JP2008243859A - 検査装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】ウエハチャックの移動範囲を最小限に抑制し、アライメント機構を削減することによって、装置自体の低コスト化を促進することができると共にフットプリントを大幅に削減することができ、検査のスループットを向上させることができる検査装置を提供する。
【解決手段】本発明の検査装置10は、X、Y及びZ方向に移動可能な2箇所のウエハチャック13と、これらのウエハチャック13の上方にそれぞれ配置された2箇所のプローブカード14と、2箇所のウエハチャック13で共用し且つ一方のウエハチャック13上の半導体ウエハWとこれに対応するプローブカード14とのアライメントを行うためのアライメント機構15と、を備え、アライメント機構15は、アライメント用の第1のCCDカメラ15Aを有し且つアライメントのために2箇所のウエハチャック13それぞれのX、Y位置に合わせて移動し、停止するアライメントブリッジ15Bを備えている。
【選択図】図1

Description

本発明は、主としてフットプリントを削減することができる検査装置に関するものである。
従来の検査装置は、例えば、半導体ウエハの電気的特性検査を行うプローバ室と、カセットプローバ室との間で半導体ウエハを一枚ずつ搬送するローダ室と、備えて構成されている。プローバ室にはプローブカード及びアライメント機構が設けられ、アライメント機構によってウエハチャック上の半導体ウエハとプローブカードのアライメントを行った後、半導体ウエハとプローブカードとを電気的に接触させて検査を行っている。ローダ室にはウエハ搬送装置が設けられ、ウエハ搬送装置によってカセットとウエハチャックとの間で半導体ウエハの搬送を行う。
しかしながら、半導体ウエハが300mmφを超えて大口径化するに連れて、検査装置が大型化し、検査装置自体が高コスト化すると共にクリーンルーム内の占有面積が急激に拡大し更に高コスト化する。また、半導体ウエハの大口径化及び半導体チップの高集積化により検査装置内での半導体ウエハの滞留時間が益々長くなっているため、半導体ウエハの効率的な運用が要求される。
特許文献1には複数のウエハチャックが設置されたプローバ部で一つのアライメント機構を共有するプローバ装置が記載されている。このプローバ装置では、複数(例えば、二つ)の載置台でアライメント機構を共用するため、低コスト化を実現することができると共に、複数のウエハチャックにおいて検査を並行して行うことができるため、スループットの向上に寄与することができる。
また、特許文献2には半導体ウエハを枚葉処理するウエハ検査装置が記載されている。このウエハ検査装置では、第1、第2自走台車を用いてカセットストック部とウエハ検査部との間で半導体ウエハを一枚ずつ搬送する枚葉処理を行うことによって検査時間の短縮を図っている。
更に、特許文献3には処理装置においてガラス基板を抜き取り検査するために使用されるガラス基板移動台車について記載されている。このガラス基板移動装置は、ガラス基板の位置決め、搬送装置を備え、各処理装置が備えている位置決め、搬送装置を省略することにより、各処理装置のフットプリントの削減を実現している。
特開昭63−062249 特許第3312748 特開2002−313870
しかしながら、特許文献1の技術では、アライメント機構が二つのウエハチャック間の中央部に固定され、ウエハチャックがアライメント機構の真下まで移動し、ウエハチャック上のウエハとプローブカードのアライメントを行うため、各ウエハチャックの移動範囲が広く、フットプリントの削減に限界があった。特許文献2の技術では、半導体ウエハの枚葉処理により検査時間の短縮には寄与するが、ウエハ検査部自体は従来の検査装置と実質的に同一の構成を備え、しかも個々のウエハ検査部間に所定のスペースを設けなくてはならないため、ウエハ検査部自体のフットプリントを削減することができない。また、特許文献3の技術でも処理装置間に所定のスペースを設けなくてはならない。
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、フットプリントを大幅に削減することができ、検査のスループットを向上させることができると共に載置台の移動範囲を最小限に抑制することができる検査装置を提供することを目的としている。
本発明の請求項1に記載の検査装置は、X、Y方向に移動可能な載置台と、上記載置台上の被検査体のアライメントを行うアライメント機構と、を備えた検査装置において、上記アライメント機構は、上記載置台上の被検査体を撮像するためにX方向またはY方向のいずれか一方にのみ移動可能で任意の位置で停止可能な第1の撮像手段を備え、上記第1の撮像手段と上記載置台をそれぞれの移動可能な方向へ移動させることにより上記被検査体のアライメントを行う制御手段を有することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項2に記載の検査装置は、X、Y方向に移動可能にX方向またはY方向のいずれか一方に沿って配列された複数の載置台と、上記複数の載置台上の被検査体のアライメントを行うためのアライメント機構と、を備えた検査装置であって、上記アライメント機構は、上記複数の載置台上の被検査体をそれぞれ撮像するために上記複数の載置台の配列方向にのみ移動可能で任意の位置で停止可能な第1の撮像手段を備え、上記第1の撮像手段と上記被検査体を載置する上記載置台をそれぞれの移動可能な方向へ移動させることにより上記被検査体のアライメントを行う制御手段を有することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項3に記載の検査装置は、X、Y方向に移動可能にX方向またはY方向のいずれか一方に沿って配列された2箇所の載置台と、上記2箇所の載置台上の被検査体のアライメントを行うためのアライメント機構と、を備えた検査装置であって、上記アライメント機構は、上記2箇所の載置台上の被検査体をそれぞれ撮像するために上記2箇所の載置台の配列方向にのみ移動可能で任意の位置で停止可能な第1の撮像手段を備え、上記第1の撮像手段と上記被検査体を載置する載置台をそれぞれの移動可能な方向へ移動させることにより上記いずれかの被検査体のアライメントを行う制御手段を有することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項4に記載の検査装置は、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の発明において、上記載置台の上方に配置されたプローブカードを備え、上記プローブカードを撮像する第2の撮像手段が互いに所定間隔を隔てて上記載置台の複数箇所に設けられていることを特徴とするものである。
また、本発明の請求項5に記載の検査装置は、請求項2または請求項3に記載の発明において、上記載置台の上方に配置されたプローブカードを備え、上記第2の撮像手段は、上記載置台の周方向に180°隔てた2箇所に配置されていることを特徴とするものである。
また、本発明の請求項6に記載の検査装置は、請求項4に記載の発明において、2箇所の上記第2の撮像手段は、互いに対向して上記複数の載置台の配列方向に沿って配置されていることを特徴とするものである。
また、本発明の請求項7に記載の検査装置は、請求項5に記載の発明において、2箇所の上記第2の撮像手段は、互いに対向して上記複数の載置台の配列方向と直交する方向に沿って配置されていることを特徴とするものである。
また、本発明の請求項8に記載の検査装置は、請求項5に記載の発明において、2箇所の上記第2の撮像手段は、互いに対向してX方向及びY方向からそれぞれ45°傾斜する位置に配置されていることを特徴とするものである。
また、本発明の請求項9に記載の検査装置は、請求項5に記載の発明において、上記第2の撮像手段は、上記載置台の周方向に90°ずつ隔てた4箇所に配置され、且つ、互いに180°隔てた2箇所の上記第2の撮像手段は、それぞれX軸方向及びY軸方向に沿って配置されていることを特徴とするものである。
また、本発明の請求項10に記載の検査装置は、請求項1〜請求項9のいずれか1項に記載の発明において、上記プローブカードは、上記被検査体の全面に一括して電気的に接触することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項11に記載の検査装置は、請求項1 〜請求項10のいずれか1項に記載の発明において、上記第1の撮像手段は、アライメントブリッジに設けられていることを特徴とするものである。
また、本発明の請求項12に記載の検査装置は、請求項1〜請求項11のいずれか1項に記載の発明において、上記制御手段は、上記載置台を、第1の撮像手段が移動可能な方向と直交する方向にのみ移動させてアライメントするように制御することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項13に記載の検査装置は、請求項2〜請求項12のいずれか1項に記載の発明において、上記各載置台との間で上記被検査体を受け渡すウエハ搬送装置を一つ設けたことを特徴とするものである。
本発明によれば、上記課題を解決するためになされたもので、フットプリントを大幅に削減することができ、検査のスループットを向上させることができると共に載置台の移動範囲を最小限に抑制することができる検査装置を提供することができる。
以下、図1〜図7に示す実施形態に基づいて本発明を説明する。尚、図1は本発明の検査装置の一実施形態を示す平面図、図2は図1に示す検査装置の要部を示す概念図、図3は図1に示す検査装置の配列状態の一例を示す平面図、図4の(a)〜(c)はそれぞれ図1に示す検査装置の動作を説明するための説明図、図5の(a)〜(c)は本発明の検査装置の他の実施形態を示す図4に相当する平面図、図6は本発明の検査装置の更に他の実施形態を示す図3に相当する平面図、図7は本発明の検査装置の更に他の実施形態を示す平面図である。
第1の実施形態
本実施形態の検査装置10は、被検査体、例えば300mmφの半導体ウエハWの全面に形成された検査用電極パッドに対してプローブカードを同時に一括して電気的に接触させて半導体ウエハWの電気的特性検査を行うように構成されている。この検査装置10は、例えば図1に示すように、半導体ウエハWの電気的特性検査を行うプローバ11と、プローバ室11へ半導体ウエハWを搬送するローダ室12と、制御装置(図示せず)と、を備え、プローバ室11が第1、第2のプローブ領域に分かれ、制御装置の制御下で第1、第2のプローブ領域で2枚の半導体ウエハWを並行して処理できるように構成されている。
而して、プローバ室11は、図1、図2に示すように、半導体ウエハWを載置し且つX、Y、Z方向へ移動可能に第1、第2のプローブ領域11A、11Bにそれぞれ配置された載置台(以下、「ウエハチャック」と称す。)13と、これらのウエハチャック13の上方にそれぞれ配置されたプローブカード14(図2参照)と、ウエハチャック13上に載置された半導体ウエハWとプローブカード14とのアライメントを行うために第1、第2のプローブ領域11A、11Bを移動するように設けられた一つのアライメント機構15と、を備え、制御装置の制御下で、一つのアライメント機構15が第1、第2のプローブ領域11A、11Bそれぞれのウエハチャック13と協働して半導体ウエハWとプローブカード14のアライメントを行う。つまり、一つのアライメント機構15は、第1、第2のプローブ領域11A、11Bの双方で使用される。
アライメント機構15は、図1、図2に示すように、半導体ウエハWを撮像するために設けられた第1の撮像手段(例えば、第1のCCDカメラ)15A(図2参照)と、第1のCCDカメラ15Aを中央で支持するアライメントブリッジ15Bと、プローバ室11のX方向両端部にY方向に沿ってそれぞれ設けられ且つアライメントブリッジ15BをY方向へ移動案内する一対のガイドレール15Dと、を備え、第1のCCDカメラ15Aがアライメントブリッジ15Bを介してガイドレール15Dに従ってY方向の両端部(図1では一点鎖線で示してある)の間で第1、第2のプローブ領域11A、11B内の任意の位置まで移動し、停止できるように構成されている。
半導体ウエハWとプローブカード14とのアライメントを行う時には、第1のCCDカメラ15Aがアライメントブリッジ15Bを介して第1、第2のプローブ領域11A、11Bへ移動し、第1、第2のプローブ領域11A、11Bそれぞれのウエハチャック13と協働してウエハチャック13上の半導体ウエハWを撮像する。ウエハチャック13がX、Y方向へ移動する間に、半導体ウエハWのいずれの部位も第1のCCDカメラ15Aの真下を通り、第1のCCDカメラ15Aによって半導体ウエハWの全面に形成された検査用電極パッドを漏れなく撮像することができる。このアライメントブリッジ15Bは、半導体ウエハWの検査時等には図1に実線で示すように第1、第2のプローブ領域11A、11Bの境界で待機している。
従来のアライメント機構の場合には、プローブ室内でアライメントブリッジがY方向の最奥部とプローブカードの真下のプローブセンタとを往復移動し、それぞれの位置で停止するようになっている。しかし、本実施形態では、アライメントブリッジ15Bは、第1、第2のプローブ領域11A、11BにおけるY方向の任意の位置で停止するようになっており、後述のようにウエハチャック13が第1、第2のプローブ領域11A、11Bにおける主としてX方向のみの最小限の移動領域でアライメントを行えるようになっている。
また、図1、図2に示すように、各ウエハチャック13にはアライメント機構15を構成する第2の撮像手段(例えば、第2のCCDカメラ)15Dがそれぞれ2個ずつ設けられ、これらのCCDカメラ15Dによってプローブカード14のプローブ14Aを撮像するようにしてある。2個の第2のCCDカメラ15D、15Dは、ウエハチャック13の外周に周方向に180°隔てて付設され、それぞれがウエハチャック13上面の中心を通るX軸上に配置されている。図1には図示してないが、第2のCCDカメラ15Dは、低倍率のカメラと高倍率のカメラを有し、プローブカード14をマクロとミクロの目で撮像できるようになっている。
本実施形態で用いられるプローブカード14は、図2に示すように半導体ウエハWに形成された多数の検査用電極パッド(図示せず)の全てと一括して個別に接触する多数のプローブ14Aを有し、プローバ室11のヘッドプレート11Cに着脱自在に固定されている。このヘッドプレート11Cは、ヒンジを介して開閉できるように構成されている。多数のプローブ14Aは、半導体ウエハWと略同一大きさに形成された配線基板14Bに設けられ、配線基板14Bを介してテスタ側のケーブル(共に図示せず)に接続されている。これらのプローブ14Aは、例えばリソグラフィー技術やエッチング技術等の微細加工によって形成されている。アライメントを行う場合には、後述するように第1のCCDカメラ15Aが半導体ウエハWの全面を撮像し、第2のCCDカメラ15Dがプローブカード14のY方向の中央部を撮像し、これらの撮像位置データに基づいてアライメントを行う。また、本実施形態の検査装置10は、プローブカード14とテスタがケーブルを介して接続されているため、テストヘッドが省略されて極めてコンパクトな構成になっている。
ローダ室12は、図1に示すようにプローバ室11に隣接しており、そのY方向の中央にはウエハ搬送装置16が配置され、Y方向の両隣にはカセットCを載置するカセット載置部17A、17Bが配置されている。ウエハ搬送装置16は、アーム16A及びその駆動機構16Bを備え、アーム16Aが駆動機構16Bを介して図1に実線で示すようにカセットCとプローバ室11との間で半導体ウエハWを一枚ずつ搬送するようになっている。また、一方(図1では上側)のカセット載置部17Aの下方には半導体ウエハWのプリアライメントを行うプリアライメント機構(図示せず)が設けられ、プリアライメント機構が半導体ウエハWのオリフラやノッチを基準にしてプリアライメントを行う。他方のカセット載置部17Bの下方にはバッファテーブルやウエハテーブ(共に図示せず)が設けられている。
カセットCは、カセット搬送手段によって検査装置10の側方まで搬送され、図1に矢印Aで示すようにカセット載置部17A、17Bの側方からそれぞれの上面に載置される。そして、各カセット載置部17A、17Bにはターンテーブル(図示せず)が設けられ、カセットCの半導体ウエハWの搬出入口をウエハ搬送装置16に向けるようになっている。このローダ室12としては、例えば本出願人が特願2006−132546において提案しているローダ室の技術を適用することができる。
本実施形態の検査装置10は、例えば図3に部分的に示すようにクリーンルーム内に配列され、左右外側の搬送路に従って移動する自動搬送車(AGV)等のカセット搬送手段からカセットCを検査装置10のカセット載置部17A、17Bで受け取って、それぞれの検査装置10においてカセットC内の半導体ウエハWを一枚ずつ処理する。
次に、図4を参照しながら動作について説明する。まず、図4の(a)に示すように、ローダ室12ではカセット載置部17A、17BでカセットCを受け取った後、ウエハ搬送装置16のアーム16Aが駆動機構16Bを介して駆動する。アーム16Aは、カセットCから半導体ウエハWを一枚ずつ取り出し、プリアライメントを行った半導体ウエハWをプローバ室11の第1のプローブ領域11Aで待機するウエハチャック13へ搬送し、載置する。
次いで、半導体ウエハWとプローブカード14とのアライメントのために、ウエハチャック13が第1のプローブ領域11A内で図4の(a)に実線及び一点鎖線で示すようにX,Y方向へ移動し、この間に2箇所の第2のCCDカメラ15Dでプローブカード14のプローブ14Aを撮像する。ウエハチャック13がX、Y方向へ移動する間に、2箇所の第2のCCDカメラ15Dが図4の(a)に一点鎖線で示すように長方形の領域を撮像領域として移動することにより、プローブカード14の同図の(b)にハッチングで示した長方形の領域内で複数箇所のプローブ14Aを撮像する。そして、第2のCCDカメラ15Dでアライメント用のプローブ14A、例えばプローブカード14の中心と外周縁部のプローブ14Aを撮像し、制御装置がウエハチャック13のX、Y方向の移動距離に基づいて、それぞれの撮像位置をXY座標値として求め、制御装置の記憶部に登録する。
本実施形態では左側の第2のCCDカメラ15Dがハッチング領域の左半分を撮像し、右側の第2のCCDカメラ15Dがハッチング領域の右半分を撮像する。従来のように一個のCCDカメラによってハッチング領域を撮像するにはウエハチャックがX方向に倍の距離を移動しなくてはならないが、本実施形態では2箇所の第2のCCDカメラ15Dで半分ずつの領域を分担するため、ウエハチャック13のX方向の移動量の半分で済ますことができ、フットプリントの削減に寄与する。
第2のCCDカメラ15Dでアライメント用のプローブ14Aを撮像した後、アライメントブリッジ15Bが第1、第2のプローブ領域11A、11Bの境界から第1のプローブ領域11Aのプローブカード14の真下まで移動し、停止する。この時、第1のCCDカメラ15Aの光軸の延長線上にプローブカード14の中心が位置している。
次いで、アライメントブリッジ15Bに設けられた第1のCCDカメラ15Aでアライメント用の検査用電極パッドを撮像する。そのために、図4の(a)に示すようにウエハチャック13がX、Y方向に移動することにより、その上の半導体ウエハWの全領域が第1のCCDカメラ15Aの真下を通り、同図の(c)に示すように第1のCCDカメラ15Aで半導体ウエハWの全面を撮像することができる。第1のCCDカメラ15Aは、アライメント用のプローブ14Aに対応する検査用電極パッド(図示せず)、即ち、半導体ウエハWのY方向の中央部の中心及び左右の外周縁部に位置する検査用電極パッドを撮像し、その位置をXY座標値として制御装置の記憶部に登録する。
本実施形態では、第1のCCDカメラ15Aがプローブカード14の中心の真下に停止した状態で、ウエハチャック13がX、Y方向へ移動することにより、第1のCCDカメラ15Aで半導体ウエハWの全面を撮像できるようにしているが、ウエハチャック13のY方向での移動範囲を制限し、制限された分だけアライメントブリッジ15Bが移動して第1のCCDカメラ15Aによって半導体ウエハWの全面を撮像するようにしても良い。このようにすれば、プローブ室11のフットプリントを更に削減することができる
第2のCCDカメラ15Dによるプローブ14Aの撮像位置データと、第1のCCDカメラ15の撮像位置データに基づいてウエハチャック13がX、Y方向へ移動し、複数のプローブ14Aとこれに対応する複数の検査用電極パッドとのアライメントを行う。アライメント後にはウエハチャック13が検査の初期位置へ移動した後、ウエハチャック13がZ方向に上昇し、検査用電極パッドとこれに対応するプローブ14Aが接触することにより全てのプローブ14Aと半導体ウエハWの全ての検査用電極パッドが同時に接触し、更にウエハチャック13がオーバードライブすると、半導体ウエハWの全ての検査用電極パッドと対応する全てのプローブ14Aが電気的に一括して電気的に接触する。後は、テスタからプローブカード14へ検査用信号を順次送信することによって所定の電気的特性検査を行うことができる。
第1のプローブ領域11Aで半導体ウエハWの検査を行っている間に、第2のプローブ領域11Bにおいても第1のプローブ領域11Aと同一要領でウエハチャック13及びアライメント機構15が作動し、第2のプローブ領域11Bでも第1のプローブ領域11Aと並行して半導体ウエハWの検査を行うことができ、スループットを向上させることができる。
プローブ室11の第1、第2のプローブ領域11A、11Bにおいて半導体ウエハWの検査をそれぞれ個別に並行して行い、検査を終えた順にウエハ搬送装置16を用いてそれぞれのプローブ領域11A、11Bから検査済の半導体ウエハWをカセットC内の元の場所に戻すと共に、次の半導体ウエハWをカセットCからプローバ室11の対応するプローブ領域へ搬送し、半導体ウエハWの検査を連続的に行う。そして、カセットC内の全ての半導体ウエハWの検査を終えると、AGV等によってこれらの半導体ウエハWをカセットCと一緒に次工程へ搬送する。
以上説明したように本実施形態によれば、ウエハチャック13の位置に合わせてアライメント機構15のアライメントブリッジ15BがY方向へ移動し、停止するようにしたため、半導体ウエハWとプローブカード14のアライメントを行う際に、プローバ室11におけるウエハチャック13の移動範囲を従来と比較して格段に縮小し、クリーンルーム内でのフットプリントを削減することができる。また、アライメント機構15が第1、第2のプローブ領域11A、11B双方のウエハチャック13で共用するため、アライメント機構15を一つで済ますことができ装置コストを低減することができる。
また、本実施形態によれば、ウエハチャック13に2個の第2のCCDカメラ15Dを設けたため、更にウエハチャック13の移動範囲を縮小し、フットプリントを削減することができる。また、2個のCCDカメラ15Dは、ウエハチャック13に対して互いに180°隔てて設けられ、しかも2個の第2のCCDカメラ15Dはウエハチャック13上面の中心を通るX軸上に設けられているため、プローブカード14のY方向の中央部の全領域を撮像することができ、アライメントの精度を高めることができる。
第2の実施形態
本実施形態の検査装置10Aは、図5に示すように第2のCCDカメラ15Dがウエハチャック13上面の中心を通るY軸上に設けられていること以外は、第1の実施形態に準じて構成されている。そこで、第1の実施形態と同一または相当部分には同一符号を付して本実施形態の特徴部分を中心について説明する。
本実施形態では、図5の(a)に示すように2個の第2のCCDカメラ15Dがウエハチャック13の周方向に180°隔ててY軸に沿って配置されている。このため、2個の第2のCCDカメラ15Dはウエハチャック13の外周面からY方向に張り出しており、ウエハチャック13の外周面からX方向への張り出していない。ウエハチャック13からX方向への張り出しがないため、プローバ室11のX軸方向の幅が第1の実施形態に場合より狭くすることができ、その分だけ第1の実施形態の場合よりフットプリントを削減することができる。
2個の第2のCCDカメラ15Dは、図5の(a)に示すようにウエハチャック13の外周面からY方向に張り出しているため、プローブカード14の撮像範囲が同図の(b)に示すようにプローブカード14のX方向の中央部の両端部に制限される。また、ウエハチャック13のX方向への移動が制限されていることから、アライメントブリッジ15Bに設けられた第1のCCDカメラ15A(図2参照)による撮像範囲も同図の(c)に示すように半導体ウエハWのX方向中央部を縦走する範囲に制限される。
第1、第2のCCDカメラ15A、15Dによる撮像範囲が第1の実施形態と比較して制限されているが、プローブカード14には全面にプローブ14Aが形成されているため、プローブカード14のY方向の中央部の両端部に離間した複数のプローブ14A(図2参照)を撮像でき、しかもこれらに対応する半導体ウエハWの検査用電極パッドも撮像することができるため、半導体ウエハWとプローブカード14のアライメントに何等の支障もない。それよりもフットプリントを削減できる効果が大きい。
従って、本実施形態によれば、第1の実施形態と比較して第1、第2のCCDカメラ15A、15Dによる半導体ウエハW及びプローブカード14の撮像範囲が制限されるが、プローバ室11のフットプリントを削減することができ、コスト削減に大きく寄与することができる。
また、図示してないが、2個の第2のCCDカメラを第1の実施形態と第2の実施形態の中間位置、即ちウエハチャック上面の中心を通るX軸、Y軸に対して45°傾斜した位置に設けることもできる。この場合には第1の実施形態と実質的に同一の面積にしておくことにより、第1のCCDカメラによって半導体ウエハ全面を撮像することができ、2個の第2のCCDカメラによってプローブカードの45°傾斜した両端部を第2のCCDカメラによって撮像することができる。本実施形態においても第1の実施形態に準じた作用効果を期することができる。
第3の実施形態
本実施形態の検査装置10Bは、図6に示すようにローダ室12の左右両側にプローバ室11が配置されていること以外は、第1の実施形態に準じて構成されている。そこで、第1の実施形態と同一または相当部分には同一符号を付して本実施形態の特徴部分を中心について説明する。
本実施形態では、左右のプローバ室11で一つのローダ室12を兼用するため、第1の実施形態と比較して検査装置10Bのフットプリントを格段に削減することができる。そして、プローバ室11では第1の実施形態と同様のアライメントを行うことができる。従って、本実施形態によれば、ローダ室12を二系列のプローバ室11で共用するため、フットプリントが大幅に削減され、コスト低減に大きく寄与することができる。
第4の実施形態
本実施形態の検査装置10Cは、図7に示すように第2のCCDカメラ15Dがウエハチャック13上面の中心を通るX軸、Y軸上にウエハチャック13を挟むようにして4箇所に設けられていること以外は、第1の実施形態に準じて構成されている。そこで、第1の実施形態と同一または相当部分には同一符号を付して本実施形態の特徴部分を中心について説明する。
本実施形態では、第2のCCDカメラ15Dは図7の(a)に示すようにウエハチャック13を挟んで4個設けられている。4個の第2のCCDカメラ15Dは、第1の実施形態における2個の第1のCCDカメラ15Dと第2の実施形態における2個の第1のCCDカメラ15Dとを合わせた状態で配置されている。そして、プローバ室11は第1の実施形態と実質的に同一の面積に形成されている。
従って、本実施形態では、図7の(b)に示すようにアライメントブリッジ15Bの第1のCCDカメラ15A(図2参照)によって半導体ウエハW全面を撮像することができ、同図の(c)に示すように4個の第2のCCDカメラ15Dによってプローブカード14のY方向の中央部を横断する領域とそのX方向の中央部の両端部の領域を撮像することができる。つまり、4個の第2のCCDカメラ15Dは、プローブカード14の中心部と外周縁部の周方向に90°ずつ隔てた4箇所においてプローブを撮像することができるため、第1〜第3の実施形態の場合よりもアライメント精度を高めることができる。
従って、本実施形態によれば、第1のCCDカメラで半導体ウエハWの全面を撮像することができると共に4箇所の第2のCCDカメラ15Dでプローブカード14のY方向の中央部を横断する領域及びX方向の中央部の両端部を撮像することができるため、プローブカード14の中心部と外周縁部の周方向に90°ずつ隔てた4箇所においてアライメントを行うことができ、第1〜第3の実施形態の場合よりもアライメント精度を高めることができる他、第1の実施形態と同様の作用効果を期することができる。
尚、本発明は上記各実施形態に何等制限されるものではなく、必要に応じて各構成要素を適宜設計変更することができる。
本発明は、半導体ウエハ等の被検査体の電気的特性検査を行う検査装置として好適に利用することができる。
本発明の検査装置の一実施形態を示す平面図である。 図1に示す検査装置の要部を示す概念図である。 図1に示す検査装置の配列状態の一例を示す平面図である。 (a)〜(c)はそれぞれ図1に示す検査装置の動作を説明するための説明図である。 (a)〜(c)は本発明の検査装置の他の実施形態を示す図4に相当する平面図である。 本発明の検査装置の更に他の実施形態を示す図3に相当する平面図である。 本発明の検査装置の更に他の実施形態を示す平面図である。
符号の説明
10、10A、10B、10C 検査装置
14 プローブカード
14A プローブ
15 アライメント機構
15A 第1のCCDカメラ(第1の撮像手段)
15B アライメントブリッジ
15D 第2のCCDカメラ(第2の撮像手段)
W 半導体ウエハ(被検査体)

Claims (13)

  1. X、Y方向に移動可能な載置台と、上記載置台上の被検査体のアライメントを行うアライメント機構と、を備えた検査装置において、上記アライメント機構は、上記載置台上の被検査体を撮像するためにX方向またはY方向のいずれか一方にのみ移動可能で任意の位置で停止可能な第1の撮像手段を備え、上記第1の撮像手段と上記載置台をそれぞれの移動可能な方向へ移動させることにより上記被検査体のアライメントを行う制御手段を有することを特徴とする検査装置。
  2. X、Y方向に移動可能にX方向またはY方向のいずれか一方に沿って配列された複数の載置台と、上記複数の載置台上の被検査体のアライメントを行うためのアライメント機構と、を備えた検査装置であって、上記アライメント機構は、上記複数の載置台上の被検査体をそれぞれ撮像するために上記複数の載置台の配列方向にのみ移動可能で任意の位置で停止可能な第1の撮像手段を備え、上記第1の撮像手段と上記被検査体を載置する上記載置台をそれぞれの移動可能な方向へ移動させることにより上記被検査体のアライメントを行う制御手段を有することを特徴とする検査装置。
  3. X、Y方向に移動可能にX方向またはY方向のいずれか一方に沿って配列された2箇所の載置台と、上記2箇所の載置台上の被検査体のアライメントを行うためのアライメント機構と、を備えた検査装置であって、上記アライメント機構は、上記2箇所の載置台上の被検査体をそれぞれ撮像するために上記2箇所の載置台の配列方向にのみ移動可能で任意の位置で停止可能な第1の撮像手段を備え、上記第1の撮像手段と上記被検査体を載置する載置台をそれぞれの移動可能な方向へ移動させることにより上記いずれかの被検査体のアライメントを行う制御手段を有することを特徴とする検査装置。
  4. 上記載置台の上方に配置されたプローブカードを備え、上記プローブカードを撮像する第2の撮像手段が互いに所定間隔を隔てて上記載置台の複数箇所に設けられていることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の検査装置
  5. 上記載置台の上方に配置されたプローブカードを備え、上記第2の撮像手段は、上記載置台の周方向に180°隔てた2箇所に配置されていることを特徴とする請求項2または請求項3に記載の検査装置。
  6. 2箇所の上記第2の撮像手段は、互いに対向して上記複数の載置台の配列方向に沿って配置されていることを特徴とする請求項5に記載の検査装置。
  7. 2箇所の上記第2の撮像手段は、互いに対向して上記複数の載置台の配列方向と直交する方向に沿って配置されていることを特徴とする請求項5に記載の検査装置。
  8. 2箇所の上記第2の撮像手段は、互いに対向してX方向及びY方向からそれぞれ45°傾斜する位置に配置されていることを特徴とする請求項5に記載の検査装置。
  9. 上記第2の撮像手段は、上記載置台の周方向に90°ずつ隔てた4箇所に配置され、且つ、互いに180°隔てた2箇所の上記第2の撮像手段は、それぞれX方向及びY方向に沿って配置されていることを特徴とする請求項4に記載の検査装置。
  10. 上記プローブカードは、上記被検査体の全面に一括して電気的に接触することを特徴とする請求項1〜請求項9のいずれか1項に記載の検査装置。
  11. 上記第1の撮像手段は、アライメントブリッジに設けられていることを特徴とする請求項1〜請求項10のいずれか1項に記載の検査装置。
  12. 上記制御手段は、上記載置台を、第1の撮像手段が移動可能な方向と直交する方向にのみ移動させてアライメントするように制御することを特徴とする請求項1〜請求項11のいずれか1項に記載の検査装置。
  13. 上記各載置台との間で上記被検査体を受け渡すウエハ搬送装置を一つ設けたことを特徴とする請求項2〜請求項12のいずれか1項に記載の検査装置。
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US12/053,354 US8294480B2 (en) 2007-03-23 2008-03-21 Inspection apparatus having alignment mechanism
US12/061,104 US8053257B2 (en) 2005-06-14 2008-04-02 Method for prediction of premature dielectric breakdown in a semiconductor

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011029456A (ja) * 2009-07-27 2011-02-10 Micronics Japan Co Ltd 半導体検査用ウエハプローバ及び検査方法
JP2011100884A (ja) * 2009-11-06 2011-05-19 Tokyo Electron Ltd 基板搬送方法
KR101346391B1 (ko) 2010-09-13 2014-01-02 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 웨이퍼 검사 장치
KR20190040122A (ko) * 2017-10-09 2019-04-17 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드 베이스 이송 장치, 이송 방법 및 포토리소그래피 기기

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7741837B2 (en) * 2007-05-15 2010-06-22 Tokyo Electron Limited Probe apparatus
DE102009026187A1 (de) 2009-07-16 2011-01-27 Hseb Dresden Gmbh Inspektionssystem
KR20120112648A (ko) * 2010-08-17 2012-10-11 가부시키가이샤 아드반테스트 접속 장치, 그것을 구비한 반도체 웨이퍼 시험 장치 및 접속 방법
CN102553834A (zh) * 2010-12-16 2012-07-11 江阴格朗瑞科技有限公司 双相机组合对准式条带测试分选机
KR101227812B1 (ko) * 2011-04-08 2013-02-07 세크론 주식회사 발광 소자 검사 방법
JP2013191741A (ja) * 2012-03-14 2013-09-26 Tokyo Electron Ltd プローブ装置及びプローブ装置のプローブカード装着方法
JP6271257B2 (ja) * 2014-01-08 2018-01-31 東京エレクトロン株式会社 基板検査装置及びプローブカード搬送方法
CN104049155B (zh) * 2014-02-19 2017-02-01 上海思创电器设备有限公司 一种基于自动导引运输车的电力设备检测流水线及检测方法
CN104216026A (zh) * 2014-08-22 2014-12-17 无锡吉兴汽车声学部件科技有限公司 汽车后搁板自动检测影像设备
CN105445643A (zh) * 2015-11-12 2016-03-30 杭州长川科技股份有限公司 一种全自动探针台图像定位***
CN105486995B (zh) * 2015-12-07 2018-08-17 杭州长川科技股份有限公司 全自动探针台图像定位装置及视觉对准方法
WO2018154941A1 (ja) * 2017-02-22 2018-08-30 新東工業株式会社 テストシステム
JP7018784B2 (ja) * 2018-02-23 2022-02-14 東京エレクトロン株式会社 コンタクト精度保証方法および検査装置
CN109860080A (zh) * 2018-12-28 2019-06-07 浙江中晶新能源有限公司 一种硅片的定位输送装置
JP7274350B2 (ja) * 2019-05-28 2023-05-16 東京エレクトロン株式会社 搬送システム、検査システム及び検査方法
CN112786509B (zh) * 2021-01-26 2024-02-23 江苏优普纳科技有限公司 一种定位***、定位方法及计算设备
CN115274484B (zh) * 2022-08-03 2023-09-29 立川(无锡)半导体设备有限公司 一种晶圆检测装置及其检测方法
CN116381441A (zh) * 2023-03-15 2023-07-04 中国电子产品可靠性与环境试验研究所((工业和信息化部电子第五研究所)(中国赛宝实验室)) 半导体器件失效分析方法、装置、计算机设备和存储介质

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05333100A (ja) * 1992-05-29 1993-12-17 Tokyo Electron Yamanashi Kk プローブ装置
JP2006128451A (ja) * 2004-10-29 2006-05-18 Seiko Epson Corp プローバー装置及びその探針メンテナンス方法、半導体装置の製造方法
JP2006135217A (ja) * 2004-11-09 2006-05-25 Seiko Epson Corp プローブ装置及びプローブ検査方法、半導体装置の製造方法

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4266191A (en) * 1979-04-18 1981-05-05 Spano John D Test probe alignment apparatus
JPS6115341A (ja) * 1984-07-02 1986-01-23 Canon Inc ウエハプロ−バ
JPH0422150A (ja) * 1990-05-17 1992-01-27 Tokyo Electron Ltd プローブ方法
US5321352A (en) * 1991-08-01 1994-06-14 Tokyo Electron Yamanashi Limited Probe apparatus and method of alignment for the same
US5404111A (en) * 1991-08-03 1995-04-04 Tokyo Electron Limited Probe apparatus with a swinging holder for an object of examination
KR100196195B1 (ko) * 1991-11-18 1999-06-15 이노우에 쥰이치 프로우브 카드
US5510724A (en) * 1993-05-31 1996-04-23 Tokyo Electron Limited Probe apparatus and burn-in apparatus
US5644245A (en) * 1993-11-24 1997-07-01 Tokyo Electron Limited Probe apparatus for inspecting electrical characteristics of a microelectronic element
KR100296646B1 (ko) * 1994-03-31 2001-10-24 히가시 데쓰로 프로우브시스템및프로우브방법
US5691764A (en) * 1994-08-05 1997-11-25 Tokyo Electron Limited Apparatus for examining target objects such as LCD panels
EP0837333A3 (en) * 1996-10-18 1999-06-09 Tokyo Electron Limited Apparatus for aligning a semiconductor wafer with an inspection contactor
TW518705B (en) * 2000-12-27 2003-01-21 Tokyo Electron Ltd Workpiece transfer system, transfer method, vacuum chuck, and wafer centering method
TWI256372B (en) * 2001-12-27 2006-06-11 Tokyo Electron Ltd Carrier system of polishing processing body and conveying method of polishing processing body
JP4339631B2 (ja) * 2003-06-20 2009-10-07 東京エレクトロン株式会社 検査方法及び検査装置
US7196507B2 (en) * 2003-08-28 2007-03-27 Suss Microtec Testsystems (Gmbh) Apparatus for testing substrates

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05333100A (ja) * 1992-05-29 1993-12-17 Tokyo Electron Yamanashi Kk プローブ装置
JP2006128451A (ja) * 2004-10-29 2006-05-18 Seiko Epson Corp プローバー装置及びその探針メンテナンス方法、半導体装置の製造方法
JP2006135217A (ja) * 2004-11-09 2006-05-25 Seiko Epson Corp プローブ装置及びプローブ検査方法、半導体装置の製造方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011029456A (ja) * 2009-07-27 2011-02-10 Micronics Japan Co Ltd 半導体検査用ウエハプローバ及び検査方法
JP2011100884A (ja) * 2009-11-06 2011-05-19 Tokyo Electron Ltd 基板搬送方法
KR101346391B1 (ko) 2010-09-13 2014-01-02 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 웨이퍼 검사 장치
KR20190040122A (ko) * 2017-10-09 2019-04-17 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드 베이스 이송 장치, 이송 방법 및 포토리소그래피 기기
KR102202793B1 (ko) 2017-10-09 2021-01-13 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드 베이스 이송 장치, 이송 방법 및 포토리소그래피 기기
US11367636B2 (en) 2017-10-09 2022-06-21 Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. Substrate transfer device, transfer method and photolithography apparatus

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