JP2007287818A - 固体撮像素子およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】凸形状層内レンズにおける入射光の反射と吸収を抑制し、効果的に高感度の得られる固体撮像素子を提供する。
【解決手段】シリコン基板1の表層部における所定の位置に光電変換部4を形成し、この光電変換部4に上側部分を露出する開口部を有する遮光膜12を形成する。この遮光膜12の上に、前記開口部を埋めるように光が透過する透明絶縁層13を形成し、さらに前記開口部上に透明絶縁層13を介して凸形状層内レンズ25と、この凸形状層内レンズ25を覆う透明レンズ平坦化膜26を形成する。前記凸形状層内レンズ26は中央レンズ部27と外縁レンズ部28との2層構造にする。
【選択図】図1
【解決手段】シリコン基板1の表層部における所定の位置に光電変換部4を形成し、この光電変換部4に上側部分を露出する開口部を有する遮光膜12を形成する。この遮光膜12の上に、前記開口部を埋めるように光が透過する透明絶縁層13を形成し、さらに前記開口部上に透明絶縁層13を介して凸形状層内レンズ25と、この凸形状層内レンズ25を覆う透明レンズ平坦化膜26を形成する。前記凸形状層内レンズ26は中央レンズ部27と外縁レンズ部28との2層構造にする。
【選択図】図1
Description
本発明は、固体撮像素子およびその製造方法に係り、特に凸形状層内レンズを有する固体撮像素子に関するものである。
図4は従来の固体撮像素子の一例における単位画素を示す断面図である。
図4において、シリコン基板1に所要の不純物のイオン注入などを行って、オーバーフローバリア2、ウェル層3、光電変換部4、垂直転送チャネル5、読み出し部6、チャネルストップ部7が形成されている。
さらに、シリコン酸化膜8と垂直転送チャネル5上に垂直転送電極10が形成され、シリコン酸化膜11を介して光電変換部4の上側部分を露出する開口部を有するように遮光膜12が形成されている。
前記遮光膜12の上に開口部を埋めるように透明絶縁膜13が形成され、透明絶縁膜13の上に、画素領域および周辺回路部(図示せず)を保護するための透明保護膜14が形成されている。
その上に、カラーフィルター層15とカラーフィルター層15の上に段差を埋めるように透明カラーフィルター平坦化膜16が形成され、透明カラーフィルター平坦化膜16の上にマイクロオンチップレンズ17が形成されている。
前記従来技術では、マイクロオンチップレンズ17を形成し、入射光を光電変換部4に集光することにより高感度を得てきた。
近年、CCD(Charge Coupled Device)型の固体撮像素子は、デジタルスチルカメラ,デジタルビデオカメラ,カメラ付携帯電話などの普及により、その小型化,高画素化がますます求められてきている。
しかし、一層の小型化,高画素化が進むと、固体撮像素子内に組み込まれる画素の大きさはさらに縮小され、マイクロオンチップレンズだけでは集光が限界に達し、基本性能の一つである感度が低下し、所定の照度のもとで鮮明な画像を撮影することが困難となることは明らかである。
かかる問題に対し、図5,図6に示すような構成の固体撮像素子が提案されている。なお、図5,図6において、図4にて説明した部材に対応する部材には同一符号を付して詳しい説明は省略する。
すなわち、図5に示す例では、感度の向上を図るべく、マイクロオンチップレンズ17に加え、カラーフィルター層15と光電変換部4との間に凸形状層内レンズ18を形成し、入射光をさらに効率良く光電変換部4に集光する構造になっている(特許文献1参照)。
また、図6に示す例では、凸形状層内レンズ19上に、この凸形状層内レンズ19と同一の材料の膜20を成膜して、レンズ間隔を縮め、入射光における無効領域を低減し、より多くの入射光を集光する構造になっている(特許文献2参照)。
特開平11−40787号公報
特開2002−76316号公報
しかしながら、前記従来技術のような層内レンズを用いた技術では、以下の点で問題があった。
まず、凸形状層内レンズ18,19を利用する場合には、カラーフィルター層15を形成する前に、透明レンズ平坦化膜26として層内レンズ上を、アクリル系樹脂(屈折率:約1.6)やポリイミド系樹脂(屈折率:約1.8)などを用いて平坦化する。この際、凸形状層内レンズ18,19で入射光を集光するためには、これらの透明レンズ平坦化膜26の樹脂材料より高屈折率の材料で凸形状層内レンズ18,19を形成する必要がある。特許文献1,2では、屈折率1.9〜2.0のプラズマシリコン窒化膜、あるいは屈折率1.5〜1.9のプラズマシリコン酸窒化膜を採用することが記載されている。
しかしながら、この構造の場合、特にレンズ頂点付近を通過する入射光は、低屈折率の透明レンズ平坦化膜26から高屈折率の凸形状層内レンズ18,19へ進入するため、その屈折率差により反射成分が発生し、得られる感度が低下するという問題がある。
また、一般的な凸形状層内レンズの材料は、確実に入射光を屈折させて集光可能であり、さらにレンズの曲率を小さくでき、デバイスの厚さ方向のシュリンクが可能な高屈折率(2.0)のプラズマシリコン窒化膜を用いるが、このプラズマシリコン窒化膜は、短波長側(≦550nm)で光の吸収が大きく、入射光が層内レンズ中を通過する際、光が吸収され、特に青色成分(波長450nm近傍)の感度が低下するという問題がある。
本発明は、前記従来の問題を解決し、凸形状層内レンズにおける入射光の反射と吸収を抑制し、効果的に高感度の得られる固体撮像素子およびその製造方法を実現できるようにすることを目的とする。
前記目的を達成するため、本発明に係る固体撮像素子は、半導体基板に形成され、光電変換を行う光電変換部と、前記光電変換部の上側部分を露出する開口部を有する遮光膜と、前記遮光膜の上に前記開口部を埋めるように形成され、光が透過する透明絶縁層と、前記開口部上に前記透明絶縁層を介して形成された凸形状層内レンズと、前記凸形状層内レンズを覆うように形成された透明レンズ平坦化膜とを備え、前記凸形状層内レンズを、中央レンズ部と外縁レンズ部との2層構造にしたことを特徴とする。
また、透明レンズ平坦化膜と同じ屈折率の中央レンズ部と、それより高い屈折率の膜を堆積し、少なくともレンズ頂点部の膜を除去した外縁レンズ部の2層構造の凸形状層内レンズを備えた構成とする。
また、中央レンズ部は透明レンズ平坦化膜と同等の屈折率の凸形状レンズを形成し、その外縁レンズ部に中央レンズ部より高い屈折率の透明膜を、少なくともレンズ頂点部の膜を除去して形成したことを特徴とする。
この構成により、レンズによる集光を確保しつつ、レンズ頂点付近における入射光の反射をなくすことが可能となる。したがって、効率よく入射光を光電変換部に集光することができ、その結果、高感度の固体撮像素子を実現することが可能となる。
また、本発明に係る固体撮像素子は、凸形状層内レンズの中央部を光の吸収がほとんどないシリコン酸窒化膜で形成していることが好ましい。このような構成とすることにより、層内レンズ中を通過する際の光の吸収を抑えることが可能となる。
また、本発明に係る固体撮像素子は、凸形状層内レンズの外縁レンズ部を屈折率は2.0程度であり、短波長側の光の吸収を抑制したシリコン窒化膜で形成していることが好ましい。このような構成とすることにより、層内レンズで確実に光を屈折させ集光し、かつ外縁レンズ部を通過する際の光の吸収を抑えることが可能となる。
本発明に係る固体撮像素子の製造方法は、半導体基板に光電変換を行う光電変換部を形成する第1工程と、前記光電変換部の上側部分を露出する開口部を有する遮光膜を形成する第2工程と、前記遮光膜の上に、前記開口部を埋めるように形成され、光が透過する透明絶縁層を形成する第3工程と、前記開口部上に前記透明絶縁層を介して中央レンズ部と外縁レンズ部の2層構造の凸形状層内レンズを形成する第4工程と、前記凸形状層内レンズを覆うように透明レンズ平坦化膜を形成する第5工程とを備え、前記第4工程は、前記中央レンズ部である凸形状レンズを形成する第1のステップと、前記中央レンズ部上に透明膜を成膜し、エッチングすることにより、前記外縁レンズ部に前記中央レンズ部より高い屈折率の透明膜を形成する第2のステップとを含むことを特徴とする。
また、前記第4工程における前記外縁レンズ部を形成する第2のステップは、前記凸形状層内レンズの少なくとも頂点部分の透明膜を除去する工程を含むことを特徴とする。
この方法により、レンズによる集光を確保しつつ、レンズ頂点付近における入射光の反射をなくすことが可能な固体撮像素子を製造することができる。
また、本発明に係る固体撮像素子の製造方法は、前記第4工程における前記中央レンズ部を形成する第1のステップは、前記第5工程で形成する透明レンズ平坦化膜と同等の屈折率を有し、かつ光の吸収がほとんどないように、シラン(SiH4)ガスと亜酸化窒素(N2O)ガスと窒素(N2)ガスとの比率を変えることによりシリコン酸窒化膜を形成する工程を含むことが好ましい。このような構成とすることにより層内レンズ中を通過する際の光の吸収を抑えることが可能となる。
また、本発明に係る固体撮像素子の製造方法は、前記第4工程における前記外縁レンズ部を形成する第2のステップは、前記中央レンズ部より高い屈折率を有し、かつ短波長における光の吸収を抑制するように、シラン(SiH4)ガスとアンモニア(NH3)ガスと窒素(N2)ガスとの比率を変えることによりシリコン窒化膜を形成する工程を含むことが好ましい。このような構成とすることにより層内レンズで確実に光を屈折させ集光し、かつ、外縁部を通過する際の光の吸収を抑えることが可能となる。
本発明の固体撮像素子およびその製造方法によれば、凸形状層内レンズにおける入射光の反射と吸収を抑制することにより、効果的に高感度が得られる固体撮像素子を実現することができる。
以下、本発明に係る固体撮像素子およびその製造方法の実施形態について図面を参照して説明する。
図1は本発明の実施形態に係る固体撮像素子の単位画素領域の構成を示す断面図である。なお、以下の説明において、図4〜図6にて説明した部材に対応する部材には同一符号を付した。
本実施形態の固体撮像素子は、シリコン基板1に行列状に配置されたフォトダイオードからなる複数の光電変換部と、各光電変換部から読み出された信号電荷を列方向に転送する垂直転送部と、垂直転送部から転送された信号電荷を行方向に転送する水平転送部とを備えた、CCD型の固体撮像素子である。
図1に示すように、シリコン基板1の表面近くにオーバーフローバリア2が形成されており、シリコン基板1の表面にシリコン酸化膜8が形成されている。オーバーフローバリア2とシリコン酸化膜8との間に形成されたウェル層3には、シリコン酸化膜8の直下に正孔蓄積層が設けられたフォトダイオードである光電変換部4が形成されている。
光電変換部4の一方の側部には読み出し部6を介在させて垂直転送部21aが形成されている。垂直転送部21aは、ウェル層3に形成された不純物拡散層である垂直転送チャネル5と、垂直転送チャネル5の上側にシリコン酸化膜8を介して形成された絶縁膜22およびポリシリコン膜23からなる垂直転送電極10とから構成されている。垂直転送電極10の上面および側面には、シリコン酸化膜11が形成されている。
光電変換部4の他方の側部には、隣接する他の光電変換部(図示せず)から読み出した信号電荷を転送する垂直転送部21bが形成されており、光電変換部4と垂直転送部21bとの間には、チャネルストップ部7が形成されている。
シリコン酸化膜8の上には、光電変換部4の中央部の上方の領域に開口部を有する遮光膜12が形成されている。遮光膜12は、シリコン酸化膜11に覆われた垂直転送電極10の上面および側面ならび光電変換部4の外縁部の上側を覆っており、光電変換部4の受光領域以外の領域に光が入射することを防止する。
遮光膜12の上には開口部を埋めるようにBPSGからなる透明絶縁膜13が形成されている。透明絶縁膜13の上には、画素領域および周辺回路部(図示せず)を保護するための透明保護膜24が形成されている。
透明保護膜24の上には、光電変換部4へ入射光を集光するように、2層構造の凸形状層内レンズ25が形成されている。凸形状層内レンズ25の上には、段差を埋めるように透明レンズ平坦化膜26が形成されている。
2層構造の凸形状層内レンズ25は、透明レンズ平坦化膜26と同等の屈折率で、かつ光の吸収がほとんどないシリコン酸窒化膜からなる凸形状をなす中央レンズ部27と、中央レンズ部27より屈折率が高く、かつ短波長における光の吸収を抑制し、少なくともレンズ頂点部の膜を除去したシリコン窒化膜からなる外縁レンズ部28から形成されている。
透明レンズ平坦化膜26の上には、カラーフィルター層15が形成され、カラーフィルター層15の上には段差を埋めるように透明カラーフィルター平坦化膜16が形成され、透明カラーフィルター平坦化膜16の上にはマイクロオンチップレンズ17が形成されている。
本実施形態においては、2層構造の凸形状層内レンズ25は、中央レンズ部27を透明レンズ平坦化膜26と同等の屈折率のシリコン酸窒化膜により、また外縁レンズ部28を中央レンズ部27より高い屈折率のシリコン窒化膜により形成しているため、層内レンズによる集光を確保しつつ、レンズ頂点付近における入射光の反射をなくすことが可能となる。
また、中央レンズ部27を光の吸収がほとんどないシリコン酸窒化膜により、また外縁レンズ部28を短波長における光の吸収を抑制したシリコン窒化膜により形成しているため、層内レンズ中を通過する際の光の吸収を抑えることが可能となっている。これらの結果、効果的に高感度が得られる。
次に、本実施形態の固体撮像素子の製造方法について説明する。
従来と同様にシリコン基板1の表層部における所定の位置にp型の不純物を注入し、オーバーフローバリア2を形成する。続いて、読み出し部6とチャネルストップ部7とを所定の間隔をおいてそれぞれ形成する。次に、n型の不純物を注入し、読み出し部6とチャネルストップ部7との間に光電変換部4を形成し、読み出し部6およびチャネルストップ部7の外側に垂直転送チャネル5をそれぞれ形成する。
次に、シリコン基板1の表面に熱酸化法またはCVD法によりシリコン酸化膜8を形成する。続いてシリコン酸化膜8の上に窒化シリコンおよび酸化シリコンからなる絶縁膜22およびポリシリコン膜23を順次形成する。形成した絶縁膜22およびポリシリコン膜23を公知のリソグラフィ技術およびエッチング技術によりパターンニングし、垂直転送チャネル5の上側に垂直転送電極10を形成した後、垂直転送電極10の表面に熱酸化法等によりシリコン酸化膜11を形成する。光電変換部4の上方に形成された絶縁膜22を、公知のウェットエッチング技術により除去した後、シリコン基板1の表層部の比較的浅い位置にp型の不純物を注入し、光電変換部4の上部に正孔蓄積部を形成する。
次に、スパッタおよびCVD法などによりアルミニウムおよびタングステンなどの金属膜を堆積した後、公知のリソグラフィ技術およびエッチング技術によってパターンニングして、垂直転送電極10を覆い、かつシリコン酸化膜8上において光電変換部4の中央部の上方に開口部を有する遮光膜12を形成する。
次に、遮光膜12の上に開口部を埋めるようにBPSGからなる透明絶縁膜13をCVD(化学気相堆積)法により堆積し、さらにリフロー処理を行い平坦化する。透明絶縁層13の上に周辺回路部保護層として透明保護膜24を形成する。
その後の凸形状層内レンズ25の形成方法の一例を、図2−(a)〜図2−(e)を参照して説明する。
前記透明保護膜24上に、プラズマCVD法によりシリコン酸窒化膜31を形成し、この上にレジストを塗布してレジスト層32を形成して、各光電変換部4ごとに対応して矩形状、正方形状あるいは円形状にパターニングし(図2−(a))、レジスト層32を140℃〜180℃程度の温度でリフロー処理して溶融させた後、固化させて、シリコン酸窒化膜31上に凸の球面状となるレジストパターン32’を生成する(図2−(b))。このレジストパターン32’をマスクにしてシリコン酸窒化膜31をエッチングし、凸形状の中央レンズ部27を形成する(図2−(c))。
次に、プラズマCVD法により中央レンズ部27表面にシリコン窒化膜28’を形成し(図2−(d))、全面をエッチングすることにより、少なくともレンズ頂点部においてシリコン窒化膜28’を除去した外縁レンズ部28を形成する。これにより2層構造の凸形状層内レンズ25を形成する(図2−(e))。
その後、凸形状層内レンズ25の上に、図1のように、段差を埋めるように透明レンズ平坦化膜26を形成し、カラーフィルター層15、透明カラーフィルター平坦化膜16、マイクロオンチップレンズ17を順次形成する。
本実施形態では、中央レンズ部27はシリコン酸窒化膜であって、例えば透明レンズ平坦化膜26(屈折率1.6)と同等の屈折率を有するように、また光の吸収がほとんどないように、シラン(SiH4)ガスと亜酸化窒素(N2O)ガスと窒素(N2)ガスの比率を変えて形成する。これにより層内レンズ中を通過する際の光の吸収を抑えることが可能となる。
また、外縁レンズ部28はシリコン窒化膜であって、例えば中央レンズ部27より高い屈折率を有するように、また短波長における光の吸収を抑制するように、シラン(SiH4)ガスとアンモニア(NH3)ガスと窒素(N2)ガスの比率を変えて形成する。これにより層内レンズで確実に光を屈折させ集光し、かつ外縁レンズ部28を通過する際の光の吸収を抑えることが可能となる。
図3に本実施形態において形成したシリコン酸窒化膜とシリコン窒化膜、および一般的なシリコン窒化膜の屈折率と吸収係数の一例を示す。
本実施形態において中央レンズ部27を形成するシリコン酸窒化膜は、屈折率が可視光領域において1.54〜1.59であり、ほぼ透明レンズ平坦化膜(本例では屈折率1.6)26と同等の屈折率を実現し、レンズ頂点付近における光の反射を抑制可能としている。また、吸収係数も0であり、光の吸収も抑制している。
本実施形態において外縁レンズ部28を形成するシリコン窒化膜は、屈折率が可視光領域において1.97〜2.03であり、透明レンズ平坦化膜(本例では屈折率1.6)との屈折率差により光を屈折させ、確実に集光することを可能にしている。また、吸収係数は一般的なシリコン窒化膜と比較して、可視光領域の低波長側において大きく低減しており、光が通過する際の光の吸収も抑制している。
また、本実施形態で形成した凸形状層内レンズ25は、シリコン酸窒化膜、およびシリコン窒化膜により形成したが、半導体プロセスで一般的に用いられるプラズマCVD法を用いることから適当な屈折率をもつ材料を用いて成膜することが可能である。
本発明に係る固体撮像素子およびその製造方法は、凸形状層内レンズにおける入射光の反射と吸収を抑制することにより、効果的に高感度が得られる固体撮像素子を実現でき、特に2層構造の凸形状層内レンズを備えた固体撮像素子およびその製造方法として有用である。
1 シリコン基板
2 オーバーフローバリア
3 ウェル層
4 光電変換部
5 垂直転送チャネル
6 読み出し部
7 チャネルストップ部
8,11 シリコン酸化膜
10 垂直転送電極
12 遮光膜
13 透明絶縁膜
21a,21b 垂直転送部
22 絶縁膜
23 ポリシリコン膜
24 透明保護膜
25 凸形状層内レンズ
26 透明レンズ平坦化膜
27 中央レンズ部
28 外縁レンズ部
2 オーバーフローバリア
3 ウェル層
4 光電変換部
5 垂直転送チャネル
6 読み出し部
7 チャネルストップ部
8,11 シリコン酸化膜
10 垂直転送電極
12 遮光膜
13 透明絶縁膜
21a,21b 垂直転送部
22 絶縁膜
23 ポリシリコン膜
24 透明保護膜
25 凸形状層内レンズ
26 透明レンズ平坦化膜
27 中央レンズ部
28 外縁レンズ部
Claims (11)
- 半導体基板に形成され、光電変換を行う光電変換部と、
前記光電変換部の上側部分を露出する開口部を有する遮光膜と、
前記遮光膜の上に前記開口部を埋めるように形成され、光が透過する透明絶縁層と、
前記開口部上に前記透明絶縁層を介して形成された凸形状層内レンズと、
前記凸形状層内レンズを覆うように形成された透明レンズ平坦化膜とを備え、
前記凸形状層内レンズを、中央レンズ部と外縁レンズ部との2層構造にしたことを特徴とする固体撮像素子。 - 前記外縁レンズ部の屈折率を前記中央レンズ部の屈折率よりも高く設定したことを特徴とする請求項1記載の固体撮像素子。
- 前記中央レンズ部を前記透明レンズ平坦化膜と同等の屈折率の凸形状レンズとして形成したことを特徴とする請求項1または2記載の固体撮像素子。
- 前記中央レンズ部をシリコン酸窒化膜にて形成したことを特徴とする請求項1〜3いずれか1項記載の固体撮像素子。
- 前記外縁レンズ部を前記凸形状層内レンズの少なくとも頂点部分の透明膜を除去して形成したことを特徴とする請求項1〜4いずれか1項記載の固体撮像素子。
- 前記外縁レンズ部を短波長側の光の吸収を抑制するシリコン窒化膜で形成したことを特徴とする請求項1〜5いずれか1項記載の固体撮像素子。
- 前記光電変換部を前記半導体基板に行列状に複数形成し、
前記各光電変換部から読み出した信号電荷を列方向に転送する垂直転送部と、前記垂直転送部から転送された信号電荷を行方向に転送する水平転送部とを備え、
CCD(Charge Coupled Device)型の固体撮像素子として機能することを特徴とする請求項1〜6いずれか1項記載の固体撮像素子。 - 半導体基板に光電変換を行う光電変換部を形成する第1工程と、
前記光電変換部の上側部分を露出する開口部を有する遮光膜を形成する第2工程と、
前記遮光膜の上に、前記開口部を埋めるように形成され、光が透過する透明絶縁層を形成する第3工程と、
前記開口部上に前記透明絶縁層を介して中央レンズ部と外縁レンズ部の2層構造の凸形状層内レンズを形成する第4工程と、
前記凸形状層内レンズを覆うように透明レンズ平坦化膜を形成する第5工程とを備え、
前記第4工程は、前記中央レンズ部である凸形状レンズを形成する第1のステップと、前記中央レンズ部上に透明膜を成膜し、エッチングすることにより、前記外縁レンズ部に前記中央レンズ部より高い屈折率の透明膜を形成する第2のステップとを含むことを特徴とする固体撮像素子の製造方法。 - 前記第4工程における前記外縁レンズ部を形成する第2のステップは、前記凸形状層内レンズの少なくとも頂点部分の透明膜を除去する工程を含むことを特徴とする請求項8記載の固体撮像素子の製造方法。
- 前記第4工程における前記中央レンズ部を形成する第1のステップは、前記第5工程で形成する透明レンズ平坦化膜と同等の屈折率を有し、かつ光の吸収がほとんど無いように、シラン(SiH4)ガスと亜酸化窒素(N2O)ガスと窒素(N2)ガスとの比率を変えることによりシリコン酸窒化膜を形成する工程を含むことを特徴とする請求項8記載の固体撮像素子の製造方法。
- 前記第4工程における前記外縁レンズ部を形成する第2のステップは、前記中央レンズ部より高い屈折率を有し、かつ短波長における光の吸収を抑制するように、シラン(SiH4)ガスとアンモニア(NH3)ガスと窒素(N2)ガスとの比率を変えることによりシリコン窒化膜を形成する工程を含むことを特徴とする請求項8または9記載の固体撮像素子の製造方法。
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