JP2008078652A - リソグラフィシステム、デバイス製造方法、及びマスク最適化方法 - Google Patents
リソグラフィシステム、デバイス製造方法、及びマスク最適化方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008078652A JP2008078652A JP2007240425A JP2007240425A JP2008078652A JP 2008078652 A JP2008078652 A JP 2008078652A JP 2007240425 A JP2007240425 A JP 2007240425A JP 2007240425 A JP2007240425 A JP 2007240425A JP 2008078652 A JP2008078652 A JP 2008078652A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- pattern
- dose
- spatial frequency
- mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70283—Mask effects on the imaging process
- G03F7/70291—Addressable masks, e.g. spatial light modulators [SLMs], digital micro-mirror devices [DMDs] or liquid crystal display [LCD] patterning devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70491—Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
- G03F7/70508—Data handling in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. handling pattern data for addressable masks or data transfer to or from different components within the exposure apparatus
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】リソグラフィシステムは、個別制御可能素子アレイと、投影系と、データパスハードウェアと、変換システムと、を備える。個別制御可能素子アレイは、放射ビームを変調可能である。投影系は、変調された放射ビームを基板の目標部分に投影する。データパスハードウェアは、入力パターンファイルを、個別制御可能素子アレイを制御するために使用される制御信号に変換する。変換システムは、要求デバイスレイアウトパターンをデータパスハードウェアへの入力パターンファイルに変換する。入力パターンファイルは、要求デバイスレイアウトパターンの空間周波数制限型表示である。
【選択図】図5
Description
CD=0.25λ/NA(1+σ)
本発明の種々の実施例を上に記載したが、それらはあくまでも例示であって、それらに限定されるものではない。本発明の精神と範囲に反することなく種々に変更することができるということは、関連技術の当業者には明らかなことである。本発明の範囲と精神は上記で述べた例示に限定されるものではなく、請求項とその均等物によってのみ定義されるものである。
Claims (22)
- 放射ビームを変調するパターニングデバイスと、
変調された放射ビームを基板の目標部分に投影する投影系と、
入力パターンファイルを、前記パターニングデバイスを制御するために使用される制御信号に変換するデータパスハードウェアと、
要求デバイスレイアウトパターンを、要求デバイスレイアウトパターンの空間周波数制限型表示である前記データパスハードウェアへの入力パターンファイルに変換する変換システムと、を備えることを特徴とするリソグラフィシステム。 - 前記空間周波数制限型表示は、前記投影系により結像される空間周波数のみを含むことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィシステム。
- 前記空間周波数制限型表示に含まれる空間周波数は、前記投影系により結像される空間周波数により決定される閾値より小さいことを特徴とする請求項2に記載のリソグラフィシステム。
- 前記空間周波数制限型表示は、前記投影系により結像され得ない空間周波数の欠落を補正する部分を備えることを特徴とする請求項2に記載のリソグラフィシステム。
- 前記パターニングデバイスは、前記要求デバイスレイアウトパターンを生成するマスクを備え、
前記変換システムは、前記マスクにより基板に投影されるドーズ量パターンを計算し、計算されたドーズ量パターンを前記空間周波数制限型表示として使用することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィシステム。 - 前記マスクは光近接効果補正を備えることを特徴とする請求項5に記載のリソグラフィシステム。
- 前記変換システムにより生成される前記空間周波数制限型表示は、ドーズトゥクリアコンターのマップに、該ドーズトゥクリアコンターに沿うドーズ量の空間微分の少なくとも1種に関する情報を組み合わせたものを備えることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィシステム。
- ドーズトゥクリアコンターに沿うドーズ量の空間微分の少なくとも1種に関する情報は、規格化像光強度対数勾配値またはレジストプロファイルを備えることを特徴とする請求項7に記載のリソグラフィシステム。
- 前記変換システムにより生成される前記空間周波数制限型表示は、前記要求デバイスレイアウトパターンのピクセルマップ表示を備えることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィシステム。
- パターニングデバイスを用いて放射ビームを変調することと、
変調された放射ビームを基板の目標部分に投影系を用いて投影することと、
入力パターンファイルを、パターニングデバイスを制御するための制御信号にデータパスハードウェアを用いて変換することと、
要求デバイスレイアウトパターンを、該要求デバイスレイアウトパターンの空間周波数制限型表示に変換することと、
前記要求デバイスレイアウトパターンの空間周波数制限型表示を前記データパスハードウェアへの入力パターンファイルとして使用することと、を含むことを特徴とするデバイス製造方法。 - 前記空間周波数制限型表示は、前記投影系により結像され得る空間周波数のみを含むことを特徴とする請求項10に記載の方法。
- 前記空間周波数制限型表示に含まれる空間周波数は、前記投影系により結像され得る空間周波数により決定される閾値より小さいことを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 前記空間周波数制限型表示は、前記投影系により結像され得ない空間周波数の欠落を補正する部分を含むよう生成されることを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 前記要求デバイスレイアウトパターンの前記空間周波数制限型表示への変換は、
前記パターニングデバイスとしてマスクを使用することと、
前記要求デバイスレイアウトパターンを生成するよう設計されている前記マスクによるドーズ量パターンを計算することと、
計算されたドーズ量パターンを前記空間周波数制限型表示として使用することと、を含むことを特徴とする請求項10に記載の方法。 - 前記マスクに光近接効果補正を形成することをさらに含むことを特徴とする請求項14に記載の方法。
- 変換ステップは、ドーズトゥクリアコンターのマップに、該ドーズトゥクリアコンターに沿うドーズ量の空間微分の少なくとも1種に関する情報を組み合わせたものを備える空間周波数制限型表示を生成することを特徴とする請求項10に記載の方法。
- ドーズトゥクリアコンターに沿うドーズ量の空間微分の少なくとも1種に関する情報は、規格化像光強度対数勾配値またはレジストプロファイルを備えることを特徴とする請求項16に記載の方法。
- 変換ステップは、前記要求デバイスレイアウトパターンのピクセルマップ表示を備える空間周波数制限型表示を生成することを特徴とする請求項10に記載の方法。
- 請求項10に記載の方法により製造されたフラットパネルディスプレイ。
- 請求項10に記載の方法により製造された集積回路デバイス。
- マスクとして所定の候補マスクパターンを使用するマスク使用型リソグラフィ装置によって基板に投影されるべきドーズ量パターンを計算することと、
計算されたドーズ量パターンを、個別制御可能素子アレイを制御するための制御信号にドーズ量パターンを変換するマスクレスリソグラフィ装置のデータパスハードウェアへの入力として使用することと、
前記個別制御可能素子アレイを使用して放射ビームを変調することと、
露光済基板を得るべく、変調された放射ビームを基板の目標部分に投影することと、
デバイスを形成するために前記露光済基板を処理することと、
前記デバイスの性能を評価するために前記デバイスを試験することと、
上述の各ステップを一組の候補マスクパターンに対して繰り返すことと、
前記試験ステップでの結果の比較に基づいて候補マスクパターンのうち最適な1つを選択することと、を含むことを特徴とするマスク最適化方法。 - 前記候補マスクパターンに光近接効果補正を含めることをさらに含むことを特徴とする請求項21に記載のマスク最適化方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/522,533 | 2006-09-18 | ||
US11/522,533 US8049865B2 (en) | 2006-09-18 | 2006-09-18 | Lithographic system, device manufacturing method, and mask optimization method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008078652A true JP2008078652A (ja) | 2008-04-03 |
JP5060226B2 JP5060226B2 (ja) | 2012-10-31 |
Family
ID=39188202
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007240425A Active JP5060226B2 (ja) | 2006-09-18 | 2007-09-18 | リソグラフィシステム、及びデバイス製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8049865B2 (ja) |
JP (1) | JP5060226B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011077992A1 (ja) * | 2009-12-22 | 2011-06-30 | 株式会社ブイ・テクノロジー | フォトマスク |
KR20160141851A (ko) * | 2014-04-14 | 2016-12-09 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 공정들에 대한 최적화의 흐름들 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7403265B2 (en) * | 2005-03-30 | 2008-07-22 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing data filtering |
WO2008039674A2 (en) * | 2006-09-20 | 2008-04-03 | Luminescent Technologies, Inc. | Photo-mask and wafer image reconstruction |
US8373144B1 (en) * | 2010-08-31 | 2013-02-12 | Kla-Tencor Corporation | Quasi-annular reflective electron patterning device |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0229747A (ja) * | 1988-07-20 | 1990-01-31 | Nikon Corp | 投影露光方法 |
JPH05134385A (ja) * | 1991-11-11 | 1993-05-28 | Nikon Corp | 反射マスク |
WO2005081070A1 (en) * | 2004-02-25 | 2005-09-01 | Micronic Laser Systems Ab | Methods for exposing patterns and emulating masks in optical maskless lithography |
JP2006135332A (ja) * | 2004-11-04 | 2006-05-25 | Asml Holding Nv | リソグラフィシステムおよびデバイス製造方法 |
JP2006337602A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Fujifilm Holdings Corp | 描画装置および描画方法 |
Family Cites Families (43)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4879605A (en) | 1988-02-29 | 1989-11-07 | Ateq Corporation | Rasterization system utilizing an overlay of bit-mapped low address resolution databases |
US5523193A (en) * | 1988-05-31 | 1996-06-04 | Texas Instruments Incorporated | Method and apparatus for patterning and imaging member |
DE59105735D1 (de) * | 1990-05-02 | 1995-07-20 | Fraunhofer Ges Forschung | Belichtungsvorrichtung. |
US5229872A (en) * | 1992-01-21 | 1993-07-20 | Hughes Aircraft Company | Exposure device including an electrically aligned electronic mask for micropatterning |
US6219015B1 (en) * | 1992-04-28 | 2001-04-17 | The Board Of Directors Of The Leland Stanford, Junior University | Method and apparatus for using an array of grating light valves to produce multicolor optical images |
JP3224041B2 (ja) * | 1992-07-29 | 2001-10-29 | 株式会社ニコン | 露光方法及び装置 |
US5729331A (en) * | 1993-06-30 | 1998-03-17 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus |
JP3339149B2 (ja) * | 1993-12-08 | 2002-10-28 | 株式会社ニコン | 走査型露光装置ならびに露光方法 |
US5677703A (en) * | 1995-01-06 | 1997-10-14 | Texas Instruments Incorporated | Data loading circuit for digital micro-mirror device |
US5530482A (en) * | 1995-03-21 | 1996-06-25 | Texas Instruments Incorporated | Pixel data processing for spatial light modulator having staggered pixels |
DE69729659T2 (de) * | 1996-02-28 | 2005-06-23 | Johnson, Kenneth C., Santa Clara | Mikrolinsen-rastereinrichtung für mikrolithografie und für konfokale mikroskopie mit grossem aufnahmefeld |
EP0794552B1 (en) | 1996-03-04 | 2007-11-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron beam exposure apparatus and method, and device manufacturing method |
DE69711929T2 (de) | 1997-01-29 | 2002-09-05 | Micronic Laser Systems Ab Taeb | Verfahren und gerät zur erzeugung eines musters auf einem mit fotoresist beschichteten substrat mittels fokusiertem laserstrahl |
US6177980B1 (en) * | 1997-02-20 | 2001-01-23 | Kenneth C. Johnson | High-throughput, maskless lithography system |
SE509062C2 (sv) | 1997-02-28 | 1998-11-30 | Micronic Laser Systems Ab | Dataomvandlingsmetod för en laserskrivare med flera strålar för mycket komplexa mikrokolitografiska mönster |
US5982553A (en) * | 1997-03-20 | 1999-11-09 | Silicon Light Machines | Display device incorporating one-dimensional grating light-valve array |
US6291110B1 (en) * | 1997-06-27 | 2001-09-18 | Pixelligent Technologies Llc | Methods for transferring a two-dimensional programmable exposure pattern for photolithography |
SE9800665D0 (sv) * | 1998-03-02 | 1998-03-02 | Micronic Laser Systems Ab | Improved method for projection printing using a micromirror SLM |
JP3485052B2 (ja) | 1999-12-16 | 2004-01-13 | 日本電気株式会社 | 参照画像作成方法、パターン検査装置及び参照画像作成プログラムを記録した記録媒体 |
TW520526B (en) * | 2000-05-22 | 2003-02-11 | Nikon Corp | Exposure apparatus, method for manufacturing thereof, method for exposing and method for manufacturing micro-device |
US7849981B2 (en) | 2005-04-05 | 2010-12-14 | Stucki De Mexico, De R.L. De C.V. | Spare brake beam having replaceable brake heads |
US6473237B2 (en) | 2000-11-14 | 2002-10-29 | Ball Semiconductor, Inc. | Point array maskless lithography |
US20020172431A1 (en) | 2001-03-07 | 2002-11-21 | Atkins C. Brian | Digital image appearance enhancement and compressibility improvement method and system |
US20030026495A1 (en) | 2001-03-07 | 2003-02-06 | Gondek Jay Stephen | Parameterized sharpening and smoothing method and apparatus |
EP1265104A1 (en) * | 2001-06-06 | 2002-12-11 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
JP2002367900A (ja) | 2001-06-12 | 2002-12-20 | Yaskawa Electric Corp | 露光装置および露光方法 |
JP3563384B2 (ja) * | 2001-11-08 | 2004-09-08 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 画像記録装置 |
US6934421B2 (en) * | 2002-03-20 | 2005-08-23 | Eastman Kodak Company | Calculating noise from multiple digital images having a common noise source |
TWI298825B (en) * | 2002-06-12 | 2008-07-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US6870554B2 (en) * | 2003-01-07 | 2005-03-22 | Anvik Corporation | Maskless lithography with multiplexed spatial light modulators |
US7180576B2 (en) * | 2003-02-11 | 2007-02-20 | Asml Netherlands B.V. | Exposure with intensity balancing to mimic complex illuminator shape |
KR100959751B1 (ko) | 2003-05-13 | 2010-05-25 | 삼성전자주식회사 | 금속패턴 형성 방법 및 이를 이용한 전자파 차폐 필터 |
US7423730B2 (en) * | 2003-05-28 | 2008-09-09 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
EP1482373A1 (en) * | 2003-05-30 | 2004-12-01 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP1482375B1 (en) | 2003-05-30 | 2014-09-17 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP1491960B1 (en) | 2003-05-30 | 2012-04-25 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
US6833854B1 (en) * | 2003-06-12 | 2004-12-21 | Micronic Laser Systems Ab | Method for high precision printing of patterns |
WO2004111701A1 (en) | 2003-06-12 | 2004-12-23 | Micronic Laser Systems Ab | Method for high precision printing of patterns |
EP1517188A3 (en) | 2003-09-22 | 2005-05-04 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
WO2005047955A1 (en) | 2003-11-12 | 2005-05-26 | Micronic Laser Systems Ab | Method and device for correcting slm stamp image imperfections |
US7230677B2 (en) * | 2004-12-22 | 2007-06-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing hexagonal image grids |
US7403265B2 (en) * | 2005-03-30 | 2008-07-22 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing data filtering |
US8259285B2 (en) * | 2006-12-14 | 2012-09-04 | Asml Holding N.V. | Lithographic system, device manufacturing method, setpoint data optimization method, and apparatus for producing optimized setpoint data |
-
2006
- 2006-09-18 US US11/522,533 patent/US8049865B2/en active Active
-
2007
- 2007-09-18 JP JP2007240425A patent/JP5060226B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0229747A (ja) * | 1988-07-20 | 1990-01-31 | Nikon Corp | 投影露光方法 |
JPH05134385A (ja) * | 1991-11-11 | 1993-05-28 | Nikon Corp | 反射マスク |
WO2005081070A1 (en) * | 2004-02-25 | 2005-09-01 | Micronic Laser Systems Ab | Methods for exposing patterns and emulating masks in optical maskless lithography |
JP2006135332A (ja) * | 2004-11-04 | 2006-05-25 | Asml Holding Nv | リソグラフィシステムおよびデバイス製造方法 |
JP2006337602A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Fujifilm Holdings Corp | 描画装置および描画方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011077992A1 (ja) * | 2009-12-22 | 2011-06-30 | 株式会社ブイ・テクノロジー | フォトマスク |
JP2011134768A (ja) * | 2009-12-22 | 2011-07-07 | V Technology Co Ltd | フォトマスク |
KR20160141851A (ko) * | 2014-04-14 | 2016-12-09 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 공정들에 대한 최적화의 흐름들 |
KR102006321B1 (ko) | 2014-04-14 | 2019-08-01 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 공정들에 대한 최적화의 흐름들 |
US10459346B2 (en) | 2014-04-14 | 2019-10-29 | Asml Netherlands B.V. | Flows of optimization for lithographic processes |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8049865B2 (en) | 2011-11-01 |
US20080068569A1 (en) | 2008-03-20 |
JP5060226B2 (ja) | 2012-10-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4637147B2 (ja) | 段差付きミラーを利用したパターニング用デバイス、及びそれを使用する方法 | |
JP4938616B2 (ja) | 高速可変減衰器としての干渉計の使用 | |
JP4777968B2 (ja) | リソグラフィシステム、デバイス製造方法、セットポイントデータ最適化方法、及び最適セットポイントデータ生成装置 | |
JP4805797B2 (ja) | 照明光学システム | |
JP4659000B2 (ja) | 測定された光学素子特性に基づくパターンデータの変更 | |
JP2008033329A (ja) | リソグラフィシステムにおける最小寸法の不均一性を補償するシステムおよび方法 | |
JP4964192B2 (ja) | テレセントリック性の制御を瞳の充填に使用するリソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP5060226B2 (ja) | リソグラフィシステム、及びデバイス製造方法 | |
JP2009158911A (ja) | マスクレスリソグラフィで用いる干渉に基づいたパターニングデバイスの照明 | |
JP5044264B2 (ja) | パターニング用デバイスへの照明効率を改善する光学系 | |
JP4814200B2 (ja) | 高分解能露光ツールの像コントラストの強化 | |
JP4481276B2 (ja) | ピクセルグリッド描像と組み合わせた連続光ビームを使用するリソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP4891282B2 (ja) | マスクレスリソグラフィにおける均一なバックグラウンド放射 | |
JP4994306B2 (ja) | 光学的マスクレスリソグラフィにおけるドーズ量制御 | |
JP5091817B2 (ja) | 電磁放射パルス幅制御装置及び電磁放射パルス幅制御方法 | |
JP4754596B2 (ja) | リソグラフィ装置およびリソグラフィ方法 | |
JP2009124143A (ja) | 薄いフィルム状の連続的に空間的に調整された灰色減衰器及び灰色フィルタ | |
JP2008047887A (ja) | 光学インテグレータ | |
JP2008047875A (ja) | マスクレスリソグラフィにおけるパターン発生器の制御システム | |
JP2008034813A (ja) | 非偏光を生成するシステム及び方法 | |
JP5689539B2 (ja) | リソグラフィ装置においてパターニングデバイスを制御する方法、デバイス製造方法、及びリソグラフィ装置 | |
JP4772762B2 (ja) | 放射線パルスエネルギー制御システム、露光装置およびデバイス製造方法 | |
JP2007184575A (ja) | 多数のミラーからなるコントラストデバイスにレーザトリミングを用いる露光装置及びデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100728 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100928 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101025 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110426 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110725 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120124 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120419 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120717 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120803 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150810 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5060226 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |