JP4964192B2 - テレセントリック性の制御を瞳の充填に使用するリソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の種々の実施例を上に記載したが、それらはあくまでも例示であって、それらに限定されるものではない。本発明の精神と範囲に反することなく種々に変更することができるということは、関連技術の当業者には明らかなことである。本発明の範囲と精神は上記で述べた例示に限定されるものではなく、請求項とその均等物によってのみ定義されるものである。
Claims (15)
- リソグラフィ装置に存在する収差を測定する方法であって、
反射性パターニングデバイスを使用して放射ビームを変調し、
投影系を使用して変調放射ビームを投影し、
センサを使用して投影放射ビームを検出し、
検出された放射ビームでの干渉から収差を測定することを含み、
変調放射ビームは、投影系に入射する前に投影系の光軸から外れるように傾斜され、今回の測定ステップのために、投影系の入射瞳の端部と該入射瞳における区分された隣接区域の端部とに重なり合う照明領域に変位され、該区分された隣接区域は、異なる測定ステップのために変調放射ビームが変位される照明領域であり、
本方法は、前記今回の測定ステップで得られた部分的な収差マップと前記異なる測定ステップで得られた部分的な収差マップとを結合することをさらに含み、
前記結合するステップは、前記今回の測定ステップと前記異なる測定ステップとで同一位置について異なる収差測定結果が得られた場合に測定結果の平均を決定することを含むことを特徴とする方法。 - さらに1つまたは複数の方向に傾斜された変調放射ビームによって収差が測定されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 変調放射ビームは、反射性パターニングデバイスを傾斜することにより傾斜されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 放射ビームは、反射性パターニングデバイスに入射する前に光学素子によって傾斜されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記光学素子は、リソグラフィ装置の照明系の一部を形成することを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 反射性パターニングデバイスは、反射性マスクまたは個別制御可能素子アレイであることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 放射ビームを変調する反射性パターニングデバイスと、
変調された放射ビームを投影する投影系と、
投影系により投影された放射における干渉を検出するセンサと、
センサの出力から放射ビームに存在する収差を計測するプロセッサと、を備え、
反射性パターニングデバイスは、その光軸に交差する方向に回転可能であり、その回転によって、今回の測定ステップのために、変調された放射ビームが投影系に入射する前に投影系の光軸から外れるよう傾斜され、投影系の入射瞳の端部と該入射瞳における区分された隣接区域の端部とに重なり合う照明領域に変位され、該区分された隣接区域は、異なる測定ステップのために変調放射ビームが変位される照明領域であり、
前記プロセッサは、前記今回の測定ステップで得られた部分的な収差マップと前記異なる測定ステップで得られた部分的な収差マップとを結合し、
前記結合は、前記今回の測定ステップと前記異なる測定ステップとで同一位置について異なる収差測定結果が得られた場合に測定結果の平均を決定することを含むことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 反射性パターニングデバイスは、変調された放射ビームを投影系の入射瞳の端部に重ならせるように回転移動範囲を有することを特徴とする請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 反射性パターニングデバイスは、変調された放射ビームが投影系の入射瞳において複数の異なる位置を移動し当該複数の異なる位置を組み合わせたものが投影系の入射瞳を満たすように回転移動範囲を有することを特徴とする請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 反射性パターニングデバイスは、反射性マスクまたは個別制御可能素子アレイであることを特徴とする請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 放射ビームを変調する反射性パターニングデバイスと、
変調された放射ビームを投影する投影系と、
投影系により投影された放射における干渉を検出するセンサと、
センサの出力から放射ビームに存在する収差を計測するプロセッサと、を備え、
反射性パターニングデバイスに入射する前に放射ビームを光軸から外すよう傾斜させ、今回の測定ステップのために、投影系の入射瞳の端部と該入射瞳における区分された隣接区域の端部とに重なり合う照明領域に放射ビームを変位させる可動光学素子をさらに備え、
該区分された隣接区域は、異なる測定ステップのために変調放射ビームが変位される照明領域であり、
前記プロセッサは、前記今回の測定ステップで得られた部分的な収差マップと前記異なる測定ステップで得られた部分的な収差マップとを結合し、
前記結合は、前記今回の測定ステップと前記異なる測定ステップとで同一位置について異なる収差測定結果が得られた場合に測定結果の平均を決定することを含むことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記光学素子は、回転可能ミラーであることを特徴とする請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記可動光学素子は、リソグラフィ装置の照明系の一部を形成することを特徴とする請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記光学素子は、放射ビームを投影系の入射瞳の端部に重ならせるように移動範囲を有することを特徴とする請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記光学素子は、放射ビームが投影系の入射瞳において複数の異なる位置を移動し当該複数の異なる位置を組み合わせたものが投影系の入射瞳を満たすように回転移動範囲を有することを特徴とする請求項11に記載のリソグラフィ装置。
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