JP5702263B2 - 基板処理システム、基板搬送方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 - Google Patents
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Description
2 カセットステーション
3 処理ステーション
4 露光装置
5 インターフェイスステーション
6 制御装置
10 カセット搬入出部
11 ウェハ搬送部
12 カセット載置台
13 カセット載置板
20 搬送路
21 ウェハ搬送装置
30 下部反射防止膜形成ユニット
31 レジスト塗布ユニット
32 上部反射防止膜形成ユニット
33 現像処理ユニット
40 熱処理ユニット
41 アドヒージョンユニット
42 周辺露光ユニット
50〜56 受け渡しユニット
60〜62 受け渡しユニット
70 ウェハ搬送装置
85 ウェハ搬送装置
90 ウェハ搬送装置
100 洗浄ユニット
101 検査ユニット
110 受け渡しユニット
111 バッファユニット
112 温度調整ユニット
120 ウェハ搬送機構
121 第1の搬送アーム
122 第2の搬送アーム
123 第3の搬送アーム
125 ウェハ搬送制御部
130、131 ウェハ搬送装置
140 吸着パッド
141 スピンチャック
142 ブラシ
143 筐体
144 枠体
145 上部カップ
145a 開口部
150 シャフト
151 駆動機構
152 昇降ピン
153 支持体
153a 洗浄液ノズル
153b パージノズル
154 駆動機構
160 ドレン管
170 筐体
171 保持アーム
172 光源
173 カメラ
C カセット
D ウェハ搬送領域
F カップ
W ウェハ
Claims (14)
- 基板を処理する複数の処理ユニットが設けられた処理ステーションと、前記処理ステーションと外部に設けられた露光装置との間で基板の受け渡しを行うインターフェイスステーションと、を備えた基板処理システムであって、
前記インターフェイスステーションは、
基板を前記露光装置に搬入する前に少なくとも基板の裏面を洗浄する洗浄ユニットと、
少なくとも前記洗浄後の基板の裏面について、当該基板の露光が可能かどうかを前記露光装置に搬入する前に検査する検査ユニットと、
前記洗浄ユニットと前記検査ユニットとの間で基板を搬送するアームを備えた基板搬送機構と、
前記処理ステーションとの間で前記基板の受け渡しを行う受け渡しユニットと、
前記検査ユニットで検査された後であって且つ前記露光装置に搬入前の前記基板を所定の温度に調整する温度調整機構と、を有し、
前記洗浄ユニットと前記検査ユニットは、前記インターフェイスステーションの正面側または背面側のいずれかの側に、上下方向に多段に積層して設けられ、
前記受け渡しユニットと前記温度調整機構は、前記基板搬送機構を挟んで積層された前記洗浄ユニットと前記検査ユニットとの反対側に、上下方向に積層して設けられ、
前記基板搬送機構は、上下方向に沿って移動自在に設けられ、
前記検査ユニットでの検査の結果、基板の状態が、前記洗浄ユニットでの再洗浄により露光可能な状態になると判定されれば、当該基板を前記洗浄ユニットに再度搬送するように、前記基板搬送機構を制御する基板搬送制御部をさらに有することを特徴とする、基板処理システム。 - 前記基板搬送制御部は、前記洗浄ユニットに再度搬送されて洗浄された基板を再度検査ユニットに搬送するように前記基板搬送機構を制御することを特徴とする、請求項1に記載の基板処理システム。
- 前記インターフェイスステーションには、前記検査ユニットで検査後の基板を一時的に収容するバッファ収容部が設けられていることを特徴とする、請求項1または2のいずれか一項に記載の基板処理システム。
- 前記基板搬送機構は、前記インターフェイスステーションに搬入された基板を前記洗浄ユニットに搬送する第1の搬送アームと、前記洗浄ユニットで洗浄した後の基板を前記検査ユニットに搬送し、さらに前記検査ユニットで検査した後の基板を前記バッファ収容部に搬送する第2の搬送アームとを備えていることを特徴とする、請求項3に記載の基板処理システム。
- 前記基板搬送機構は、前記インターフェイスステーションに搬入された基板を前記洗浄ユニットに受け渡す第1の搬送アームと、前記洗浄ユニットで洗浄した後の基板を前記検査ユニットに受け渡す第2の搬送アームと、前記検査ユニットで検査した後の基板を前記バッファ収容部に搬送する第3の搬送アームとを備えていることを特徴とする、請求項3に記載の基板処理システム。
- 前記バッファ収容部は、前記検査後の基板の検査結果が判明するまで当該検査後の基板を収容することを特徴とする、請求項3〜5のいずれか一項に記載の基板処理システム。
- 基板を処理する複数の処理ユニットが設けられた処理ステーションと、前記処理ステーションと外部に設けられた露光装置との間で基板の受け渡しを行うインターフェイスステーションと、を備えた基板処理システムにおける基板の搬送方法であって、
前記インターフェイスステーションは、
基板を前記露光装置に搬入する前に少なくとも基板の裏面を洗浄する洗浄ユニットと、
少なくとも前記洗浄後の基板の裏面について、当該基板の露光が可能かどうかを前記露光装置に搬入する前に検査する検査ユニットと、
前記洗浄ユニットと前記検査ユニットとの間で基板を搬送するアームを備えた基板搬送機構と、
前記処理ステーションとの間で前記基板の受け渡しを行う受け渡しユニットと、
前記検査ユニットで検査された後であって且つ前記露光装置に搬入前の前記基板を所定の温度に調整する温度調整機構と、を有し、
前記洗浄ユニットと前記検査ユニットは、前記インターフェイスステーションの正面側または背面側のいずれかの側に、上下方向に多段に積層して設けられ、
前記基板搬送機構は、上下方向に多段に設けられた前記洗浄ユニット及び前記検査ユニットに隣接した領域に設けられ、
前記受け渡しユニットと前記温度調整機構は、前記基板搬送機構を挟んで積層された前記洗浄ユニットと前記検査ユニットとの反対側に、上下方向に積層して設けられ、
前記基板搬送機構は、上下方向に沿って移動自在に設けられ、
前記検査ユニットでの検査の結果、基板の状態が、前記洗浄ユニットでの再洗浄により露光可能な状態になると判定されれば、当該基板を前記洗浄ユニットに再度搬送することを特徴とする、基板搬送方法。 - 前記洗浄ユニットに再度搬送されて洗浄された基板を、再度検査ユニットに搬送して検査することを特徴とする、請求項7に記載の基板搬送方法。
- 前記インターフェイスステーションには、前記検査ユニットで検査後の基板を一時的に収容するバッファ収容部が設けられていることを特徴とする、請求項8に記載の基板搬送方法。
- 前記基板搬送機構は、前記インターフェイスステーションに搬入された基板を前記洗浄ユニットに受け渡す第1の搬送アームと、前記洗浄ユニットで洗浄した後の基板を前記検査ユニットに搬送し、さらに前記検査ユニットで検査した後の基板を前記バッファ収容部に搬送する第2の搬送アームとを備えていることを特徴とする、請求項9に記載の基板搬送方法。
- 前記基板搬送機構は、前記インターフェイスステーションに搬入された基板を前記洗浄ユニットに受け渡す第1の搬送アームと、前記洗浄ユニットで洗浄した後の基板を前記検査ユニットに受け渡す第2の搬送アームと、前記検査ユニットで検査した後の基板を前記バッファ収容部に搬送する第3の搬送アームとを備えていることを特徴とする、請求項9に記載の基板搬送方法。
- 前記検査後の基板は、前記検査ユニットでの検査結果が判明するまで前記バッファ収容部に収容されることを特徴とする、請求項9〜11のいずれか一項に記載の基板搬送方法。
- 請求項7〜12のいずれかに記載の基板搬送方法を基板処理システムによって実行させるように、当該基板処理システムを制御する制御装置のコンピュータ上で動作するプログラム。
- 請求項13に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
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