JP2007311768A - 基板洗浄装置，基板洗浄方法，基板処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】基板端部を研磨することなく，またプラズマを発生させることなく，基板端部全周の洗浄を簡単な制御で一度に行う。
【解決手段】ウエハＷを載置する載置台２０４と，ウエハ端部を加熱する加熱手段２１０と，ウエハ端部に向けて紫外線を照射する紫外線照射手段２２０と，ウエハ端部表面に気体の流れを形成する流れ形成手段２３０とを設け，加熱手段と紫外線照射手段と流れ形成手段とはそれぞれ，ウエハ端部近傍にウエハを囲むように配置した。
【選択図】 図６

Description

本発明は，基板例えば半導体ウエハや液晶基板の端部を洗浄する基板洗浄装置，基板洗浄方法，基板処理装置に関する。

近年，半導体デバイスの製造における歩留りを向上する観点から，基板例えば半導体ウエハ（以下，単に「ウエハ」とも称する）の端部の表面状態が注目されている。ウエハにはエッチング処理や成膜処理などが施され，そのようなウエハの処理により，ウエハの端部には不所望な付着物が付着することがある。

例えば処理ガスとしてフロロカーボン系（ＣＦ系）ガスをプラズマ化してウエハ表面にプラズマエッチング処理を行う場合には，競争反応（重合反応）により，ウエハ上の素子表面のみならず，ウエハの端部（例えばベベル部を含む端部の裏側）にもフロロカーボン系ポリマ（ＣＦ系ポリマ）の副生成物（デポ）が生成して付着する。

また，ＣＦ系ガスを用いてウエハ表面にＣＦ系膜を化学気相成長（ＣＶＤ：Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法で形成した場合には，そのＣＦ系膜がウエハ表面から端部まで連続し，さらに端部の裏側まで連続して付着することがある。

特開平５−１０２１０１号公報 特開平１０−２４２０９８号公報

このようなウエハ端部の付着物は，ウエハをその端部で保持したり，搬送したりすると，場合に剥離してウエハ表面に付着し，製造される半導体デバイスの歩留りが低下する虞がある。従って，このようなウエハ端部の付着物は洗浄により除去する必要がある。

この点，従来はウエハ端部をブラシやテープにより研磨することによって，付着物を除去していた。ところが，ウエハの端部を研磨すると，研磨によって生じる粉塵の処理に手間がかかるとともに，そのような粉塵による汚染の問題もあるため，研磨することなくウエハ端部の付着物を除去することが所望される。

また，上記特許文献１にはウエハに紫外線を当てるとともに一酸化窒素のプラズマを生成することにより，ウエハ上のフロロカーボン系ポリマを除去する方法が記載されている。ところが，この方法では，ウエハ上に形成されている膜によっては，プラズマを発生させることによってその膜（例えば低誘電率膜：Ｌｏｗ−Ｋ膜）がダメージを受ける場合もあるため，ウエハ表面にダメージを与えることなくウエハ端部の付着物を除去することが所望される。

さらに，上記特許文献２にはウエハを回転可能に保持する保持部と，ウエハ周縁の一部に紫外線を照射する紫外線発生部とを備え，ウエハ周縁の一部（ウエハを保持する際の凸凹部）に付着する異物を除去する装置が記載されている。ところが，この装置では，紫外線発生部からの紫外線がウエハ周縁の一部にしか照射できないため，ウエハ端部全周を洗浄するためには，ウエハを少しずつ回転させながら洗浄しなければならない。これでは，付着物の除去に時間がかかる。しかも，保持部の回転軸とウエハの中心部とを一致させたり，紫外線発生部の位置を調整するように合わせたりしなければならないため，必要な制御工程が増えてしまう。

そこで，本発明は，このような問題に鑑みてなされたもので，その目的とするところは，基板端部を研磨することなく，またプラズマを発生させることなく，基板端部全周の洗浄を簡単な制御で一度に行うことができる基板洗浄装置等を提供することにある。

上記課題を解決するために，本発明のある観点によれば，基板の端部に付着した付着物（例えばフロロカーボン系ポリマ）を除去するための基板洗浄装置であって，前記基板を載置する載置台と，前記基板の端部を加熱する加熱手段と，前記基板の端部に向けて紫外線を照射する紫外線照射手段と，前記基板の端部表面に気体（例えば少なくとも酸素原子を含む気体）の流れを形成する流れ形成手段とを備え，前記加熱手段と前記紫外線照射手段と前記流れ形成手段とは前記基板の端部近傍に前記基板を囲むように配置したことを特徴とする基板洗浄装置が提供される。

本発明によれば，基板の端部全周を加熱手段によって一度に加熱するとともに，基板の端部全周に紫外線照射手段により紫外線を一度に照射して，流れ形成手段により基板の端部全周にわたってその端部表面に気体の流れを形成することができる。これにより，基板端部に付着した不所望な付着物を簡単な制御で一度に除去することができるので，短い時間で基板端部を洗浄することができる。

また，基板端部に紫外線を照射することにより，基板端部に付着した付着物を化学分解反応によって気化させて除去することができる。これによれば，基板端部を研磨しないため，研磨によって生じる粉塵の処理の必要がない。またプラズマを発生させないため，基板上に形成された膜（例えばＬｏｗ−Ｋ膜）がダメージを受けることもない。

また，上記紫外線照射手段は，例えば前記基板端部の近傍に全周にわたって環状に配置された紫外線ランプを備える。紫外線ランプは，例えば環状に形成された１つの紫外線ランプにより構成してもよく，また複数の紫外線ランプを環状に配置するようにしてもよい。このような紫外線ランプにより基板端部全周に一度に紫外線を照射することができる。

また，上記加熱手段は，例えば基板端部の近傍に全周にわたって環状に配置された加熱ランプと，前記加熱ランプを覆うように設けられ，前記基板側が開口した環状のカバー部材とを備え，前記カバー部材の内面は，前記加熱ランプの光を反射可能な部材で構成するとともに，その反射光が前記基板の端部に集中するような形状で構成する。これによれば，基板端部全周に一度に光を照射して加熱することができるので，加熱時間を短くすることができる。なお，上記加熱ランプは，ハロゲンランプで構成することにより，遠赤外線の輻射熱によってより効果的に局所的に加熱することができる。

また，上記流れ形成手段は，例えば前記基板端部よりも内側に前記基板端部全周にわたって環状に配置された吐出管と，前記基板端部よりも外側に前記基板端部全周にわたって環状に配置された吸入管とを備える。

この場合，吐出管と吸入管とはそれぞれ環状配管により構成され，前記吐出管にはその周に沿って気体を吐出する吐出口が形成され，前記吸入管にはその周に沿って気体を吸入する吸入口が形成される。例えば吐出口と吸入口とはそれぞれ，前記各配管の周に沿って設けられたスリットにより構成してもよく，前記各配管の周に沿って設けられた多数の孔により構成してもよい。これにより，吐出管から基板の端部に向けて気体を吐出して吸入管で吸入することによって基板の端部表面全周にわたって基板の内側から外側へ向くような気体の流れを形成することができる。

また，上記吸入管は，前記基板の端部に付着した付着物が化学反応を起こして発生する反応生成ガスの濃度を検出する濃度センサを設けるようにしてもよい。このような濃度センサとしては，例えば基板端部に付着したフロロカーボン系ポリマが除去される際に発生する二酸化炭素の濃度を検出するセンサで構成される。このような濃度センサを設けることにより，この濃度センサで反応生成ガス（例えば二酸化炭素）の濃度を監視することによって，基板端部の洗浄処理の終点を検出することができる。

また，上記加熱手段は，前記基板の端部全周の裏側に環状に配置されたヒータを備えることにより，基板端部全周をヒータで加熱するようにしてもよい。これによって，基板端部全周を一度に加熱することができる。この場合には，上記基板端部の周りを囲むように配置された遮蔽板を備えるようにしてもよい。この遮蔽板により紫外線照射手段による紫外線が遮断され，基板上の表面に当たることを防止できる。また，この遮蔽板により流れ形成手段による気体が基板上に回り込むことを防止できるので，基板端部に効率的に気体の流れを形成することができる。

上記課題を解決するために，本発明の別の観点によれば，基板の端部に付着した付着物を除去する基板洗浄装置の基板洗浄方法であって，前記基板洗浄装置は，載置台に載置された前記基板の端部を加熱する加熱手段と，前記基板の端部に向けて紫外線を照射する紫外線照射手段と，前記基板の端部表面に気体の流れを形成する流れ形成手段とを前記基板の端部近傍に前記基板を囲むように配置して構成し，前記基板洗浄装置によって前記基板端部を洗浄する際には，前記加熱手段により前記基板端部の加熱を開始した後に，前記紫外線照射手段によって前記基板端部に紫外線の照射を開始するとともに，前記流れ形成手段によって基板端部表面に気体の流れを形成することによって前記基板端部の洗浄を行うことを特徴とする基板洗浄方法が提供される。

本発明によれば，基板端部全周の洗浄を簡単な制御で一度に行うことができるので，短い時間で基板端部を洗浄することができる。また，基板端部の加熱を開始した後に，紫外線の照射を開始し，基板端部表面に気体の流れを形成するため，紫外線照射開始前に基板端部がある程度の温度まで上昇するので，付着物を除去するための化学分解反応の効率を高めることができる。

また，上記流れ形成手段は，例えば前記基板端部よりも内側に環状に配置された吐出管と，前記基板端部よりも外側に環状に配置された吸入管とを備え，前記基板端部表面に気体の流れを形成する際には，前記吐出管から前記基板の端部に向けて気体を吐出し，前記吸入管で吸入する。この場合，上記吸入管は，前記基板の端部に付着したフロロカーボン系ポリマが除去される際に発生する二酸化炭素の濃度を検出する濃度センサを備え，前記基板端部の洗浄中に前記濃度センサで前記吸入管に吸入される二酸化炭素濃度を監視し，この二酸化炭素濃度が所定の閾値以下になると前記基板端部の洗浄を終了するようにしてもよい。これにより，洗浄処理の終点を精度よく検出することができるので，洗浄処理の効率も向上し，より短い時間で確実に付着物を除去することができる。

上記課題を解決するために，本発明の別の観点によれば，基板を真空圧力雰囲気中で処理する複数の処理室を含む処理ユニットと，前記処理ユニットに接続され，前記基板を収納する基板収納容器との間で大気圧雰囲気中で前記基板の受渡しを行う搬送室を有する搬送ユニットとを備えた基板処理装置であって，前記搬送室に接続され，大気圧雰囲気中で前記基板の端部に付着した付着物を除去する洗浄室を備え，前記洗浄室は，載置台に載置された前記基板の端部を加熱する加熱手段と，前記基板の端部に向けて紫外線を照射する紫外線照射手段と，前記基板の端部表面に気体の流れを形成する流れ形成手段とを前記基板の端部近傍に前記基板を囲むように配置して構成したことを特徴とする基板処理装置が提供される。この場合には，上記紫外線照射手段は，前記基板端部の近傍に全周にわたって環状に配置された低圧水銀ランプを備えることが好ましい。

上記課題を解決するために，本発明の別の観点によれば，基板を真空圧力雰囲気中で処理する複数の処理室を含む処理ユニットと，前記処理ユニットに接続され，前記基板を収納する基板収納容器との間で大気圧雰囲気中で前記基板の受渡しを行う搬送室を有する搬送ユニットとを備えた基板処理装置であって，前記複数の処理室の１つを，真空圧雰囲気中で前記基板の端部に付着した付着物を除去する洗浄室とし，前記洗浄室は，載置台に載置された前記基板の端部を加熱する加熱手段と，前記基板の端部に向けて紫外線を照射する紫外線照射手段と，前記基板の端部表面に気体の流れを形成する流れ形成手段とを前記基板の端部近傍に前記基板を囲むように配置して構成したことを特徴とする基板処理装置が提供される。この場合には，上記紫外線照射手段は，前記基板端部の近傍に全周にわたって環状に配置されたエキシマランプを備えることが好ましい。

本発明によれば，基板端部の付着物を化学分解反応を利用して除去することができ，基板端部全周の洗浄を簡単な制御で一度に行うことができる基板洗浄装置等を提供できるものである。

以下に添付図面を参照しながら，本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお，本明細書及び図面において，実質的に同一の機能構成を有する構成要素については，同一の符号を付することにより重複説明を省略する。

（基板処理装置の構成例）
先ず，本発明の第１実施形態にかかる基板処理装置について図面を参照しながら説明する。図１は本発明の第１実施形態にかかる基板処理装置の概略構成を示す断面図である。この基板処理装置１００は，基板例えば半導体ウエハ（以下，単に「ウエハ」ともいう。）Ｗに対して真空圧雰囲気中で成膜処理，エッチング処理等の各種の処理を行う複数の処理室を備える処理ユニット１１０と，この処理ユニット１１０に対してウエハＷを搬出入させる搬送ユニット１２０とを備える。

搬送ユニット１２０は例えば図１に示すように構成される。搬送ユニット１２０は基板収納容器例えば後述するカセット容器１３２（１３２Ａ〜１３２Ｃ）と処理ユニット１１０との間でウエハを搬出入する搬送室１３０を有している。搬送室１３０は，断面略多角形の箱体状に形成されている。搬送室１３０における断面略多角形状の長辺を構成する一側面には，複数のカセット台１３１（１３１Ａ〜１３１Ｃ）が並設されている。これらカセット台１３１Ａ〜１３１Ｃはそれぞれ，基板収納容器の１例としてのカセット容器１３２Ａ〜１３２Ｃを載置可能に構成されている。

各カセット容器１３２（１３２Ａ〜１３２Ｃ）には，例えばウエハＷの端部を保持部で保持することにより，例えば最大２５枚のウエハＷを等ピッチで多段に載置して収容できるようになっており，内部は例えばＮ_２ガス雰囲気で満たされた密閉構造となっている。そして，搬送室１３０はその内部へゲートバルブ１３３（１３３Ａ〜１３３Ｃ）を介してウエハＷを搬出入可能に構成されている。なお，カセット台１３１とカセット容器１３２の数は，図１に示す場合に限られるものではない。

また，上記搬送室１３０一側面には，基板洗浄装置の１例としての洗浄室２００が接続している。洗浄室２００では，エッチングや成膜など所定の処理が施されたウエハＷに対して，ウエハＷの端部（例えばベベル部）に付着した不所望な付着物を除去する洗浄処理が行われる。なお，洗浄室２００の構成の詳細については後述する。

上記搬送室１３０の端部，すなわち断面略多角形状の短辺を構成する一側面には，内部に回転載置台１３８とウエハＷの周縁部を光学的に検出する光学センサ１３９とを備えた位置決め装置としてのオリエンタ（プリアライメントステージ）１３６が設けられている。このオリエンタ１３６では，例えばウエハＷのオリエンテーションフラットやノッチ等を検出して位置合せを行う。

上記搬送室１３０内には，ウエハＷをその長手方向（図１に示す矢印方向）に沿って搬送する搬送ユニット側搬送機構（搬送室内搬送機構）１７０が設けられている。搬送ユニット側搬送機構１７０が固定される基台１７２は，搬送室１３０内の中心部を長さ方向に沿って設けられた案内レール１７４上にスライド移動可能に支持されている。この基台１７２と案内レール１７４にはそれぞれ，リニアモータの可動子と固定子とが設けられている。案内レール１７４の端部には，このリニアモータを駆動するためのリニアモータ駆動機構１７６が設けられている。リニアモータ駆動機構１７６には，制御部３００が接続されている。これにより，制御部３００からの制御信号に基づいてリニアモータ駆動機構１７６が駆動し，搬送ユニット側搬送機構１７０が基台１７２とともに案内レール１７４に沿って矢印方向へ移動するようになっている。

搬送ユニット側搬送機構１７０は，２つのピック１７３Ａ，１７３Ｂを有するダブルアーム機構より構成されており，一度に２枚のウエハＷを取り扱うことができるようになっている。これにより，例えばカセット容器１３２，オリエンタ１３６，各ロードロック室１６０Ｍ，１６０Ｎなどに対してウエハＷを搬出入する際に，ウエハＷを交換するように搬出入することができる。搬送ユニット側搬送機構１７０のピック１７３Ａ，１７３Ｂにはそれぞれ，なお，搬送ユニット側搬送機構１７０のピックの数は上記のものに限られず，例えば１つのみのピックを有するシングルアーム機構であってもよい。

次に，処理ユニット１１０の構成例について説明する。例えばクラスタツール型の基板処理装置の場合には，処理ユニット１１０は図１に示すように多角形（例えば六角形）に形成された共通搬送室１５０の周囲に，ウエハＷに例えば成膜処理（例えばプラズマＣＶＤ処理）やエッチング処理（例えばプラズマエッチング処理）などの所定の処理を施す複数の処理室１４０（第１〜第６処理室１４０Ａ〜１４０Ｆ）及びロードロック室１６０Ｍ，１６０Ｎを気密に接続して構成される。

各処理室１４０Ａ〜１４０Ｆは，予め制御部３００の記憶媒体などに記憶されたプロセス・レシピなどに基づいてウエハＷに対して例えば同種の処理または互いに異なる異種の処理を施すようになっている。各処理室１４０（１４０Ａ〜１４０Ｆ）内には，ウエハＷを載置するための載置台１４２（１４２Ａ〜１４２Ｆ）がそれぞれ設けられている。なお，処理室１４０の数は，図１に示す場合に限られるものではない。

上記共通搬送室１５０は，上述したような各処理室１４０Ａ〜１４０Ｆの間，又は各処理室１４０Ａ〜１４０Ｆと各第１，第２ロードロック室１６０Ｍ，１６０Ｎとの間でウエハＷを搬出入する機能を有する。共通搬送室１５０は多角形（例えば六角形）に形成されており，その周りに上記各処理室１４０（１４０Ａ〜１４０Ｆ）がそれぞれゲートバルブ１４４（１４４Ａ〜１４４Ｆ）を介して接続されているとともに，第１，第２ロードロック室１６０Ｍ，１６０Ｎの先端がそれぞれゲートバルブ（真空圧側ゲートバルブ）１５４Ｍ，１５４Ｎを介して接続されている。第１，第２ロードロック室１６０Ｍ，１６０Ｎの基端は，それぞれゲートバルブ（大気圧側ゲートバルブ）１６２Ｍ，１６２Ｎを介して搬送室１３０における断面略多角形状の長辺を構成する他側面に接続されている。

第１，第２ロードロック室１６０Ｍ，１６０Ｎは，ウエハＷを一時的に保持して圧力調整後に，次段へパスさせる機能を有している。各第１，第２ロードロック室１６０Ｍ，１６０Ｎの内部にはそれぞれ，ウエハＷを載置可能な受渡台１６４Ｍ，１６４Ｎが設けられている。

このような処理ユニット１１０では，上述したように共通搬送室１５０と各処理室１４０Ａ〜１４０Ｆとの間及び共通搬送室１５０と上記各ロードロック室１６０Ｍ，１６０Ｎとの間はそれぞれ気密に開閉可能に構成され，クラスタツール化されており，必要に応じて共通搬送室１５０内と連通可能になっている。また，上記第１及び第２の各ロードロック室１６０Ｍ，１６０Ｎと上記搬送室１３０との間も，それぞれ気密に開閉可能に構成されている。

共通搬送室１５０内には，例えば屈伸・昇降・旋回可能に構成された多関節アームよりなる処理ユニット側搬送機構（共通搬送室内搬送機構）１８０が設けられている。この処理ユニット側搬送機構１８０は基台１８２に回転自在に支持されている。基台１８２は，共通搬送室１５０内の基端側から先端側にわたって配設された案内レール１８４上を例えば図示しないスライド駆動用モータによりスライド移動自在に構成されている。なお，基台１８２には例えばアーム旋回用のモータなどの配線を通すためのフレキシブルアーム１８６が接続されている。このように構成された処理ユニット側搬送機構１８０によれば，この処理ユニット側搬送機構１８０を案内レール１８４に沿ってスライド移動させることにより，各ロードロック室１６０Ｍ，１６０Ｎ及び各処理室１４０Ａ〜１４０Ｆにアクセス可能となる。

例えば処理ユニット側搬送機構１８０を各ロードロック室１６０Ｍ，１６０Ｎ及び対向配置された処理室１４０Ａ，１４０Ｆにアクセスさせる際には，処理ユニット側搬送機構１８０を案内レール１８４に沿って共通搬送室１５０の基端側寄りに位置させる。また，処理ユニット側搬送機構１８０を４つの処理室１４０Ｂ〜１４０Ｅにアクセスさせる際には，処理ユニット側搬送機構１８０を案内レール１８４に沿って共通搬送室１５０の先端側寄りに位置させる。これにより，１つの処理ユニット側搬送機構１８０により，共通搬送室１５０に接続されるすべてのロードロック室１６０Ｍ，１６０Ｎや各処理室１４０Ａ〜１４０Ｆにアクセス可能となる。処理ユニット側搬送機構１８０は，２つのピック１８３Ａ，１８３Ｂを有しており，一度に２枚のウエハＷを取り扱うことができるようになっている。

なお，処理ユニット側搬送機構１８０の構成は上記のものに限られず，２つの搬送機構によって構成してもよい。例えば共通搬送室１５０の基端側寄りに屈伸・昇降・旋回可能に構成された多関節アームよりなる第１搬送機構を設けるとともに，共通搬送室１５０の先端側寄りに屈伸・昇降・旋回可能に構成された多関節アームよりなる第２搬送機構を設けるようにしてもよい。また，処理ユニット側搬送機構１８０のピックの数は，２つの場合に限られることはなく，例えば１つのみのピックを有するものであってもよい。

上記基板処理装置１００には，上記搬送ユニット側搬送機構１７０，処理ユニット側搬送機構１８０，各ゲートバルブ１３３，１４４，１５４，１６２，オリエンタ１３６，洗浄室２００などの制御を含め，基板処理装置全体の動作を制御する制御部３００が設けられている。制御部は，その本体を構成するＣＰＵ（中央処理装置），プログラムやレシピなどを記憶するメモリ，ハードディスク等の記憶媒体を備える。

（基板処理装置の動作）
次に，上記のように構成された基板処理装置の動作について説明する。基板処理装置１００は制御部３００により所定のプログラムに基づいて稼働する。例えば搬送ユニット側搬送機構１７０によりカセット容器１３２Ａ〜１３２Ｃのいずれかから搬出されたウエハＷは，オリエンタ１３６まで搬送されてオリエンタ１３６の回転載置台１３８に移載され，ここで位置決めされる。位置決めされたウエハＷは，オリエンタ１３６から搬出されてロードロック室１６０Ｍ又は１６０Ｎ内へ搬入される。このとき，必要なすべての処理が完了した処理完了ウエハＷがロードロック室１６０Ｍ又は１６０Ｎにあれば，処理完了ウエハＷを搬出してから，未処理ウエハＷを搬入する。

ロードロック室１６０Ｍ又は１６０Ｎへ搬入されたウエハＷは，処理ユニット側搬送機構１８０によりロードロック室１６０Ｍ又は１６０Ｎから搬出され，そのウエハＷが処理される処理室１４０へ搬入されて所定の処理が実行される。そして，処理室１４０での処理が完了した処理済ウエハＷは，処理ユニット側搬送機構１８０により処理室１４０から搬出される。この場合，そのウエハＷが連続して複数の処理室１４０での処理が必要な場合には，次の処理を行う他の処理室１４０へウエハＷを搬入し，下部電極を構成する載置台１４２にウエハＷを載置する。

すると，処理室１４０では，例えば下部電極に対向する上部電極を構成するシャワーヘッドから所定の処理ガスを導入し，上記各電極に所定の高周波電力を印加して処理ガスをプラズマ化し，そのプラズマによりウエハＷ上にエッチング，成膜などの所定の処理を施す。

このようなウエハＷのプラズマ処理により，ウエハＷの端部には例えば図２に示すような不所望な付着物Ｐが付着することがある。例えば図２に示すように載置台１４２の上部は，一般に，ウエハＷの径よりも若干小さくなっているため，載置台１４２にウエハＷを載置すると，ウエハＷの端部が全周にわたって載置台１４２から突出する。また，載置台１４２には，例えばウエハＷ面内のバイアス電位の不連続性を緩和する等のため，ウエハＷの周囲を囲むようにリング状に形成されたフォーカスリング１４６が配置される。

ところが，フォーカスリング１４６の内周面はウエハＷに接触しないようにウエハＷの径よりも若干大きくなっているため，ウエハＷの端面とフォーカスリング１４６の内周面との間には若干の隙間が生じている。このため，ウエハＷにエッチング，成膜などの所定のプラズマ処理を行う際に，処理ガスのプラズマがウエハＷとフォーカスリング１４６との隙間にも入り込み，ウエハＷの端部の裏側（例えばベベル部）に不所望な付着物が付着することがある。なお，フォーカスリング１４６がない場合もあるが，その場合にも同様にウエハＷの端部に不所望な付着物が付着することがある。

図３は，例えば処理ガスとしてフロロカーボン系（ＣＦ系）ガスによりウエハ表面にプラズマエッチング処理を施した場合のウエハＷの端部の拡大断面図である。図３に示すように，プラズマエッチング処理が行われると，競争反応（重合反応）によってフロロカーボン系ポリマ（ＣＦ系ポリマ）からなる副生成物（デポ）が生成され，ウエハＷの端部（例えばベベル部を含む端部の裏側）に付着する。

図４は，例えば処理ガスとしてＣＦ系ガスを用いてウエハ表面にＣＶＤ法によるＣＦ系膜の成膜処理を施した場合のウエハＷの端部の拡大断面図である。図４に示すように，ＣＶＤ法で生成されたＣＦ系膜は，ウエハＷの表面から端部の縁まで連続し，さらにその裏側（例えばベベル部を含む端部の裏側）まで連続することがある。このようなＣＦ系膜のうち，ウエハＷの端部に形成された部分のＣＦ系膜Ｑは，本来成膜する必要がない部分なので，上記のようにプラズマエッチング処理で発生して付着する副生成物と同様に不所望な付着物である。

このように，エッチング処理や成膜処理においてウエハＷの端部（例えばベベル部を含む端部の裏側）に付着した付着物（例えばＣＦ系ポリマＰやＣＦ系膜Ｑ）は，ウエハＷ上に形成される半導体デバイスの歩留りの要因の１つになっている。例えばカセット容器１３２Ａ〜１３２ＣのいずれかにウエハＷを戻すときに，ウエハ端部がカセット容器内の保持部に接触するので，そのときにウエハ端部の付着物が剥離してウエハ表面上に付着すると，製造される半導体デバイスの歩留りが低下する虞がある。従って，このようなウエハ端部の付着物は洗浄により除去する必要がある。

そこで，本実施形態にかかる基板処理装置１００では，各処理室１４０での処理が完了したウエハＷを，ロードロック室１６０Ｍ又は１６０Ｎを介して洗浄室２００へ搬送し，洗浄室２００でウエハ端部の洗浄処理を行った上で，元のカセット容器１３２Ａ〜１３２Ｃに戻す。このような洗浄処理によってウエハ端部の付着物が除去されるため，そのようなウエハＷを例えばカセット容器１３２Ａ〜１３２Ｃに戻すときにウエハ端部の付着物が剥離することを防止できる。

ここで，洗浄室２００での洗浄処理について図３を参照しながら説明する。例えばウエハＷの端部に付着物として例えばＣＦ系ポリマＰが付着している場合，ウエハＷの端部を例えば所定の温度（例えば２００℃程度）に加熱しつつ，ＣＦ系ポリマＰに紫外線を照射するとともに，ＣＦ系ポリマＰの表面付近に例えば酸素（Ｏ_２）を含む気体の流れを形成する。ＣＦ系ポリマＰに紫外線（ｈν）が照射されると，ＣＦ系ポリマＰ付近の酸素が励起され，下記化学反応式（１）に示すような化学反応により活性酸素（Ｏ）が発生する。

Ｏ_２＋ｈν→Ｏ＋Ｏ
Ｏ＋Ｏ_２→Ｏ_３
Ｏ_３＋ｈν→Ｏ_２＋Ｏ
・・・（１）

発生した活性酸素（Ｏ）は，下記化学反応式（２）に示すようにＣＦ系ポリマＰのカーボン（Ｃ）と分解反応を起して，二酸化炭素（ＣＯ_２）とフッ素（Ｆ_２）になる。このような化学分解反応によって気化し，ＣＦ系ポリマＰが除去される。

Ｃ_ｘＦ_ｙ＋Ｏ→ＣＯ_２＋Ｆ_２
・・・（２）

このとき，ＣＦ系ポリマＰの表面付近に形成されるＯ_２を含む気体の流れにより，上記化学反応式（２）の反応により発生した二酸化炭素（ＣＯ_２）とフッ素（Ｆ_２）は上記気体の流れに乗って直ぐに除去される。これにより，残っているＣＦ系ポリマＰの表面は常に紫外線とＯ_２に晒されるので，上記化学反応式（２）の反応も早く進み，ＣＦ系ポリマＰの除去速度も早くなる。

なお，ここでは図３に示すようなエッチング処理によりウエハ端部に付着したＣＦ系ポリマＰを例に挙げて付着物を除去するための化学分解反応について説明したが，図３Ｂに示すような成膜処理によりウエハ端部に付着したＣＦ系膜Ｑの部分も基本的にＣ原子とＦ原子からなるので，上記と同様の化学分解反応により除去することができる。

このように，本実施形態にかかる洗浄室２００では，ウエハ端部を加熱するとともに，紫外線を照射して酸素（Ｏ_２）を含む気体の流れを生成することによって，化学反応によりウエハ端部に付着する付着物（例えばＣＦ系ポリマ）を除去する洗浄処理を実行する。これにより，ウエハ端部を研磨することなく，またプラズマを発生させることなくウエハ端部に付着する付着物を除去することができる。すなわち，本実施形態にかかる洗浄処理では，ウエハ端部を研磨しないので，研磨によって生じる粉塵の処理に手間を省くことができるとともに，そのような粉塵による汚染の問題もない。また，プラズマを発生させないので，ウエハＷ上に形成される膜（例えばＬｏｗ−Ｋ膜）がダメージを受けることもない。このため，本実施形態にかかる洗浄処理はＬｏｗ−Ｋ膜などが形成されたウエハＷの端部を洗浄するのに最適である。

（洗浄室の構成例）
次に，上述したような洗浄処理を実行可能な洗浄室２００の構成例について図面を参照しながら説明する。洗浄室２００は図１に示すように容器２０２を備え，容器２０２内にはウエハＷを載置する載置台２０４と，ウエハＷの端部（例えばベベル部の裏側）を洗浄する洗浄機構２０６が設けられている。

洗浄機構２０６は，例えば図５，図６に示すように構成される。図５は洗浄機構２０６を斜め下側から見たときの外観の概略を示す図であり，図６は洗浄機構２０６におけるウエハＷの端部近傍の縦断面図である。洗浄機構２０６は，図１，図５に示すように環状に構成され，載置台２０４上に載置されるウエハＷの端部全周を囲むように配設される。これにより，ウエハＷの端部全周を一度に洗浄することができるので，洗浄時間を短縮することができる。

洗浄機構２０６は，具体的には図６に示すようにウエハＷの端部を加熱する加熱手段２１０と，ウエハＷの端部に向けて紫外線を照射する紫外線照射手段２２０と，ウエハＷの端部に向けて気体（例えばＯ_２ガス）を噴出させてウエハＷの端部表面（例えばベベル部表面）に気体の流れを形成する流れ形成手段２３０とを備える。

（加熱手段の構成例）
加熱手段２１０は，ウエハＷの端部に向けて光を照射することによりウエハＷの端部を加熱する加熱ランプ２１２を備える。加熱ランプ２１２はウエハＷの端部近傍に全周にわたって環状に配置される。例えば図６に示すように加熱ランプ２１２はウエハＷの端部よりも外側であって，ウエハＷよりもやや下方に配置される。このように配置することによって，ウエハＷの端部（例えばベベル部の裏側）に光を直接照射して加熱することができる。そして，ウエハＷの端部を加熱することにより，ウエハＷの端部に付着した付着物（例えばＣＦ系ポリマ）Ｐも加熱される。

なお，加熱ランプ２１２は例えば環状に形成された１つの加熱ランプにより構成してもよく，また複数の加熱ランプを環状に配置してもよい。これにより，ウエハＷの端部全周に一度に光を照射して加熱することができるので，加熱時間を短くすることができる。加熱ランプ２１２は例えばハロゲンランプなどの遠赤外線ランプや赤外線ランプ（ＩＲランプ）により構成される。また，加熱手段２１０はウエハＷの端部に向けて光を照射するので，ウエハＷの端部のみを局所的に加熱することができる。この点，上記ハロゲンランプは遠赤外線の輻射熱によってより効果的に局所的に加熱することができるため，加熱手段２１０としてより好適である。

加熱手段２１０は，加熱ランプ２１２を覆うように設けられ，ウエハＷ側に開口した環状のカバー部材２１４を備える。図６に示すカバー部材２１４は，加熱ランプ２１２の上部から外側部を介して下部まで覆うように構成した場合の具体例である。カバー部材２１４は例えばステンレス材など，その内面で加熱ランプ２１２の光を反射可能な部材で構成することが好ましい。この場合，カバー部材２１４は，その内面で反射した加熱ランプ２１２の光の一部がウエハＷの端部（例えばベベル部）に集中するような形状で構成することが好ましい。

このようなカバー部材２１４により，加熱ランプ２１２の光はウエハＷの端部に直接照射されるのみならず，またカバー部材２１４の内面で反射してウエハＷの端部に集中して照射されるので，ウエハＷの端部の局所的に効率よく加熱することができる。また，このカバー部材２１４により加熱ランプ２１２の光がウエハＷ上の表面に当たることを防止することができるので，ウエハＷ上の表面に形成された膜などにダメージを与えることはない。

加熱温度は，少なくとも付着物（例えばＣＦ系ポリマ）を除去する化学分解反応（例えば上記化学反応式（２））が生じる温度に設定する。加熱温度は例えば略２５０℃以下に設定することが好ましい。一般に，上記化学反応式（２）による化学分解反応を進めるためには２８０℃以上にすることが好ましいが，第１実施形態では紫外線を照射することにより，略２５０℃以下でも十分に上記化学反応式（２）による化学分解反応を進めることができる。従って，例えば略２５℃（常温）程度でも上記化学分解反応は生じる。但し，加熱温度が高いほど反応が早く進み，ウエハ端部から付着物を早く除去することができるので，加熱温度は常温よりも高くすることが好ましい。

なお，ウエハＷ上に形成されている膜の材質によっては耐熱性が低いものもあるので，このような膜の劣化防止の観点からは加熱温度を低めに設定することが好ましい。例えばウエハＷ上に形成されている膜としては，低誘電率膜（Ｌｏｗ−Ｋ膜）のように４００℃程度の高い耐熱性の膜もあれば，レジスト膜のように１５０℃程度の低い耐熱性の膜もある。従って，これらの膜の劣化を防止するためには，加熱温度を１５０℃以下に設定することが好ましく，１００℃以下に設定してもよい。

また，ウエハ上の膜質（耐熱性）に応じて加熱温度を設定するようにしてもよい。耐熱性が低い膜（例えばレジスト膜）が形成されたウエハＷについては加熱温度を例えば１５０℃以下（又は１００℃以下）に設定し，高い耐熱性の膜（例えば低誘電率膜：Ｌｏｗ−Ｋ膜）が形成されたウエハＷについては加熱温度を例えば２００℃〜２５０℃程度に設定してもよい。これにより，ウエハＷ上に形成された膜質に拘わらず，膜の劣化を防止できるとともに洗浄処理にかかる時間をより短くすることができる。

ここで，例えばウエハ温度を２５℃，１５０℃，２００℃にしてウエハＷに付着するＣＦ系ポリマに所定時間だけ紫外線を照射した場合の実験結果を図面を参照しながら説明する。この実験では，紫外線を３００ｓｅｃの間照射しながら，ウエハＷに付着するＣＦ系ポリマのＦとＣの減少量を測定した。図７はＣＦ系ポリマのＦの減少量をグラフに示したものであり，図８はＣＦ系ポリマのＣの減少量をグラフに示したものである。

なお，ウエハＷに付着するＣＦ系ポリマは，ＣＦ系ガス（例えばＣ_５Ｆ_８ガス）によってシリコン酸化膜をプラズマエッチング処理した場合にウエハＷに付着したもので，そのＣＦ系ポリマの膜厚は略９ｎｍである。また，紫外線照射前のＣの量はＣＦ系ポリマ全体の略２０％であり，紫外線照射前のＦの量はＣＦ系ポリマ全体の略６０％である。図７，図８では，紫外線照射前のＣ，Ｆの量を基準として，その減少量を百分率で示したものである。

図７に示す実験結果よれば，紫外線照射前のＦの量を０％としたときに，２５℃の場合は３００ｓｅｃまでほぼ滑らかに減少する。例えば６０ｓｅｃ後には略６％減少し，３００ｓｅｃ後には略１５％まで減少する。これに対して，１５０℃の場合は，６０ｓｅｃ後に略１２％まで減少し，３００ｓｅｃ後には略１５％まで減少する。さらに，２００℃の場合は６０ｓｅｃで既に略１５％まで減少し，その後はほぼ一定となっている。このように，温度が高い方がＦの減少速度も早いことがわかる。

図８に示す実験結果によれば，紫外線照射前のＣの量を０％としたときに，２５℃の場合は３００ｓｅｃまでほぼ滑らかに減少する。例えば６０ｓｅｃ後には略１０％減少し，３００ｓｅｃ後には略３２％減少する。これに対して，１５０℃の場合は６０ｓｅｃで既に略３２％まで減少し，３００ｓｅｃ後には略４０％まで減少する。さらに，２００℃の場合は６０ｓｅｃで既に略４０％以上減少し，その後はほぼ一定となっている。このように，温度が高い方がＣの減少速度も早いことがわかる。特にＣについては，２５℃の場合は３００ｓｅｃ経っても３２％程度までしか減少しないが，１５０℃の場合は６０ｓｅｃで既に３２％程度まで減少し，さらに２００℃の場合には６０ｓｅｃで３２％を超えて４０％以上減少する。このように，温度を１５０℃〜２００℃以上にすると，特にＣを減少させるのに効果的であることがわかる。

（紫外線照射手段の構成例）
上記紫外線照射手段２２０は，例えば紫外線ランプ（ＵＶランプ）２２２を備える。紫外線ランプ２２２は例えばウエハＷのベベル部の裏側に紫外線を照射可能な位置に配置される。図６に示す構成例では，紫外線ランプ２２２をウエハＷのベベル部の直下に所定の距離（例えば数ｍｍ）だけ離間した位置に配置している。このような紫外線ランプ２２２により，ウエハＷの端部（例えばベベル部）に向けて紫外線が照射されると，ウエハＷの端部に付着した付着物（例えばＣＦ系ポリマ）の化学分解反応が起こり，付着物を除去することができる。なお，紫外線ランプ２２２は例えば環状に形成された１つの紫外線ランプにより構成してもよく，また複数の紫外線ランプを環状に配置するようにしてもよい。これにより，ウエハＷの端部に一度に光を照射することができるので，付着物除去時間を短くすることができる。

紫外線ランプ２２２は，例えばキセノン（Ｘｅ）エキシマランプ（波長１７２ｎｍ），低圧水銀ランプ（波長略１８５ｎｍ，略２５４ｎｍ）など様々な波長のものを適用することができる。例えば大気圧雰囲気において，波長が短い紫外線光ほど，付着物への紫外線光の吸収率が高いものの，オゾン発生能力も高くなる。このため，波長が短い紫外線を発光する紫外線ランプ２２２ほど，付着物との距離が短くなるように配置する必要がある。

従って，大気圧雰囲気においては，例えば紫外線ランプ２２２として比較的波長の短いキセノン（Ｘｅ）エキシマランプを適用した場合よりも，比較的波長の長い低圧水銀ランプを適用した場合の方がウエハＷの端部との距離を離して配置することができる。これに対して，真空圧雰囲気においては，紫外線の波長が短い紫外線ランプ２２２でも，ウエハＷの端部との距離を離して配置することができる。このように，紫外線ランプ２２２とウエハＷの端部との距離を離して配置することができれば，洗浄機構２０６の各構成手段の配置の自由度を高めることができる。

例えば洗浄室２００内が大気圧雰囲気となる場合には，紫外線ランプ２２２として紫外線の波長が比較的長いもの（例えば低圧水銀ランプ）を用いることが好ましい。これに対して，洗浄室２００内が真空圧雰囲気となる場合は，紫外線ランプ２２２として紫外線の波長が比較的短いもの（例えばキセノン（Ｘｅ）エキシマランプ）を用いることが好ましい。このように，洗浄室２００内の圧力雰囲気に応じて適切な波長の紫外線ランプ２２２を選択することにより，洗浄機構２０６の各構成手段の配置の自由度を高めることができる。

（流れ形成手段の構成例）
上記流れ形成手段２３０は，環状配管により構成される吐出管２３２と吸入管２３４とを備え，吐出管２３２からウエハＷの端部に向けて気体を吐出して吸入管２３４で吸入することによってウエハ端部表面（例えばベベル部の裏側）に沿った気体の流れを形成する。

吐出管２３２はウエハ端部よりも内側にウエハ端部全周にわたって環状に配置され，吸入管２３４はウエハ端部よりも外側にウエハ端部全周にわたって環状に配置される。例えば図６に示すように吐出管２３２は載置台２０４に載置されるウエハＷの下側に載置台２０４の全周を囲むように配置され，吸入管２３４はカバー部材２１４内にウエハＷの端部全周を囲むように配置される。

このように，吸入管２３４をできるだけ吐出管２３２に近づけて配置することにより，所望の部位（例えばウエハＷのベベル部裏側）に沿った気体の流れを確実に形成することができ，ウエハＷの端部の付着物除去効率を高めることができる。なお，吸入管２３４は必ずしもカバー部材２１４内に設けなくてもよく，吐出管２３２との間でウエハ端部表面に気体の流れを形成することができれば，ウエハ端部近傍のどの位置に設けてもよい。

吐出管２３２には，ウエハＷの端部表面に向けて気体（例えばＯ_２ガス）を吐出する吐出口２３３が形成されている。吐出口２３３は，吐出管２３２の周に沿ってその全周に設けられる。例えば吐出口２３３は，吐出管２３２の周に沿って全周にわたって設けられる１つのスリットで構成してもよく，吐出管２３２の周に沿って全周にわたって設けられる多数の孔で構成してもよい。

吸入管２３４には，吐出管２３２にほぼ対向する位置に気体を吸入する吸入口２３５が形成されている。吸入管２３４は例えば図示しないポンプ（例えば排気ポンプ）に接続される。吸入口２３５についても，吸入管２３４の周に沿ってその全周に設けられる。例えば吸入口２３５は，吸入管２３４の周に沿って全周にわたって設けられる１つのスリットで構成してもよく，吸入管２３４の周に沿って全周にわたって設けられる多数の孔で構成してもよい。

このような流れ形成手段２３０によれば，ウエハＷの端部全周に向けて一度に気体（例えばＯ_２ガス）を吐出し，吸入することができる。これにより，ウエハＷの端部全周についてウエハＷの半径方向外側に気体の流れを形成することができ，付着物（ＣＦ系ポリマ）Ｐの除去速度を早めることができる。

なお，吐出管２３２により吐出する気体は，ウエハＷの付着物例えばＣＦ系ポリマＰを分解する活性酸素（Ｏ）が発生する気体，すなわち少なくとも酸素原子を含んでいる気体であればよい。このような気体としてはＯ_２ガスが好ましい。但し，そのＯ_２濃度は必ずしも１００％でなくてもよい。後述の実験にも示すようにＯ_２ガス濃度は１％〜３％程度の極低濃度が好ましい。この場合，例えばＯ_２ガスと不活性ガス（例えばＮ_２ガス）の混合比を調整してＯ_２ガス濃度を１％〜３％程度にした混合ガスを用いてもよい。なお，空気（大気）も一定濃度（例えば略２１％程度）のＯ_２を含むのでＯ_２ガスの代りに例えばドライエアを利用してもよい。さらに，オゾン（Ｏ_３）も上記化学反応式（１）により紫外線により活性酸素（Ｏ）を発生させるので，Ｏ_２ガスの代りにオゾンガスを用いてもよい。

ここで，気体のＯ_２濃度や流量を変えて実験を行った結果を図面を参照しながら説明する。この実験では，紫外線を１８０ｓｅｃの間照射しながら，Ｏ_２濃度が１００％のＯ_２ガスを用いて気体の流れを形成した場合とＯ_２濃度が略２１％の空気を用いて気体の流れを形成した場合についてウエハに付着するＣＦ系ポリマのＦとＣの減少量を測定した。図９はＣＦ系ポリマのＦの減少量をグラフに示したものであり，図１０はＣＦ系ポリマのＣの減少量をグラフに示したものである。

なお，本実験では，Ｏ_２濃度が１００％のガスの場合はさらにその流量が１．０ｌ／ｍｉｎの場合と２．０ｌ／ｍｉｎの場合についてＦとＣの減少量を測定し，Ｏ_２濃度が略２１％の場合はさらにその流量が１．０ｌ／ｍｉｎの場合と１．５ｌ／ｍｉｎの場合についてＦとＣの減少量を測定した。このうち，流量１．０ｌ／ｍｉｎについてはドライエアを用いて気体の流れを形成し，流量１．５ｌ／ｍｉｎについては吸入のみで気体の流れを形成した。本実験で用いたウエハは図７，図８の実験で使用したものと同様であり，ウエハの温度は２５℃（室温）である。

図９，図１０に示す実験結果によれば，Ｏ_２濃度が１００％の場合も２１％の場合もほとんど同様にＦとＣが減少している。これにより，Ｏ_２濃度は必ずしも１００％でなくてもよく，例えば２１％程度の低濃度であっても気体の流れを形成すれば，ＣＦ系ポリマを除去できることがわかる。また，低濃度であっても気体の流れを形成できれば，気体の吸入のみでもＣＦ系ポリマを除去できることがわかる。

さらに，上記気体のＯ_２濃度を２１％以下の範囲で変えながら実験を行った結果を図１１に示す。この実験では，シリコン酸化膜上にＣＦ系膜を形成したサンプルウエハを用意して，そのサンプルウエハのＣＦ系膜に対して紫外線を６０ｓｅｃの間照射しながら，Ｏ_２濃度が異なるＯ_２とＮ_２の混合ガスを用いてＣＦ系膜表面に気体の流れを形成する処理を施し，処理後のサンプルウエハにおけるＣＦ系膜の減少量を測定した。図１１は，Ｏ_２濃度がそれぞれ０％（酸素なし），１％，３％，７％，１０％，１５％，２１％となるようにＯ_２とＮ_２の混合比を変えてそれぞれ処理を行った場合のＯ_２濃度と，ＣＦ系膜の減少量との関係をグラフに示すものである。

本実験では，ＣＦ系膜の減少量を測定するために，上記処理後のサンプルウエハの表面分析を行った。具体的には，表面に対して約５°で電子線を照射し，これによって放出される電子スペクトルに基づいて表面から所定の深さまでの領域に含まれる原子全体（下地のＳｉとＯ及びＣＦ系膜のＣとＦ）に対するＣＦ系膜のＣとＦの割合を測定した。従って，図１１に示すグラフによれば，原子全体に対するＣとＦの割合が少なくなるほど，ＣとＦが減少し，ＣＦ系膜が減少していることになる。

図１１に示す実験結果によれば，Ｏ_２濃度が２１％以下の範囲では，Ｏ_２濃度が１５％を超えるとＣとＦの減少量はほとんど変わらないのに対して，Ｏ_２濃度が１５％以下の範囲でＣとＦの減少量が大きくなり，特にＯ_２濃度が１〜３％程度でＣとＦが最も減少していることがわかる。すなわち，Ｏ_２濃度が２１％よりもさらに低い１〜３％程度で気体の流れを形成した方が，ＣＦ系ポリマをより効率よく除去できることがわかる。

ところで，上記吸入管２３４には上記化学分解反応（上記化学反応式（２））により生じた反応生成物であるＣＯ_２，Ｆ_２が吸入される。このうち，吸入管２３４に吸入される例えばＣＯ_２の濃度は，ウエハＷの付着物であるＣＦ系ポリマＰの化学分解反応（上記化学反応式（２））が起っている間は高くなる。そして，化学分解反応が進み，ＣＦ系ポリマＰがなくなるとＣＯ_２が発生しなくなるので，吸入管２３４で吸入されるＣＯ_２の濃度も急に低下する。従って，このような反応生成ガス（ＣＯ_２）の濃度を濃度センサによって監視し，濃度変化を利用してウエハ端部の洗浄処理の終点を検出することができる。

具体的には例えば吸入管２３４にＣＯ_２濃度を検出する反応生成ガス濃度センサの１例としての濃度センサ２３６を設け，ウエハ端部の洗浄処理開始から濃度センサ２３６によりＣＯ_２濃度を監視する。具体的には濃度センサ２３６は制御部３００に接続され，制御部３００によってＣＯ_２濃度を監視する。そして，ＣＯ_２濃度が所定の閾値以下になったところを終点として洗浄処理を終了させる。これにより，ウエハ端部の洗浄処理の終点を高精度で検出することができるので，洗浄処理の効率も向上し，より短い時間で確実に付着物を除去することができる。

（洗浄処理の具体例）
ここで，洗浄室２００で行われるウエハ端部の洗浄処理の具体例を図面を参照しながら説明する。洗浄室２００は，例えば基板処理装置１００の制御部３００により各部が制御され，洗浄処理が行われる。図１２は第１実施形態にかかる洗浄処理の具体例を示すフローチャートである。

先ず，洗浄室２００にウエハＷが搬送されると，ステップＳ１１０にて加熱ランプ２１２をオンして，ウエハ端部の加熱を開始して，ステップＳ１２０にて所定時間（例えば数ｓｅｃ）の経過を待つ。このようなタイムラグを設けることにより，紫外線照射開始前にウエハ端部の温度がある程度まで上昇するので，付着物を除去するための化学分解反応の効率を高めることができる。所定時間は，ウエハ端部の設定温度に応じて決定することが好ましい。例えば設定温度が高いほど所定時間を長くするようにしてもよい。

次いで，ステップＳ１３０にて紫外線ランプ２２２をオンしてウエハ端部へ紫外線を照射するとともに，流れ形成手段２３０をオンしてウエハ端部表面に気体（例えばＯ_２ガス）の流れを形成する。具体的には吐出管２３２へＯ_２ガスを供給し，吸入管２３４のポンプを駆動して吸入を開始する。

次に，ステップＳ１４０にて濃度センサ２３６によりＣＯ_２濃度を測定し，ステップＳ１５０にてＣＯ_２濃度が所定の閾値以下か否かを判断する。ＣＯ_２濃度が所定の閾値以下でないと判断した場合は，ステップＳ１４０の処理に戻り，ＣＯ_２濃度が所定の閾値以下であると判断した場合は，ステップＳ１６０にて加熱ランプ２１２をオフする。

次いでステップＳ１７０にて紫外線ランプ２２２をオフして，流れ形成手段２３０をオフして一連の洗浄処理を終了する。このような洗浄処理によれば，加熱ランプ２１２によってウエハ端部全周が一度に加熱され，紫外線ランプ２２２によってウエハ端部全周に照射された紫外線によって活性酸素（Ｏ）が発生する。この活性酸素（Ｏ）により上記化学反応式（１）の化学分解反応が起り，ウエハ端部全周の付着物（ＣＦ系ポリマ）は一度に除去される。

このように，第１実施形態にかかる洗浄室２００によれば，ウエハ端部全周の付着物（ＣＦ系ポリマ）を一度に除去することができるので，ウエハ端部を極めて短時間で高速洗浄することができる。

（第２実施形態にかかる洗浄室の構成例）
先ず，本発明の第２実施形態にかかる洗浄室について図面を参照しながら説明する。図１３は第２実施形態にかかる洗浄室の洗浄機構２０６を斜め下側から見たときの外観の概略を示す図であり，図１４は洗浄機構２０６におけるウエハＷの端部近傍の縦断面図である。洗浄機構２０６についても，図１３，図１４に示すように載置台２０４上に載置されるウエハＷの端部を周方向に囲むように配設される。これにより，ウエハＷの端部全周を一度に洗浄することができるので，洗浄時間を短縮することができる。

図１４に示す洗浄機構２０６は，加熱手段として加熱ランプ２１２を用いる代わりに，例えばウエハＷの端部の裏側に環状のヒータ２５０を配置し，ヒータ２５０によってウエハＷの端部を加熱するようにしたものである。ヒータ２５０としては，例えば誘導加熱型ヒータを用いる。これにより，ウエハＷの端部を集中的に加熱することができる。

この場合，ウエハＷの周りを囲むように遮蔽板２４０を配置する。この遮蔽板２４０によって，紫外線照射手段２２０からの紫外線が遮断され，ウエハＷ上の表面に当たることを防止することができる。また，流れ形成手段２３０からの気体がウエハＷの端部の表面を流れ，ウエハＷの上面側に流れないようにすることができる。これにより，気体に含まれるオゾン（Ｏ_３）などによってウエハＷの上面側がダメージを受けることを防止することができる。

なお，紫外線照射手段２２０の構成は図６に示すものと同様である。流れ形成手段２３０の構成も図６に示すものとほぼ同様であるが，図１４に示す吐出管２３２はヒータ２５０の下方に配置され，ウエハＷの端部（例えばベベル部の裏側）に向けて気体を吐出するように吐出口２３３が設けられる。吸入管２３４は遮蔽板２４０の下方に配置され，ウエハの端部表面（例えばベベル部の裏側）に気体の流れが形成されるように吸入口２３５が設けられる。

このような第２実施形態にかかる洗浄室２００においても，図１２に示すものと同様の洗浄処理を行うことができる。この場合，ステップＳ１１０は加熱ランプ２１２の代りにヒータ２５０をオンし，ステップＳ１６０では加熱ランプ２１２の代りにヒータ２５０をオフする。このような洗浄処理により，ヒータ２５０によってウエハ端部全周が一度に加熱され，紫外線ランプ２２２によってウエハ端部全周に照射された紫外線によって活性酸素（Ｏ）が発生する。この活性酸素（Ｏ）により上記化学反応式（１）の化学分解反応が起り，ウエハ端部全周の付着物（ＣＦ系ポリマ）は一度に除去される。

このように，第２実施形態にかかる洗浄室２００によっても，第１実施形態の場合と同様にウエハ端部全周の付着物（ＣＦ系ポリマ）を一度に除去することができるので，ウエハ端部を極めて短時間で高速洗浄することができる。

なお，上記第１，第２実施形態にかかる洗浄室２００は，基板処理装置１００の搬送室１３０に接続して，大気圧雰囲気でウエハ端部の洗浄処理を行う場合について説明したが，必ずしもこれに限定されるものではない。例えば処理室１４０Ａ〜１４０Ｆのいずれかを洗浄室２００として構成し，真空圧雰囲気でウエハ端部の洗浄処理を行うようにしてもよい。なお，基板処理装置１００の搬送室１３０に接続する場合には，大気圧雰囲気でウエハ端部の洗浄処理を行うので，紫外線照射手段２２０として例えば低圧水銀ランプのような波長の長い紫外線光源を使用することが好ましい。これに対して，処理室１４０Ａ〜１４０Ｆのいずれかを洗浄室２００として構成する場合には，真空圧雰囲気でウエハ端部の洗浄処理を行うので，紫外線照射手段２２０として例えばキセノン（Ｘｅ）エキシマランプのような波長の短い紫外線光源を使用することが好ましい。

以上，添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが，本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば，特許請求の範囲に記載された範疇内において，各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。

本発明は，基板例えば半導体ウエハや液晶基板の端部を洗浄する基板洗浄装置，基板洗浄方法，基板処理装置に適用可能である。

本発明の第１実施形態にかかる基板処理装置の構成例を示す断面図である。 ウエハ端部にＣＦ系ポリマなどの付着物が付着する過程を説明するための説明図である。 ＣＦ系ガスを用いてウエハ表面にプラズマエッチング処理を施した場合のウエハ端部の拡大断面図である。 ＣＦ系ガスを用いてウエハ表面にＣＶＤ法によるＣＦ系膜の成膜処理を施した場合のウエハ端部の拡大断面図である。 同実施形態にかかる洗浄室の外観構成例を示す斜視図である。 同実施形態にかかる洗浄室の部分断面図である。 ウエハ温度を変えてウエハに付着するＣＦ系ポリマに所定時間だけ紫外線を照射した場合におけるＦ減少量をグラフにした図である。 ウエハ温度を変えてウエハに付着するＣＦ系ポリマに所定時間だけ紫外線を照射した場合におけるＣ減少量をグラフにした図である。 気体の酸素濃度を変えてウエハに付着するＣＦ系ポリマに所定時間だけ紫外線を照射した場合におけるＦ減少量をグラフにした図である。 気体の酸素濃度を変えてウエハに付着するＣＦ系ポリマに所定時間だけ紫外線を照射した場合におけるＣ減少量をグラフにした図である。 気体の酸素濃度を２１％以下の範囲で変えてウエハ上のＣＦ系膜に所定時間だけ紫外線を照射した場合におけるＣとＦの減少量をグラフにした図である。 同実施形態にかかる洗浄処理の具体例を示すフローチャートである。 本発明の第２実施形態にかかる洗浄室の外観構成例を示す斜視図である。 同実施形態にかかる洗浄室の部分断面図である。

符号の説明

１００ 基板処理装置
１１０ 処理ユニット
１２０ 搬送ユニット
１３０ 搬送室
１３１（１３１Ａ〜１３１Ｃ） カセット台
１３２（１３２Ａ〜１３２Ｃ） カセット容器
１３３（１３３Ａ〜１３３Ｃ） ゲートバルブ
１３６ オリエンタ
１３８ 回転載置台
１３９ 光学センサ
１４０（１４０Ａ〜１４０Ｆ） 処理室
１４２（１４２Ａ〜１４２Ｆ） 載置台
１４４（１４４Ａ〜１４４Ｆ） ゲートバルブ
１４６ フォーカスリング
１５４（１５４Ｍ，１５４Ｎ） ゲートバルブ
１５０ 共通搬送室
１６０（１６０Ｍ，１６０Ｎ） ロードロック室
１６２（１６２Ｍ，１６２Ｎ） ゲートバルブ
１６４（１６４Ｍ，１６４Ｎ） 受渡台
１７０ 搬送ユニット側搬送機構
１７２ 基台
１７３（１７３Ａ，１７３Ｂ） ピック
１７４ 案内レール
１７６ リニアモータ駆動機構
１８０ 処理ユニット側搬送機構
１８２ 基台
１８３（１８３Ａ，１８３Ｂ） ピック
１８４ 案内レール
１８６ フレキシブルアーム
２００ 洗浄室
２０２ 容器
２０４ 載置台
２０６ 洗浄機構
２１０ 加熱手段
２１２ 加熱ランプ
２１４ カバー部材
２２０ 紫外線照射手段
２２２ 紫外線ランプ
２３０ 流れ形成手段
２３２ 吐出管
２３３ 吐出口
２３４ 吸入管
２３５ 吸入口
２３６ 濃度センサ
２４０ 遮蔽板
２５０ ヒータ
３００ 制御部
Ｗ ウエハ

Claims (21)

1. 基板の端部に付着した付着物を除去するための基板洗浄装置であって，
   前記基板を載置する載置台と，
   前記基板の端部を加熱する加熱手段と，
   前記基板の端部に向けて紫外線を照射する紫外線照射手段と，
   前記基板の端部表面に気体の流れを形成する流れ形成手段とを備え，
   前記加熱手段と前記紫外線照射手段と前記流れ形成手段とはそれぞれ，前記基板の端部近傍に前記基板を囲むように配置したことを特徴とする基板洗浄装置。
2. 前記紫外線照射手段は，前記基板端部の近傍に全周にわたって環状に配置された紫外線ランプを備えることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
3. 前記加熱手段は，前記基板端部の近傍に全周にわたって環状に配置された加熱ランプと，
   前記加熱ランプを覆うように設けられ，前記基板側が開口した環状のカバー部材とを備え，
   前記カバー部材の内面は，前記加熱ランプの光を反射可能な部材で構成するとともに，その反射光が前記基板の端部に集中するような形状で構成することを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
4. 前記加熱ランプは，ハロゲンランプであることを特徴とする請求項３に記載の基板洗浄装置。
5. 前記流れ形成手段は，前記基板端部よりも内側に前記基板端部全周にわたって環状に配置された吐出管と，前記基板端部よりも外側に前記基板端部全周にわたって環状に配置された吸入管とを備え，
   前記吐出管から前記基板の端部に向けて気体を吐出して前記吸入管で吸入することによって前記基板の端部表面に前記気体の流れを形成することを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
6. 前記吐出管と前記吸入管とはそれぞれ環状配管により構成され，
   前記吐出管にはその周に沿って気体を吐出する吐出口が形成され，前記吸入管にはその周に沿って気体を吸入する吸入口が形成されることを特徴とする請求項５に記載の基板洗浄装置。
7. 前記吐出口と前記吸入口とはそれぞれ，前記各配管の周に沿って設けられたスリットにより構成されることを特徴とする請求項６に記載の基板洗浄装置。
8. 前記吐出口と前記吸入口とはそれぞれ，前記各配管の周に沿って設けられた多数の孔により構成されることを特徴とする請求項６に記載の基板洗浄装置。
9. 前記基板の端部に付着した付着物は，フロロカーボン系ポリマであることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の基板洗浄装置。
10. 前記気体は，少なくとも酸素原子を含むことを特徴とする請求項９に記載の基板洗浄装置。
11. 前記吸入管は，前記基板の端部に付着した付着物が化学反応を起こして発生する反応生成ガスの濃度を検出する濃度センサを設けたことを特徴とする請求項５に記載の基板洗浄装置。
12. 前記濃度センサは，前記基板の端部に付着したフロロカーボン系ポリマが除去される際に発生する二酸化炭素の濃度を検出するものであることを特徴とする請求項１１に記載の基板洗浄装置。
13. 前記加熱手段は，前記基板の端部全周の裏側に環状に配置されたヒータを備えることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
14. 前記基板端部の周りを囲むように配置された遮蔽板を備えることを特徴とする特徴とする請求項１３に記載の基板洗浄装置。
15. 基板の端部に付着した付着物を除去する基板洗浄装置の基板洗浄方法であって，
    前記基板洗浄装置は，載置台に載置された前記基板の端部を加熱する加熱手段と，前記基板の端部に向けて紫外線を照射する紫外線照射手段と，前記基板の端部表面に気体の流れを形成する流れ形成手段とを前記基板の端部近傍に前記基板を囲むように配置して構成し，
    前記基板洗浄装置によって前記基板端部を洗浄する際には，前記加熱手段により前記基板端部の加熱を開始した後に，前記紫外線照射手段によって前記基板端部に紫外線の照射を開始するとともに，前記流れ形成手段によって基板端部表面に気体の流れを形成することによって前記基板端部の洗浄を行うことを特徴とする基板洗浄方法。
16. 前記流れ形成手段は，前記基板端部よりも内側に環状に配置された吐出管と，前記基板端部よりも外側に環状に配置された吸入管とを備え，
    前記基板端部表面に気体の流れを形成する際には，前記吐出管から前記基板の端部に向けて気体を吐出し，前記吸入管で吸入することを特徴とする請求項１５に記載の基板洗浄方法。
17. 前記吸入管は，前記基板の端部に付着したフロロカーボン系ポリマが除去される際に発生する二酸化炭素の濃度を検出する濃度センサを備え，
    前記基板端部の洗浄中に前記濃度センサで前記吸入管に吸入される二酸化炭素濃度を監視し，この二酸化炭素濃度が所定の閾値以下になると前記基板端部の洗浄を終了することを特徴とする請求項１６に記載の基板洗浄方法。
18. 基板を真空圧力雰囲気中で処理する複数の処理室を含む処理ユニットと，前記処理ユニットに接続され，前記基板を収納する基板収納容器との間で大気圧雰囲気中で前記基板の受渡しを行う搬送室を有する搬送ユニットとを備えた基板処理装置であって，
    前記搬送室に接続され，大気圧雰囲気中で前記基板の端部に付着した付着物を除去する洗浄室を備え，
    前記洗浄室は，載置台に載置された前記基板の端部を加熱する加熱手段と，前記基板の端部に向けて紫外線を照射する紫外線照射手段と，前記基板の端部表面に気体の流れを形成する流れ形成手段とを前記基板の端部近傍に前記基板を囲むように配置して構成したことを特徴とする基板処理装置。
19. 前記紫外線照射手段は，前記基板端部の近傍に全周にわたって環状に配置された低圧水銀ランプを備えることを特徴とする請求項１８に記載の基板処理装置。
20. 基板を真空圧力雰囲気中で処理する複数の処理室を含む処理ユニットと，前記処理ユニットに接続され，前記基板を収納する基板収納容器との間で大気圧雰囲気中で前記基板の受渡しを行う搬送室を有する搬送ユニットとを備えた基板処理装置であって，
    前記複数の処理室の１つを，真空圧雰囲気中で前記基板の端部に付着した付着物を除去する洗浄室とし，
    前記洗浄室は，載置台に載置された前記基板の端部を加熱する加熱手段と，前記基板の端部に向けて紫外線を照射する紫外線照射手段と，前記基板の端部表面に気体の流れを形成する流れ形成手段とを前記基板の端部近傍に前記基板を囲むように配置して構成したことを特徴とする基板処理装置。
21. 前記紫外線照射手段は，前記基板端部の近傍に全周にわたって環状に配置されたエキシマランプを備えることを特徴とする請求項２０に記載の基板処理装置。
    

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