JP2007227730A - チップコイル - Google Patents

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Abstract

【課題】素体に平面コイルを接触形成させたチップコイルにおいて、その素体における平面コイルの位置ずれを低減することを目的とする。
【解決手段】この目的を達成するために本発明は、素体4と、この素体4内に形成された平面コイル5A(あるいは5B)と、この平面コイル5A(あるいは5B)に電気的に接続された端子6A(あるいは6B)とを備え、平面コイル5A(あるいは5B)はコイル層5AA(あるいは5BA)と、このコイル層5AA(あるいは5BA)に面結合されたコイル層5AB(あるいは5BB)とを有し、コイル層5AA(あるいは5BA)とコイル層5AB(あるいは5BB)とは平面コイル5A(あるいは5B)の巻回平面方向に位置をずらして配置したチップコイルとしたものである。
【選択図】図1

Description

本発明は、例えば携帯電話の電源回路に用いられるチップコイルに関するものである。
従来この種のインダクタンス部品は、図25に示すごとく、平面コイル1A,1Bと、この平面コイル1A,1Bに電気的に接続された端子2A,2Bとが、シート状の素体3内に形成されている。
なお、この出願に関する先行技術文献情報としては、例えば、特許文献1が知られている。
特開2005−317604号公報
このような従来のチップコイルは、素体3における平面コイル1A,1Bの位置ずれが問題となっていた。
すなわち、上記従来の構成においては、セットに実装された状態において、チップコイル全体に振動等の力が加わった場合、平面コイル1A,1Bの巻回平面に対して垂直方向、及び平面方向の両方向からこの平面コイル1A,1Bに力が加わり、素体3における平面コイル1A,1Bの位置ずれが起こっていた。
そこで本発明は、素体に平面コイルを接触形成させたチップコイルにおいて、その素体における平面コイルの位置ずれを低減することを目的とする。
そして、この目的と達成するために本発明は、素体と、この素体内に形成された平面コイルと、この平面コイルに電気的に接続された端子とを備え、前記平面コイルは第1のコイル層と、この第1のコイル層に面結合された第2のコイル層とを有し、前記第1のコイル層と第2のコイル層とは前記平面コイルの巻回平面方向に位置をずらして配置したチップコイルとしたものである。
本発明のチップコイルは、平面コイルが第1のコイル層と、この第1のコイル層に面結合された第2のコイル層とを有し、第1のコイル層と第2のコイル層とを平面コイルの巻回平面方向に位置をずらして配置する構成としたため、平面コイルと素体との接触する面積を増やすことができ、平面コイルにかかる力を分散させることができるため、素体における平面コイルの位置ズレを低減することができる。
(実施の形態1)
以下、本発明の実施の形態1におけるインダクタンス部品について図面を参照しながら説明する。
図1において、平面コイル5A,5Bと、この平面コイル5A,5Bの最外周部に接続した端子6A,6Bと、平面コイル5A,5B間に接続したビア7を、それぞれシート状の素体4内に形成している。
ここで、上層の平面コイル5Aは端子6Aから内周方向へ渦巻状に巻回し、この平面コイル5Aの最内周部と下層の平面コイル5Bの最内周部とをビア7により接続し、この平面コイル5Bを外周方向(端子6Bの方向)へ渦巻状に巻回して構成している。
ここで、平面コイル5A,5Bは互いに同方向に巻回することが望ましい。平面コイル5Aで発生した磁束と、平面コイル5Bで発生した磁束とを消し合わせることなく、大きなインダクタンス値を実現することができるためである。
そして、平面コイル5A(あるいは5B)はコイル層5AA(あるいは5BA)と、このコイル層5AA(あるいは5BA)に面結合されたコイル層5AB(あるいは5BB)とを有し、コイル層5AA(あるいは5BA)とコイル層5AB(あるいは5BB)とは平面コイル5A(あるいは5B)の巻回平面方向に位置をずらして配置している。
このような構成により、この平面コイル5A(あるいは5B)の巻回平面方向における、コイル層5AA(あるいは5BA)とコイル層5AB(あるいは5BB)との位置ずれの分だけ、平面コイル5A(あるいは5B)と素体4との接触する面積を増やすことができ、平面コイル5A(あるいは5B)にかかる力を分散させることができるため、素体4における平面コイル5A(あるいは5B)の位置ずれを低減することができる。
なお、本実施の形態においては2つの平面コイル5A,5Bによりチップコイルを構成しているが、1つの平面コイルを用いた構成としてもかまわない。ただし、本実施の形態の図1に示すごとく平面コイル5A,5Bを2層以上積層させた構造とすることにより、より大きなインダクタンス値を実現することができ望ましい。
なお、平面コイル5A,5Bの断面は方形ではなく円形でもかまわないが、方形の方がコイル断面積を大きくとることができ、銅損を低減することができるため望ましい。
なお、平面コイル5A,5Bの厚みを10μm以上とすることにより大電流に対応することが望ましい。
次に、このインダクタンス部品の製造方法について説明する。
まず、図2に示すごとく、シリコン等の基板8を用意する。
次に、図3に示すごとく、この基板8上に、フォトレジストにより絶縁層9を形成する。
その後、図4に示すごとく、絶縁層9の表面全体を露光する。
次に、図5に示すごとく、絶縁層9の上面全体に、フォトレジストにより絶縁層10を形成する。
その後、図6に示すごとく、絶縁層10におけるコイル形成部10Aを除いた素体形成部10Bの上面を露光する。
次に、図7に示すごとく、絶縁層10の上面全体に、フォトレジストにより絶縁層11を形成する。
その後、図8に示すごとく、絶縁層11におけるコイル形成部11Aを除いた素体形成部11Bの上面を露光する。ここで、コイル形成部11Aは、積層方向に対して垂直方向(後に示す平面コイル5Bの巻回平面方向)にコイル形成部10Aと位置をずらして配置している。
次に、図9に示すごとく、図8に示したコイル形成部10A,11Aを現像により除去する。
その後、図10に示すごとく、絶縁層9の上面、及び素体形成部10B,11Bの露出する表面に無電解めっき等により下地層(図示せず)を形成した後、電気めっきにより導体12を形成する。
次に、図11に示すごとく、図10に示した導体12を上方から研磨し、素体形成部11Bを上面に露出させる。このとき、図8に示したコイル形成部10A,11Aに該当する部分には導体12が入り込んでおり、これが、図1に示す2つのコイル層5BB,5BAからなる平面コイル5B、及び端子6Bとなる。ここで、平面コイル5Bの巻回平面方向にコイル層5BBと5BAとは位置をずらして配置した構成となっている。このときの研磨方法としては、切削やCMP法を用いることにより、平坦な素体形成部11Bを形成することができる。
その後、図12に示すごとく、平面コイル5B、素体形成部11Bの上面全体に、フォトレジストにより絶縁層13を形成する。フォトレジストを用いることにより、平面均一性に優れ、且つ10μm〜20μm程度の薄い絶縁層13を形成することができる。
次に、図13に示すごとく、絶縁層13におけるビア形成部13Aを除いた素体形成部13Bの上面を露光する。
その後、図14に示すごとく、絶縁層13の上面全体に、フォトレジストにより絶縁層14を形成する。
次に、図15に示すごとく、絶縁層14におけるコイル形成部14Aを除いた素体形成部14Bの上面を露光する。
その後、図16に示すごとく、絶縁層14の上面全体に、フォトレジストにより絶縁層15を形成する。
次に、図17に示すごとく、絶縁層15におけるコイル形成部15Aを除いた素体形成部15Bの上面を露光する。ここで、コイル形成部15Aは、積層方向に対して垂直方向(後に示す平面コイル5Aの巻回平面方向)にコイル形成部14Aと位置をずらして配置している。
その後、図18に示すごとく、図17に示したビア形成部13A、コイル形成部14A,15Aを現像により除去する。
次に、図19に示すごとく、図18に示した素体形成部13B,14B,15Bの露出する表面に無電解めっき等により下地層(図示せず)を形成した後、電気めっきにより導体16を形成する。
その後、図20に示すごとく、図19に示した導体16を上方から研磨し、素体形成部15Bを上面に露出させる。このとき、図17に示したコイル形成部14A,15Aに該当する部分には導体16が入り込んでおり、これが、図1に示す2つのコイル層5AA,5ABからなる平面コイル5A、及び端子6Aとなる。ここで、平面コイル5Aの巻回平面方向にコイル層5AA,5ABとは位置をずらして配置した構成となっている。
また、図20に示すごとく、図17に示したビア形成部13Aに該当する部分にも導体16が入り込んでおり、これが図1に示すビア7となる。
このときの研磨方法としては、切削やCMP法を用いることにより、平坦な素体形成部15Bを形成することができる。
次に、図21に示すごとく、平面コイル5A、素体形成部15Bの上面全体に、フォトレジストにより絶縁層17を形成する。
その後、図22に示すごとく、絶縁層17の表面全体を露光する。
次に、図23に示すごとく、図22に示した基板8を、フッ酸処理などにより除去する。
その後、図24に示すごとく、樹脂と金属の混合物からなるペーストを外部電極6AA,6BBとし、端子6A,6Bにそれぞれ電気的に接続する。
このようにして、平面コイル5A(あるいは5B)の巻回平面方向における2つのコイル層5AA,5AB(あるいはコイル層5BA,5BB)の位置を、ずらして配置する構成としたチップコイルを形成することができる。
本発明のチップコイルは、外部から振動等の力が加わった場合において、その素体における平面コイルの位置ずれを低減することができるという特徴を有し、各種電気機器において有用である。
本発明の実施の形態1におけるチップコイルの断面図 本発明の実施の形態1におけるチップコイルの製造工程を示す断面図 本発明の実施の形態1におけるチップコイルの製造工程を示す断面図 本発明の実施の形態1におけるチップコイルの製造工程を示す断面図 本発明の実施の形態1におけるチップコイルの製造工程を示す断面図 本発明の実施の形態1におけるチップコイルの製造工程を示す断面図 本発明の実施の形態1におけるチップコイルの製造工程を示す断面図 本発明の実施の形態1におけるチップコイルの製造工程を示す断面図 本発明の実施の形態1におけるチップコイルの製造工程を示す断面図 本発明の実施の形態1におけるチップコイルの製造工程を示す断面図 本発明の実施の形態1におけるチップコイルの製造工程を示す断面図 本発明の実施の形態1におけるチップコイルの製造工程を示す断面図 本発明の実施の形態1におけるチップコイルの製造工程を示す断面図 本発明の実施の形態1におけるチップコイルの製造工程を示す断面図 本発明の実施の形態1におけるチップコイルの製造工程を示す断面図 本発明の実施の形態1におけるチップコイルの製造工程を示す断面図 本発明の実施の形態1におけるチップコイルの製造工程を示す断面図 本発明の実施の形態1におけるチップコイルの製造工程を示す断面図 本発明の実施の形態1におけるチップコイルの製造工程を示す断面図 本発明の実施の形態1におけるチップコイルの製造工程を示す断面図 本発明の実施の形態1におけるチップコイルの製造工程を示す断面図 本発明の実施の形態1におけるチップコイルの製造工程を示す断面図 本発明の実施の形態1におけるチップコイルの製造工程を示す断面図 本発明の実施の形態1におけるチップコイルの製造工程を示す断面図 従来のチップコイルの断面図
符号の説明
4 素体
5A,5B 平面コイル
5AA,5AB,5BA,5BB コイル層
6A,6B 端子

Claims (1)

  1. 素体と、この素体内に形成された平面コイルと、この平面コイルに電気的に接続された端子とを備え、前記平面コイルは第1のコイル層と、この第1のコイル層に面結合された第2のコイル層とを有し、前記第1のコイル層と第2のコイル層とは前記平面コイルの巻回平面方向に位置をずらして配置したチップコイル。
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