンを構成するドットの形状は、三角形及び四角形などの多角形、円形、楕円形などいずれの形状であってもよい。なかでも、四角形、特に正方形であるのが好ましい。 The shape of the dots constituting the FM screen may be any shape such as a polygon such as a triangle and a quadrangle, a circle, and an ellipse. Of these, a quadrangle, particularly a square is preferable.
前記ＦＭスクリーンを構成するドットは、一辺の長さが、３０〜２μｍ、特に３０〜１５μｍである四角形であるのが好ましい。ＦＭスクリーンにおいて、ドット部分が光を透過せず、ドット以外の部分が光を透過させる。したがって、ＦＭスクリーンにおいてドット部分、好ましくは複数個のドットの集合体部分が、フォトレジスト膜における開口部を形成することになる。ゆえに、ＦＭスクリーンを構成するドットの形状を上記のものにすることにより、電磁波シールド層から形成される海領域に対応する部位に開口部を有するフォトレジスト層を形成することができる。 The dots constituting the FM screen are preferably quadrangles having a side length of 30 to 2 μm, particularly 30 to 15 μm. In the FM screen, the dot portion does not transmit light, and the portion other than the dot transmits light. Therefore, a dot portion, preferably an aggregate portion of a plurality of dots in the FM screen forms an opening in the photoresist film. Therefore, by making the shape of the dots constituting the FM screen as described above, a photoresist layer having an opening at a site corresponding to the sea region formed from the electromagnetic wave shielding layer can be formed.
また、ＦＭスクリーンの全面積に対するドットの総面積は、６０〜２０％、特に５０〜４０％とするのが好ましい。前記総面積を、２０％以上とすることにより複数個の島領域が繋がった海島構造を有する電磁波シールド層を容易に形成することができ、６０％以下とすることにより電磁波シールド層の高い開口率を確保することができる。 Further, the total area of dots with respect to the total area of the FM screen is preferably 60 to 20%, particularly preferably 50 to 40%. By setting the total area to 20% or more, an electromagnetic shielding layer having a sea-island structure in which a plurality of island regions are connected can be easily formed. By setting the total area to 60% or less, a high aperture ratio of the electromagnetic shielding layer is achieved. Can be secured.
次に、前記工程（２）において、まず、フォトレジスト層における開口部において露出している印刷版用基材の一部をエッチングするには、従来公知の方法を用いて行うことができる。例えば、例えば塩化鉄、塩化銅、加硫酸アンモニア、アンモニアアルカリ、クロム硫酸、硝酸等のエッチング液を用いて行うことができる。 Next, in the step (2), first, a part of the printing plate substrate exposed at the opening in the photoresist layer can be etched using a conventionally known method. For example, it can be performed using an etchant such as iron chloride, copper chloride, ammonia sulfate, ammonia alkali, chromium sulfate, nitric acid, or the like.
前記工程（２）において、前記エッチングを行った後、パターニングされたフォトレジスト層を除去するには、例えば、水酸化ナトリウム水溶液などを用いて行うことができる。 In the step (2), after the etching, the patterned photoresist layer can be removed using, for example, an aqueous sodium hydroxide solution.
前記工程（２）により、凹部のパターンが電磁波シールド層からなる海領域に対応している凹板を形成することができる。また、前記凹板における開口部が、インク収容セルとして機能する。なお、当該方法において、このようにパターニングされた凹板の平面視形状は、図１（Ｂ）に示すような海島構造と同様の構造を有するのが好ましい。また、フォトレジスト層及び前記フォトレジスト層が有する開口部からなる島領域の幅、並びにフォトレジスト層における開口率は、それぞれ所望の電磁波シールド層が得られるように決定すればよい。 By the step (2), a concave plate having a concave pattern corresponding to the sea region composed of the electromagnetic wave shielding layer can be formed. The opening in the concave plate functions as an ink containing cell. In the method, it is preferable that the shape of the concave plate patterned in this way has a structure similar to the sea-island structure as shown in FIG. Further, the width of the island region formed of the photoresist layer and the opening of the photoresist layer, and the aperture ratio in the photoresist layer may be determined so that a desired electromagnetic wave shielding layer can be obtained.
上記の通りに作製した凹版を用いて、無電解めっき触媒インクを透明基板上に印刷することにより、透明基板の前記海領域に対応する部分上に無電解めっき触媒層を形成するには、従来公知のグラビア印刷法などの印刷方法と同様に行えばよい。例えば、無電解めっき触媒インクを前記凹版に塗布した後、これと透明基板を接触させることにより、凹版の凹部に収容された印刷インクを透明基板上に転写させることにより行われる。 In order to form an electroless plating catalyst layer on a portion corresponding to the sea area of a transparent substrate by printing an electroless plating catalyst ink on the transparent substrate using the intaglio plate produced as described above, What is necessary is just to carry out similarly to printing methods, such as a well-known gravure printing method. For example, after applying the electroless plating catalyst ink to the intaglio, the printing ink accommodated in the concave portion of the intaglio is transferred onto the transparent substrate by bringing it into contact with the transparent substrate.
また、工程（Ａ）において用いられる（ｉｉ）開口部のパターンが電磁波シールド層における開口部から形成される島領域に対応しているスクリーン印刷版を作製するには、メッシュ基材上に、電磁波シールド層から形成される海領域に対応する部分にメッシュ基材が露出している開口部を有するパターンを有するフォトレジスト層を形成する方法などが用いられる。 In order to produce a screen printing plate in which the pattern of the opening used in step (A) corresponds to the island region formed from the opening in the electromagnetic wave shielding layer, an electromagnetic wave is formed on the mesh substrate. A method of forming a photoresist layer having a pattern having an opening in which a mesh base material is exposed in a portion corresponding to the sea region formed from the shield layer is used.
このような特定のパターンを有するフォトレジスト層を形成するには、上述した凹板における（ｉｉ）のエッチング保護層と同様のものが用いられる。 In order to form a photoresist layer having such a specific pattern, the same layer as the etching protection layer (ii) in the concave plate described above is used.
前記メッシュ基材としては、スクリーン印刷において用いられている従来公知のものであれば、特に制限なく用いられる。シルクやナイロン、ポリエステル等の樹脂繊維、ステンレスメッシュがあるが、印刷精度が要求される場合には、伸び縮みが少なく、寸法精度が良いステンレスメッシュが用いられる。例えば、ＳＳ３８０−１４と表記される線径１４μｍのステンレス鋼素線を２５．４ｍｍ（１インチ）当り３８０本の密度で平織り状の網目を形成しているものを使用する。 The mesh base material is not particularly limited as long as it is a conventionally known material used in screen printing. There are resin fibers such as silk, nylon, and polyester, and a stainless mesh, but when printing accuracy is required, a stainless mesh with little expansion and contraction and good dimensional accuracy is used. For example, a stainless steel wire having a wire diameter of 14 μm expressed as SS380-14 and having a density of 380 per 25.4 mm (1 inch) and a plain weave mesh is used.
上記の通りに作製したスクリーン印刷版を用いて、無電解めっき触媒インクを透明基板上に印刷することにより、透明基板の前記島領域に対応する部分上にめっき保護層を形成するには、従来公知のスクリーン印刷法と同様に行えばよい。 In order to form a plating protective layer on a portion corresponding to the island region of the transparent substrate by printing the electroless plating catalyst ink on the transparent substrate using the screen printing plate prepared as described above, conventionally, What is necessary is just to carry out similarly to the well-known screen printing method.
また、工程（Ａ）における無電解めっき触媒インクの印刷方法としては、上述した凹板又はスクリーン印刷版を用いた方法の他にも、前記無電解めっき触媒インクを、上述した凹板又はスクリーン印刷版と同様にＦＭスクリーンニングにより得られる画像データに基づいて画像様に印刷することにより行うこともできる。前記印刷方法としては、例えば、インクジェット法などを用いて行うことができる。 Moreover, as a printing method of the electroless plating catalyst ink in the step (A), in addition to the method using the concave plate or the screen printing plate described above, the electroless plating catalyst ink is used for the concave plate or the screen printing described above. Similarly to the plate, it can be performed by printing like an image based on image data obtained by FM screening. As the printing method, for example, an inkjet method can be used.
前記工程（Ａ）において、前記透明基板上に印刷した印刷インクは、乾燥させるのが好ましい。前記乾燥は、室温に放置することにより行われてもよい他、９０〜１３０℃、２〜１０秒で加熱することにより行われてもよい。これにより、透明基板上に印刷インクを用いて形成されためっき保護層が得られる。めっき保護層の厚さは、０．１〜５μｍ程度とすればよい。 In the step (A), the printing ink printed on the transparent substrate is preferably dried. The drying may be performed by leaving at room temperature, or may be performed by heating at 90 to 130 ° C. for 2 to 10 seconds. Thereby, the plating protective layer formed using the printing ink on the transparent substrate is obtained. The thickness of the plating protective layer may be about 0.1 to 5 μm.
本発明の方法では、次に、上述の通りにして作製した無電解めっき触媒層上に、無電解めっきすることにより、電磁波シールド層を形成する工程を実施する。また、前記工程の前に、無電解めっき触媒層に還元処理を行う工程を実施してもよい。なお、前記無電解めっき工程及び還元処理工程は、本発明の第三の方法において記載したのと同様の方法が用いられるため、ここでは詳細な説明を省略する。 Next, in the method of the present invention, a step of forming an electromagnetic wave shielding layer by performing electroless plating on the electroless plating catalyst layer produced as described above is performed. Moreover, you may implement the process of performing a reduction process to the electroless-plating catalyst layer before the said process. In addition, since the same method as described in the third method of the present invention is used for the electroless plating step and the reduction treatment step, detailed description is omitted here.
上述した本発明の第一〜第四の製造方法において、電磁波シールド層をさらに低い抵抗値にして電磁波シールド効果を向上させたい場合は、透明基板上に形成された電磁波シールド層に金属めっき層を形成する工程を実施するのが好ましい。 In the first to fourth manufacturing methods of the present invention described above, when it is desired to improve the electromagnetic wave shielding effect by making the electromagnetic wave shielding layer have a lower resistance value, a metal plating layer is formed on the electromagnetic wave shielding layer formed on the transparent substrate. It is preferable to carry out the forming step.
金属めっき層は、公知の電解めっき法、無電解めっき法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、これらは単独で使用しても、２種以上の合金として使用しても良い。好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。 The metal plating layer can be formed by a known electrolytic plating method or electroless plating method. Generally, copper, copper alloy, nickel, silver, gold, zinc or tin can be used as the metal used for plating. These can be used alone or as two or more kinds of alloys. You may do it. Copper, copper alloy, silver, or nickel is preferable, and copper or copper alloy is particularly preferably used from the viewpoint of economy and conductivity.
また、電磁波シールド層には防眩性能を付与させても良い。そのため、本発明の方法では、電磁波シールド層及び／又は金属めっき層に黒化処理を行う工程により、電磁波シールド層及び／又は金属めっき層の表面に黒化処理層を設けることにより行っても良い。例えば、電磁波シールド層及び／又は金属めっき層の酸化処理、硫化処理、クロム合金等の黒色メッキ、又は黒もしくは暗色系のインクの塗布等により行うことができる。なかでも、黒化処理としては、酸化処理及び硫化処理が好ましい。 Further, the electromagnetic wave shielding layer may be provided with antiglare performance. Therefore, in the method of the present invention, the blackening treatment layer may be provided on the surface of the electromagnetic wave shielding layer and / or the metal plating layer by the step of blackening the electromagnetic wave shielding layer and / or the metal plating layer. . For example, it can be performed by oxidation treatment of the electromagnetic wave shielding layer and / or metal plating layer, sulfurization treatment, black plating of chromium alloy or the like, or application of black or dark ink. Among these, as the blackening treatment, oxidation treatment and sulfurization treatment are preferable.
前記黒化処理として酸化処理を行う場合には、黒化処理液として、一般には次亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液、亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液、ペルオキソ二硫酸と水酸化ナトリウムの混合水溶液等を使用することが可能であり、特に経済性の点から、次亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液、又は亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液を使用することが好ましい。 When the oxidation treatment is performed as the blackening treatment, the blackening treatment liquid is generally a mixed aqueous solution of hypochlorite and sodium hydroxide, a mixed aqueous solution of chlorite and sodium hydroxide, peroxodisulfuric acid, It is possible to use a mixed aqueous solution of sodium hydroxide, etc. Especially from the economical point of view, a mixed aqueous solution of hypochlorite and sodium hydroxide or a mixed aqueous solution of chlorite and sodium hydroxide is used. It is preferable to do.
前記黒化処理として硫化処理を行う場合には、黒化処理液として、一般には硫化カリウム、硫化バリウム及び硫化アンモニウム等の水溶液を使用することが可能であり、好ましくは、硫化カリウム及び硫化アンモニウムであり、特に低温で使用可能である点から、硫化アンモニウムを使用することが好ましい。 In the case of performing sulfurization treatment as the blackening treatment, it is generally possible to use an aqueous solution such as potassium sulfide, barium sulfide and ammonium sulfide as the blackening treatment liquid, preferably potassium sulfide and ammonium sulfide. In particular, ammonium sulfide is preferably used because it can be used at a low temperature.
黒化処理層の厚さは、特に制限されないが、０．０１〜１μｍ、好ましくは０．０１〜０．５μｍとするのがよい。前記厚さが、０．０１μｍ未満であると、光の防眩効果が充分でない恐れがあり、１μｍを超えると、斜視した際の見かけ上の開口率が低下する恐れがある。 The thickness of the blackening treatment layer is not particularly limited, but is 0.01 to 1 μm, preferably 0.01 to 0.5 μm. If the thickness is less than 0.01 μm, the antiglare effect of light may not be sufficient, and if it exceeds 1 μm, the apparent aperture ratio when viewed from the perspective may be reduced.
（第五の製造方法）
本発明の光透過性電磁波シールド材の製造方法としては、上述した方法の他にも、以下の第五の製造方法を用いることもできる。具体的には；平面視形状が海島構造を示し、そして前記海島構造における海領域に前記電磁波シールド層が形成されており、多数の島領域には開口部が形成されており、且つ前記島領域の形状が相互に異なる電磁波シールド層を、透明基板上に形成された光透過性電磁波シールド材の製造方法であって、
透明基板の前記海領域に対応する部分上に、導電性粒子及びバインダ樹脂を含む導電性インクを印刷することにより、電磁波シールド層を形成する工程、
を含む方法である。
(Fifth manufacturing method)
As a manufacturing method of the light-transmitting electromagnetic wave shielding material of the present invention, the following fifth manufacturing method can be used in addition to the above-described method. Specifically, the shape in plan view shows a sea-island structure, and the electromagnetic shielding layer is formed in a sea region in the sea-island structure, and openings are formed in a number of island regions, and the island region A method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shielding material formed on a transparent substrate, electromagnetic wave shielding layers having different shapes from each other,
Forming an electromagnetic wave shielding layer by printing a conductive ink containing conductive particles and a binder resin on a portion corresponding to the sea region of the transparent substrate;
It is a method including.
前記導電性インクは、導電性粒子及びバインダ樹脂を含む。前記導電性粒子としては、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金；或いはＩＴＯ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ、いわゆるインジウムドープ酸化スズ）、酸化スズ−酸化アンチモン（ＡＴＯ、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ）、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＺＡＯ；いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛）等の導電性酸化物などを挙げることができる。これらは一種段独で用いられてもよい他、二種以上を混合して用いてもよい。 The conductive ink includes conductive particles and a binder resin. Examples of the conductive particles include aluminum, nickel, indium, chromium, gold, vanadium, tin, cadmium, silver, platinum, copper, titanium, cobalt, lead, and other metals and alloys; or ITO, indium oxide, tin oxide, and oxide. Conductivity such as zinc, indium oxide-tin oxide (ITO, so-called indium-doped tin oxide), tin oxide-antimony oxide (ATO, so-called antimony-doped tin oxide), zinc oxide-aluminum oxide (ZAO; so-called aluminum-doped zinc oxide) An oxide etc. can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.
なかでも、前記導電性粒子としては、銀、銅、金、ニッケル、インジウム及びスズが好ましく挙げられる。これらの導電性粒子であれば、後述するように強酸との接触により、得られるメッシュ状導電層の導電性を向上させることが可能となる。 Especially, as said electroconductive particle, silver, copper, gold | metal | money, nickel, indium, and tin are mentioned preferably. With these conductive particles, the conductivity of the resulting mesh-like conductive layer can be improved by contact with a strong acid as described later.
前記導電性粒子の平均粒子径は、１０ｎｍ〜１０μｍ、特に１０ｎｍ〜５μｍであるのが好ましい。これにより、後述するように強酸との接触により、導電性を向上させることが可能となり、導電性に優れる導電層を形成することが可能となる。 The average particle diameter of the conductive particles is preferably 10 nm to 10 μm, particularly preferably 10 nm to 5 μm. Thereby, as will be described later, the conductivity can be improved by contact with a strong acid, and a conductive layer having excellent conductivity can be formed.
前記導電性インクにおける導電性粒子の含有量は、前記バインダ樹脂の１００質量部に対して、４００〜１０００質量部、特に４００〜８００質量部とするのが好ましい。これにより、導電性粒子同士の接触性に優れる導電層を形成することができる。 The content of the conductive particles in the conductive ink is preferably 400 to 1000 parts by mass, particularly 400 to 800 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin. Thereby, the conductive layer excellent in the contact property of electroconductive particles can be formed.
前記導電性インクに用いられるバインダ樹脂としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。 Examples of the binder resin used in the conductive ink include acrylic resin, polyester resin, epoxy resin, urethane resin, phenol resin, maleic acid resin, melamine resin, urea resin, polyimide resin, and silicon-containing resin. Furthermore, it is preferable that it is a thermosetting resin among these resins.
前記導電性インクには、適度な粘度に調整するため、さらに溶剤を含んでいてもよい。前記溶剤としては、ヘキサノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、ウンデカノール、ドデカノール、トリデカノール、テトラデカノール、ペンタデカノール、ステアリルアルコール、セリルアルコール、シクロヘキサノール、テルピネオール等のアルコール；エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルカルビトール）、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート等のアルキルエーテルが挙げられる。 The conductive ink may further contain a solvent in order to adjust to an appropriate viscosity. Examples of the solvent include alcohols such as hexanol, octanol, nonanol, decanol, undecanol, dodecanol, tridecanol, tetradecanol, pentadecanol, stearyl alcohol, seryl alcohol, cyclohexanol, terpineol; ethylene glycol monobutyl ether (butyl cellosolve), ethylene Examples thereof include alkyl ethers such as glycol monophenyl ether, diethylene glycol, diethylene glycol monobutyl ether (butyl carbitol), cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, and butyl carbitol acetate.
前記導電性インクは、さらに、黒色着色剤をさらに含有していてもよい。これにより、印刷精度の向上とともに、得られる光透過性電磁波シールド材において透明基板側から見た際の防眩効果を付与することができる。 The conductive ink may further contain a black colorant. Thereby, with the improvement of a printing precision, the glare-proof effect at the time of seeing from the transparent substrate side can be provided in the light transmissive electromagnetic wave shielding material obtained.
前記黒色着色剤としては、カーボンブラック、チタンブラック、黒色酸化鉄、黒鉛、および活性炭などが好ましく挙げられる。これらは、１種単独で用いられてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。なかでも、カーボンブラックが好ましい。カーボンブラックとしては、アセチレンブラック、チャンネルブラック、ファーネスブラック等が挙げられる。カーボンブラックの平均粒径は、好ましくは０．１〜１，０００ｎｍ、特に好ましくは５〜５００ｎｍである。 Preferred examples of the black colorant include carbon black, titanium black, black iron oxide, graphite, and activated carbon. These may be used individually by 1 type and may be used in mixture of 2 or more types. Of these, carbon black is preferable. Examples of carbon black include acetylene black, channel black, and furnace black. The average particle size of carbon black is preferably 0.1 to 1,000 nm, particularly preferably 5 to 500 nm.
前記導電性インクにおける黒色着色剤の含有量は、前記バインダ樹脂１００質量部に対して、０．１〜１０質量部、特に１〜５質量部とするのが好ましい。 The content of the black colorant in the conductive ink is preferably 0.1 to 10 parts by mass, particularly 1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin.
導電性インクは、さらに、界面活性剤などの分散剤、可塑剤、消泡剤、硬化剤など、従来公知の助剤を含んでいてもよい。 The conductive ink may further contain a conventionally known auxiliary agent such as a dispersant such as a surfactant, a plasticizer, an antifoaming agent, and a curing agent.
本発明の方法において、透明基板の電磁波シールド層からなる海領域に対応する部分上に導電性インクを印刷するには、例えば、前記導電性インクを、（ｉ）凹部のパターンが前記海領域に対応している凹板、又は（ｉｉ）開口部のパターンが前記海領域に対応しているスクリーン印刷版を用いて印刷するのが好ましい。これらの方法は、無電解めっき触媒インクに代えて導電性インクを用いる以外は、本発明の第四の方法と同様に実施することができるため、ここでは詳細な説明を省略する。 In the method of the present invention, in order to print the conductive ink on the portion of the transparent substrate corresponding to the sea region composed of the electromagnetic wave shielding layer, for example, the conductive ink is used, Printing is preferably performed using a corresponding intaglio plate or (ii) a screen printing plate in which the pattern of openings corresponds to the sea area. Since these methods can be carried out in the same manner as the fourth method of the present invention except that conductive ink is used in place of the electroless plating catalyst ink, detailed description thereof is omitted here.
また、導電性インクの印刷方法としては、上述した凹板又はスクリーン印刷版を用いた方法の他にも、前記導電性インクを、上述した凹板又はスクリーン印刷版と同様にＦＭスクリーンニングにより得られる画像データに基づいて画像様に印刷することにより行うこともできる。前記印刷方法としては、例えば、インクジェット法などを用いて行うことができる。 In addition to the method using the concave plate or screen printing plate described above, the conductive ink can be obtained by FM screening in the same manner as the concave plate or screen printing plate described above. It can also be performed by printing in an image-like manner based on the image data. As the printing method, for example, an inkjet method can be used.
透明基板上に印刷した導電性インクは、通常は、室温〜２５０℃で乾燥させることにより硬化させるのが好ましい。 The conductive ink printed on the transparent substrate is usually preferably cured by drying at room temperature to 250 ° C.
以下、本発明を実施例により説明する。本発明は、以下の実施例により制限されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples. The present invention is not limited by the following examples.
（実施例１）
透明基板として、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）（厚さ１００μｍ、東レ株式会社製 ルミラー）を用意した。このフィルムの片面に、常温にて１．３×１０-3Ｐａの真空下で、真空蒸着法により銅膜（厚さ３．０μｍ）を形成した後、前記銅膜上に、感光性レジスト（東京応化社製 ＰＭＥＲ−Ｎ ＨＣ６００Ｙ）をバーコーターで塗工し、８０℃で１０分間乾燥することにより、ＰＥＴフィルム／銅膜／感光性レジスト膜の積層体を得た。
(Example 1)
A biaxially stretched polyethylene terephthalate film (PET film) (thickness: 100 μm, Lumirror manufactured by Toray Industries, Inc.) was prepared as a transparent substrate. After forming a copper film (thickness: 3.0 μm) on one side of this film by vacuum evaporation under a vacuum of 1.3 × 10 −3 Pa at room temperature, a photosensitive resist ( By applying PMER-N HC600Y manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. with a bar coater and drying at 80 ° C. for 10 minutes, a laminate of PET film / copper film / photosensitive resist film was obtained.
次に、ＦＭスクリーニングプログラムによりＦＭスクリーニングを行ってＦＭスクリーン（ドット形状：一辺の長さが２０μｍの正方形、ＦＭスクリーン全面積に対するドットの総面積４５％）からなる画像データを得、このＦＭスクリーンに基づいて紫外線照射量６０ｍJ/ｃｍ2で感光性レジスト膜を露光してアルカリ現像した後、水洗及び乾燥することにより前記感光性レジスト膜をパターニングした。これにより、海領域にフォトレジスト層が形成されており、多数の島領域に開口部が形成されており、且つ前記島領域の形状が相互に異なる海島構造を有するフォトレジスト層を得た。 Next, FM screening is performed by the FM screening program to obtain image data consisting of an FM screen (dot shape: square with a side length of 20 μm, total area of dots 45% of the total area of the FM screen). Based on this, the photosensitive resist film was exposed to an ultraviolet ray of 60 mJ / cm 2 and alkali-developed, and then washed and dried to pattern the photosensitive resist film. As a result, a photoresist layer having a sea-island structure in which a photoresist layer was formed in the sea region, openings were formed in a number of island regions, and the shapes of the island regions were different from each other was obtained.
次に、前記開口部において露出した銅膜を塩化第二銅溶液によりエッチングし、強アルカリ液によりフォトレジスト層を剥離した。これにより、ＰＥＴフィルム上に、図１（Ｂ）に示すような銅からなる海島構造を示す電磁波シールド層（開口率５５％）が形成され光透過性電磁波シールド材を得た。前記海島構造の海領域には前記電磁波シールド層（平均幅４０μｍ、厚さ３．０μｍ）が形成され、多数の島領域には開口部（平均幅６０μｍ）が形成されていた。 Next, the copper film exposed in the opening was etched with a cupric chloride solution, and the photoresist layer was peeled off with a strong alkaline solution. Thereby, the electromagnetic wave shielding layer (opening ratio 55%) which shows the sea-island structure which consists of copper as shown in FIG.1 (B) was formed on PET film, and the light-transmitting electromagnetic wave shielding material was obtained. The electromagnetic shielding layer (average width 40 μm, thickness 3.0 μm) was formed in the sea region of the sea-island structure, and openings (average width 60 μm) were formed in many island regions.
（実施例２）
印刷版用基材として銅基板（厚さ１００μｍ）の表面に、感光性レジスト（東京応化社製 ＰＭＥＲ−Ｎ ＨＣ６００Ｙ）をバーコーターで塗工し、８０℃で１０分間乾燥することにより、銅基板と感光性レジスト膜との積層体を得た。
(Example 2)
By applying a photosensitive resist (PMER-N HC600Y manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) with a bar coater on the surface of a copper substrate (thickness 100 μm) as a printing plate base material, and drying at 80 ° C. for 10 minutes, And a laminate of the photosensitive resist film was obtained.
次に、ＦＭスクリーニングプログラムによりＦＭスクリーニングを行ってＦＭスクリーン（ドット形状：一辺の長さが２０μｍの正方形、ＦＭスクリーン全面積に対するドットの総面積４５％）からなる画像データを得、このＦＭスクリーンに基づいて紫外線照射量６０ｍJ/ｃｍ2で感光性レジスト膜を露光してアルカリ現像した後、水洗及び乾燥することにより前記感光性レジスト膜をパターニングした。これにより、海領域にフォトレジスト層が形成されており、多数の島領域に開口部が形成されており、且つ前記島領域の形状が相互に異なる海島構造を有するフォトレジスト層を得た。 Next, FM screening is performed by the FM screening program to obtain image data consisting of an FM screen (dot shape: square with a side length of 20 μm, total area of dots 45% of the total area of the FM screen). Based on this, the photosensitive resist film was exposed to an ultraviolet ray of 60 mJ / cm 2 and alkali-developed, and then washed and dried to pattern the photosensitive resist film. As a result, a photoresist layer having a sea-island structure in which a photoresist layer was formed in the sea region, openings were formed in a number of island regions, and the shapes of the island regions were different from each other was obtained.
次に、前記開口部において露出した銅基板を塩化第二銅溶液により深さ５μｍまでエッチングし、強アルカリ液によりレジスト膜を剥離した。これにより、前記エッチングされた部位にインク収容セルが形成された印刷版を作製した。 Next, the copper substrate exposed in the opening was etched to a depth of 5 μm with a cupric chloride solution, and the resist film was peeled off with a strong alkali solution. As a result, a printing plate in which an ink containing cell was formed in the etched portion was produced.
次に、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）（厚さ１００μｍ、東レ株式会社製 ルミラー）の片面に、２液硬化型水性接着剤（東洋モ−トン株式会社製、商品名、ＡＤＷ−６１５／ＣＡＴ−ＥＰ５）を使用し、これをグラビアコートで塗布して、接着剤層（厚さ０．５μｍ）を形成した。 Next, on one side of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (PET film) (thickness 100 μm, Lumirror manufactured by Toray Industries, Inc.), a two-component curable aqueous adhesive (trade name, ADW-615, manufactured by Toyo Motor Co., Ltd.) / CAT-EP5) was applied by gravure coating to form an adhesive layer (thickness 0.5 μm).
先に作製した印刷版に固形分量２０質量％のポリビニルアルコール水溶液を塗布し、ドクターブレードにより印刷版表面に付着した余分なポリビニルアルコール水溶液を掻き落とした後、前記印刷版のポリビニルアルコール水溶液が塗布された面と、前記ＰＥＴフィルム上に形成された接着剤層とを重ね合わせ、ローラーで密着させた後に前記印刷版を剥離することにより、前記インク収容セルに収容されたポリビニルアルコール水溶液を接着剤層上に転写した。その後、接着剤層上のポリビニルアルコール水溶液を、１００℃、３分で乾燥させることによりめっき保護層を形成した。 A polyvinyl alcohol aqueous solution with a solid content of 20% by mass is applied to the previously prepared printing plate, and after the excess polyvinyl alcohol aqueous solution adhering to the printing plate surface is scraped off by a doctor blade, the polyvinyl alcohol aqueous solution of the printing plate is applied. The adhesive layer formed on the PET film and the adhesive layer formed on the PET film are overlapped and adhered with a roller, and then the printing plate is peeled off to remove the polyvinyl alcohol aqueous solution contained in the ink containing cell. Transcribed above. Then, the plating protective layer was formed by drying the polyvinyl alcohol aqueous solution on an adhesive bond layer at 100 degreeC for 3 minutes.
次に、前記めっき保護層が形成された接着剤層上に、常温にて１．３×１０-3Ｐａの真空下で、真空蒸着法により銅膜（厚さ０．３μｍ）を形成した後、２５℃の水に浸漬させながらスポンジで表面を擦り、めっき保護層を溶解除去し、水でリンスした後、１００℃、３分で乾燥させた。これにより、ＰＥＴフィルム上に、図１（Ｂ）に示すような銅からなる海島構造を示す電磁波シールド層（開口率６５％）が形成され光透過性電磁波シールド材を得た。前記海島構造の海領域に、前記電磁波シールド層（平均幅３７μｍ、厚さ３．０μｍ）が形成され、多数の島領域には開口部（平均幅６３μｍ）が形成されていた。 Next, after forming a copper film (thickness 0.3 μm) on the adhesive layer on which the plating protective layer has been formed by vacuum deposition under a vacuum of 1.3 × 10 −3 Pa at room temperature. The surface was rubbed with a sponge while immersed in water at 25 ° C., the plating protective layer was dissolved and removed, rinsed with water, and dried at 100 ° C. for 3 minutes. Thereby, the electromagnetic wave shielding layer (opening ratio 65%) which shows the sea island structure which consists of copper as shown in FIG.1 (B) was formed on PET film, and the light-transmitting electromagnetic wave shielding material was obtained. The electromagnetic shielding layer (average width 37 μm, thickness 3.0 μm) was formed in the sea region of the sea-island structure, and openings (average width 63 μm) were formed in many island regions.
次に、上記で作製した電磁波シールド層上に、下記のめっき液及びめっき条件として、
電気銅めっき処理をすることにより、銅からなる金属めっき層を形成した。前記金属めっき層は、厚さは３．０μｍ、線幅は３９μｍ、開口率は６０％であった。
Next, on the electromagnetic wave shielding layer prepared above, as the following plating solution and plating conditions,
A metal plating layer made of copper was formed by electrolytic copper plating. The metal plating layer had a thickness of 3.0 μm, a line width of 39 μm, and an aperture ratio of 60%.
めっき液
硫酸銅：２００〜２５０ｇ／Ｌ
金属銅：５０〜６２ｇ／Ｌ
硫酸：３５〜７５ｇ／Ｌ
硫酸／金属銅：約１／１
塩素：２０〜４０ｍｇ／Ｌ
電気めっき条件
電解液温度：３０℃
めっき液温度：３０℃
電流密度：５Ａ／ｄｍ2
処理時間：３０分間
Plating solution Copper sulfate: 200-250 g / L
Metallic copper: 50-62 g / L
Sulfuric acid: 35-75 g / L
Sulfuric acid / copper copper: about 1/1
Chlorine: 20-40mg / L
Electroplating conditions Electrolyte temperature: 30 ° C
Plating solution temperature: 30 ° C
Current density: 5 A / dm 2
Processing time: 30 minutes
（比較例１）
ポリビニルアルコール樹脂（分子量３０００）と硫酸バリウムの混合物（質量比 ポリビニルアルコール樹脂：硫酸バリウム＝２：１）を、水とメタノールの混合溶液（質量比 水：メタノール＝１：４）に溶解して、固形分量２０ｗｔ％のポリビニルアルコール溶液を調整した。この溶液をインクとして用いて、ＰＥＴフィルム（厚さ１００μｍ、東レ株式会社製 ルミラー）に、グラビア印刷により正方形のドットを印刷した。これを乾燥後に銅を真空蒸着して、厚さ０．３μｍの銅層を得た。次いで、２５℃の水でドット部分を溶解除去し、水洗の後に乾燥して、前記ＰＥＴフィルム上にメッシュ状の銅層からなる電磁波シールド層が形成された光透過性電磁波シールド材を得た。
(Comparative Example 1)
A mixture of polyvinyl alcohol resin (molecular weight 3000) and barium sulfate (mass ratio polyvinyl alcohol resin: barium sulfate = 2: 1) was dissolved in a mixed solution of water and methanol (mass ratio water: methanol = 1: 4), A polyvinyl alcohol solution having a solid content of 20 wt% was prepared. Using this solution as an ink, square dots were printed by gravure printing on a PET film (thickness 100 μm, Lumirror manufactured by Toray Industries, Inc.). After drying this, copper was vacuum-deposited to obtain a copper layer having a thickness of 0.3 μm. Next, the dot portion was dissolved and removed with water at 25 ° C., washed with water and dried to obtain a light transmissive electromagnetic wave shielding material in which an electromagnetic wave shielding layer composed of a mesh copper layer was formed on the PET film.
前記ドットは、１個の大きさが１辺２００μｍの正方形状で、ドット同士の間隔が２０μｍであり、ドットの配列は正方格子状であり、ドットの印刷厚みは乾燥後に約２μｍであった。これを正確に反映して、メッシュ状の電磁波シールド層はドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、線幅は２０μｍ、格子間ピッチ２００μｍ、開口率は８０％（面積比）であった。 Each of the dots had a square shape with a size of 200 μm per side, the interval between the dots was 20 μm, the dot array was a square lattice, and the printed thickness of the dots was about 2 μm after drying. Reflecting this accurately, the mesh-like electromagnetic shielding layer has a square lattice shape corresponding to the negative pattern of dots, the line width is 20 μm, the pitch between the lattices is 200 μm, and the aperture ratio is 80% (area ratio). there were.
次に、上記で作製した電磁波シールド層上に、実施例２と同様にして電気銅めっき処理をすることにより、銅からなる金属めっき層を形成した。前記金属めっき層は、厚さは３．０μｍ、線幅は２２μｍ、開口率は７８％であった。 Next, an electrolytic copper plating process was performed on the electromagnetic wave shielding layer produced above in the same manner as in Example 2 to form a metal plating layer made of copper. The metal plating layer had a thickness of 3.0 μm, a line width of 22 μm, and an aperture ratio of 78%.
（評価）
１．モアレ発生
上記で作製した各光透過性電磁波シールド材を、画素ピッチ１．２６ｍｍ（ＲＧＢ各セル０．４２ｍｍ）のＰＤＰ装置の前面に設置し、画素と電磁波シールド層との間のモアレ発生状況を目視により観察した。比較例１で作製した光透過性電磁波シールド材では、バイアス角度０°〜１０°及び３０°〜９０°の領域内で周期２〜２０ｍｍのモアレ縞が発生し、表示品質の悪いものであった。一方、実施例１及び２の光透過性電磁波シールド材では、いずれのバイアス角度においてもモアレの発生は確認できなかった。
(Evaluation)
1. Moire generation Each light-transmitting electromagnetic wave shielding material produced above is installed on the front surface of a PDP device having a pixel pitch of 1.26 mm (RGB each cell 0.42 mm), and the state of moire generation between the pixel and the electromagnetic wave shielding layer is observed. It was observed visually. In the light-transmitting electromagnetic wave shielding material produced in Comparative Example 1, moire fringes with a period of 2 to 20 mm were generated in the regions of bias angles of 0 ° to 10 ° and 30 ° to 90 °, and the display quality was poor. . On the other hand, in the light-transmitting electromagnetic wave shielding materials of Examples 1 and 2, generation of moire could not be confirmed at any bias angle.
２．電磁波シールド性
上記で作製した各光透過性電磁波シールド材の電磁波シールド性を、ＫＥＣ法（（財）関西電子工業振興センター）に準拠したアンリツ社製ＥＭＩシールド測定装置（ＭＡ８６０２Ｂ）を用いて、周波数５０〜５００ＭＨｚの範囲で電磁波の減衰率（ｄＢ）を測定することにより評価した。なお、サンプルの大きさは９０ｍｍ×１１０ｍｍとした。結果を表１に示す。表１において、電磁波の減衰率が５０ｄＢ以上のものを「○」とし、１０ｄＢ未満のものを「×」として記載した。
2. Electromagnetic wave shielding property The electromagnetic wave shielding property of each light-transmitting electromagnetic wave shielding material produced above is measured using an Anritsu EMI shield measuring device (MA8602B) in accordance with the KEC method (Kansai Electronics Industry Promotion Center). It evaluated by measuring the attenuation factor (dB) of electromagnetic waves in the range of 50-500 MHz. The sample size was 90 mm × 110 mm. The results are shown in Table 1. In Table 1, those with an electromagnetic wave attenuation rate of 50 dB or more are indicated as “◯”, and those with less than 10 dB are indicated as “x”.
３．光透過性
全自動直読ヘイズコンピューターＨＧＭ−２ＤＰ（スガ試験機株式会社製）を用いて、上記で作製した各光透過性電磁波シールド材の厚み方向の全光線透過率を測定した。前記測定を光透過性電磁波シールド材において３箇所実施し、その平均値を光透過性電磁波シールド材の全光線透過率として光透過性を評価した。結果を表１に示す。
3. Light transmittance Using a fully automatic direct reading haze computer HGM-2DP (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), the total light transmittance in the thickness direction of each of the light transmissive electromagnetic wave shielding materials produced above was measured. The said measurement was implemented in three places in the light transmissive electromagnetic wave shielding material, The light transmittance was evaluated by making the average value into the total light transmittance of the light transmissive electromagnetic wave shielding material. The results are shown in Table 1.
１１０、２１０、３１０、５１０、６１０ 透明基板、
１２０、２２０、３２０、５２０、６２０ 電磁波シールド層、
１２１、２２１、３２１ 開口部、
２２２ 金属膜、
３２２ 導電材料層、
３４０ マスク層、
５４０ めっき保護層、
４５０、７５０ 金属製基材、
４６０、７６０ 金属膜、
４６１、７６１ インク収容セル、
４７０、７７０ 印刷用基材、
４８０、７８０ フォトレジスト層、
４８１、７８１ 凹部、
５９０、６９０ 無電解めっき触媒層。
110, 210, 310, 510, 610 transparent substrate,
120, 220, 320, 520, 620 Electromagnetic wave shielding layer,
121, 221 and 321 openings,
222 metal film,
322 conductive material layer,
340 mask layer,
540 plating protective layer,
450, 750 metal substrate,
460, 760 metal film,
461 and 761 ink storage cells,
470, 770 printing substrate,
480, 780 photoresist layer,
481, 781 recess,
590, 690 Electroless plating catalyst layer.
Claims (34)
前記電磁波シールド層の平面視形状が海島構造を示し、そして前記海島構造における海領域に前記電磁波シールド層が形成されており、多数の島領域には開口部が形成されており、且つ前記島領域の形状が相互に異なることを特徴とする光透過性電磁波シールド材。 A light transmissive electromagnetic shielding material having a transparent substrate and an electromagnetic shielding layer provided on the transparent substrate,
The electromagnetic shielding layer has a sea-island structure in plan view, and the electromagnetic shielding layer is formed in a sea region in the sea-island structure, and a plurality of island regions have openings, and the island region The light-transmitting electromagnetic wave shielding material characterized by having different shapes.
透明基板上に金属膜を形成した後、前記金属膜上の前記海領域に対応する部分にエッチング保護層を形成する工程（Ａ）、
前記エッチング保護層が形成されずに露出している金属膜をエッチングする工程（Ｂ）、及び
前記エッチング保護層を除去する工程（Ｃ）、
を含むことを特徴とする光透過性電磁波シールド材の製造方法。 The shape in plan view shows a sea-island structure, and the electromagnetic shielding layer is formed in the sea region in the sea-island structure, and openings are formed in a number of island regions, and the shape of the island regions is mutually A different electromagnetic shielding layer is a method for producing a light transmissive electromagnetic shielding material formed on a transparent substrate,
Forming a metal film on the transparent substrate, and then forming an etching protective layer on the metal film corresponding to the sea region (A),
A step (B) of etching a metal film exposed without forming the etching protective layer, and a step (C) of removing the etching protective layer,
A method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shielding material, comprising:
溶剤に対して可溶な材料を含む印刷インクを印刷することにより、透明基板の前記島領域に対応する部分上にマスク層を形成する工程（Ａ）と、
前記マスク層を有する透明基板上に、前記溶剤に対して不溶な導電材料を含む導電材料層を形成する工程（Ｂ）と、
前記溶剤により、前記マスク層及び前記マスク層上の導電材料層を除去することにより、前記電磁波シールド層を形成する工程（Ｃ）と、
を含むことを特徴とする光透過性電磁波シールド材の製造方法。 The shape in plan view shows a sea-island structure, and the electromagnetic shielding layer is formed in the sea region in the sea-island structure, and openings are formed in a number of island regions, and the shape of the island regions is mutually A different electromagnetic shielding layer is a method for producing a light transmissive electromagnetic shielding material formed on a transparent substrate,
A step (A) of forming a mask layer on a portion corresponding to the island region of the transparent substrate by printing a printing ink containing a material soluble in a solvent;
Forming a conductive material layer containing a conductive material insoluble in the solvent on the transparent substrate having the mask layer (B);
(C) forming the electromagnetic wave shielding layer by removing the mask layer and the conductive material layer on the mask layer with the solvent;
A method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shielding material, comprising:
透明基板上に無電解めっき触媒層を作製する工程（Ａ）と、
合成樹脂を含む印刷インクを印刷することにより、前記無電解めっき触媒層の前記島領域に対応する部分上に、めっき保護層を形成する工程（Ｂ）と、
前記めっき保護層が形成されずに露出している無電解めっき触媒層上に、無電解めっきすることにより電磁波シールド層を形成する工程（Ｃ）と、
を含むことを特徴とする光透過性電磁波シールド材の製造方法。 The shape in plan view shows a sea-island structure, and the electromagnetic shielding layer is formed in the sea region in the sea-island structure, and openings are formed in a number of island regions, and the shape of the island regions is mutually A method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shielding material in which different electromagnetic wave shielding layers are formed on a transparent substrate via an electroless plating catalyst layer,
A step (A) of producing an electroless plating catalyst layer on a transparent substrate;
A step (B) of forming a plating protective layer on a portion corresponding to the island region of the electroless plating catalyst layer by printing a printing ink containing a synthetic resin;
A step (C) of forming an electromagnetic wave shielding layer by electroless plating on the electroless plating catalyst layer exposed without forming the plating protective layer;
A method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shielding material, comprising:
無電解めっき触媒インクを印刷することにより、透明基板の前記海領域に対応する部分上に、無電解めっき触媒層を形成する工程（Ａ）と、
前記無電解めっき触媒層上に、無電解めっきすることにより、電磁波シールド層を形成する工程（Ｂ）と、
を含むことを特徴とする光透過性電磁波シールド材の製造方法。 The shape in plan view shows a sea-island structure, and the electromagnetic shielding layer is formed in the sea region in the sea-island structure, and openings are formed in a number of island regions, and the shape of the island regions is mutually A different electromagnetic shielding layer is a method for producing a light transmissive electromagnetic shielding material formed on a transparent substrate,
A step (A) of forming an electroless plating catalyst layer on a portion of the transparent substrate corresponding to the sea region by printing an electroless plating catalyst ink;
Step (B) of forming an electromagnetic wave shielding layer by electroless plating on the electroless plating catalyst layer;
A method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shielding material, comprising:
透明基板の前記海領域に対応する部分上に、導電性粒子及びバインダ樹脂を含む導電性インクを印刷することにより、電磁波シールド層を形成する工程、
を含むことを特徴とする光透過性電磁波シールド材の製造方法。 The shape in plan view shows a sea-island structure, and the electromagnetic shielding layer is formed in the sea region in the sea-island structure, and openings are formed in a number of island regions, and the shape of the island regions is mutually A method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shielding material, wherein different electromagnetic wave shielding layers are formed on a transparent substrate,
Forming an electromagnetic wave shielding layer by printing a conductive ink containing conductive particles and a binder resin on a portion corresponding to the sea region of the transparent substrate;
A method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shielding material, comprising:
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