JP2007173717A - 固体撮像素子および固体撮像素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光電変換部30と、この光電変換部30で生成された電荷を転送する電荷転送部80と、入射した光を光電変換部30に導く光導波路と、を有する固体撮像素子であって、光導波路が、電荷転送部80を覆うとともに光電変換部30の上方に内壁面が略垂直に形成された開口部を有する被覆層7と、開口部の内部に形成される透光性材料部とで構成され、被覆層7の内壁面および上面が遮光性を有するようにした。
【選択図】図3
Description
図17にCCD固体撮像素子の構造を示す断面図を示した。CCD固体撮像素子は、半導体基板210内に光電変換部(受光部)212と、読み出しゲート部214と、CCD転送チャネル216とが形成され、また、絶縁膜218を介して転送電極220が形成されている。転送電極220上には層間絶縁膜222を介して遮光膜224が形成され、この遮光膜224は転送電極220への光の入射を防止する。また、遮光膜224には受光部212上に開口が設けられて、受光部212に光が入射可能としている。そして、遮光膜224を覆って、例えばBPSG(ボロンリン シリケートガラス)膜等のリフロー膜或いはHDP(高密度プラズマ)CVD膜による層間絶縁層226が形成されている。この層間絶縁層226は、例えばBPSGの組成を所定の組成とすることにより、光電変換部212上に凹部を有するように形成されている。
(1)光電変換部と、この光電変換部で生成された電荷を転送する電荷転送部と、入射した光を前記光電変換部に導く光導波路と、を有する固体撮像素子であって、前記光導波路が、前記電荷転送部を覆うとともに前記光電変換部の上方に内壁面が略垂直に形成された開口部を有する被覆層と、前記開口部の内部に形成される透光性材料部とで構成され、前記被覆層の内壁面および上面が遮光性を有していることを特徴とする固体撮像素子。
(第1の実施形態)
まず、本発明の固体撮像素子の構造を説明する。図1は本発明に係る固体撮像素子の平面模式図、図2は図1に示す固体撮像素子の画素部の拡大平面図、図3は図2のA−A線断面模式図である。
図1〜図3に示す固体撮像素子100の撮像素子形成領域47には、受光領域43内に光電変換部(フォトダイオード)30が多数形成され、各フォトダイオード30で発生した信号電荷を列方向(図1中のY方向)に転送するための垂直転送路15が、列方向に配設された複数のフォトダイオード30からなる複数のフォトダイオード列の間を蛇行して形成される。そして、垂直転送路15は水平転送CCD(HCCD)40に接続され、水平転送CCD(HCCD)40の終端側には出力アンプ41が設けられる。
図4は、図3の固体撮像素子の第1の製造工程における断面図である。
まず、図4に示すように、n型半導体基板10内に、p型半導体層からなるオーバードレインバッファ層13を形成するための不純物(B)をイオン打ち込みし、さらに、pウエル12を形成するための不純物(B)をイオン打ち込みする。続いて、光電変換部30においてp型層32とn型層31を形成し、電荷転送部80において、n型層111とp型層113を形成し、また、p型のチャネルストップ領域11を形成する。
図5に示すように、第2の酸化膜5b上に、転送電極を構成する第1層および第2層電極(3a,3b)を埋め込むことが可能な十分な膜厚をもつ(換言すれば、後の平坦化処理が可能な膜厚をもつ)タングステン(W)を堆積し、遮光膜7を形成する。続いて、その遮光膜7を、CMP(ケミカルメカニカルエッチング)やエッチバック等の平坦化技術によって平坦化する。
続いて、フォトリソグラフィ技術により、タングステン(W)からなる遮光膜7の一部を選択的に除去し、光電変換部30上において開口部を形成する。遮光膜7の選択的除去には、RIE(リアクティブイオンエッチング)のような異方性エッチングを利用する。これにより、タングステン(W)からなる遮光膜7の内壁面Kは、略垂直となり、この内壁面Kは、デバイスの上方から到来する入射光を下方の光電変換部30に導くための反射材として機能する。これによって、光導波路が形成される。この導波路が存在するために、本来なら迷光となってしまう入射光が有効な光となり、集光効率が改善される。したがって、層内レンズを設けなくても、層内レンズを設けたときと同様に集光効率を向上させることができる。また、層内レンズを形成する場合に比べて、光導波路の形成は、CVD技術と、RIEのような異方性エッチング技術を組み合わせて容易に形成することができるため、固体撮像素子の製造が容易化される。
続いて、光導波路を構成する遮光膜7上に、層間絶縁膜としての酸化膜(CVD SiO2膜)8を形成し、さらに、その上にパッシベーション膜としてのシリコン窒化膜(SiN膜)9を形成する。
続いて、パッシベーション膜としてのシリコン窒化膜(SiN膜)9上に、有機膜等からなる平坦化層24を形成する。
即ち、図9に光導波路の製法の第1変形例を表す断面図を示すように、遮光膜7の形成前に、電荷転送部80を覆うタングステン遮光膜140を形成し、その上に酸化膜8を形成して平坦化し、その後、電荷転送部80の領域上に開口部を形成して、この開口部の内部に遮光膜7となるタングステンのプラグを埋め込むことであってもよい。この方法によれば、光導波路の形成に特別な工程を追加することなく、通常のプロセスに些細な変更を加えるだけで済む。
また、他の方法として、図10に光導波路の製法の第2変形例を表す断面図を示すように、遮光膜7の形成前に酸化膜8を形成して平坦化し、その後、開口部を形成して、この開口部の内部に遮光膜7となるタングステンのプラグを埋め込むことであってもよい。
次に、本発明に係る固体撮像素子の第2実施形態を説明する。
図11は、透光性の膜とその表面に設けられた遮光性材料膜とを組み合わせた複合膜によって光導波路を構成する例を示す断面図である。
図11における固体撮像素子の基本的な構造は、図3の固体撮像素子と同じであるが、光導波路の構成が異なっている。すなわち、図3の固体撮像素子では、タングステン(W)からなる単一の膜を加工して光導波路を形成していたが、図11の固体撮像素子では、透光性の膜とその表面に設けられた遮光性材料膜とを組み合わせた複合膜によって光導波路を構成する。
図12(a)に示すように、酸化膜110上にアルミニウム(Al)からなる金属膜(反射性材料膜)120aを形成し、その上にレジスト19を形成し、続いて、そのレジスト19をパターニングする。
次に、本発明に係る固体撮像素子の第3実施形態を説明する。
図13は、遮光膜からなる光導波路の下に、さらにスミア防止用の遮光膜を形成した構造を示す断面図である。
図13の固体撮像素子の基本的な構造は、前掲の実施形態にて説明したものと同様である。即ち、第1層電極3aおよび第2層電極3b上には、酸化シリコン膜5a,5bが形成されている。この酸化シリコン膜5a,5b上には、転送電極3a,3bを埋め込むことが可能な十分な膜厚をもつタングステン(W)からなる遮光膜(被覆層)7が形成され、このタングステン(W)からなる遮光膜7は、光電変換部30上において開口部を有する。
ただし、図13に示す固体撮像素子においては、遮光膜(タングステン膜)7からなる光導波路の下にスミア防止用の遮光膜150が形成され、この遮光膜(タングステン膜)150上に薄い酸化膜160が形成され、さらに、この酸化膜160上にCVD酸化膜8が形成されている。この点で、図3に示す固体撮像素子とは構成が異なっている。
次に、本発明に係る固体撮像素子の第4実施形態を説明する。
本実施形態では、マイクロレンズ(オンチップレンズ)と光導波路との間に、さらに、層内レンズを形成する。本発明は、光導波路によって層内レンズを代替することができるが、層内レンズの使用を排除するものではない。つまり、光導波路の形成層内レンズの集光特性が少々低下しても、層内レンズの下方に光導波路を設けることによって、本来なら迷光となるような光も、光電変換部に導かれ、集光効率が向上する。
層内レンズは、遮光膜7の開口部を覆うBPSG膜20の上側に、上に凸のレンズ22(SiNからなる)によって構成される。
3a,3b 転送電極
4 電極間絶縁膜
5a,5b 酸化膜(酸化シリコン膜)
7 遮光膜
8 酸化膜
10 半導体基板
11 チャネルストップ領域
12 遮光性材料膜
13 オーバードレインバッファ層
15 垂直転送路
30 フォトダイオード(光電変換部)
41 出力アンプ
43 受光領域
47 撮像素子形成領域
50 カラーフィルタ
70 パッシベーション膜
80 電荷転送部
100 固体撮像素子
Claims (10)
- 光電変換部と、この光電変換部で生成された電荷を転送する電荷転送部と、入射した光を前記光電変換部に導く光導波路と、を有する固体撮像素子であって、
前記光導波路が、前記電荷転送部を覆うとともに前記光電変換部の上方に内壁面が略垂直に形成された開口部を有する被覆層と、前記開口部の内部に形成される透光性材料部とで構成され、前記被覆層の内壁面および上面が遮光性を有していることを特徴とする固体撮像素子。 - 請求項1記載の固体撮像素子であって、
前記被覆層は、金属材料からなる遮光膜であることを特徴とする固体撮像素子。 - 請求項1記載の固体撮像素子であって、
前記光導波路は、前記光電変換部ならびに電荷転送部上に遮光性材料からなる被覆層を設けた後、該被覆層に平坦化処理を施してその上面を平坦化し、前記被覆層の前記光電変換部の上方に位置する部分を除去して前記被覆層を貫通する開口部を設ける工程を経て形成されたものであることを特徴とする固体撮像素子。 - 請求項1記載の固体撮像素子であって、
前記光導波路を構成する前記被覆層は、該被覆層を貫通する開口部と、該開口部内壁面および上面に設けられた遮光性材料膜と、によって構成されることを特徴とする固体撮像素子。 - 請求項1記載の固体撮像素子であって、
前記光導波路は、前記光電変換部ならびに電荷転送部上に被覆層を設けた後、該被覆層に平坦化処理を施してその上面を平坦化し、前記被覆層の表面に遮光性材料からなる第1の遮光層を形成し、さらに、前記被覆層の前記光電変換部の上方に位置する部分を除去して前記第1の遮光層を貫通する開口部を形成し、この開口部の形成に伴って生じる前記被覆層の内壁面上に、遮光性材料からなり前記第1の遮光層に連接する第2の遮光層を設ける工程を経て形成されたものであることを特徴とする固体撮像素子。 - 請求項1〜請求項5のいずれか1項記載の固体撮像素子であって、
前記光導波路を構成する前記膜の下方には、前記電荷転送部を覆う、遮光性材料からなる遮光膜が形成されていることを特徴とする固体撮像素子。 - 請求項1〜請求項6のいずれか1項記載の固体撮像素子であって、
前記光導波路の上方に、前記光導波路に向けて集光するためのマイクロレンズが設けられることを特徴とする固体撮像素子。 - 請求項7記載の固体撮像素子であって、
前記マイクロレンズと前記光導波路との間に、層内レンズが設けられることを特徴とする固体撮像素子。 - 光電変換部と、この光電変換部で生成された電荷を転送する電荷転送部と、入射した光を前記光電変換部に導く光導波路と、を有する固体撮像素子の製造方法であって、
半導体基板内に前記光電変換部を形成する第1のステップと、
半導体基板内および半導体基板上に、電荷転送電極を含む電荷転送部を形成する第2のステップと、
前記光電変換部ならびに電荷転送部上に遮光性材料からなる被覆層を設けた後、該被覆層に平坦化処理を施してその上面を平坦化し、前記被覆層の前記光電変換部の上方に位置する部分を除去して前記被覆層を貫通する開口部を設けることによって前記光導波路を形成する第3の工程と、
を含むことを特徴とする固体撮像素子の製造方法。 - 光電変換部と、この光電変換部で生成された電荷を転送する電荷転送部と、入射した光を前記光電変換部に導く光導波路と、を有する固体撮像素子の製造方法であって、
半導体基板内に前記光電変換部を形成する第1のステップと、
半導体基板内および半導体基板上に、電荷転送電極を含む電荷転送部を形成する第2のステップと、
前記光電変換部ならびに電荷転送部上に被覆層を設けた後、該被覆層に平坦化処理を施してその上面を平坦化し、前記被覆層の表面に遮光性材料からなる第1の遮光層を形成し、さらに、前記被覆層の前記光電変換部の上方に位置する部分を除去して前記第1の遮光層を貫通する開口部を形成し、この開口部の形成に伴って生じる前記被覆層の内壁面上に、遮光性材料からなり前記第1の遮光層に連接する第2の遮光層を設けることによって前記光導波路を形成する第3の工程と、
を含むことを特徴とする固体撮像素子の製造方法。
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