JP2017136517A - プラズマ洗浄装置およびプラズマ洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
Description
内部に洗浄対象物が配置されるプラズマ洗浄室と、
前記プラズマ洗浄室内に水を導入する水導入部と、
前記プラズマ洗浄室内に導入された水をプラズマ化して水プラズマを形成するプラズマ形成部と、
前記プラズマ洗浄室内に存在する所定の物質の量を測定する分析装置と、
前記分析装置から得られる測定データに基づいてプラズマ洗浄の終了タイミングを決定し、決定された前記終了タイミングでプラズマ洗浄を終了させる制御部と、
を備える。
ここでいう「所定の物質」は、例えば、下記(i)〜(iii)に例示される各種物質から選択された1以上の物質である。
(i)プラズマ洗浄室内に形成されているプラズマに由来する物質(プラズマ洗浄室内に水プラズマが形成される上記の構成においては、具体的には、原子状水素(H)、ヒドロキシルラジカル(OH)、原子状酸素(O)、等)
(ii)洗浄対象物に由来する物質(例えば、洗浄対象物が表面に銀を含むものである場合、銀(Ag)、あるいはその化合物)
(iii)洗浄対象物に付着している物質に由来する物質(具体的には、例えば、洗浄対象物に付着している有機物とプラズマに由来する物質とが反応することにより生成した、一酸化炭素(CO)、二酸化炭素(CO2)、等)
プラズマ洗浄室内に存在する所定の物質の量を観察することで、プラズマ洗浄室内でどのような化学反応が進行しているかを把握することが可能となり、原子状水素が洗浄対象物に高抵抗膜の形成を開始する前のタイミングでプラズマ洗浄を終了させることができる。したがって、洗浄対象物の特性を変化させることなく、当該洗浄対象物を適切にプラズマ洗浄することができる。
すなわち、本発明の発明者達が、表面に銀を含む洗浄対象物を水プラズマでプラズマ洗浄するときにプラズマ洗浄室内に存在する物質の種類と量を分析装置を用いてモニタリングした結果、水プラズマが生成されたプラズマ洗浄室内には、ヒドロキシルラジカル、原子状水素、および、原子状酸素、が存在していることが確認された。そして発明者達は、プラズマ洗浄が進行するにつれて、これら各物質の量が時間と共にどのように変化するかを測定し、その測定結果に基づいて、プラズマ洗浄が進行する間プラズマ洗浄室では次の(1)〜(3)の化学反応が起こっていると推測することができた。
(1)原子状酸素とヒドロキシルラジカルが、洗浄対象物に付着している有機物汚れと結合する化学反応
この化学反応によって、洗浄対象物から有機物汚れが除去される。つまり、プラズマ洗浄室内にある原子状酸素とヒドロキシルラジカルは、洗浄対象物の有機物汚れの除去に寄与している。
(2)原子状酸素とヒドロキシルラジカルが、銀と結合する化学反応(所謂、酸化)
2Ag+O→Ag2O
2Ag+2OH→Ag2O+H2O
2Ag+OH→Ag2O+(1/2)H2
この化学反応によって洗浄対象物の表面に含まれる銀が酸化されて酸化銀が生成される。つまり、プラズマ洗浄室内にある原子状酸素とヒドロキシルラジカルは、有機物汚れの除去に寄与する一方で、銀の酸化を引き起こす要因ともなっている。
(3)原子状水素と酸化銀とが結合する化学反応(所謂、還元)
Ag2O+H→2Ag+OH
Ag2O+2H→2Ag+H2O
この化学反応によって洗浄対象物の表面に生成された酸化銀が還元される。つまり、水プラズマに含まれる原子状酸素とヒドロキシルラジカルは、有機物汚れの除去に寄与する一方で、銀の酸化を引き起こしてしまうところ、生成された酸化銀は、水プラズマに含まれる原子状水素によって還元されて、銀に戻る。このために、結果的に、酸化銀をほとんど生成させずに洗浄対象物に付着している有機物汚れを除去することができると考えられる。また、洗浄対象物の表面に、はじめから酸化銀が存在している場合にも、当該酸化銀が水プラズマに含まれる原子状水素によって還元されて銀に戻るので、当該洗浄対象物の有機物汚れを除去しつつ、表面の酸化銀を銀に戻すことができると考えられる。
前記制御部が、
前記プラズマ洗浄室内に存在する原子状酸素の単位時間あたりの消費量が、予め定められた値以下になったタイミングを、前記終了タイミングと決定する。
プラズマ洗浄が行われる間、プラズマ洗浄室内では、上記の通り、原子状酸素が洗浄対象物に付着している有機物汚れと結合する化学反応が起こっており、洗浄対象物に付着している有機物汚れがなくなると、原子状酸素の単位時間あたりの消費量がほぼゼロになると推測される。上記の構成によると、当該消費量が十分小さくなったタイミングでプラズマ洗浄を終了させるので、有機物汚れが十分に除去された時点でプラズマ洗浄を終了させることができる。したがって、プラズマ処理の時間が洗浄に必要な時間以上に長くなることにより洗浄対象物の特性が変化してしまうことを回避できる。またプラズマ処理の時間を必要最小限に抑えることによって、プラズマ洗浄装置のスループットを向上させることもできる。
前記制御部が、
前記プラズマ洗浄室内に存在する一酸化炭素と二酸化炭素のうちの少なくとも一方の単位時間あたりの生成量が、予め定められた値以下になったタイミングを、前記終了タイミングと決定する。
プラズマ洗浄が行われる間、プラズマ洗浄室内では、上記の通り、原子状酸素とヒドロキシルラジカルが洗浄対象物に付着している有機物汚れと結合する化学反応が起こっており、この化学反応によって一酸化炭素や二酸化炭素が生成されるため、洗浄対象物に付着している有機物汚れがなくなると、一酸化炭素、二酸化炭素、あるいは、それら両方の単位時間あたりの生成量がほぼゼロになると推測される。上記の構成によると、当該生成量が十分小さくなったタイミングでプラズマ洗浄を終了させるので、有機物汚れが十分に除去された時点でプラズマ洗浄を終了させることができる。したがって、プラズマ処理の時間が洗浄に必要な時間以上に長くなることにより洗浄対象物の特性が変化してしまうことを回避できる。またプラズマ処理の時間を必要最小限に抑えることによって、プラズマ洗浄装置のスループットを向上させることもできる。
前記洗浄対象物の表面に銀が含まれており、
前記制御部が、
前記プラズマ洗浄室内に存在する原子状水素の単位時間あたりの消費量が、予め定められた値以下になったタイミングを、前記終了タイミングと決定する。
表面に銀を含む洗浄対象物のプラズマ洗浄が行われる間、プラズマ洗浄室内では、上記の通り、原子状水素によって酸化銀が還元される化学反応が起こっており、酸化銀が全て還元されると、原子状水素の単位時間あたりの消費量がほぼゼロになると推測される。そして、酸化銀の還元が終了してからもプラズマ処理が継続されてしまうと、原子状水素が洗浄対象物に高抵抗膜を形成する化学反応が進行する可能性があると考えられる。上記の構成によると、当該消費量が十分小さくなったタイミングでプラズマ洗浄を終了させるので、酸化銀が全て還元され、かつ、洗浄対象物に高抵抗膜が形成される前のタイミングで、プラズマ処理を終了させることができる。
前記プラズマ洗浄室内に水を導入する際に、併せて酸素ガスを導入する酸素ガス導入部、
をさらに備え、
前記プラズマ形成部が、水と酸素ガスとから成る混合ガスをプラズマ化する。
本発明の発明者達は、水と酸素ガスの混合比が異なる各混合ガスをプラズマ化して、当該プラズマ内に存在する物質の種類と量を分析装置を用いて測定した。その結果、混合ガスにおける酸素ガスの濃度が高くなるにつれて、原子状酸素の量が増加するとともにヒドロキシルラジカルと原子状水素の量が減少することがわかった。そして、酸素ガスの濃度が80%を超えると、ヒドロキシルラジカルと原子状水素の減少率が急激に高まることもわかった。さらに、原子状酸素の量が増えると有機物汚れの洗浄効率が高まるが、その一方で、銀の酸化も促進されるところ、混合ガスにおける酸素ガスの濃度が80%以下であれば、十分な量の原子状水素がプラズマ内に存在しているため、生成された酸化銀を当該原子状水素で十分に還元することができることが確認された。したがって、上記の構成において、混合ガスにおける酸素ガスの濃度(体積比)は、80%以下であることが好ましい。
前記分析装置が、発光分光分析装置、あるいは、質量分析装置である。
当該プラズマ洗浄方法は、
洗浄対象物が配置されたプラズマ洗浄室内に水を導入してこれをプラズマ化して水プラズマを形成し、前記水プラズマで前記洗浄対象物をプラズマ洗浄する工程と、
前記プラズマ洗浄室内に存在する所定の物質の量を分析装置で測定し、得られた測定データに基づいてプラズマ洗浄の終了タイミングを決定する工程と、
決定された前記終了タイミングでプラズマ洗浄を終了させる工程と、
を含む。
図1には、実施形態に係るプラズマ洗浄装置100の概略構成図が示されている。この図から明らかなように、プラズマ洗浄装置100は、平行平板型(容量結合型)プラズマ処理装置である。
図2は、プラズマ洗浄装置100で行われる処理の流れの一例を示す図である。ここでの洗浄対象物9は、例えば、表面に銀のケース電極が露出した、樹脂封止前の白色LEDパッケージであるとする。もっとも、洗浄対象物9は、樹脂封止前の白色LEDパッケージに限るものではない。ただし、以下の処理態様に係るプラズマ洗浄は、樹脂封止前の白色LEDパッケージのように、表面に酸化されやすい金属等が存在しているもの、また、表面にスパッタされやすい物質が露出しているもの、を洗浄するのに特に適している。
上述した通り、分析装置7による測定が開始されると、取得された測定データが次々と制御部8に送られる。終了タイミング決定部81は、分析装置7から次々と送られてくる測定データに基づいて、所定の物質の量(具体的には、所定の物質に対応する波長領域における発光強度(分析装置7が発光分光分析装置の場合)や、所定の物質に対応する質量数における信号強度(分析装置7が質量分析装置の場合))の経時変化を監視し、これに基づいてプラズマ洗浄の終了タイミングを決定する。ただし、この「所定の物質」は、上述したとおり、(i)処理空間Vに形成されているプラズマ(具体的には、水蒸気と酸素ガスとの混合ガスのプラズマ、あるいは、水プラズマ)に由来する物質、(ii)洗浄対象物9に由来する物質、または、(iii)洗浄対象物に付着している物質に由来する物質、のうちの少なくとも一つの物質である。
以下に、終了タイミング決定部81がプラズマ洗浄の終了タイミングを決定する態様に係る3個の実施例について、説明する。
この実施例では、「(i)処理空間Vに形成されているプラズマに由来する物質」である原子状酸素と、「(iii)洗浄対象物9に付着している物質に由来する物質」である一酸化炭素(CO)とのうちの少なくとも1つが「所定の物質」とされる。つまり、原子状酸素、あるいは一酸化炭素、あるいはこれらの両方が、分析装置7における測定対象とされ、終了タイミング決定部81は、当該測定対象とされた物質の量の経時変化を監視し、これに基づいてプラズマ洗浄の終了タイミングを決定する。
なお、このデータを取得するにあたっては、次の処理条件でプラズマ洗浄を行った。すなわち、水蒸気の導入量は6sccmとし、酸素ガスの導入量は14sccmとし、処理空間Vの圧力は、およそ12Paに維持した。また、分析装置7による測定の開始から300秒後に、パワード電極5に250Wの高周波電力を印加した。また、表面にフォトレジスト(炭化水素)を有するウェハを洗浄対象物9とした。
一方、原子状酸素の発光が検出された後、一酸化炭素の発光強度が徐々に高まり、ある時刻からはほぼ一定に推移する。そして、原子状酸素の発光強度が高まり始める時刻t1とほぼ同じ時刻を境に、一酸化炭素の発光強度は徐々に低下し(時間帯T2)、時刻t2とほぼ同じ時刻を境にして一酸化炭素の発光強度もほぼ一定になる(時間帯T3)。
この実施例では、「(iii)洗浄対象物9に付着している物質に由来する物質」である一酸化炭素および二酸化炭素とのうちの少なくとも1つが「所定の物質」とされる。つまり、一酸化炭素、あるいは二酸化炭素、あるいはこれらの両方が、分析装置7における測定対象とされ、終了タイミング決定部81は、当該測定対象とされた物質の量の経時変化を監視し、これに基づいてプラズマ洗浄の終了タイミングを決定する。
なお、このデータを取得するにあたっては、分析装置7による測定の開始から60秒後に、パワード電極5に125Wの高周波電力を印加した。その他の処理条件は、実施例1の処理条件と同じとした。なお、ここでは、分析装置7の測定が60秒毎に行われているため、測定開始から60秒後に取得された測定値が、時刻「0」にプロットされている。また、この時刻「0」に検出されている二酸化炭素および一酸化炭素は、処理空間Vにおけるこれら物質のバックグラウンド濃度であると考えられる。すなわち、この時刻「0」に検出されている二酸化炭素および一酸化炭素は、プラズマ処理に由来するものではない。
なお、実施例2で高周波電圧が印加開始されてからタイミングt12が到来するまでの時間は、実施例1で高周波電圧が印加開始されてからタイミングt2が到来するまでの時間よりも長いが、これは、実施例1では高周波電力が250Wに設定されていたのに対し、実施例2ではそれが125Wに設定されていたため、アッシング速度が低下したためと考えられる。
この実施例では、「(i)処理空間Vに形成されているプラズマに由来する物質」である原子状水素が「所定の物質」とされる。つまり、原子状水素が、分析装置7における測定対象とされ、終了タイミング決定部81は、原子状水素の量の経時変化を監視し、これに基づいてプラズマ洗浄の終了タイミングを決定する。
なお、このデータを取得するにあたっては、分析装置7による測定の開始から5秒後に、パワード電極5への高周波電力を印加した。また、LED用の銀製フレームであって表面が黒色を呈するほどに酸化されたフレームを洗浄対象物9とした。その他の処理条件は、実施例1の処理条件と同じとした。
上記の実施形態において、分析装置7で測定対象とされる「所定の物質」は、上記に例示されたものに限らない。例えば、ヒドロキシルラジカルが測定対象とされ、終了タイミング決定部81は、ヒドロキシルラジカルの量の経時変化を監視し、これに基づいてプラズマ洗浄の終了タイミングを決定してもよい。具体的には、ヒドロキシルラジカルの発光強度(あるいは、信号強度)の変化率に基づいて、ヒドロキシルラジカルの消費量がほぼゼロとなったか否か(具体的には、予め定められた値以下になったか否か)を判断し、これで肯定的な判断が得られた場合に、当該時刻を終了タイミングと決定してもよい。
2 水導入部
3 酸素ガス導入部
4 排気部
5 パワード電極
6 接地電極
7 分析装置
8 制御部
9 洗浄対象物
11 ガス導入口
12 排気口
13 開口
14 窓部材
21 水供給源
31 酸素ガス給源
22,32,42 配管
23,33,43 バルブ
24,34 マスフローコントローラ
25 気化装置
44 真空ポンプ
51 RF電源
52 コンデンサ
81 終了タイミング決定部
82 終了制御部
V 処理空間
100 プラズマ洗浄装置
Claims (7)
- 内部に洗浄対象物が配置されるプラズマ洗浄室と、
前記プラズマ洗浄室内に水を導入する水導入部と、
前記プラズマ洗浄室内に導入された水をプラズマ化して水プラズマを形成するプラズマ形成部と、
前記プラズマ洗浄室内に存在する所定の物質の量を測定する分析装置と、
前記分析装置から得られる測定データに基づいてプラズマ洗浄の終了タイミングを決定し、決定された前記終了タイミングでプラズマ洗浄を終了させる制御部と、
を備えるプラズマ洗浄装置。 - 請求項1に記載のプラズマ洗浄装置であって、
前記制御部が、
前記プラズマ洗浄室内に存在する原子状酸素の単位時間あたりの消費量が、予め定められた値以下になったタイミングを、前記終了タイミングと決定する、
プラズマ洗浄装置。 - 請求項1に記載のプラズマ洗浄装置であって、
前記制御部が、
前記プラズマ洗浄室内に存在する一酸化炭素と二酸化炭素のうちの少なくとも一方の単位時間あたりの生成量が、予め定められた値以下になったタイミングを、前記終了タイミングと決定する、
プラズマ洗浄装置。 - 請求項1に記載のプラズマ洗浄装置であって、
前記洗浄対象物の表面に銀が含まれており、
前記制御部が、
前記プラズマ洗浄室内に存在する原子状水素の単位時間あたりの消費量が、予め定められた値以下になったタイミングを、前記終了タイミングと決定する、
プラズマ洗浄装置。 - 請求項1から4のいずれかに記載のプラズマ洗浄装置であって、
前記プラズマ洗浄室内に水を導入する際に、併せて酸素ガスを導入する酸素ガス導入部、
をさらに備え、
前記プラズマ形成部が、水と酸素ガスとから成る混合ガスをプラズマ化する、
プラズマ洗浄装置。 - 請求項1から5のいずれかに記載のプラズマ洗浄装置であって、
前記分析装置が、発光分光分析装置、あるいは、質量分析装置である、
プラズマ洗浄装置。 - 洗浄対象物が配置されたプラズマ洗浄室内に水を導入してこれをプラズマ化して水プラズマを形成し、前記水プラズマで前記洗浄対象物をプラズマ洗浄する工程と、
前記プラズマ洗浄室内に存在する所定の物質の量を分析装置で測定し、得られた測定データに基づいてプラズマ洗浄の終了タイミングを決定する工程と、
決定された前記終了タイミングでプラズマ洗浄を終了させる工程と、
を含むプラズマ洗浄方法。
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